TWI605090B - 用來製造顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件的芳香族聚醯胺溶液 - Google Patents

用來製造顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件的芳香族聚醯胺溶液 Download PDF

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Description

用來製造顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件的芳香族聚醯胺溶液
本揭示於一態樣係關於芳香族聚醯胺溶液。本揭示於另一態樣，係關於一種疊層複合材，含有玻璃板、聚醯胺樹脂層，且於玻璃板之其中一面上疊層了聚醯胺樹脂層。本揭示於另一態樣，係關於一種顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，包括使用前述聚醯胺溶液形成聚醯胺膜之步驟。
顯示器用元件須有透明性，故係使用玻璃板作為其基板的玻璃基板 (專利文獻1)。但是使用玻璃基板的顯示器用元件，有人指摘會有重量重、破裂、不能彎曲等問題。而有人提出將玻璃基板替換成使用透明樹脂膜的嘗試。
光學用途之透明樹脂，已知有透明度高的聚碳酸酯等，但是於使用在顯示器用元件之製造的情形，耐熱性、機械強度成為問題。另一方面，可列舉聚醯亞胺為耐熱性樹脂，但是一般的聚醯亞胺會著色成茶褐色，所以於光學用途有問題，又，有透明性之聚醯亞胺，已知有環狀結構之聚醯亞胺，但其有耐熱性低的問題。
專利文獻2及3，就光學用之聚醯胺膜而言，揭示兼顧高剛性及耐熱性之具有含三氟基之二胺的芳香族聚醯胺。
專利文獻4揭示顯示熱安定性及尺寸安定性之透明聚醯胺膜。此透明膜係藉由將芳香族聚醯胺溶液進行鑄塑並於高溫使其硬化以製造。並揭示：此經硬化處理之膜，在400~750nm之範圍呈超過80%之透射率，線膨脹係數(CTE)未達20ppm/℃，呈良好溶劑耐性。又，揭示：此膜能作為微機電設備之可撓性基板使用。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平10-311987號公報 [專利文獻2]WO2004/039863 [專利文獻1]日本特開2008-260266號公報 [專利文獻4]WO2012/129422
本揭示於一或態樣係關於一種聚醯胺溶液，含有芳香族聚醯胺與溶劑，前述芳香族聚醯胺含有具有1個以上之游離羧基之構成單元且於主鏈具有芳香環結構及脂環結構。
本揭示於又一態樣，係關於一種疊層複合材，包括玻璃板、聚醯胺樹脂層且係於玻璃板之其中一面上疊層了聚醯胺樹脂層，聚醯胺樹脂層之黃色度(JIS　K7373)為2.4以下，係於玻璃板上塗佈前述聚醯胺溶液而得。
本揭示於另一態樣，係關於一種顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，包括以下步驟：在前述疊層複合材之聚醯胺樹脂層之和玻璃板對向之面為相反之面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件；又，於一態樣係關於以該方法製得之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件。
有機EL(OEL)、有機發光二極體(OLED)等顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件常係以如圖1之處理製造。亦即，將聚合物溶液(清漆)塗佈在玻璃支持材或矽晶圓支持材(步驟A)，使塗佈之聚合物溶液硬化而形成膜(步驟B)，將OLED等元件形成在前述膜上(步驟C)，之後將OLED等元件(製品)從前述支持材剝離 (步驟D)。近年來，圖1的步驟的膜係使用聚醯亞胺膜。
又，攝像裝置等輸入設備使用之感測元件也常使用如圖1之處理製造。亦即，將聚合物溶液(清漆)塗佈在支持材(玻璃或矽晶圓)(步驟A)，使塗佈的聚合物溶液硬化而形成膜(步驟B)，將光電變換元件及其驅動裝置形成在前述膜上(步驟C)，之後將感測元件(製品)從前述支持材剝離(步驟D)。
圖1所代表之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法中，發現到步驟B有以下問題：亦即，從已塗在玻璃基材上之清漆(聚醯胺溶液)乾燥及/或硬化並形成膜之步驟，該膜會著色成黃色。膜之黃色化可能對於之後之製品(例如：顯示器元件、顯示體等)之品質造成不利影響。故本揭示於一或多數實施形態提供能抑制膜黃色化之聚醯胺溶液。
本揭示係基於前述步驟B之膜之黃色化在主鏈具有芳香環結構且更有脂環結構之聚醯胺會受抑制之見解。亦即，本揭示於一或多數實施形態係關於一種聚醯胺溶液(以下也稱為「本揭示之聚醯胺溶液」)，含有芳香族聚醯胺與溶劑，前述芳香族聚醯胺含有具有1個以上之游離羧基之構成單元且於主鏈具芳香環結構及脂環結構。本揭示之聚醯胺溶液於一或多數實施形態，能抑制在玻璃基板上製作之鑄塑膜之黃色化。故本揭示於一或多數實施形態，係關於能抑制鑄塑膜之黃色化之聚醯胺溶液。本揭示之聚醯胺溶液於一或多數實施形態能改善顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之品質。
於本揭示「於玻璃基板上製作之鑄塑膜」，於一或多數實施形態係指將本揭示之聚醯胺溶液塗佈在平坦的玻璃基材上並乾燥及視需要使其硬化而得之膜。前述鑄塑膜於一或多數實施形態，係指以實施例揭示之膜形成方法製得之膜。前述鑄塑膜之厚度於非限定之一或多數實施形態，為7~12μm、9~12μm、9~11μm、約10μm、或10μm。
[黃色度(Y e l l o w I n d e x )] 於本揭示之「膜之黃色度」，係其數値愈大則愈著色成黃色之指標，係依JIS　K7373之規格測定之數値。簡單而言，係以分光光度計測定。
本揭示之聚醯胺溶液於一或多數實施形態，考量顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之品質改善之觀點，在玻璃基板上製作之鑄塑膜(厚度9~12μm)之黃色度較佳為2.4以下、2.3以下、2.2以下、或2.1以下。前述黃色度之下限不特別限定，於一或多數實施形態為0.1以上。
[全光線透射率] 本揭示之聚醯胺溶液，考量使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件等元件製造步驟之觀點，於一或多數實施形態，在玻璃板上鑄塑而製作之鑄塑膜於400nm之全光線透射率，考量疊層複合材適合使用在顯示器用元件、光學用元件或照明用元件之製造之觀點，於一或多數實施形態可列舉70%以上、75%以上、或80%以上。
[聚醯胺] 本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺係芳香族聚醯胺(以下也簡單稱為「聚醯胺」)，含有具1個以上之游離羧基之構成單元且於主鏈具有芳香環結構及脂環結構。本揭示之「芳香族聚醯胺」係指於主鏈具芳香環結構之聚醯胺。
[具游離羧基之構成單元] 本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺之具游離羧基之構成單元(重複單元)，於一或多數實施形態，考量耐溶劑性改善之觀點，相對於構成前述聚醯胺之構成單元全量為0.01莫耳%以上30莫耳%以下，0.1莫耳%以上20莫耳%以下，1莫耳%以上10莫耳%以下，或3莫耳%以上7莫耳%以下較佳。
同樣，本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺之合成使用之具游離羧基之單體成分相對於單體成分全量之比例，於一或多數實施形態，考量耐溶劑性改善之觀點，相對於構成前述聚醯胺之構成單元全量，為0.005莫耳%以上15莫耳%以下，0.05莫耳%以上10莫耳%以下，0.5莫耳%以上5莫耳%以下，或1.5莫耳%以上3.5莫耳%以下較佳。
