TWI610332B - 電漿電弧監測方法及裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種電漿電弧監測方法,在利用該對靜電吸盤的電訊號進行電弧的監測時,藉由將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形,藉由將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,由於第一閾值較小,第一比較波形的脈衝具有更長的持續時間,便於獲取變化較快的電訊號的相對較寬的持續時間,而第二波形是藉由與較大的閾值比較後獲得波形,也就是說,第二波形中的脈衝代表幅值滿足要求的情況,藉由這二者的判斷,可以去除了電訊號微小波動或短暫波動等干擾訊號,有效的判斷出準確的電弧發生的情況,達到可靠監測電漿電弧發生的目的。

Description

電漿電弧監測方法及裝置
本發明關於半導體刻蝕技術領域,特別是關於一種電漿電弧檢測方法。
電漿設備是半導體器件加工製程中常用的設備,它是將氣體進行電離產生電漿,藉由電漿對基片表面進行加工,如清洗、刻蝕或襯底等。
在電漿設備利用電漿對基片進行表面加工時,若在反應腔室內產生電漿電弧,會對基片表面造成損害或導致其無法正常工作,有時也會對電漿設備的反應腔室造成不良的影響。若能在電弧發生時監測到該電弧的發生,則可以避免後續對基片甚至腔室造成的傷害。
在目前,一種電漿電弧的監測方法為監測濺射靶材的高壓DC電源,藉由電弧發生時,引起的暫態電壓或電流來體現該電弧現象,然而,這種方法僅可以監測到靠近靶材區域的電弧,無法可靠監測電漿的電弧。
有鑑於此,本發明的目的在於提供一種電漿電弧檢測方法及裝置,有效監測電漿電弧的發生。
為實現上述目的,本發明有如下技術手段:一種電漿電弧監測方法,其特徵在於,包括: 利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生,電訊號包括電壓訊號或電流訊號;利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生的步驟包括:將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形;將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,其中,第二閾值大於第一閾值;判斷第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出第三波形,第三波形中的脈衝對應第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝,並判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。
較佳者,利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生的步驟包括:將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形;將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,其中,第二閾值大於第一閾值;判斷第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出第三波形,第三波形中的脈衝對應第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝,判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。
較佳者,在認為有一次電漿電弧發生之後,還包括:輸出預設週期的脈衝波形,以用於電弧的識別。
較佳者,靜電吸盤電源的電訊號來自靜電吸盤高壓直流轉換器的電流檢測埠。
較佳者,判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝的方法包括:將第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形;將第三波形與第四波形進行與邏輯操作,以輸出第五波形,並認為第五波形中的脈衝對應電漿電弧發生的訊號。
較佳者,將第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形的步驟包括:將第二比較波形的脈衝藉由電容延時電路進行延時,藉由延時電路確定延時結束的時間,且延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形。
較佳者,將第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形的步驟包括:將第二比較波形的脈衝延時一段時間,藉由第三波形的脈衝下降沿確定延時的結束的時間,且延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形。
較佳者,在利用所述電訊號的變化檢測電漿電弧的發生之前,還包括:將電訊號進行濾波。
