TWI615635B - 多孔徑成像裝置、成像系統及用以提供多孔徑成像裝置之方法 - Google Patents

多孔徑成像裝置、成像系統及用以提供多孔徑成像裝置之方法 Download PDF

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Abstract

一種多孔徑成像裝置包括一影像感測器及光學通道之一陣列，各光學通道包括用於將一總視場之一部分視場投影於該影像感測器之一影像感測器區域上的光學件。該多孔徑成像裝置包括：一光束偏轉構件，其用於使該等光學通道之一光學路徑偏轉；以及一光學影像穩定器，其用於藉由產生該影像感測器與該陣列之間的一平移相對移動而達成沿著一第一影像軸線之一影像穩定及藉由產生該光束偏轉構件之一旋轉移動而達成沿著一第二影像軸線之一影像穩定。

Description

多孔徑成像裝置、成像系統及用以提供多孔徑成像裝置之方法
發明領域 本發明係關於多孔徑成像裝置、成像系統及用於提供多孔徑成像裝置之方法。本發明進一步係關於具有線性通道配置及小或最小大小之多孔徑成像系統。
發明背景 傳統攝影機具有投影整個物場之成像通道。攝影機具有實現物鏡與影像感測器之間的相對橫向二維移位之自適應性組件以用於實現光學影像穩定功能。具有線性通道配置之多孔徑成像系統由若干成像通道構成，該等通道中之各者僅擷取物件之一部分且含有偏轉鏡面。
將需要針對實現緊湊實現之物件區域或視場之多通道偵測的概念。
發明概要 本發明之目標為提供多孔徑成像裝置、成像系統及用於提供多孔徑成像裝置之方法，其實現緊湊(亦即具有小大小)實施，特定言之關於達成小建構高度。
此目標藉由獨立專利技術方案之標的物來達成。
本發明之一個發現為已認識到，上述目標可藉由以下操作來達成：獲得藉由多孔徑成像裝置偵測到的沿著影像之影像軸線之光學影像穩定，產生使光學通道之光學路徑偏轉的光束偏轉構件之旋轉移動，使得成像通道與影像感測器之間的沿著各別影像方向之平移移動可減少或避免。平移移動之此減小程度實現減小的建構高度，且因此實現多孔徑成像裝置之緊湊(亦即具有小建構空間，且特定言之關於達成小建構高度或厚度)有利實施。
根據一實施例，一多孔徑成像裝置包括一影像感測器、光學通道之一陣列、一光束偏轉構件及一光學影像穩定器。光學通道之該陣列之各光學通道包括用於將一總視場之一部分視場投影於該影像感測器之一影像感測器區域上的光學件。該光束偏轉構件經組配以使該等光學通道之一光學路徑偏轉。該光學影像穩定器經組配以產生該影像感測器與該陣列之間的一平移相對移動以達成沿著一第一影像軸線之影像穩定，且產生該光束偏轉構件之旋轉移動以達成沿著一第二影像軸線之影像穩定。基於該旋轉移動，可沿著該第二影像軸線達成建構空間之低消耗。基於該旋轉移動，可進一步避免一組態，其中用於產生一影像感測器與光學件之間沿著一第一軸線的一平移移動之一致動器必須藉由用於產生沿著一第二軸線的一平移移動之一致動器來移動。
根據另一實施例，該影像穩定器包括至少一個致動器。該至少一個致動器至少部分地配置於一立方體之側面所橫跨(所界定)之兩個平面之間，該立方體之該等側面彼此平行地且亦平行於該陣列之一線延伸方向及該等光學通道之該光學路徑在該影像感測器與該光束偏轉構件之間的一部分而對準，且該立方體之體積最小，但仍然包括該影像感測器、該陣列及該光束偏轉構件。若一方向(例如，一厚度方向)垂直於至少一個平面，則此實現該多孔徑成像裝置或包含該多孔徑影像裝置之一系統之一小厚度。
根據另一實施例，一多孔徑成像裝置包括一調焦構件，該調焦構件包括用於調整該多孔徑成像裝置之焦點的至少一個致動器。該調焦構件至少部分地配置於一立方體之側面所橫跨之兩個平面之間，該立方體之該等側面彼此平行地且亦平行於該陣列之一線延伸方向及該等光學通道之該光學路徑在該影像感測器與該光束偏轉構件之間的一部分而對準，且該立方體之體積最小，但仍然包括該影像感測器、該陣列及該光束偏轉構件。此係有利的，此係因為藉由將致動器配置在平面中，沿著垂直於平面之方向之建構空間的消耗可較低。
根據另一實施例，光學通道之陣列形成為一單線。光學通道之該陣列之單線實施實現該陣列及/或該多孔徑成像裝置沿著垂直於該陣列之線延伸方向之方向的小空間延伸，此可實現之進一步減小尺寸。
另外實施例係關於成像系統及用於提供多孔徑成像裝置之方法。
另外的有利實施例係從屬專利技術方案之標的物。
較佳實施例之詳細說明 在參看附圖隨後論述本發明之實施例之前，應理解，不同圖式中的相同元件、物件及/或結構或具有相同功能或相同效應之元件、物件及/或結構具備相同參考數字，使得表示於不同實施例中的對此等元件之描述互相可交換或可適用。
圖1展示根據一實施例之多孔徑成像裝置10之示意圖。多孔徑成像裝置10包括影像感測器12、光學通道16a至16h之陣列14、光束偏轉構件18及光學影像穩定器22。各光學通道16a至16h包括用於將總視場之部分視場投影於影像感測器12之影像感測器區域24a至24h上的光學件。光學通道可理解為光學路徑之路線。該等光學路徑可包含配置於陣列14中之至少一個光學元件。單一光學通道可各自形成完整的成像光學件，且包含至少一個光學組件或光學件(例如，折射、繞射或混合式透鏡)，且可投影使用多孔徑成像裝置整體地擷取的整個物件之一區段。孔徑光闌可相對於該等光學通道而配置。
影像感測器區域24a至24h (例如)可各者由包括對應像素陣列之晶片形成，其中該等影像感測器區域可安裝於共同基體或共同電路載體(諸如共同板或共同撓曲板)上。當然，亦或可能為，影像感測器區域24a至24h各自由共同像素陣列之一部分(其跨影像感測器區域24a至24h連續地延伸)形成，共同像素陣列(例如)形成於單一晶片上。在此情況下，例如，僅讀出影像感測器區域24a至24h中之共同像素陣列之像素值。當然，該等替代物之不同混合亦係可能的，例如，存在用於兩個或多於兩個通道之一個晶片及此外用於不同通道之另一晶片或類似者。在影像感測器12之若干晶片的情況下，該等晶片可(例如)全部一起或以分組方式或以類似方式安裝於(例如)一或多個板或電路載體上。