[具有脂環結構之構成單元] 本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺之具脂環結構之構成單元(重複單位)，於一或多數實施形態，考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，相對於構成前述聚醯胺之構成單元全量為3莫耳%以上，4莫耳%以上，6莫耳%以上，8莫耳%以上，或10莫耳%以上為較佳。又，考量同樣之觀點，為60莫耳%以下，50莫耳%以下，45莫耳%以下，40莫耳%以下，或35莫耳%以下較理想。故本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺之具脂環結構之構成單元，於一或多數實施形態，考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，相對於構成前述聚醯胺之構成單元全量，為3莫耳%以上60莫耳%以下，4莫耳%以上50莫耳%以下，6莫耳%以上45莫耳%以下，8莫耳%以上40莫耳%以下，或10莫耳%以上35莫耳%以下為較佳。
同樣地，本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺之合成使用之可於主鏈導入脂環結構之單體成分相對於單體成分全量之比例，於一或多數實施形態，考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，為1.5莫耳%以上，2莫耳%以上，3莫耳%以上，4莫耳%以上，或5莫耳%以上為較佳。又，考量同樣之觀點，為30莫耳%以下，25莫耳%以下，22.5莫耳%以下，20莫耳%以下，或17.5莫耳%以下為較佳。故本揭示之聚醯胺溶液之聚醯胺之合成使用之可於主鏈導入脂環結構之單體成分相對於單體成分全量之比例，於一或多數實施形態考量，鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，為1.5莫耳%以上30莫耳%以下，2莫耳%以上25莫耳%以下，3莫耳%以上22.5莫耳%以下，4莫耳%以上20莫耳%以下，或5莫耳%以上17.5莫耳%以下較佳。
本揭示之聚醯胺溶液之芳香族聚醯胺，於一或多數實施形態，考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，具有下列通式(I)至(IV)表示之構成單元。 【化1】
式(I)~(IV)中，x、y、v及w各為構成單元(I)~(IV)之莫耳分率，x＋v為70~99.99莫耳%，y＋w為30~0.01莫耳%，x＋y為96~50莫耳%，v＋w為4~50莫耳%，n＝1至4。
式(I)及(II)中，Ar1 選自於由以下構成之群組： 【化2】，p＝4、q＝3，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 選自於由氫、鹵素、烷基、鹵化烷基等取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、鹵化烷氧基等取代烷氧基、芳基、鹵化芳基等取代芳基、烷酯、及鹵化烷酯等取代烷酯、及其組合構成之群組。又，R1 可各為不同、R2 可各為不同、R3 可各為不同、R4 可各為不同、R5 可各為不同。G1 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、置換9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為苯基、聯苯基、全氟聯苯基、9,9-雙苯基茀基、及取代9,9-雙苯基茀基等芳基或取代芳基。
式(III)及(IV)中，A1 係選自於由下列構成之群組： 【化3】，r＝10、s＝6、t＝8，R6 、R7 、R8 係選自於由氫、鹵素、烷基、鹵化烷基等取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、鹵化烷氧基等取代烷氧基、芳基、鹵化芳基等取代芳基、烷酯、及鹵化烷酯等取代烷酯、及其組合構成之群組，R1 可各不相同。A1 會產生幾何異構物時，可為順式型、反式型、或此等之混合物，考量反應性之觀點，含有反式型較佳，反式型超過50%更佳，60%以上、70%以上、80%以上、90%以上、95%以上、或99%以上又更佳。
式(I)及(III)中，Ar2 係選自於由下列構成之群組： 【化4】，p＝4，R9 、R10 、R11 係選自於由氫、鹵素、烷基、鹵化烷基等取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、鹵化烷氧基等取代烷氧基、芳基、鹵化芳基等取代芳基、烷酯、及鹵化烷酯等取代烷酯、及其組合構成之群組。又，R6 可各為不同、R7 可各為不同、R8 可各不相同。G2 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為苯基、聯苯基、全氟聯苯基、9,9-雙苯基茀基、及取代9,9-雙苯基茀基等芳基或取代芳基。
式(II)及(IV)中，Ar3 係選自於由下列構成之群組： 【化5】，u＝0~3，R12 、R13 、R14 係選自於由氫、鹵素、烷基、鹵化烷基等取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、鹵化烷氧基等取代烷氧基、芳基、鹵化芳基等取代芳基、烷酯、及鹵化烷酯等取代烷基酯、及其組合構成之群組。又，R9 可各為不同、R10 可各為不同、R11 可各不相同。G3 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為苯基、聯苯基、全氟聯苯基、9,9-雙苯基茀基、及取代9,9-雙苯基茀基等芳基或取代芳基。
式(II)及(IV)之構成單元之莫耳分率y＋w。於一或多數實施形態，考量耐溶劑性改善之觀點，相對於構成前述聚醯胺之構成單元全量(x＋y＋v＋w)，為0.01莫耳%以上30莫耳%以下，0.1莫耳%以上20莫耳%以下，1莫耳%以上10莫耳%以下，或3莫耳%以上7莫耳%以下較佳。
式(III)及(IV)之構成單元之莫耳分率v＋w，於一或多數實施形態，考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，相對於構成前述聚醯胺之構成單元全量(x＋y＋v＋w)，為3莫耳%以上，4莫耳%以上，6莫耳%以上，8莫耳%以上，或10莫耳%以上為較佳。又，考量同樣之觀點，為60莫耳%以下，50莫耳%以下，45莫耳%以下，40莫耳%以下，或35莫耳%以下為較佳。故式(III)及(IV)之構成單元之莫耳分率v＋w，於一或多數實施形態，考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，為3莫耳%以上60莫耳%以下，4莫耳%以上50莫耳%以下，6莫耳%以上45莫耳%以下，8莫耳%以上40莫耳%以下，或10莫耳%以上35莫耳%以下為較佳。
一或多數實施形態中，本揭示之聚醯胺溶液之芳香族聚醯胺具有多個式(I)及(II)表示之重複單元時，Ar1 、Ar2 、及Ar3 為相同或不同。又，於其他一或多數實施形態中，本揭示之聚醯胺溶液之芳香族聚醯胺有多個通式(III)及(IV)表示之重複單元時，A1 、Ar2 、及Ar3 為相同或不同。
於本揭示，於鹵素一或多數實施形態，可列舉氟、氯、溴、碘。
[聚醯胺之製造方法] 本揭示之聚醯胺溶液，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件觀點及考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，於一或多數實施形態中，可列舉依包括下列步驟之製造方法獲得或能獲得者。惟本揭示之聚醯胺溶液也可不限於以該製造方法者。 a)使芳香族二胺溶於溶劑步驟； b)使前述芳香族二胺與芳香族二醯二氯反應而生成鹽酸及聚醯胺溶液之步驟； c)利用和捕集試藥之反應以去除游離之前述鹽酸之步驟。