此外,本發明還提供了一種電漿電弧監測裝置,用於利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生,電訊號包括電壓訊號或電流訊號,包括:第一比較器,用於將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形; 第二比較器,將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,其中,第二閾值大於第一閾值;第一判斷單元,判斷第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出第三波形,第三波形中的脈衝對應第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝;第二判斷單元,用於判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。
較佳者,還包括:脈衝輸出單元,用於輸出預設週期的脈衝波形,以用於電弧的識別。
較佳者,靜電吸盤電源的電訊號來自靜電吸盤高壓直流轉換器的電流檢測埠。
較佳者,還包括:濾波單元,用於將電訊號進行濾波。
較佳者,第二判斷單元包括:延時單元,用於將第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形;與電路單元,用於將第三波形與第四波形進行與邏輯操作,以輸出第五波形,並認為第五波形中的脈衝對應電漿電弧發生的訊號。
較佳者,延時單元中,將第二比較波形的脈衝藉由電容延時電路進行延時,藉由延時電路確定延時結束的時間,且延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形。
較佳者,延時單元中,將第二比較波形的脈衝延時一段時間,藉由第三波形的脈衝下降沿確定延時的結束的時間,且延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形。
本發明實施例提供的電漿電弧監測方法及裝置,在利用該對靜電吸盤的電訊號進行電弧的監測時,藉由將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形,藉由將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,由於第一閾值較小,第一比較波形的脈衝具有更長的持續時間,便於獲取變化較快的電訊號的相對較寬的持續時間,而第二波形是藉由與較大的閾值比較後獲得波形,也就是說,第二波形中的脈衝代表幅值滿足要求的情況,藉由這二者的判斷,可以去除了電訊號微小波動或短暫波動等干擾訊號,有效的判斷出準確的電弧發生的情況,達到可靠監測電漿電弧發生的目的。
10、12‧‧‧電極
14‧‧‧電漿
16‧‧‧電弧
18‧‧‧高壓直流轉換器
300‧‧‧電漿電弧監測裝置
310‧‧‧濾波單元
320‧‧‧第一比較器
330‧‧‧第二比較器
340‧‧‧第一判斷單元
350‧‧‧第二判斷單元
360‧‧‧脈衝輸出單元
3501、3503‧‧‧延時單元
3502‧‧‧電路單元
A‧‧‧靜電吸盤電源的電訊號
B‧‧‧第三波形
C‧‧‧第二比較波形
D‧‧‧第四波形
E‧‧‧輸出端
S101、S102、S103‧‧‧步驟
V(IESC)‧‧‧電壓訊號
Vref1‧‧‧第一閾值
Vref2‧‧‧第二閾值
IESC‧‧‧電流訊號
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術手段,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的圖式作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的圖式是本發明的一些實施例,對於本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些圖式獲得其他的圖式。
圖1為電漿設備中上電極和靜電吸盤的結構示意圖;圖2為圖1的電漿設備中發生電漿電弧時靜電吸盤的電訊號波形示意圖;圖3為根據本發明實施例的電漿電弧監測方法的流程示意圖;圖4為本發明實施例監測方法中獲得電漿電弧的發生訊號的波形示意圖; 圖5為根據本發明實施例的電漿電弧監測裝置的結構示意圖;圖6為根據本發明一實施例的電漿電弧監測裝置的電路結構示意圖;圖7為根據本發明另一實施例的電漿電弧監測裝置的電路結構示意圖。
為使本發明實施例的目的、技術手段和優點更加清楚,下面將結合本發明實施例中的圖式,對本發明實施例中的技術手段進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬於本發明保護的範圍。
正如先前技術的描述,在現有技術中,藉由監測電漿設備中濺射靶材的高壓DC電源,來監測電漿電弧的發生,然而,這種方法僅可以監測到靠近靶材區域的電弧,無法可靠監測電漿的電弧。
為此,本發明提出了一種電漿電弧監測方法,以達到能夠可靠監測電漿的電弧的目的。申請人在反復實施中,發現藉由利用靜電吸盤電源的電訊號的變化可以可靠監測到電漿電弧的發生。參考圖1所示,為電漿設備中上電極和靜電吸盤的結構示意圖,可以看到,靜電吸盤(ESC,Electrostatic Chuck)位於產生電漿的上、下電極10、12之間,並設置在下電極12之上,輸送到下電極的射頻功率能夠耦合到靜電吸盤內的電極12,當電漿14有電弧16發生時,電弧16會對靜電吸盤產生影響,這種影響會體現在對ESC的電訊號上,尤其是電壓訊號V(IESC)和電流訊號IESC