光束偏轉構件18經組配以使光學通道16a至16h之光學路徑26偏轉。影像穩定器22經組配以基於影像感測器12、陣列14及偏轉構件18之間的相對移動而實現沿著第一影像軸線28及沿著第二影像軸線32的光學影像穩定。第一影像軸線28及第二影像軸線32可受影像感測器區域24a至24h或影像感測器12之配置或對準影響根據一實施例，影像軸線28及32彼此垂直地配置及/或與影像感測器區域24a至24d之像素之延伸方向相一致。影像軸線28及32可替代或另外地指示取樣或偵測部分視場或總視場所沿著的定向。簡言之，影像軸線28及32可分別為藉由多孔徑成像裝置10偵測到之影像中的第一及第二方向。影像軸線28及32 (例如)包含相對於彼此≠0°的角度，例如可彼此垂直地空間配置。
若在偵測操作(期間偵測到部分視場或總視場)期間，多孔徑成像裝置10相對於視場經偵測到之物件區域移動，則光學影像穩定可能有利。光學影像穩定器22可經組配以至少部分地抵消此移動，以便減少或防止影像之模糊。為此，光學影像穩定器22可經組配以產生影像感測器12與陣列14之間的平移相對移動34。為此，光學影像穩定器22可包含經組配以產生平移相對移動34之致動器36。儘管致動器36經表示以使得其以平移方式使陣列14移位或移動，但根據另外實施例之致動器36可替代或另外地連接至影像感測器12且經組配以使影像感測器12相對於陣列14移動。相對移動34可平行於線延伸方向35且垂直於光學路徑26而執行。然而，以平移方式發動陣列14相對於影像感測器12之運動，以便施加小機械負載或不施加機械負載至影像感測器12相對於其他組件的電連接可能有利。
光學影像穩定器22可經組配以產生或實現光束偏轉構件18之旋轉移動38。為此，光學影像穩定器22可(例如)包含經組配以產生旋轉移動38之致動器42。基於平移相對移動34，可平行於該移動(例如，沿著影像軸線28或與其相反)而獲得沿著影像方向之光學影像穩定。基於旋轉移動38，可獲得沿著一影像方向之光學影像穩定，該影像方向在影像感測器12之主要側面平面中垂直於旋轉移動38之旋轉軸線44而配置，例如沿著影像軸線32。主要側面可理解為包含與其他側面相比很大或最大尺寸之側面。替代或另外地，可配置一調焦構件(例如，如結合圖3所描述)，其經組配以改變多孔徑成像裝置之焦點。
簡言之，替代垂直於相對移動34之平移移動，可使用旋轉移動38，以便獲得沿著第二影像軸線32之光學影像穩定。此使得有可能減小實現垂直於相對移動34之平移相對移動所需的建構空間。平移相對移動可(例如)垂直於裝置之厚度方向而配置，使得裝置可經實施具有小厚度(亦即，薄)。此在行動裝置之領域中特別有利，此係因為行動裝置可經實施具有扁平外殼。
陣列14可(例如)包含光學通道16a至16h穿過之載體47。舉例而言，載體47可以不透明方式組配且可包含光學通道16a至16h之透明區域。光學通道16a至16h之光學件可在透明區域內或鄰近於透明區域而配置及/或配置於其末端區域。替代或另外地，載體47可透明地形成，且(例如)可包含聚合材料及/或玻璃材料。在載體47之表面，可配置影響總視場之各別部分視場在影像感測器之各別影像感測器區域24a至24h上之投影的光學件(透鏡)。
舉例而言，致動器36及/或42可形成為氣動致動器、液壓致動器、壓電致動器、直流馬達、步進器馬達、熱啟動致動器、靜電致動器、電致伸縮致動器、磁致伸縮致動器或音圈驅動器。
光束偏轉構件18在區域中可形成為反射性的。光束偏轉構件18可(例如)包含區域或光束偏轉元件46a至46d，該等區域或光束偏轉元件經組配以使光學路徑26偏轉，以使得經偏轉光學路徑包含互相不同的角度且偵測總視場之互相不同的部分視場。該等不同角度可藉由光束偏轉構件18及/或光學通道16a至16h之光學件產生。區域46a至46d可(例如)形成為琢面鏡面之刻面。關於陣列14，該等刻面可包含互相不同的傾斜。此可實現光學路徑26朝著彼此不同地配置之部分視場的偏轉、影響、控制及/或散射。替代地，光束偏轉構件18可組配為在一側或兩側上為反射性之表面，例如組配為鏡面。面可形成為平坦的或在區段中連續地彎曲或平坦及/或可形成為在區段中不連續地彎曲或平坦。光學路徑26之偏轉可替代或另外地借助於光學通道16a至16h之光學件而獲得。
換言之，鏡面(光束偏轉構件)可跨所有通道之區域為平坦的，可包含連續或非連續輪廓，及/或可分段平坦(亦即琢面化)，單一連續或非連續輪廓之間的過渡另外包含用於減小反射性之區域遮罩或機械結構，以便減少影像錯誤或實現結構之加強，使得僅存在很少的運動誘發或熱誘發之影像錯誤。
光束偏轉構件之第一位置與第二位置之間的切換可沿著旋轉軸線44以平移方式執行。沿著旋轉軸線44之移動可連續地或不連續地(例如，以雙穩或多穩方式)執行。此可理解為(例如)位置至離散位置，光束偏轉構件18在該等位置之間移動。簡單地，藉由將致動器42或另一致動器組配為步進器馬達可獲得(例如)穩定、雙穩或多穩位置。若光束偏轉構件18 (例如)經組配而在兩個位置之間來回地移動，則該等位置中之一者可為(例如)致動器之閒置位置或基於該閒置位置。致動器可(例如)經組配以執行相對於彈簧力之平移移動，在致動器到達各別其他位置時，彈簧力施加反作用力，一旦致動器之力移除，反作用力即使光束偏轉構件移動返回至其開始位置。此意味穩定位置亦可在力圖之不包含區域力最小值之區域中獲得。此可為(例如)力最大值。替代或另外地，穩定位置可基於光束偏轉構件18與鄰近外殼或基體之間的磁力或機械力而獲得。此意味用於光束偏轉構件之平移移動之致動器42或另一致動器可經組配以便使光束偏轉構件移動至雙穩或多穩位置中。替代地，可提供簡單的機械止動件以達成界定兩個末端位置的位置之雙穩配置，經界定末端位置中之位置切換係在該等配置之間執行。