本揭示之聚醯胺溶液之製造方法之一或多數實施形態中，芳香族二醯二氯包括下列一般結構式表示者； 【化6】[p＝4、q＝3、r＝10，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 係選自於由氫、鹵素、烷基、鹵化烷基等取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、鹵化烷氧基等取代烷氧基、芳基、鹵化芳基等取代芳基、烷酯、及鹵化烷酯等取代烷基酯、及其組合構成之群組。又，R1 可各為不同、R2 可各為不同、R3 可各為不同、R4 可各為不同、R5 可各不相同。G1 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為苯基、聯苯基、全氟聯苯基、9,9-雙苯基茀基、及取代9,9-雙苯基茀基等芳基或取代芳基。]
本揭示之聚醯胺溶液之製造方法使用之芳香族二醯二氯，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點，於一或多數實施形態中，可列舉下列芳香族二羧醯二氯； 【化7】
考量鑄塑膜之黃色度抑制之觀點，宜除了上述芳香族二醯二氯尚使用可於聚醯胺之主鏈導入脂環結構之脂環二醯二氯較佳，具體而言，可列舉下列脂環族二羧醯二氯； H T P C ： H e x a h y d r o T e r e p h t h a l o y l d i c h l o r i d e ( 1 , 4 - C y c l o h e x a n e d i c a r b o x y l i c a c i d d i ch l o r i d e ) ； 【化8】
本揭示之聚醯胺溶液之製造方法之一或多數實施形態中，芳香族二胺包括下列一般結構式表示者； 【化9】[p＝4、m＝1m＝1~4、u＝0~3，R9 、R10 、R11 、R12 、R13 、R14 係選自於由氫、鹵素、烷基、鹵化烷基等取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、鹵化烷氧基等取代烷氧基、芳基、鹵素化芳基等取代芳基、烷酯、及鹵化烷酯等取代烷酯、及其組合構成之群組。又，R6 可各為不同、R7 可各為不同、R8 可各為不同、R9 可各為不同、R10 可各為不同、R11 可各不相同。G2 及G3 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為苯基、聯苯基、全氟聯苯基、9,9-雙苯基茀基、及取代9,9-雙苯基茀基等芳基或取代芳基。]
本揭示之聚醯胺溶液之製造方法使用之芳香族二胺，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點、及黃色抑制之觀點，於一或多數實施形態中，可列舉下列者； 【化10】
本揭示之聚醯胺溶液之製造方法之一或多數實施形態中，聚醯胺係利用於溶劑中之縮合聚合製作，反應時生成之鹽酸利用環氧丙烷(PrO)等試藥捕捉。
本揭示之一或多數實施形態中，考量聚醯胺溶液使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造之觀點，利用捕集試藥與鹽酸之反應形成揮發性產物。
本揭示之一或多數實施形態中，考量聚醯胺溶液使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造之觀點，前述捕集試藥為環氧丙烷(PrO)。本揭示之一或多數實施形態中，於前述反應步驟(b)之前或中途將前述試藥添加到前述混合物。藉由在反應步驟(b)之前或中途添加前述試藥，能減少反應步驟(b)後之黏度程度及混合物之生成團塊，故能使聚醯胺溶液之生產性改善。前述試藥為環氧丙烷等有機試藥時，該等效果特別大。
本揭示之一或多數實施形態中，考量提高聚醯胺膜之耐熱特性之觀點，聚醯胺溶液之製造方法更包括將前述聚醯胺之末端之-COOH基及-NH2 基中之一者或兩者封端的步驟。聚醯胺之末端為-NH2 時，藉由使聚合化聚醯胺和苯甲醯氯與反應，又，聚醯胺之末端為-COOH時，藉由使聚合化聚醯胺和苯胺反應，能將聚醯胺之末端予以封端，但封端方法不限於此方法。
本揭示之一或多數實施形態中，考量聚醯胺溶液使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造之觀點，將聚醯胺利用沉澱及再溶於溶劑而從聚醯胺溶液分離。沉澱可依通常方法實施，於一或多數實施形態中，例如可藉由添加到甲醇、乙醇、異丙醇等以沉澱，並洗滌，溶解於溶劑。
本揭示之一或多數實施形態中，考量聚醯胺溶液使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造之觀點，本揭示之聚醯胺溶液係於無機鹽不存在下製造。
本揭示之聚醯胺溶液之芳香族聚醯胺，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點、及黃色抑制之觀點，於一或多數實施形態中，具有彎曲性。於本揭示，芳香族聚醯胺有彎曲性，於一或多數實施形態，係指聚醯胺之主鏈之芳香族具有對位以外之鍵結重複單元，或指使用有彎曲性之芳香族單體成分而合成之聚醯胺。
[聚醯胺之平均分子量] 本揭示之聚醯胺溶液之芳香族聚醯胺，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之觀點，於一或多數實施形態中，數量平均分子量(Mn )為6.0×104 以上，6.5×104 以上，7.0×104 以上，7.5×104 以上，或8.0×104 以上為較佳。又，考量同樣之觀點，於一或多數實施形態中，數量平均分子量為1.0×106 以下，8.0×105 以下，6.0×105 以下，或4.0×105 以下。
於本揭示，聚醯胺之數量平均分子量(Mn)及重量平均分子量(Mw)係指以G e l P e r m e a t i o n C h r o m a t o g r a p h y測定者。
本揭示之聚醯胺溶液之芳香族聚醯胺之分子量分布(＝Mw/Mn)，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀，於一或多數實施形態中，宜為5.0以下，4.0以下，3.0以下，2.8以下，2.6以下，或2.4以下為較佳。又，考量同樣之觀點，芳香族聚醯胺之分子量分布，於一或多數實施形態為2.0以上。
本揭示之聚醯胺溶液，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點，於一或多數實施形態中，可列舉聚醯胺合成後經沉澱之步驟者。
本揭示之一或多數實施形態中，前述芳香族聚醯胺之末端之-COOH基及-NH2 基中之一者或兩者經封端。考量提高聚醯胺膜之耐熱特性之觀點，末端經封端較佳。聚醯胺之末端為-NH2 時，藉由使聚合化聚醯胺和苯甲醯氯反應，又，聚醯胺之末端為-COOH時，藉由使聚合化聚醯胺和苯胺反應，能將聚醯胺之末端予以封端，但封端方法不限於此方法。
[溶劑] 本揭示之一或多數實施形態中，考量提高聚醯胺對於溶劑之溶解性之觀點，前述溶劑為極性溶劑或含1種以上之極性溶劑的混合溶劑。於一實施形態中，考量提高聚醯胺對於溶劑之溶解性之觀點，前述極性溶劑為甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇(IPA)、丁醇、丙酮、甲乙酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、甲苯、甲酚、二甲苯、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)或N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、二甲基亞碸(DMSO)、丁基賽珞蘇、γ-丁內酯、α-甲基-γ-丁內酯、甲基賽珞蘇、乙基賽珞蘇、乙二醇單丁醚、二乙二醇單丁醚、N,N-二甲基甲醯胺(DMF)、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙烷醯胺、1-乙基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基丙醯胺、N,N-二甲基丁基醯胺、N,N-二乙基乙醯胺、N,N-二乙基丙醯胺、1-甲基-2-哌啶酮、碳酸伸丙酯、該等之組合、或含前述溶劑至少1種的混合溶劑。