其中,靜電吸盤是藉由靜電荷吸引來固定待加工基片的裝置,靜電吸盤通常連接有高壓直流轉換器(HV DC/DC Converter)18,為靜電吸盤提供高壓直流電源,參考圖2所示,監測電漿設備中的靜電吸盤的電訊號所獲得的波形,可以看到,當有電漿電弧發生時,靜電吸盤的電訊號會突然增大,且在電弧消失時,電訊號逐漸減小到正常值。基於此,本發明提出了一種電漿電弧監測方法,參考圖3所示,包括:S101,利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生,電訊號包括電壓訊號或電流訊號;利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生的步驟包括:將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形;將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,其中,第二閾值大於第一閾值;判斷第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出第三波形,第三波形中的脈衝對應第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝,並判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。藉由對靜電吸盤的電訊號的監測,達到有效監測電漿電弧發生的目的。
為了便於獲取靜電吸盤電源的電訊號,在本發明實施例中,參考圖1所示,靜電吸盤電源的電訊號為靜電吸盤的高壓直流轉換器18的電流檢測埠的電流或電壓訊號V(IESC),該電流檢測埠的輸出電流與靜電吸盤電源的電流成正比,能夠體現該電流的變化,該電流檢測埠提供的電壓或電流訊號的電訊號,藉由監測電訊號的變化,監測電漿電弧的發生。
為了更好的理解本發明的技術手段和技術效果,以下將結合流程圖對具體的實施例進行詳細的描述。
在步驟S101,將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形。
在本發明實施例中,第一閾值相較於第二閾值具有較小的數值,在電訊號為電流訊號時,電訊號與第一閾值比較,即電訊號的值若大於第一閾 值則比較後輸出第一數值,第一數值例如為1,電訊號的值若小於第一閾值則比較後輸出第二數值,第二數值例如為0,第一數值和第二數值組成隨時間變化的第一比較波形,其中,第一數值代表電訊號為異常時的數值,在第一比較波形中為脈衝。
在步驟S102,將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,其中,第二閾值大於第一閾值。
在該步驟中,將電訊號與一閾值,第二閾值進行比較,第二閾值較第一閾值更大,在一個具體的實施例中,例如,第一閾值可以為10uA,第二閾值可以為20uA。
同步驟S101,電訊號與第二閾值進行比較,即電訊號若大於第二閾值,則比較後輸出第三數值,第三數值例如為1,電訊號若小於第二閾值,則比較之後輸出第四數值,第四數值例如為0,第三數值和第四數值組成隨時間變化的第二比較波形,其中,第三數值代表電訊號為異常時的數值,在第二比較波形中為脈衝。
對於上述的電訊號,可以為直接來自靜電吸盤電源的電訊號,例如來自靜電吸盤高壓直流轉換器的電流檢測埠的電訊號,更優地,該電訊號為經過濾波的電訊號,如經過低通濾波和高通濾波的電訊號。
在步驟S103,判斷第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出第三波形,第三波形中的脈衝對應第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝,並判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。
對於第一比較波形,判斷其中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,預設時長範圍例如可以為25-330us,對於在預設時長範圍內的脈衝,則認為有可能是有電弧發生,也就是說,要將第一比較波形中的較長或較短時長 的異常情況排除,過短的異常通常為干擾情況,過長的異常通常為故障情況,這些都不會是電弧發生的情形。
而對於時長滿足條件的情形,仍可能為干擾訊號,在實際生產中,並不能認為是有電弧發生。因此,本發明實施例中,繼續判斷在所述持續時間段內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若存在,則認為該次脈衝對應一次電漿電弧的發生。也就是說,在異常時長滿足條件之後,若在該持續時間段內,如果第二比較波形中也存在脈衝,說明該次異常引起較大的電訊號的波動,並不是干擾訊號,認為該次脈衝是電漿電弧發生引起的電訊號的突變。
在該較佳實施例中,在利用該對靜電吸盤的電訊號進行電弧的監測時,藉由將電訊號與第一閾值進行比較,獲得第一比較波形,藉由將電訊號與第二閾值進行比較,獲得第二比較波形,由於第一閾值較小,第一比較波形的脈衝具有更長的持續時間,便於獲取變化較快的電訊號的相對較寬的持續時間,而第二波形是藉由與較大的閾值比較後獲得波形,也就是說,第二波形中的脈衝代表幅值滿足要求的情況,藉由這二者的判斷,可以去除了電訊號微小波動或短暫波動等干擾訊號,有效的判斷出準確的電弧發生的情況,達到可靠監測電漿電弧發生的目的。