圖1b展示根據一個實施例之多孔徑成像裝置10'之示意圖。多孔徑成像裝置10'相對於多孔徑成像裝置10修改之處在於，致動器36機械連接至影像感測器12且經組配以使影像感測器12相對於陣列14移動。相對移動34可平行於線延伸方向35且垂直於光學路徑26而執行。
圖2a展示根據一實施例之多孔徑成像裝置20之示意性截面側視圖。多孔徑成像裝置20可(例如)修改多孔徑成像裝置10，以使得致動器36及/或42經配置以至少部分地配置於立方體55之側面53a及53b所橫跨的兩個平面52a及52b之間。立方體55之側面53a及53b可彼此平行且亦平行於陣列之線延伸方向及光學通道之光學路徑在影像感測器與光束偏轉構件之間的一部分。立方體55之體積最小，但仍然包括影像感測器12、陣列14及光束偏轉構件18，以及由操作導致的前述裝置之移動。陣列14之光學通道包含針對各光學通道可相同或互相不同地形成之光學件17。
多孔徑成像裝置之體積可包含平面52a與平面52b之間的小或最小建構空間。沿著平面52a及/或52b之橫向側面或延伸方向，多孔徑成像裝置之建構空間可能很大或具有任何大小。虛擬立方體之體積(例如)受影像感測器12、單線陣列14及光束偏轉構件之配置影響，根據本文中所描述之實施例的此等組件之配置如此以使得沿著垂直於該等平面之方向的此等組件之建構空間且因此平面52a及52b至彼此之距離變小或變為最小。關於組件之其他配置，虛擬立方體之其他側面之體積及/或距離可擴大。
虛擬立方體55由虛線表示。平面52a及52b可包含虛擬立方體55之兩個側面或可由該等側面橫跨。多孔徑成像裝置20之厚度方向57可正交於平面52a及/或52b及/或平行於y方向而配置。
影像感測器12、陣列14及光束偏轉構件18可經配置，以使得平面52a與平面52b之間的沿著厚度方向57之垂直距離(簡化但非限制，其被稱作立方體之高度)最小，其中可省略體積(亦即，立方體之其他尺寸)之最小化。立方體55的沿著方向57之延伸部可為最小的且實質上由成像通道之光學組件(亦即，陣列14、影像感測器12及光束偏轉構件18)的沿著方向57之延伸部指示。
多孔徑成像裝置之體積可包含平面52a與平面52b之間的小或最小建構空間。沿著平面52a及/或52b之橫向側面或延伸方向，多孔徑成像裝置之建構空間可能很大或具有任何大小。虛擬立方體之體積(例如)受影像感測器12、單線陣列14及光束偏轉構件之配置影響，根據本文中所描述之實施例的此等組件之配置經執行以使得沿著垂直於該等平面之方向的此等組件之建構空間且因此平面52a及52b至彼此之距離變小或變為最小。關於組件之其他配置，虛擬立方體之其他側面之體積及/或距離可擴大。
致動器(例如，多孔徑成像裝置之致動器36及/或42)可包含平行於方向57之尺寸或延伸部。基於平面52a與平面52b之間的區域，該致動器或該等致動器之尺寸的最多50%、最多30%或最多10%之百分比可突出超出平面52a及/或52b或自該區域突出。此意味該等致動器僅非必要地突出超出平面52a及/或52b。根據實施例，該等致動器不突出超出平面52a及52b。此係有利的，因為多孔徑成像裝置10的沿著厚度方向或方向57之延伸部並不藉由該等致動器擴大。
影像穩定器22及致動器36及/或42可包含平行於厚度方向57之尺寸或延伸部。基於平面52a與平面52b之間的區域，尺寸的最多50%、最多30%或最多10%之百分比可突出超出平面52a及/或52b或自該區域突出，如(例如)針對指示致動器42之偏移配置之致動器42'所表示。此意味致動器36及/或42僅非必要地突出超出平面52a及/或52b。根據實施例，致動器36及/或42並不突出超出平面52a及52b。此係有利的，因為多孔徑成像裝置20的沿著厚度方向57之延伸部不藉由致動器36或42擴大。
儘管本文所使用之術語(如「頂部」、「向下」、「左」、「右」、「在……前」或「在……後」)係用於更好說明，但該等術語無論如何不應具有限制性效應。應理解，基於空間中之旋轉或傾斜，此等術語可互相替代。朝向光束偏轉構件18的自影像感測器12開始之x方向可(例如)理解為在前或向前。正y方向可(例如)理解為在頂部。沿著正或負z方向向後或與影像感測器12、陣列14及/或光束偏轉構件18隔開之區域可理解為在各別組件旁邊。簡言之，影像穩定器可包含至少一個致動器36及/或42。至少一個致動器36及/或42可配置於平面48中或配置於平面52a與平面52b之間。
換言之，致動器36及/或42可配置在影像感測器12、陣列14及/或光束偏轉構件18前、後或旁邊。根據實施例，致動器36及42經配置而以50%、30%或10%之最大範圍處於平面52a與平面52b之間的區域外。此意味著，至少一個致動器36及/或影像穩定器22沿著垂直於平面48之厚度方向57而自最大尺寸52a至52b之間的平面或區域突出影像穩定器之致動器36或42的沿著厚度方向57之尺寸的最多50%。此實現多孔徑成像裝置20沿著厚度方向57之小尺寸。
圖2b展示多孔徑成像裝置20之示意性截面側視圖，光學路徑26及26’指示多孔徑成像裝置20之不同查看方向。多孔徑成像裝置可經組配以使光束偏轉構件之傾斜改變角度α，使得光束偏轉構件18之交替的不同主要側面經配置以面向陣列14。多孔徑成像裝置20可包括經組配以使光束偏轉構件18依據旋轉軸線44傾斜之一致動器。舉例而言，該致動器可經組配以使光束偏轉構件18移動至第一位置中，在該第一位置中，光束偏轉構件18使陣列14之光學通道之光學路徑26在正y方向上偏轉。為此，在該第一位置中，光束偏轉構件18可包含(例如)＞0°且＜90°，至少10°且至多80°，或至少30°且至多50° (例如，45°)之角度α。該致動器可經組配以使光束偏轉構件圍繞旋轉軸線44在第二位置中移位，以使得光束偏轉構件18使陣列14之光學通道之光學路徑朝向負y方向偏轉，如光學路徑26'及光束偏轉構件18之虛線表示所表示。舉例而言，光束偏轉構件18可經組配以在兩側上為反射性的，使得在該第一位置，第一光學路徑26或26'經偏轉或反射。