[聚醯胺之含量] 本揭示之聚醯胺溶液中，芳香族聚醯胺之含量，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點，於一或多數實施形態，可列舉2重量%以上、3重量%以上、或5重量%以上，考量同樣之觀點，可列舉30重量%以下、20重量%以下、或15重量%以下。
本揭示之聚醯胺溶液，於一或多數實施形態，係使用在包括下列步驟a)~c)之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法之聚醯胺溶液。 a)將芳香族聚醯胺溶液向支持材塗佈。 b)前述塗佈步驟(a)後，將聚醯胺膜形成於前述支持材上。 c)將顯示器用元件、光學用元件或照明用元件、或感測元件形成在前述聚醯胺膜之表面上。 在此，前述支持材或前述支持材之表面為玻璃或矽晶圓。又，步驟a)之塗佈，於一或多數實施形態，可使用如模塗法、噴射法、旋塗法、桿塗法、輥塗法、線棒塗佈法、浸塗法之各種液相成膜法。
[疊層複合材] 本揭示中，「疊層複合材」係指玻璃板與聚醯胺樹脂層疊層而得者。玻璃板與聚醯胺樹脂層疊層，在不限定之一或多數實施形態中，係指玻璃板與聚醯胺樹脂層直接疊層，又，在不限定的一或多數實施形態中，係指玻璃板與聚醯胺樹脂層介隔1或多數層而疊層而得者。本揭示中，前述有機樹脂層之有機樹脂為聚醯胺樹脂。因此本揭示中之疊層複合材，於一或多數實施形態中，係指：包括玻璃板與聚醯胺樹脂層，且於玻璃板的其中一面上疊層有聚醯胺樹脂者。
本揭示之疊層複合材，在不限定之一或多數實施形態中，可使用於圖1代表之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，又，在不限定之一或多數實施形態中，可以作為圖1之製造方法之步驟B獲得之疊層複合材使用。因此本揭示之疊層複合材，在不限定之一或多數實施形態中，係使用在顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法之疊層複合材，該製造方法包含以下步驟：在聚醯胺樹脂層之與面對玻璃板之面為相反之面上形成顯示器用元件、光學用元件或照明用元件、或感測元件。
本揭示之疊層複合材，除了聚醯胺樹脂層以外也可更包括有機樹脂層及/或無機層。作為更包括的有機樹脂層，於不限定之一或多數實施形態中，可列舉平坦化塗佈層等。 又，作為無機層，於不限定之一或多數實施形態中，可列舉抑制水、氧穿透之氣體阻隔層、抑制離子向TFT元件遷移的緩衝塗佈層等。
在玻璃板與聚醯胺樹脂層之間形成無機層之不限定之一或多數實施形態，示於圖2。作為本實施形態中之無機層，可列舉在玻璃板上形成之非晶矽層。在步驟A中，於玻璃板上之非晶矽層上塗佈聚醯胺清漆，於步驟B進行乾燥及/或硬化，形成疊層複合材。於步驟C，在前述疊層複合材之聚醯胺樹脂層(聚醯胺膜)上形成顯示器用元件、光學用元件或照明用元件、或感測元件，於步驟D中，對於非晶矽層照射雷射，將製品顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件(包括聚醯胺樹脂層)從玻璃板剝離。
在聚醯胺樹脂層之與面對玻璃板之面為相反之面上形成無機層之不限定之一或多數實施形態，示於圖3。本實施形態中之無機層可列舉無機阻隔層等。於步驟A，在玻璃板上塗佈聚醯胺清漆，於步驟B進行乾燥及/或硬化而形成疊層複合材。此時，於聚醯胺樹脂層(聚醯胺膜)進一步形成無機層。於不限定之一或多數實施形態中，也可包括無機層而作為本揭示之疊層複合材(圖3、步驟C)。在此無機層上形成顯示器用元件、光學用元件或照明用元件、或感測元件。於步驟D，將聚醯胺樹脂層剝離，獲得製品顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件(包括聚醯胺樹脂層)。
[聚醯胺樹脂層] 本揭示之疊層複合材中，聚醯胺樹脂層之聚醯胺樹脂可使用本揭示之聚醯胺溶液形成。
[聚醯胺樹脂層之厚度] 本揭示之疊層複合材中，聚醯胺樹脂層之厚度，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點、及抑制樹脂層發生龜裂之觀點，於一或多數實施形態中，可列舉500μm以下、200μm以下、或100μm以下。又，聚醯胺樹脂層之厚度，於不限定之一或多數實施形態中，例如：1μm以上、2μm以上、或3μm以上。
[聚醯胺樹脂層之透射率] 本揭示之疊層複合材中，聚醯胺樹脂層之全光線透射率，考量疊層複合材理想地使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造之觀點，在一或多數實施形態中，可列舉70%以上、75%以上、或80%以上。
[玻璃板] 本揭示之疊層複合材中，玻璃板之材質，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點，於一或多數實施形態中，可列舉鈉鈣玻璃(soda lime glass)、無鹼玻璃等。本揭示之疊層複合材中，玻璃板之厚度，考量膜使用於顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之觀點，於一或多數實施形態中，例如0.3mm以上、0.4mm以上、或0.5mm以上。又，玻璃板之厚度，於一或多數實施形態中，例如：3mm以下、或1mm以下。
[疊層複合材之製造方法] 本揭示之疊層複合材，可藉由將本揭示之聚醯胺溶液塗佈於玻璃板並乾燥，視需要使其硬化以製造。本揭示之一或多數實施形態中，本揭示之疊層複合材之製造方法包括下列步驟。 a)將芳香族聚醯胺之溶液塗佈於支持材(玻璃板)； b)步驟a)之後，將經鑄塑之聚醯胺溶液加熱並形成聚醯胺膜。
本揭示之一或多數實施形態中，考量彎曲變形(翹曲)之抑制及/或尺寸安定性之觀點，前述加熱係於前述溶劑之沸點之約＋40℃至前述溶劑之沸點之約＋100℃之範圍之溫度進行，較佳為在前述溶劑之沸點之約＋60℃至前述溶劑之沸點之約＋80℃之範圍之溫度進行，更佳為在前述溶劑之沸點之約＋70℃之溫度進行。在本揭示之一或多數實施形態中，考量彎曲變形(翹曲)之抑制及/或尺寸安定性之觀點，步驟(b)之加熱溫度為約200℃~250℃之間。在本揭示之一或多數實施形態中，考量彎曲變形(翹曲)之抑制及/或尺寸安定性之觀點，加熱時間為超過約1分鐘、未達約30分鐘。
疊層複合材之製造方法於步驟(b)之後也可包括使聚醯胺膜硬化之硬化處理步驟(c)。硬化處理之溫度取決於加熱裝置之能力，於一或多數實施形態，為220~420℃、280~400℃、330~370℃、340℃以上、或340~370℃。又，硬化處理之時間，於一或多數實施形態，為5~300分鐘、或30~240分鐘。
[顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之製造方法] 本揭示於一態樣中係關於一種顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之製造方法，包含以下步驟：在本揭示之疊層複合材之有機樹脂層中之和與玻璃板面對的面為相反的面上形成顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件。該製造方法，於一或多數實施形態中更包括將已形成之顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件從玻璃板剝離的步驟。
[顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件] 本揭示中，「顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件」係指構成顯示體(顯示裝置)、光學裝置、或照明裝置的元件，例如有機EL元件、液晶元件、有機EL照明等。又，也包括此等元件的一部分的薄膜電晶體(TFT)元件、彩色濾光片元件等。本揭示之顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件，於一或多數實施形態中，包括使用本揭示之聚醯胺溶液製造者、使用本揭示之聚醯胺膜作為顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之基板者。