具體的實施例中,判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝的方法包括:將第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形;將第三波形與第四波形進行與邏輯操作,以輸出第五波形,並認為第五波形中的脈衝對應電漿電弧發生的訊號。
為了更好的說明本實施例中的獲得電漿電弧發生的訊號的方法,將以一個具體的實施例結合波形變化圖進行說明,參考圖4,可以看到,靜 電吸盤電源的電訊號A在與第一閾值進行比較之後,輸出第一比較波形(圖未示出),第一比較波形中的脈衝持續時間在預設時長範圍內,因此,輸出第三波形B,靜電吸盤電源的電訊號A在與第二閾值進行比較之後,輸出第二比較波形C,將第二比較波形C中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形B的脈衝翻轉之後的預定時間內,在圖4所示中,延時結束在第三波形的下降沿來臨之後的一定時間後E處,這樣,在E訊號之後,第二比較波形的延時波形翻轉,從而,輸出第四波形D,將第四波形D與第三波形B進行與邏輯操作,這樣,便可以獲得用於確認電漿電弧發生的訊號的第五波形,該波形中的脈衝即對應電漿電弧發生的訊號。
對於延時結束的時間的確定,可以採用不同的方式,在一些實施例中,第二比較波形的脈衝可以藉由電容延時電路進行延時,延時的結束時間也由電路延時電路確定,藉由電容延時電路的電容特性的設計,使第二比較波形延時特定的時間,從而,使得延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內發生。
在另一些實施例中,藉由第三波形的脈衝下降沿確定延時的結束的時間,可以藉由第三波形的脈衝的下降沿直接觸發第二比較波形的延時波形的翻轉,也可以藉由第三波形的脈衝的下降沿延時一定時間後再觸發第二比較波形的延時波形的翻轉,從而,使得延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內發生。
在判斷有電漿電弧發生之後,可以輸出合適的訊號來表示電弧的發生,例如可以輸出第六波形,以第六波形中的脈衝代表電弧發生,也可以提供其他的訊號,以供進一步的應用,如報警或統計,以便於工作人員根據這些資訊進行進一步的操作。
還可以包括步驟S104,輸出預設週期的脈衝波形,以用於電弧的識別。
在實際的電漿設備中,通常藉由PLC(可程式設計控制器)來作為訊號處理和控制的裝置,該PLC裝置無法捕獲持續時間過短的脈衝訊號,如持續時間小於150ms的脈衝是無法被捕獲的,而電弧發生的時長都是微秒級的,即使有效地識別出了電弧發生的訊號,也無法被PLC獲得並進一步應用。基於此,在較佳的實施例中,在確認有電漿電弧發生之後,則輸出一個能被進一步識別的週期長度的脈衝波形,例如輸出一個150ms的脈衝波形,該波形表示為有一次電漿電弧發生。該預設週期的脈衝波形將發送至訊號處理和控制的裝置,用於對電弧訊號的識別和進一步的應用。
以上對本發明實施例的電漿電弧監測方法進行了詳細的描述,此外,本發明還提供了與上述方法相應的電漿電弧監測裝置300,用於利用靜電吸盤電源的電訊號的變化監測電漿電弧的發生,電訊號包括電壓訊號或電流訊號,參考圖5所示,包括:第一比較器320,用於將電訊號與第一閾值Vref1進行比較,獲得第一比較波形;第二比較器330,將電訊號與第二閾值Vref2進行比較,獲得第二比較波形,其中,第二閾值大於第一閾值;第一判斷單元340,判斷第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出第三波形,第三波形中的脈衝對應第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝;第二判斷單元350,用於判斷在第三波形的脈衝持續時間內,第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。進一步地, 還包括脈衝輸出單元360,用於輸出預設週期的脈衝波形,例如週期為150ms的脈衝波形,以用於電弧的識別。
進一步地,靜電吸盤電源的電訊號來自靜電吸盤高壓直流轉換器的電流檢測埠。
進一步地,還包括:濾波單元310,用於將電訊號進行濾波。
參考圖6和圖7所示,第二判斷單元包括:延時單元3501/3503,用於將第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形;與電路單元3502,用於將第三波形與第四波形進行與邏輯操作,以輸出第五波形,並認為第五波形中的脈衝對應電漿電弧發生的訊號。
對於延時單元,可以採用不同方式的延時電路,在一些實施例中,參考圖6所示,延時單元3501為電容延時電路,藉由電容延時電路將第二比較波形C的脈衝延時,並藉由延時電路確定延時結束的時間,且延時結束的時間在第三波形B的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形D。可以藉由電容延時電路的電容特性的設計,使第二比較波形延時特定的時間,在另一些實施例中,參考圖7所示,延時單元3503為延時觸發電路,用於將第二比較波形C的脈衝延時一段時間,藉由第三波形B的脈衝下降沿觸發延時的結束,且延時結束的時間在第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出第四波形D。在該圖示的實施例中,延時觸發電路的觸發訊號端連接在延時觸發電路的輸出端D與第三波形B的與操作之後的輸出端E,這樣,藉由第三波形的脈衝的下降沿延時一定時間後再觸發第二比較波形的延時波形的翻轉。