圖3展示根據一實施例之多孔徑成像裝置30之示意性俯視圖。多孔徑成像裝置30可相對於多孔徑成像裝置10及/或20進行修改，以使得多孔徑成像裝置30包括經組配以改變多孔徑成像裝置30之焦點之調焦構件54。此可基於影像感測器12與陣列14之間的可變距離56來執行，如距離56'所表示。
調焦構件54可包括經組配以在致動期間變形及/或提供影像感測器12與陣列14之間的相對移動之致動器58。此針對多孔徑成像裝置30以如下方式例示性地表示：致動器58經組配以使陣列14沿著正及/或負x方向相對於影像感測器12移位。舉例而言，陣列14可定位於一側，以使得該陣列基於致動器58之致動而沿著正或負x方向移動且保持沿著正及/或負z方向實質上不移動。用於光學影像穩定的沿著正及/或負z方向之額外移動可(例如)基於致動器36之致動而獲得。根據另外實施例，致動器58或調焦構件54經組配以基於影像感測器12相對於陣列14之平移移位而獲得影像感測器12與陣列14之間的沿著x軸之相對移動。根據另外實施例，影像感測器12及陣列14可移動。根據另外實施例，調焦構件54可包含至少一個另外致動器。第一致動器及第二致動器可(例如)配置於陣列14之兩個對置區域處，使得在該等致動器之致動期間，對移動陣列14之定位(替代或另外地，影像感測器12)的要求減小。另外，致動器58或另一致動器可經組配以將單線陣列14與光束偏轉構件18之間的距離保持實質上恆定或完全恆定，即使當不使用額外致動器(亦即，使光束偏轉構件18移動至單線陣列14所移動之範圍)時。調焦構件54可經組配以藉由影像感測器12與陣列14之間的沿著影像感測器12之表面之法線之相對平移移動(調焦移動)來實現自動對焦功能。此處，光束偏轉構件18可藉由致動器42或另一致動器之對應構造組態或使用而與調焦移動同時地移動。此意味著，陣列14與光束偏轉構件之間的距離保持不變及/或光束偏轉構件18與調焦移動同時移動或具有與調焦移動相同或類似程度之時間偏移，使得與焦點變化之前的距離相比，該距離至少在藉由多孔徑成像裝置擷取視場時無變化。此可經執行以使得光束偏轉構件18與致動器42一起(亦即同時)移動，使得陣列14與光束偏轉構件之間的距離保持恆定或經補償。此意味著，陣列14與光束偏轉構件18之間的距離可保持不變及/或光束偏轉構件18可與調焦移動同時移動或具有與調焦移動相同或類似程度之時間延遲，使得與焦點變化之前的距離相比，陣列14與光束偏轉構件18之間的距離至少在藉由多孔徑成像裝置擷取視場時無變化。替代地，光束偏轉構件18可處於閒置狀態中或排除自動對焦移動。
舉例而言，致動器58可形成為壓電致動器，諸如彎曲樑(諸如，雙壓電晶片、三壓電晶片或類似者)。替代或另外地，調焦構件54可包括音圈驅動器、氣動致動器、液壓致動器、直流馬達、步進器馬達、熱啟動致動器或彎曲樑、靜電致動器、電致伸縮及/或磁致伸縮驅動器。
如在影像穩定器及影像穩定器在平面48中或在平面52a與平面52b之間的區域中之配置的情況下所描述，調焦構件54之至少一個致動器58可至少部分地配置於平面52a與平面52b之間。替代或另外地，至少一個致動器58可配置於影像感測器12、陣列14及光束偏轉構件18配置所在之平面中。例示性地，調焦構件54之致動器58可沿著垂直於平面48 (影像感測器12、陣列14及光束偏轉構件18配置於其中)之厚度方向57，自平面52a與平面52b之間的區域突出調焦構件54之致動器58沿著厚度方向57之尺寸的最多50%。根據實施例，該致動器自平面52a與平面52b之間的區域突出最多30%。根據另一實施例，致動器55自該區域突出最多10%或完全位於該區域內。此意味著，沿著厚度方向57，不需要用於調焦構件54之額外建構空間，此為一優點。若例如陣列14包含上面配置有透鏡64a至64d之透明基體(載體)62，則陣列14且必要時多孔徑成像裝置30沿著厚度方向57之尺寸可為小或最小。參看圖2a，此可意味著，立方體55包含沿著方向57之小厚度，或該厚度不受基體62影響。基體62可由用於單一光學通道中之投影之光學路徑穿過。多孔徑成像裝置之光學通道可穿過在光束偏轉構件18與影像感測器12之間的基體62。
舉例而言，透鏡64a至64d可為液體透鏡，亦即致動器可經組配以控制透鏡64a至64d。液體透鏡可經組配以根據通道來適應及改變個別通道之折射能力且因此適應及改變焦距及影像位置。
圖4展示根據一實施例之多孔徑成像裝置40之示意性透視圖。與多孔徑成像裝置10相比，陣列14例如係以單線來組配，亦即所有光學通道16a至16d可以單線沿著陣列14之線延伸方向配置。術語「單線」因此可指示不存在其他線。陣列14之單線組態實現陣列且最終多孔徑成像裝置40沿著厚度方向57之較小尺寸。