＜有機EL元件之一非限定之實施形態＞ 以下用圖說明本揭示之顯示器用元件之一實施形態即有機EL元件之一實施形態。
圖4顯示一實施形態之有機EL元件1之概略剖面圖。有機EL元件1包括在基板A上形成之薄膜電晶體B及有機EL層C。又，有機EL元件1全體被密封構件400覆蓋。有機EL元件1可為從支持材500剝離者，也可包括支持材500。以下就各結構詳細説明。
1.基板A 基板A包括透明樹脂基板100及在透明樹脂基板100的頂面形成的氣體阻隔層101。在此，透明樹脂基板100係本揭示之聚醯胺膜。
又，也可以對於透明樹脂基板100施以熱所為之回火處理。藉此，可去除變形、或有強化尺寸對於環境變化之安定性等的效果。
氣體阻隔層101係由SiOx、SiNx等構成的薄膜，利用噴濺法、CVD法、真空蒸鍍法等真空成膜法形成。氣體阻隔層101之厚度通常約10nm~100nm，但不限於此厚度。在此，氣體阻隔層101可形成於和圖4之氣體阻隔層101面向的面，也可形成在兩面。
2.薄膜電晶體 薄膜電晶體B具備閘電極200、閘絕緣層201、源電極202、活性層203、及汲電極204。薄膜電晶體B形成在氣體阻隔層101上。
閘電極200、源電極202、及汲電極204係由氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)等構成的透明薄膜。形成透明薄膜的方法可列舉噴濺法、真空蒸鍍法、離子鍍法等。該等電極之膜厚通常約50nm~200nm，但不限於此厚度。
閘絕緣膜201係由SiO2 、Al2 O3 等構成的透明絕緣薄膜，利用噴濺法、CVD法、真空蒸鍍法、離子鍍法等形成。閘絕緣膜201的膜厚通常約10nm~1μm，但不限於此厚度。
活性層203例如為單晶矽、低溫多晶矽、非晶矽、氧化物半導體等，可適時使用最適者。活性層利用噴濺法等形成。
3.有機EL層 有機EL層C，具備：導電性之連接部300、絕緣性之平坦化層301、為有機EL元件1之陽極之下部電極302、電洞輸送層303、發光層304、電子輸送層305、及為有機EL元件1之陰極之上部電極306。有機EL層C，至少形成在氣體阻隔層101上或薄膜電晶體B上，下部電極302與薄膜電晶體B之汲電極204利用連接部300電連接。又，也可替換成將下部電極302與薄膜電晶體B之源電極202利用連接部300連接。
下部電極302為有機EL元件1之陽極，為氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)等的透明薄膜。又，ITO可獲得高透明性、高電導性等故為較佳。
作為電洞輸送層303、發光層304及電子輸送層305，可以直接使用以往公知的有機EL元件用材料。
上部電極306係例如由將氟化鋰(LiF)與鋁(Al)各成膜5nm~20nm、50nm~200nm之膜厚而得的膜構成。形成膜之方法，例如真空蒸鍍法。
又，製造底部發光型有機EL元件時，有機EL元件1之上部電極306可為反光性電極。藉此，於有機EL元件1發出而朝和顯示側反方向之上部側前進的光線會由上部電極306而向顯示側方向反射。因此反射光可利用在顯示，能提高有機EL元件之發光之利用效率。
[顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之製造方法] 本揭示於其他態樣中，係關於顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之製造方法。本揭示之製造方法，於一或多數實施形態中，係製造本揭示之顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之方法。又，本揭示之製造方法，於一或多數實施形態中，包括以下步驟：將本揭示之聚醯胺樹脂溶液塗佈在支持材；於前述塗佈步驟後形成聚醯胺膜；在前述聚醯胺膜之未接觸前述支持材的面形成顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件。本揭示之製造方法，也可更包括將形成在前述支持材上之顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件從前述支持材剝離的步驟。
＜有機EL元件之製作方法之一非限定之實施形態＞ 其次，以下用圖說明本揭示之顯示器用元件之製造方法之一實施形態即有機EL元件之製造方法之一實施形態。
圖4之有機EL元件1之製作方法，包括固定步驟、氣體阻隔層製作步驟、薄膜電晶體製作步驟、有機EL層製作步驟、密封步驟及剝離步驟。以下就各步驟詳細説明。
1.固定步驟 固定步驟中，將透明樹脂基板100固定在支持材500上。固定方法不特別限定，可列舉在支持材500與透明基板之間塗佈黏著劑的方法、使透明樹脂基板100的一部分熔接於支持材500的方法等。又，支持材料，可使用例如：玻璃、金屬、矽、或樹脂等。此等可以單獨使用，也可將2種以上的材料適時組合使用。再者，也可於支持材500塗佈脫模劑等，並於其上貼附透明樹脂基板100並固定。於一或多數實施形態中，係藉由在支持材500上塗佈本揭示之聚醯胺樹脂組成物並進行乾燥等以形成聚醯胺膜100。
2.氣體阻隔層製作步驟 氣體阻隔層製作步驟中，在透明樹脂基板100上製作氣體阻隔層101。製作方法不特別限定，可使用公知方法。
3.薄膜電晶體製作步驟 薄膜電晶體製作步驟中，在氣體阻隔層上製作薄膜電晶體B。製作方法不特別限定，可以使用公知方法。
4.有機EL層製作步驟 有機EL層製作步驟包括第1步驟及第2步驟。第1步驟中，形成平坦化層301。作為形成平坦化層301之方法，有將感光性透明樹脂利用旋塗法、狹縫塗佈法、噴墨法塗佈的方法等。此時，為了於第2步驟能形成連接部300，須在平坦化層301預先設置開口部。平坦化層的膜厚通常約100nm~2μm，但不限於此。
第2步驟中，首先同時形成連接部300及下部電極302。作為形成此等的方法，可列舉噴濺法、真空蒸鍍法、離子鍍法等。該等電極之膜厚通常約50nm~200nm，但不限定於此。之後形成電洞輸送層303、發光層304、電子輸送層305、及有機EL元件1之陰極上部電極306。作為形成此等的方法，可使用真空蒸鍍法、塗佈法等對於使用之材料及疊層結構為適當的方法。又，有機EL元件1之有機層結構，不論本實施例之記載，也可取捨選擇其他電洞注入層、電子輸送層、電洞阻擋層、電子阻擋層等公知有機層而構成。
5.密封步驟 密封步驟中，將有機EL層C利用密封構件400從上部電極306之上密封。密封構件400可以由玻璃、樹脂、陶瓷、金屬、金屬化合物、或該等之複合體等形成，可適時選擇最適材料。
6.剝離步驟 剝離步驟中，將製作好的有機EL元件1從支持材500剝離。達成剝離步驟的方法，例如：物理性地從支持材500剝離的方法。此時，也可以於支持材500設置剝離層，也可以於支持材500與顯示元件之間插入金屬線而進行剝離。又，作為其他方法，可列舉僅於支持材500的端部不設剝離層，於元件製作後從端部將內側切斷而取出元件的方法，在支持材500與元件之間設置由矽層等構成的層，利用雷射照射予以剝離的方法，對於支持材500加熱，將支持材500與透明基板分離的方法，將支持材500利用溶劑除去之方法等。該等方法可以單獨使用，也可組合任意之多數方法使用。於一或多數實施形態中，聚醯胺膜與支持材間之黏著可利用矽烷偶聯劑控制，藉此，有機EL元件1即使不使用上述複雜步驟也能物理性地剝離。
依本實施形態之顯示器用、光學用、或照明用元件之製造方法獲得之有機EL元件，於一或多數實施形態，透明性、耐熱性、低線膨脹性、低光學異向性等優異。
[顯示裝置、光學裝置、照明裝置] 本揭示，於其態樣中，係關於使用本揭示之顯示器用元件、光學用元件、或照明用元件之顯示裝置、光學裝置、或照明裝置，並關於此等之製造方法。不限於此等，但就前述顯示裝置而言可列舉攝像元件等，就光學裝置而言可列舉光/電氣複合電路等，就照明裝置而言可列舉TFT-LCD、OEL照明等。
[感測元件之製造方法] 本揭示於其他態樣中，係關於包含下列步驟(A)及(B)之感測元件之製造方法。 (A)將本揭示之聚醯胺溶液塗佈於支持材並在前述支持材上形成聚醯胺膜。 (B)在前述聚醯胺膜的表面上形成感測元件。