本說明書中的各個實施例均採用遞進的方式描述,各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可,每個實施例重點說明的都是與其他實施例的 不同之處。尤其,對於系統實施例而言,由於其基本相似於方法實施例,所以描述得比較簡單,相關之處參見方法實施例的部分說明即可。以上所描述的系統實施例僅僅是示意性的,其中所述作為分離部件說明的模組或單元可以是或者也可以不是物理上分開的,作為模組或單元顯示的部件可以是或者也可以不是物理單元,即可以位於一個地方,或者也可以分佈到多個網路單元上。可以根據實際的需要選擇其中的部分或者全部模組來實現本實施例方案的目的。本領域普通技術人員在不付出創造性勞動的情況下,即可以理解並實施。
以上所述僅是本發明的較佳實施方式,雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然而並非用以限定本發明。任何熟悉本領域的技術人員,在不脫離本發明技術手段範圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術內容對本發明技術手段做出許多可能的變動和修飾,或修改為等同變化的等效實施例。因此,凡是未脫離本發明技術手段的內容,依據本發明的技術實質對以上實施例所做的任何的簡單修改、等同變化及修飾,均仍屬於本發明技術手段保護的範圍內。
S101、S102、S103‧‧‧步驟

Claims (11)

  1. 一種電漿電弧監測方法,包括:利用一靜電吸盤電源的一電訊號的變化監測電漿電弧的發生,該電訊號包括一電壓訊號或一電流訊號;利用該靜電吸盤電源的該電訊號的變化監測電漿電弧的發生的步驟包括:將該電訊號與一第一閾值進行比較,獲得一第一比較波形;將該電訊號與一第二閾值進行比較,獲得一第二比較波形,其中,該第二閾值大於該第一閾值;判斷該第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出一第三波形,該第三波形中的脈衝對應該第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝,並判斷在該第三波形的脈衝持續時間內,該第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生,其中,判斷在該第三波形的脈衝持續時間內,該第二比較波形中是否也存在脈衝的方法包括:將該第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出一第四波形;將該第三波形與一第四波形進行與邏輯操作,以輸出一第五波形,並認為該第五波形中的脈衝對應電漿電弧發生的訊號。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之監測方法,其中,在認為有一次電漿電弧發生之後,還包括:輸出預設週期的一脈衝波形,以用於電弧的識別。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之監測方法,其中,將該第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出該第四波形的步驟包括:將該第二比較波形的脈衝藉由電容延時電路進行延時,藉由電路延時電路確定延時結束的時間,且延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出該第四波形。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之監測方法,其中,將該第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出該第四波形的步驟包括:將該第二比較波形的脈衝延時一段時間,藉由該第三波形的脈衝下降沿確定延時的結束的時間,且延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出該第四波形。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述的監測方法,其中該靜電吸盤電源的該電訊號來自一靜電吸盤高壓直流轉換器的一電流檢測埠。