多孔徑成像裝置40可經組配以基於光束偏轉構件18而偵測互相不同的方向上之視場。舉例而言，光束偏轉構件可包含第一位置或Pos1位置及第二位置或Pos2位置。光束偏轉構件可基於平移或旋轉移動而在第一位置Pos1與第二位置Pos2之間切換。舉例而言，光束偏轉構件18可沿著單線陣列14之線延伸方向z以平移方式可移動，如平移移動66所指示。舉例而言，平移移動66可實質上平行於線延伸方向65而配置，陣列14之至少一個線係沿著該線延伸方向配置。舉例而言，平移移動可用以在光學通道16之光學件前置放不同刻面，以便獲得多孔徑成像裝置40之不同查看方向。光束偏轉構件18可經組配以在第一位置Pos1中在第一方向上(例如，至少部分地在正y方向上)引導光學路徑26a至26d。光束偏轉構件18可經組配以在第二位置Pos2中在不同於第一方向之方向上(例如，至少部分地在負y方向上)引導亦即各光學通道之光學路徑26a至26d。舉例而言，致動器42可經組配以基於光束偏轉構件18沿著移動方向66之移動而使光束偏轉構件18自第一位置Pos1移動至第二位置Pos2。致動器42可經組配以使沿著移動方向66之平移移動與旋轉移動38疊加。替代地，多孔徑成像裝置40可包括經組配以使光束偏轉構件沿著移動66方向或相反方向移動之另一致動器。
如圖2b之情況下所描述，致動器42可經組配以基於光束偏轉構件18之旋轉而獲得光束偏轉構件之第一及第二位置。對於用於位置之間的切換之旋轉移動及沿著方向66之平移移動兩者，第一位置Pos1與第二位置Pos2之間的移動可與旋轉移動38疊加。
圖5a展示形成為刻面46a至46h之陣列的光束偏轉構件18之示意圖。若例如光束偏轉構件18定位於第一位置中，則分別用數字1、2、3及4識別之刻面46a至46d可使四個光學通道之光學路徑在第一方向上偏轉。若光束偏轉構件18處於第二位置中，則基於刻面46e至46h (如分別藉由數字1'、2'、3'及4'識別)，各光學通道之光學路徑可在第二方向上偏轉。舉例而言，刻面46a至46d及46e至46h可被稱作按區塊配置。針對光束偏轉構件18的沿著平移方向66之平移移動，可行進實質上對應於沿著線延伸方向65之數個光學通道的延伸長度之距離88。舉例而言，根據圖4之實施例，此距離為沿著線延伸方向65的四個光學通道之延伸。根據另一實施例，光束偏轉元件之數目可不同於光學通道之倍數。至少一個光束偏轉元件可組配或配置於光束偏轉構件之位置中，以便使至少兩個光學通道之光學路徑偏轉。
圖5b展示光束偏轉構件18之示意圖，其中與圖5a中之表示相比，刻面46a至46g包含互相不同的排序。圖5b中所表示之光束偏轉構件針對各光學通道包含光學通道46a至46g之交替配置，如序列1、1'、2、2'、3、3'、4及4'所表示。此配置實現光束偏轉構件18移動以便在第一位置與第二位置之間切換所沿著的距離88'。與圖5a之距離88相比，距離88'可較小。舉例而言，距離88'可實質上對應於陣列14之兩個鄰近光學通道之間的距離。舉例而言，兩個光學通道可包含彼此之間的距離或空間，其實質上對應於刻面沿著移動方向65之至少一個尺寸。距離88'亦可不同於兩個鄰近光學通道之間的距離，例如，當光束偏轉元件組配或配置於光束偏轉構件之位置中以便使至少兩個光學通道之光學路徑偏轉時。
圖6展示根據一實施例之成像系統60之示意性透視圖。成像系統60包括多孔徑成像裝置10。根據另外實施例，替代或除多孔徑成像裝置10外，成像系統60包括至少一個多孔徑成像裝置20、30及/或40。成像裝置60包括扁平外殼92。扁平外殼92包括沿著第一外殼方向a之第一延伸部94a。扁平外殼92進一步包括沿著第二外殼方向b之第二延伸部94b，及沿著第三外殼方向c之第三延伸部94c。舉例而言，外殼方向a在空間中可平行於厚度方向57而配置。扁平外殼92的沿著外殼方向a之延伸部94a可理解為扁平外殼92之最小尺寸。與最小延伸部相比，沿著其他外殼方向b或c之其他延伸部94b及/或94c的值與沿著外殼方向a之延伸部94a相比可為至少三倍、至少五倍或至少七倍。簡言之，與沿著其他外殼方向b或c之其他延伸部94b及94c相比，延伸部94a可較小、實質上較小或必要時以一個大小之量較小。
扁平外殼92可包括一或多個隔膜96a至96b，光學路徑26及/或26'可(例如)基於多孔徑成像裝置10之光束偏轉光束而偏準穿過該一或多個隔膜。該等隔膜可為(例如)電致變色隔膜及/或配置於顯示器之區域中。
成像系統60可經組配為攜帶型裝置。舉例而言，成像系統60可為攜帶型通訊裝置，諸如行動電話或所謂的智慧型電話、平板電腦或攜帶型音樂播放裝置。成像系統60可實施為監視器(例如)以供用於導航、多媒體或電視系統中。替代或另外地，成像裝置60亦可配置在諸如鏡面之反射表面後。
在行動通訊裝置之領域中，多孔徑成像裝置10、10'、20、30及/或40之配置可為有利的，此係因為基於沿著長的外殼側面94b及/94c的多孔徑成像裝置沿著外殼方向94a之延伸部可為小的，使得成像系統60可具有小的延伸部94a。換言之，習知系統中的影像感測器及物鏡之相對二維橫向移動(其影響視場之角度之二維改變(對應於掃描))可由查看方向之一維改變及旋轉移動來替換。查看方向之一維改變可藉由改變鏡面(光束偏轉構件)相對於成像通道之光軸(線延伸方向)的對準、藉由使可旋轉定位之鏡面到達另一定向來執行，鏡面之旋轉軸線垂直於或幾乎垂直於成像通道之光軸。為了適應垂直於上述方向之查看方向，影像感測器及/或陣列物鏡(光學通道之陣列)可彼此橫向地移動。藉由兩種移動之相互作用，可達成二維光學影像穩定。
為了實現小建構高度，為了實現移動而配置之組件(例如，致動器)及子系統(諸如圖像處理)可在必要時排他性地配置在藉由成像光學路徑(亦即在平面52a與平面52b之間)界定的空間旁邊、前及/或後，且根據實施例不配置在該空間上方或下面。此實現用於光學影像穩定之作用單元(致動器)之空間分離。進行此分離，可達成所需組件之數目之減少，攝影機系統之製造成本可為低，且可達成與習知結構相比的建構高度之明顯減小。參看圖2a，與已知系統之差異可為光學通道之透鏡(光學件)可實質上界定平面52a與平面52b之距離。此實現裝置之小建構高度，小建構高度係有利的。在習知系統中，透鏡之主要平面平行於平面52a及52b，而陣列之光學件之主要平面正交於該等平面而配置。