前述支持材可使用前述支持體。
本態樣之製造方法之步驟(A)中能形成疊層複合材。本態樣之製造方法之步驟(A)，於或多數實施形態包含下列步驟(i)及(ii)。 (i)將前述聚醯胺溶液塗佈在支持材(參照圖1步驟A)。 (ii)步驟(i)之後，將已塗佈的聚醯胺溶液加熱並形成聚醯胺膜(參照圖1步驟B)。
步驟(i)中之塗佈及步驟(ii)之加熱溫度，可和前述同樣設定。本態樣之製造方法，於步驟(ii)之後，也可包含使聚醯胺膜硬化的硬化處理步驟(iii)。硬化處理之溫度及時間可和前述同樣設定。
本態樣之製造方法之步驟(B)中，感測元件的形成不特別限定，可以配合製造以往或今後製造之元件的感測元件適當形成。
本態樣之製造方法，於一或多數實施形態中，步驟(B)之後，包含作為步驟(C)之將已形成之感測器從玻璃板剝離的步驟。剝離步驟(C)中，將製作的感測器從支持材剝離。達成剝離步驟的方法可以和前述同樣進行。
[感測元件] 本揭示，於一或多數實施形態，係關於依本態樣之製造方法製造之感測元件。作為以本揭示之製造方法製造之「感測元件」，於非限定之一或多數實施形態係指具備由本揭示之聚醯胺溶液形成之聚醯胺膜的感測元件。又，於其他一或多數實施形態中，本揭示之「感測元件」係在支持材上所形成之聚醯胺膜之上形成的感測元件，進一步於其他一或多數實施形態中，係視需要從前述支持材剝離的感測元件。該感測元件於一或多數實施形態中，可列舉能接收電磁波的感測元件、能檢測磁場的感測元件、能檢測靜電容量的變化的感測元件、或能檢測壓力變化的元件。該感測元件，於一或多數實施形態中，可列舉攝像元件、放射線感測元件、光感測元件、磁性感測元件、靜電容量感測元件、觸碰感測元件或壓力感測元件等。前述放射線感測元件，於一或多數實施形態中，可列舉X射線感測元件。本揭示中之感測元件，於一或多數實施形態中，包括使用本揭示之聚醯胺溶液製造者、及/或使用本揭示之疊層複合材製造者、及/或依本揭示之元件之製造方法製造者。又，本揭示中，感測元件之形成，於一或多數實施形態中包括光電變換元件及其驅動元件。
[輸入設備] 依本揭示之「感測元件」使用的輸入設置，於一或多數實施形態中，可列舉光學的、攝像、磁性、靜電容量、或壓力的輸入設備。該輸入設備，於不限定之一或多數實施形態中，可列舉放射線的攝像裝置、可見光的攝像裝置、磁性感測器設備、觸控面板、指紋認證面板、使用壓電元件的發光體等。作為前述放射線的攝像裝置，於一或多數實施形態中，可列舉X射線的攝像裝置。又，本揭示中，輸入設備於不限定之一或多數實施形態中，也可以有顯示器機能等作為輸出設備的功能。因此本揭示於此態樣中，係關於使用了依本態樣之製造方法製得之感測元件之輸入裝置，及此等之製造方法。
＜感測元件之一非限定之實施形態＞ 以下使用圖5說明能以本態樣之製造方法製造之感測元件之一實施形態。
圖5顯示一實施形態之感測元件10之概略剖面圖。感測元件10具有多數畫素。此感測元件10，係於基板2的表面形成了包含多數光二極體11A(光電變換元件)、以及作為此光二極體11A之驅動元件的薄膜電晶體(TFT：Thin Film Transistor)11B的畫素電路者。此基板2係利用本態樣之製造方法之步驟(A)而形成在支持材(未圖示)上的聚醯胺膜。並且，於本態樣之製造方法之步驟(B)中，形成光二極體11A(光電變換元件)、以及作為此光二極體11A之驅動元件的薄膜電晶體11B。
閘絕緣膜21設置在基板2上，係由例如氧化矽(SiO2 )膜、氧氮化矽(SiON)膜及氮化矽膜(SiN)之中之1種構成的單層膜或由此等中的2種以上構成的疊層膜所構成。第1層間絕緣膜12A設置在閘絕緣膜21上，由例如氧化矽膜或氮化矽膜等絕緣膜構成。此第1層間絕緣膜12A也作為被覆後述薄膜電晶體11B上之保護膜(鈍化膜)的作用。
(光二極體11A) 光二極體11A係介隔閘絕緣膜21及第1層間絕緣膜12A而配設在基板2上的選擇性的領域。具體而言，光二極體11A係在第1層間絕緣膜12A上按順序疊層下部電極24、n型半導體層25N、i型半導體層25I、p型半導體層25P及上部電極26而成。上部電極26，係將例如光電變換時基準電位(偏壓)對於前述光電變換層供給用的電極，連接於基準電位供給用的電源配線即配線層27。此上部電極26例如由ITO(Indium Tin Oxide)等透明導電膜構成。
(薄膜電晶體11B) 薄膜電晶體11B由例如場效電晶體(FET：Field Effect Transistor)構成。此薄膜電晶體11B，係於基板2上形成由例如鈦(Ti)、Al、Mo、鎢(W) 、鉻(Cr)等構成的閘電極20，並於此閘電極20上形成前述閘絕緣膜21。又，在閘絕緣膜21上形成有半導體層22，此半導體層22具有通道區。在此半導體層22上，形成了源電極23S及汲電極23D。具體而言，在此，汲電極23D連接於光二極體11A中的下部電極24，源電極23S則連接於中繼電極28。
感測元件10中，在如此的光二極體11A及薄膜電晶體11B的上層按順序設有第2層間絕緣膜12B、第1平坦化膜13A、保護膜14及第2平坦化膜13B。在此第1平坦化膜13A，因應光二極體11A之形成區域附近形成有開口部3。
藉由在感測元件10上形成例如波長變換構件，可以製作放射線攝像裝置。
本揭示可關於下列一或多數實施形態。 ＜1＞ 一種聚醯胺溶液，含有芳香族聚醯胺與溶劑，該芳香族聚醯胺含有具有1個以上之游離羧基之構成單元且於主鏈具有芳香環結構及脂環結構。 ＜2＞ 如＜1＞之聚醯胺溶液，其中，於玻璃板上製作之厚度9~12μm之鑄塑膜之黃色度(JIS　K7373)為2.4以下。 ＜3＞ 如＜1＞或＜2＞之聚醯胺溶液，其中，相對於該芳香族聚醯胺之全部構成單元，主鏈具脂環結構之構成單元之比例按莫耳比率計為4莫耳%以上50莫耳%以下。 ＜4＞ 如＜1＞至＜3＞中任一項之聚醯胺溶液，其中，相對於該芳香族聚醯胺之全部構成單元，具游離羧基之構成單元之比例按莫耳比率計為0.01莫耳%以上30莫耳%以下。 ＜5＞ 如＜1＞至＜4＞中任一項之聚醯胺溶液，其中，聚醯胺係由具有下列通式(I)至(IV)表示之構成單元之芳香族聚醯胺形成； 【化11】[式(I)~(IV)中，x、y、v及w各為構成單元(I)~(IV)之莫耳分率，x＋v為70~99.99莫耳%，y＋w為30~0.01莫耳%，x＋y為96~50莫耳%，v＋w為4~50莫耳%，n＝1至4， Ar1 係選自於由下列構成之群組： 【化12】p＝4、q＝3， R1 、R2 、R3 、R4 、R5 係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組， G1 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組， Z為芳基或取代芳基； A1 係選自於由下列構成之群組： 【化13】，r＝10、s＝6、t＝8， R6 、R7 、R8 係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組， Ar2 係選自於由下列構成之群組： 【化14】p＝4， R9 、R10 、R11 係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組， G2 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為芳基或取代芳基， Ar3 係選自於由下列構成之群組： 【化15】u＝0~3， R12 、R13 、R14 係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組， G3 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組， Z為芳基或取代芳基]。 ＜6＞ 如＜5＞之聚醯胺溶液，其中，聚醯胺具有多個該通式(I)及(II)表示之重複單元，且Ar1 、Ar2 及Ar3 為相同或不同。 ＜7＞ 如＜5＞或＜6＞之聚醯胺溶液，其中，聚醯胺具有多個該通式(III)及(IV)表示之重複單元，且A1 、 Ar2 及Ar3 為相同或不同。 ＜8＞ 如＜1＞至＜7＞中任一項之聚醯胺溶液，其中， 聚醯胺係將選自於由下列構成之群組中之一或多數二醯二氯予以聚合而製造； 【化16】[上式中，p＝4、q＝3、r＝10， R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組； G1 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組； Z為芳基或取代芳基]。 ＜9＞如＜1＞至＜8＞中任一項之聚醯胺溶液，其中，聚醯胺係將選自於由下列構成之一或多數芳香族二胺予以聚合而製造； 【化17】[上式中，p＝4、m＝1~4、u＝0~3， R9 、R10 、R11 、R12 、R13 、R14 係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組； G2 及G3 係選自於由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH3 )2 基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組， Z為芳基或取代芳基]。 ＜10＞ 如＜1＞至＜9＞中任一項之聚醯胺溶液，其中，聚醯胺之至少一端係經封端。 ＜11＞ 如＜1＞至＜10＞中任一項之聚醯胺溶液，係使用在包括下列步驟a)~c)之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法； a)將芳香族聚醯胺溶液塗佈在支持材； b)於該塗佈步驟(a)後，在該支持材上形成聚醯胺膜； c)在該聚醯胺膜之表面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件； 在此，該支持材或該支持材之表面為玻璃或矽晶圓。 ＜12＞ 一種顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，包含下列步驟a)~c)； a)將如＜1＞至＜11＞中任一項之聚醯胺溶液塗佈在支持材； b)於該塗佈步驟(a)後在該支持材上形成聚醯胺膜； c)在該聚醯胺膜之表面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件； 在此，該支持材或該支持材之表面為玻璃或矽晶圓。 ＜13＞ 如＜12＞之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，更包括將已形成之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件從該支持材剝離之步驟。 ＜14＞ 一種疊層複合材，包括玻璃板、聚醯胺樹脂層，係於玻璃板之其中一面上疊層了聚醯胺樹脂層， 聚醯胺樹脂層之黃色度(JIS　K7373)為2.4以下， 係藉由於玻璃板上塗佈如＜1＞至＜11＞中任一項之聚醯胺溶液而獲得。 ＜15＞ 如＜14＞之疊層複合材，其中，玻璃板之厚度為0.3mm以上。 ＜16＞ 如＜14＞或＜15＞之疊層複合材，其中，聚醯胺樹脂之厚度為500μm以下。 ＜17＞ 一種顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，包括以下步驟：在如＜14＞至＜16＞中任一項之疊層複合材之聚醯胺樹脂層之和玻璃板對向之面為相反之面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件。 ＜18＞ 如＜17＞之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，更包括將已形成之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件從玻璃板剝離之步驟。 【實施例】
使用表1及下列所示成分製備聚醯胺溶液(實施例1~5、比較例1、2)。又，使用該聚醯胺溶液依下列條件形成鑄塑膜，並依以下方式測定其厚度、霧度、波長365nm之全光線透射率、及黃色度(Yellow Index)。又，使用之HTPC為反式體99%。
[芳香族二醯二氯] 【化18】[芳香族二胺] 【化19】 D M A c ：N,N-二甲基乙醯胺 [捕集試藥] PrO：環氧丙烷
[聚醯胺溶液之製備] 以下說明實施例1之聚醯胺溶液之一般製備方法。實施例1之聚醯胺溶液係於DMAc中含有5重量%之TPC、HTPC、FDA，PFMB及DAB之共聚物的(莫耳比為TPC/HTPC/FDA/PFMB/DAB＝75%/25%/30%/65%/5%)溶液。 於配備機械式攪拌機、氮氣導入口、及排出口之1000 ml之三口圓底燒瓶中加入FDA(6.272g,0.018mol)、PFMB(12.489g,0.039mol)、DAB(0.456g,0.003mol)、及DMAc(500ml)。FDA、PFMB及DAB完全溶解後，於溶液中加入PrO PrO(10.454g,0.180mol)。將前述溶液冷卻至0℃。添加後邊攪拌邊添加TPC(8.770g,0.0432mol)、及HTPC(3.136g,0.015mol)。將燒瓶內壁以DMAc(4ml)洗滌。2小時後，將苯甲醯氯(0.446g,3.173mmol)加到前述溶液並再攪拌2小時，獲得實施例1之聚醯胺溶液。針對溶液1、及溶液3~10也和溶液2同樣，製備成5重量%之聚醯胺溶液。 針對實施例2~5及比較例1、2之聚醯胺溶液也和實施例1同樣地，製備為5重量%之聚醯胺溶液。
[聚醯胺膜之形成] 將製備好的實施例1~5及比較例1、2之聚醯胺溶液鑄塑在玻璃基板而形成膜，並檢查其特性。 利用旋塗將聚醯胺溶液塗佈在平坦的玻璃基板(10 cm x 10 cm、商品名EAGLE XG、Corning Inc., U.S.A公司製)上。於60℃進行30分鐘以上乾燥後，將溫度從60℃加熱到350℃，於真空或鈍性氣體環境下維持30分鐘350℃以將膜進行硬化處理，各獲得實施例1~5及比較例1、2之聚醯胺膜(厚度約10μm)。 依後述方法測定此聚醯胺膜之特性(厚度、霧度、全光線透射率(365nm )、黃色度)。其結果記於下表1。
[厚度] 聚醯胺膜之厚度以接觸式數位感測器(GT2系列，Keyence製)測定。
[霧度] 聚醯胺膜之霧度以霧度計(NDH2000，日本電色工業製)測定。
[全光線透射率(波長365nm)] 聚醯胺膜之365nm之全光線透射率使用分光光度計(N-670,JASCO製)測定。
[黃色度(Yellow Index)] 聚醯胺膜之黃色度依JIS K 7373測定。簡言之，係以分光光度計(N -670,JASCO製)測定全光線透射率後以解析軟體算出。
【表1】
如表1所示，實施例1~5之聚醯胺膜相較於比較例1及2之聚醯胺膜，黃色度受抑制。
A‧‧‧基板
B‧‧‧薄膜電晶體
C‧‧‧有機EL層
1‧‧‧有機EL元件
2‧‧‧基板
3‧‧‧開口部
10‧‧‧感測元件
11A‧‧‧光二極體
11B‧‧‧薄膜電晶體
12A‧‧‧第1層間絕緣膜
12B‧‧‧第2層間絕緣膜
13A‧‧‧第1平坦化膜
13B‧‧‧第2平坦化膜
14‧‧‧保護膜
20‧‧‧閘電極
21‧‧‧閘絕緣膜
22‧‧‧半導體層
23D‧‧‧汲電極
23S‧‧‧源電極
24‧‧‧下部電極
25N‧‧‧n型半導體層
25I‧‧‧i型半導體層
25P‧‧‧p型半導體層
26‧‧‧上部電極
27‧‧‧配線層
28‧‧‧中繼電極
100‧‧‧透明樹脂基板
101‧‧‧氣體阻隔層
200‧‧‧閘電極
201‧‧‧閘絕緣層
202‧‧‧源電極
203‧‧‧活性層
204‧‧‧汲電極
300‧‧‧連接部
301‧‧‧平坦化層
302‧‧‧下部電極
303‧‧‧電洞輸送層
304‧‧‧發光層
305‧‧‧電子輸送層
306‧‧‧上部電極
400‧‧‧密封構件
500‧‧‧支持材
圖1顯示說明一實施形態之OLED元件或感測元件之製造方法之流程圖。 圖2顯示說明一實施形態之OLED元件或感測元件之製造方法之流程圖。 圖3顯示說明一實施形態之OLED元件或感測元件之製造方法之流程圖。 圖4顯示一實施形態之有機EL元件1之構成之概略剖面圖。 圖5顯示一實施形態之感測元件10之概略剖面圖。
無

Claims (17)