  6. 一種電漿電弧監測裝置,用於利用一靜電吸盤電源的一電訊號的變化監測電漿電弧的發生,該電訊號包括一電壓訊號或一電流訊號,包括:一第一比較器,用於將該電訊號與一第一閾值進行比較,獲得一第一比較波形;一第二比較器,將該電訊號與一第二閾值進行比較,獲得一第二比較波形,其中,該第二閾值大於該第一閾值;一第一判斷單元,判斷該第一比較波形中的脈衝的持續時間是否在預設時長範圍內,以輸出一第三波形,該第三波形中的 脈衝對應該第一比較波形中脈衝持續時間在預設時長範圍內的脈衝;一第二判斷單元,用於判斷在該第三波形的脈衝持續時間內,該第二比較波形中是否也存在脈衝,若是,則認為有一次電漿電弧發生。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之監測裝置,其中,還包括:一脈衝輸出單元,用於輸出預設週期的一脈衝波形,以用於電弧的識別。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之監測裝置,其中該第二判斷單元包括:一延時單元,用於將該第二比較波形中的脈衝進行延時,延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出一第四波形;與一電路單元,用於將該第三波形與該第四波形進行與邏輯操作,以輸出一第五波形,並認為該第五波形中的脈衝對應電漿電弧發生的訊號。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之監測裝置,其中該延時單元為一電容延時電路,藉由該電容延時電路將該第二比較波形的脈衝延時,並藉由該電容延時電路確定延時結束的時間,且延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出該第四波形。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之監測裝置,其中該延時單元為一延時觸發電路,用於將該第二比較波形的脈衝延時一段時間,藉由該第三波形的脈衝下降沿觸發延時的結束,且延時結束的時間在該第三波形的脈衝翻轉之後的預定時間內,以輸出該第 四波形。
  11. 如申請專利範圍第6至10項中任一項所述的監測裝置,其中該靜電吸盤電源的該電訊號來自一靜電吸盤高壓直流轉換器的一電流檢測埠。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200733171A (en) * 2005-12-22 2007-09-01 Huttinger Elektronik Gmbh & Co Kg Method and device for detecting arcs
TW200917339A (en) * 2007-08-15 2009-04-16 Applied Materials Inc Method of wafer level transient sensing, threshold comparison and arc flag generation/deactivation
US20110090503A1 (en) * 2009-10-15 2011-04-21 Kang Lee Apparatus for detecting arcs
CN102124539A (zh) * 2008-06-17 2011-07-13 施耐德电气美国股份有限公司 圆片级电弧检测装置和方法
TW201351470A (zh) * 2012-02-28 2013-12-16 New Power Plasma Co Ltd 電漿室中之電弧的偵測方法及裝置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1926122B1 (de) * 2006-11-23 2009-11-11 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG Verfahren zum Erkennen einer Bogenentladung in einem Plasmaprozess und Bogenentladungserkennungsvorrichtung
JP5012701B2 (ja) * 2008-07-02 2012-08-29 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法
US9613784B2 (en) * 2008-07-17 2017-04-04 Mks Instruments, Inc. Sputtering system and method including an arc detection

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200733171A (en) * 2005-12-22 2007-09-01 Huttinger Elektronik Gmbh & Co Kg Method and device for detecting arcs
TW200917339A (en) * 2007-08-15 2009-04-16 Applied Materials Inc Method of wafer level transient sensing, threshold comparison and arc flag generation/deactivation
CN102124539A (zh) * 2008-06-17 2011-07-13 施耐德电气美国股份有限公司 圆片级电弧检测装置和方法
US20110090503A1 (en) * 2009-10-15 2011-04-21 Kang Lee Apparatus for detecting arcs
TW201351470A (zh) * 2012-02-28 2013-12-16 New Power Plasma Co Ltd 電漿室中之電弧的偵測方法及裝置

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