圖7展示總視場70在其可(例如)使用本文中所描述之多孔徑成像裝置偵測到時的示意性表示。多孔徑成像元件之光學通道之光學路徑可引導至互相不同的部分視場72a至72d，其中各光學通道可關聯至部分視場72a至72d。舉例而言，部分視場72a至72d彼此重疊，以便實現結合單一部分影像至整個影像。若多孔徑成像裝置包含除四個以外的數目個之光學通道，則總視場70可包含除四個以外的數目個部分視場。替代或另外地，至少一部分視場72a至72d可由更多數目個模組(多孔徑成像裝置)中之第二或更高數目光學通道偵測到，以便建置立體、三重(trio)、四重(quattro)攝影機以利用該等攝影機擷取三維物件資料。該等模組可單獨地組配或組配為相干系統，且可配置於外殼92內之任何位置處。一起形成立體、三重或四重攝影機之不同模組之影像可藉由像素之片段而偏移且經組配以實施超解析度之方法。舉例而言，光學通道之數目及/或多孔徑成像裝置之數目及/或部分視場之數目係任意的，且可包含至少兩個、至少三個、至少四個、至少十個、至少20個或甚至更高值的數目。另外線之光學通道亦可擷取彼此重疊之部分區域且一起覆蓋總視場。此實現陣列攝影機之立體、三重、四重等結構，該等陣列攝影機由在其子群組內部分重疊且覆蓋總視場之通道構成。
圖8展示裝置80之示意性透視圖，該裝置包括外殼72及配置於外殼72內之第一多孔徑成像裝置10a及第二多孔徑成像裝置10b。裝置80用以使用多孔徑成像裝置立體地偵測總視場70。舉例而言，總視場70配置於外殼的避開主要側面74a之主要側面74b處。舉例而言，多孔徑成像裝置10a及10b可分別藉由透明區域68a及68c來偵測總視場70，其中配置於主要側面74b內之隔膜78a及78c係至少部分透明的。配置於主要側面74a內之隔膜78b及78d可至少部分地光學阻擋透明區域68b及/或68d，使得來自面對主要側面74a之一側的假光(其可偽造藉由多孔徑成像裝置10a及/或10b擷取之影像)之範圍至少減小。儘管多孔徑成像裝置10a及10b在空間上在空間中彼此以一距離配置，但多孔徑成像裝置10a及10b亦可在空間上鄰近或組合地配置。舉例而言，成像裝置10a及10b之單線陣列可彼此緊接地或彼此平行地配置。該等單線陣列可彼此形成線，各多孔徑成像裝置10a及10b包含一單線陣列。成像裝置10a及10b可包含共同光束偏轉構件，及/或共同載體62，及/或共同影像感測器12。替代或除多孔徑成像裝置10a及/或10b外，可配置多孔徑成像裝置10、10'、20、30或40。
透明區域68a至68d可另外配備在不使用情況下覆蓋光學結構之可切換隔膜78a至78d。隔膜78a至78d可包含以機械方式移動之部件。機械移動之部件的移動可使用致動器來執行，例如，如針對致動器36及45所描述。隔膜78a至78d可替代或另外地電可控制且包含電致變色層或電致變色層序列，亦即形成為電致變色隔膜。
圖9展示包含第一多孔徑成像裝置10a及第二多孔徑成像裝置10b之示意性結構，其可(例如)配置於成像系統80內。陣列14a及14b以單線形成且形成共同線。影像感測器12a及12b可安裝於共同基體上或安裝於共同電路載體(諸如共同板或共同撓曲板)上。替代地，影像感測器12a及12b可包含互相不同的基體。當然，該等替代物之不同混合亦係可能的，諸如多孔徑成像裝置包含共同影像感測器、共同陣列及/或共同光束偏轉構件18，以及另外多孔徑成像裝置包含單獨組件。共同影像感測器、共同陣列及/或共同光束偏轉構件係有利的，此係因為可藉由控制少數致動器來獲得任何組件之高精確度移動，且可減少或防止致動器之間的同步。此外，可達成高熱穩定性。替代或另外地，其他及/或互相不同的多孔徑成像裝置10、10'、20、30及/或40亦可包含共同陣列、共同影像感測器及/或共同光束偏轉構件。
本文中所描述之實施例實現具有以下各者之多孔徑成像系統：線性通道配置，亦即具有沿著線延伸方向之一或多個線；以及使用影像感測器與成像光學件之間的單軸平移移動以及光束偏轉鏡面陣列之單軸旋轉移動的光學影像穩定。
儘管描述先前所描述實施例以使得數目為四的光學通道或該數目之倍數的光學通道經配置，但根據另外實施例之多孔徑成像裝置可包含任意數目個光學通道，例如，可配置至少兩個、至少三個、至少四個、至少十個或更高數目個光學通道。
儘管描述先前所描述實施例以使得光學影像穩定器22包含致動器36及致動器42，但根據另外實施例，致動器36及42亦可形成為共同致動器。舉例而言，藉由致動器產生之移動可借助於電力及/或移位轉譯器(傳輸)引導至影像感測器12、光學陣列14及/或光束偏轉構件18，以便獲得各別移動。替代或另外地，一或多個組件亦可由若干致動器來移動，例如，如在多孔徑成像裝置40之情況下所描述。
舉例而言，影像感測器可形成為互補金屬氧化物半導體(CMOS)或與其不同於之技術。可理解各別陣列之光學通道，以使得該等光學通道界定一區域，引導至各別影像感測器區域之光學路徑在該區域中光學地改變。相關聯至影像感測器區域之光學路徑因此可穿過陣列之光學通道。
先前已參考如下事實：自光束偏轉構件開始，光學路徑或光軸可在互相不同的方向上引導。此可藉由在光束偏轉構件之偏轉期間及/或藉由光學件引導光學路徑來獲得，以便不再彼此平行。光學路徑或光軸可不同於光束偏轉之前或無光束偏轉時的平行度。此情況隨後藉由據稱通道可具備某種預先發散來描述。由於光軸之此預先發散，有可能(例如)並非所有刻面傾斜不同於光束偏轉構件之刻面，但通道之某些群組(例如)具有傾斜相同之刻面或偏轉至相同傾斜。後者接著可整體地或連續地彼此合併而形成，亦即形成為關聯至在線延伸方向上鄰近之通道之此群組的刻面。該等通道之光軸之發散接著可源自如藉由光學通道之光學件之光學中心與通道之影像感測器區域之間的橫向偏移獲得的該等光軸之發散。舉例而言，預先發散可限於一個平面。舉例而言，光軸在光束偏轉之前或無光束偏轉時可位於共同平面中，從而仍然在共同平面內發散，且刻面僅影響另一橫向平面內之額外發散，所有刻面平行於線延伸方向及彼此傾斜，從而與光軸之先前提及共同平面有差異，其中此處若干刻面可具有相同傾斜或通常關聯至光軸(例如)在光束偏轉之前或無光束偏轉時在成對之光軸之先前提及共同平面中可能已不同的通道之群組。簡單地說，光學件可實現光學路徑沿著第一(影像)方向之(預先)發散，且光束偏轉構件可實現光學路徑沿著第二(影像))方向之發散。