  1. 一種聚醯胺溶液，含有芳香族聚醯胺與溶劑，該芳香族聚醯胺含有具有1個以上之游離羧基之構成單元且於主鏈具有芳香環結構及脂環結構；該芳香族聚醯胺具有下列通式(I)至(IV)表示之構成單元； [式(I)~(IV)中，x、y、v及w各為構成單元(I)~(IV)之莫耳分率，x+v為70~99.99莫耳%，y+w為30~0.01莫耳%，x+y為96~50莫耳%，v+w為4~50莫耳%，n=1至4，Ar1係選自於由下列構成之群組： p=4、q=3，R1、R2、R3、R4、R5係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組， G1係選自於由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH3)2基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為芳基或取代芳基；A1係選自於由下列構成之群組： ，r=10、s=6、t=8，R6、R7、R8係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組，Ar2係選自於由下列構成之群組： p=4，R9、R10、R11係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組， G2係選自於由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH3)2基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為芳基或取代芳基，Ar3係選自於由下列構成之群組： u=0~3，R12、R13、R14係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組，G3係選自於由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH3)2基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為芳基或取代芳基]。
  2. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，於玻璃板上製作之厚度9~12μm的將該聚醯胺溶液進行塗佈並乾燥而得之鑄塑膜之黃色度(JIS K7373)為2.4以下。
  3. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，相對於該芳香族聚醯胺之全部構成單元，主鏈具脂環結構之構成單元之比例按莫耳比率計為3莫耳%以上60莫耳%以下。
  4. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，相對於該芳香族聚醯胺之全部構成單元，具游離羧基之構成單元之比例按莫耳比率計為0.01莫耳%以上30莫耳%以下。
  5. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，該芳香族聚醯胺具有多個該通式(I)及(II)表示之重複單元，且Ar1、Ar2及Ar3為相同或不同。
  6. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，該芳香族聚醯胺具有多個該通式(III)及(IV)表示之重複單元，且A1、Ar2及Ar3為相同或不同。
  7. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，該芳香族聚醯胺含有來自選自於由下列構成之群組中之一或多數二醯二氯的構成單元； [上式中，p=4、q=3、r=10，R1、R2、R3、R4、R5、R6係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組；G1係選自於由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH3)2基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組；Z為芳基或取代芳基]。
  8. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，該芳香族聚醯胺含有來自選自於由下列構成之群組中之一或多數芳香族二胺的構成單元； [上式中，p=4、m=1~4、u=0~3，R9、R10、R11、R12、R13、R14係選自於由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、取代烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯、及取代烷酯、及其組合構成之群組；G2及G3係選自於由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(惟X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH3)2基、9,9-茀基、取代9,9-茀基、及OZO基構成之群組，Z為芳基或取代芳基]。
  9. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，其中，該芳香族聚醯胺之至少一端係經封端。
  10. 如申請專利範圍第1項之聚醯胺溶液，係使用在包括下列步驟a)~c)之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法；a)將該聚醯胺溶液塗佈在支持材； b)於該塗佈步驟(a)後，將已塗佈的該聚醯胺溶液加熱而在該支持材上形成聚醯胺膜；c)在該聚醯胺膜之表面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件；在此，該支持材或該支持材之表面為玻璃或矽晶圓。
  11. 一種顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，包含下列步驟a)~c)；a)將如申請專利範圍第1至10項中任一項之聚醯胺溶液塗佈在支持材；b)於該塗佈步驟(a)後，將已塗佈的該聚醯胺溶液加熱而在該支持材上形成聚醯胺膜；c)在該聚醯胺膜之表面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件；在此，該支持材或該支持材之表面為玻璃或矽晶圓。
  12. 如申請專利範圍第11項之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，更包括將已形成之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件從該支持材剝離之步驟。
  13. 一種疊層複合材，包括玻璃板、聚醯胺樹脂層，係於玻璃板之其中一面上疊層了聚醯胺樹脂層，聚醯胺樹脂層之黃色度(JIS K7373)為2.4以下， 係藉由於玻璃板上塗佈如申請專利範圍第1至10項中任一項之聚醯胺溶液而獲得。
  14. 如申請專利範圍第13項之疊層複合材，其中，玻璃板之厚度為0.3mm以上。
  15. 如申請專利範圍第13項之疊層複合材，其中，聚醯胺樹脂層之厚度為500μm以下。
  16. 一種顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，包括以下步驟：在如申請專利範圍第13至15項中任一項之疊層複合材之聚醯胺樹脂層之和玻璃板對向之面為相反之面上形成顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件。
  17. 如申請專利範圍第16項之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件之製造方法，更包括將已形成之顯示器用元件、光學用元件、照明用元件或感測元件從玻璃板剝離之步驟。
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