可例如藉由使光學件之光學中心位於沿著線延伸方向之直線上而獲得可能存在的上文所提及之預先發散，而影像感測器區域之中心偏離光學中心沿著影像感測器區域之平面之法線至影像感測器平面中之直線上之點上的投影而配置，例如配置在沿著線延伸方向及/或沿著垂直於線延伸方向及影像感測器法線兩者的方向以通道個別方式偏離影像感測器平面中之先前所提及直線上的點。替代地，可例如藉由使影像感測器之中心位於沿著線延伸方向之直線上而獲得預先發散，而光學件之中心偏離影像感測器之光學中心沿著光學件之光學中心之平面之法線至光學中心之平面中之直線上之點上的投影而配置，例如配置在沿著線延伸方向及/或沿著垂直於線延伸方向及光學夾心之平面之法線兩者的方向以通道個別方式偏離光學中心之平面中之先前所提及直線上的點。先前提及的與各別投影之通道特定偏離較佳僅位於線延伸方向上，亦即僅位於僅一個共同平面中之光軸將具備預先發散。光學中心及影像感測器區域中心兩者位於直線上，該直線平行於線延伸方向，但在其間具有不同距離。相比之下，透鏡與影像感測器之間在線延伸方向之垂直側向方向上的橫向偏移引起建構高度之擴大。線延伸方向上之僅共平面偏移不會改變建構高度，但可導致更少刻面及/或刻面僅包含簡化結構之角度定向上之傾斜。舉例而言，彼此鄰近之光學通道可包含位於共同平面內、彼此偏斜(亦即具備預先發散)之光軸。刻面可相對於光學通道之群組配置，僅在一個方向上傾斜，且平行於線延伸方向。
另外，可假設一些光學通道關聯至相同部分視場，例如出於超解析度之目的或用於增加解析度，藉由該等通道以該解析度對各別部分視場取樣。此群組內之光學通道可在光束偏轉之前平行地延行且將藉由刻面偏轉至部分視場。群組之通道之影像感測器之像素影像將位於此群組之另一通道之影像感測器之像素的影像之間的中間位置中可為有利的。
即使不具有超解析度之目的而僅出於立體目的，一組態將可以想像，其中線延伸方向上的緊鄰通道之群組完全覆蓋總視場及通道之部分視場，且彼此緊鄰之通道之另一群組亦完全覆蓋總視場。
以上實施例亦可實施為多孔徑成像裝置及/或包含此多孔徑成像裝置、具有單線通道配置之成像系統的形式，其中各通道傳送總視場之部分視場，且部分視場部分重疊。具有用於3D影像偵測之立體、三重、四重等結構的若干此等多孔徑成像裝置的結構係可能的。多個模組可形成為一個連續線。連續線可使用相同致動器及共同光束偏轉元件。可存在於光學路徑中之一或多個補強基體可延伸跨過形成立體、三重、四重結構之整條線路。可使用超解析度之方法，其中若干通道投影相同部分影像區。即使不具有光束偏轉裝置，光軸亦可發散，使得光束偏轉單元上需要更少刻面。有利地，該等刻面因而僅具有一個角度組件。影像感測器可為整體的，具有僅一個相干像素矩陣或若干不連續像素陣列。影像感測器可由(例如)彼此緊接地配置於印刷電路板上之若干子感測器組成。自動對焦驅動器可經組配以使得光束偏轉元件與光學件同步地移動或閒置。
即使一些態樣已在裝置之上下文內描述，但應理解，該等態樣亦表示對應方法之描述，使得裝置之區塊或結構組件亦被理解為對應方法步驟或方法步驟之特徵。藉由與此類似，在上下文內已描述或描繪為方法步驟之態樣亦表示對應裝置之特徵之對應區塊或細節的描述。
上述實施例僅表示本發明之原理之說明。應理解，其他熟習此項技術者將瞭解本文中所描述之配置及細節之修改及變化。此係希望本發明僅受以下申請專利範圍之範疇限制，而不受本文中借助於對實施例之描述及論述已呈現之特定細節限制的原因。
10、10'、10a、10b、20、30、40‧‧‧多孔徑成像裝置
12、12a、12b‧‧‧影像感測器
14、14a、14b‧‧‧光學通道之陣列
16a、16b、16c、16d、16e、16f、16g、16h‧‧‧光學通道
17‧‧‧光學件
18‧‧‧光束偏轉構件
22‧‧‧光學影像穩定器
24a、24b、24c、24d、24e、24f、24g、24h‧‧‧影像感測器區域
26、26'、26a、26d、26c、26d、26e、26h‧‧‧光學路徑
28、32‧‧‧影像軸線
34‧‧‧平移相對移動
35、65‧‧‧線延伸方向
36、42、42'、58‧‧‧致動器
38‧‧‧旋轉移動
44‧‧‧旋轉軸線
46a、46b、46c、46d‧‧‧區域或光束偏轉元件/刻面
46e、46f、46g、46h‧‧‧刻面
47‧‧‧載體
48、52a、52b‧‧‧平面
53a、53b‧‧‧側面
54‧‧‧調焦構件
55‧‧‧立方體
56、56'、88、88'‧‧‧距離
57‧‧‧多孔徑成像裝置之厚度方向
60‧‧‧成像系統
62‧‧‧透明基體/載體
64a、64b、64c、64d‧‧‧透鏡
66‧‧‧平移移動
68a、68b、68c、68d‧‧‧透明區域
70‧‧‧總視場
72a、72b、72c、72d‧‧‧部分視場
78a、78b、78c、78d、96a、96b‧‧‧隔膜
72‧‧‧外殼
74a、74b‧‧‧主要側面
80‧‧‧裝置
92‧‧‧扁平外殼
94a、94b、94c‧‧‧延伸部
a、b、c‧‧‧外殼方向
Pos1‧‧‧第一位置
Pos2‧‧‧第二位置
a‧‧‧角度
本發明之較佳實施例將在下文參看附圖進行論述，在附圖中： 圖1a為根據一實施例之多孔徑成像裝置之示意圖； 圖1b為根據一實施例之多孔徑成像裝置之示意圖，其中致動器連接至影像感測器； 圖2a為根據一實施例之另一多孔徑成像裝置之示意性截面側視圖； 圖2b為圖2a之多孔徑成像裝置之示意性截面側視圖； 圖3為根據一實施例之多孔徑成像裝置之示意性俯視圖，其中光束偏轉構件包括不同的光束偏轉元件； 圖4為根據一實施例的具有以單線方式配置之光學通道的多孔徑成像裝置之示意性透視圖； 圖5a為根據一實施例的形成為刻面之陣列的光束偏轉構件之示意性表示； 圖5b為根據一實施例之光束偏轉構件之示意圖，其中與圖5a中之表示相比，刻面包含互相不同的排序； 圖6為根據一實施例之成像系統之示意性透視圖； 圖7為根據一實施例之總視場在其可(例如)使用本文中所描述之多孔徑成像裝置偵測到時的示意性表示； 圖8為包括根據一實施例之兩個多孔徑成像裝置之攜帶型裝置的示意性透視圖；且 圖9展示包括具有共同影像感測器之第一多孔徑成像裝置及第二多孔徑成像裝置的示意性結構。
10‧‧‧多孔徑成像裝置
14‧‧‧光學通道之陣列
16a、16b、16c、16d、16e、16f、16g、16h‧‧‧光學通道
18‧‧‧光束偏轉構件
22‧‧‧光學影像穩定器
24a、24b、24c、24d、24e、24f、24g、24h‧‧‧影像感測器區域
26d、26e、26h‧‧‧光學路徑
28、32‧‧‧影像軸線
34‧‧‧平移相對移動
35‧‧‧線延伸方向
36、42‧‧‧致動器
38‧‧‧旋轉移動
44‧‧‧旋轉軸線
46a、46b、46c、46d‧‧‧區域或光束偏轉元件
47‧‧‧載體

Claims (18)

  1. 一種多孔徑成像裝置，其包含：一影像感測器；光學通道之一陣列，其中各光學通道包括用於將一總視場之一部分視場投影於該影像感測器之一影像感測器區域上的光學件；一光束偏轉構件，其用於使該等光學通道之一光學路徑偏轉；以及一光學影像穩定器，其用於藉由產生該影像感測器與該陣列之間的一平移相對移動而達成沿著一第一影像軸線之一影像穩定及藉由產生該光束偏轉構件之一旋轉移動而達成沿著一第二影像軸線之一影像穩定。
  2. 如請求項1之多孔徑成像裝置，其中該影像穩定器包括至少一個致動器，且經配置以使得該至少一個致動器至少部分地配置於一立方體之側面所橫跨的兩個平面之間，該立方體之該等側面彼此平行地且亦平行於該陣列之一線延伸方向及該等光學通道之該光學路徑在該影像感測器與該光束偏轉構件之間的一部分而對準，且該立方體之體積最小，但仍然包括該影像感測器、該陣列及該光束偏轉構件。
  3. 如請求項2之多孔徑成像裝置，其中該影像穩定器最多50%地自該等平面之間的區域突出。
  4. 如請求項2之多孔徑成像裝置，其中該影像穩定器之該至少一個致動器包括一音圈或一壓電致動 器。
  5. 如請求項1之多孔徑成像裝置，其進一步包括一調焦構件，該調焦構件包含用於調整該多孔徑成像裝置之一焦點的至少一個致動器，其中該調焦構件經配置以使得其至少部分地配置於一立方體之側面所橫跨的兩個平面之間，該立方體之該等側面彼此平行地且亦平行於該陣列之一線延伸方向及該等光學通道之該光學路徑在該影像感測器與該光束偏轉構件之間的一部分而對準，且該立方體之體積最小，但仍然包括該影像感測器、該陣列及該光束偏轉構件。
  6. 如請求項5之多孔徑成像裝置，其中該調焦構件包括用於提供該等光學通道中之一者的光學件與該影像感測器之間的一相對移動之一致動器。
  7. 如請求項6之多孔徑成像裝置，其中該調焦構件經組配以藉由執行該光束偏轉構件的與該相對移動同時之一移動而執行該等光學通道中之一者的該光學件與該影像感測器之間的該相對移動。
  8. 如請求項5之多孔徑成像裝置，其中該調焦構件經配置以使得該調焦構件最多50%地自該等平面之間的該區域突出。
  9. 如請求項5之多孔徑成像裝置，其中該調焦構件之該至少一個致動器為以下各者中之至少一者：一氣動致動器、一液壓致動器、一壓電致動器、一直流馬達、一步進器馬達、一音圈馬達、一靜電致動器、一電致 伸縮致動器、一磁致伸縮致動器及一熱致動器。
  10. 如請求項1之多孔徑成像裝置，其中該陣列形成為一單線。
  11. 如請求項1之多孔徑成像裝置，其中該光束偏轉構件包含一第一位置及一第二位置，在該等位置之間，該光束偏轉構件可以一平移方式沿著該陣列之一線延伸方向移動，該光束偏轉構件經組配而在該第一位置中及在該在第二位置中使各光學通道之該光學路徑在一互相不同方向上偏轉。
  12. 如請求項11之多孔徑成像裝置，其中該光束偏轉構件可以一平移方式移動所沿的一平移移動方向平行於該線延伸方向。
  13. 如請求項1之多孔徑成像裝置，其配置於一扁平外殼中，其中該外殼的沿著一第一外殼方向及一第二外殼方向之一第一延伸部及一第二延伸部的尺寸為該外殼的沿著一第三外殼方向之一第三延伸部的至少3倍。
  14. 如請求項1之多孔徑成像裝置，其中該光束偏轉構件形成為沿著該線延伸方向配置之刻面之一陣列。
  15. 一種成像系統，其具有如前述請求項中任一項之多孔徑成像裝置，其中該成像系統經實施為一攜帶型系統。
  16. 如請求項15之成像系統，其包含至少一個另外多孔徑成像裝置，其中該成像系統經組配以至少立 體地偵測一總視場。
  17. 如請求項15之成像系統，其經實施為行動電話、智慧型電話、平板電腦或監視器。
  18. 一種用於提供一多孔徑成像裝置之方法，其包含：提供一影像感測器；配置光學通道之一陣列，其中各光學通道包括用於將一總視場之一部分視場投影於該影像感測器之一影像感測器區域上的光學件；配置一光束偏轉構件，其用於使該等光學通道之一光學路徑偏轉；以及配置一光學影像穩定器，其用於藉由產生該影像感測器與該陣列之間的一平移相對移動而達成沿著一第一影像軸線之一影像穩定及藉由產生該光束偏轉構件之一旋轉移動而達成沿著一第二影像軸線之一影像穩定。
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