TWI597445B - 節流閥 - Google Patents

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楊潤昌
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Description

節流閥
本發明係有關於一種節流閥,特別係有關於一種可防止微粒污染之節流閥。
在一氣相沉積製程中,沉積層被沉積於半導體晶圓(或基材)之上,通常包括加熱該基材,並將該基材夾持,以維持一短的距離,相距於沉積氣體(製程氣體)的供應源,沉積氣體(製程氣體)朝該基材流動。該沉積氣體氣流產生反應,並於該被加熱的基材上形成一沉積層。
在腔室和真空泵之間的真空管路上的某些點,真空截止閥或節流閥通常被提供,在關閉時為處理室提供限制。揮發性污染物在反應腔室中的高溫下維持在汽態,會不被期望的凝結在冷卻的真空管路內壁之上,與反應腔室的反應區之間存在一些距離,但仍在由真空閥所定義之製程腔室的容納限制之內。在沒有氣流的情況下,這些污染物會回到腔室的反應區域之中,並造成不被期望的污染。為了試圖避免這個問題,製程腔室的容納限度內的內表面定期通過蝕刻(和/或等離子體清潔)等方式清潔,透過一清潔氣體以移除由沉積氣體所沉積的介電材料。
然而,節流閥受限於其結構上的設計,污染物會沉積於節流閥的內部零件之上,並影響節流閥的氣流控制效 果。由於節流閥一般係以步進馬達進行控制,當污染物沉積於節流閥的內部零件之上時,步進馬達會反覆調整節流閥開度,因而影響反應室的壓力,並減少了節流閥的壽命。
本發明係為了欲解決習知技術之問題而提供之一種節流閥,包括一節流閥本體、一閥桿、一密封墊以及一第一刮刀。一流道形成於該節流閥本體之中。閥桿設於該節流閥本體之中,其中,該閥桿上形成有一缺口,透過旋轉該閥桿,該缺口的位置被調整,該流道的開度大小因此被調整。密封墊設於該節流閥本體之中,該密封墊上形成有一抵接部,該抵接部以可密封的方式抵接該閥桿。第一刮刀設於該閥桿之上,該第一刮刀接觸該抵接部,當該閥桿旋轉時,該第一刮刀對該抵接部進行清潔。
在一實施例中,該第一刮刀對應該缺口。
在一實施例中,該第一刮刀與該閥桿之一對稱中心平面間的夾角為45度。
在一實施例中,該節流閥更包括一第二刮刀,該第二刮刀對應該缺口,並與該第一刮刀對稱於該閥桿之一對稱中心平面。
在一實施例中,該第一刮刀與該閥桿之該對稱中心平面間的夾角為45度,該第二刮刀與該閥桿之該對稱中心平面間的夾角為-45度。
在一實施例中,該第一刮刀為金屬絲。
在一實施例中,該第一刮刀的兩端嵌設於該閥桿 之上並位於該缺口的兩側。
在一實施例中,該第一刮刀的延伸方向平行於該軸桿的一中軸方向。
在一實施例中,該節流閥本體包括一進氣口以及一出氣口,該進氣口與該出氣口位於同一直線之上,該密封墊位於該出氣口與該軸桿之間。
在一實施例中,該節流閥本體包括一本體內壁,該第一刮刀接觸該本體內壁,當該閥桿旋轉時,該第一刮刀並對該本體內壁進行清潔。
應用本發明實施例之節流閥,由於使用第一刮刀對密封墊及節流閥本體之本體內壁進行清潔,因此,微粒不會沉積於密封墊及本體內壁之上。節流閥的內部流道不再會因為微粒沉積阻塞,因而可減少反覆調整節流閥開度的情況。因此可提供穩定的反應室壓力,並提高節流閥的壽命。
1、2‧‧‧節流閥
10‧‧‧第一連接組件
11‧‧‧O型環
12‧‧‧密封墊
13‧‧‧抵接部
14‧‧‧O型環
20‧‧‧第二連接組件
21‧‧‧O型環
22‧‧‧密封墊
23‧‧‧抵接部
24‧‧‧O型環
30‧‧‧節流閥本體
31‧‧‧進氣口
32‧‧‧底蓋
33‧‧‧出氣口
40‧‧‧閥桿單元
41‧‧‧閥桿
42‧‧‧缺口
51‧‧‧第一刮刀
52‧‧‧第二刮刀
A‧‧‧中軸方向
S‧‧‧對稱中心平面
θ 1、θ 2‧‧‧夾角
第1圖係顯示本發明第一實施例之節流閥。
第2A圖顯示本發明第一實施例之第一刮刀的細部結構。
第2B圖顯示本發明第一實施例之第一刮刀的詳細位置。
第3圖係顯示本發明第二實施例之節流閥。
第4A圖顯示本發明第二實施例之第一、二刮刀的細部結構。
第4B圖顯示本發明第二實施例之第一、二刮刀的詳細位置。
參照第1圖,其係顯示本發明第一實施例之節流閥1,包括一第一連接組件10、一第二連接組件20、一節流閥本體30、一閥桿單元40以及一第一刮刀51。第一連接組件10包括一O型環11、一密封墊12以及一O型環14。第二連接組件20包括一O型環21、一密封墊22以及一O型環24。節流閥本體30包括一進氣口31。該閥桿單元40包括一閥桿41,一缺口42形成於該閥桿41。節流閥本體30包括底蓋32,底蓋32上形成有一出氣口33。第一刮刀51設於該閥桿41之上。
參照第1圖,一流道形成於該節流閥本體30之中(從該進氣口31至該出氣口33)。在此實施例中,該流道為直線形,該進氣口31與該出氣口33位於同一直線之上。閥桿41設於該節流閥本體30之中,其中,透過旋轉該閥桿41,缺口42的位置被調整,該流道的開度大小因此被調整。O型環11設於該密封墊12與一外部管路(未顯示)之間。O型環14設於該節流閥本體30與該外部管路(未顯示)之間。O型環21設於該密封墊22與該底蓋32之間,O型環24設於該節流閥本體30與該底蓋32之間。
參照第1圖,密封墊12具有凹凸形狀的抵接部13,抵接部13以可密封的方式抵接該閥桿41。密封墊22具有凹凸形狀的抵接部23,抵接部23以可密封的方式抵接該閥桿41。在此實施例中,抵接部23具有一定程度的面積,該第一刮刀51接觸該抵接部23,當該閥桿41旋轉時,該第一刮刀51對該抵接部23進行清潔。
參照第2A圖,該第一刮刀51對應該缺口42。參照 第2B圖,該第一刮刀51與該閥桿41之一對稱中心平面S間的夾角θ 1為45度。
參照第2A圖,在此實施例中,該第一刮刀51為金屬絲。該第一刮刀51的兩端嵌設於該閥桿41之上並位於該缺口42的兩側,換言之,該第一刮刀51橫跨該缺口42。該第一刮刀51的延伸方向平行於該軸桿41的一中軸方向A。
在一實施例中,該節流閥本體30包括一本體內壁(未顯示),該第一刮刀51接觸該本體內壁,當該閥桿旋轉時,該第一刮刀51並對該本體內壁進行清潔。
應用本發明第一實施例之節流閥,由於使用第一刮刀對密封墊及節流閥本體之本體內壁進行清潔,因此,微粒不會沉積於密封墊及本體內壁之上。節流閥的內部流道不再會因為微粒沉積阻塞,因而可減少反覆調整節流閥開度的情況。因此可提供穩定的反應室壓力,並提高節流閥的壽命。
參照第3圖,其係顯示本發明第二實施例之節流閥2,包括一第一連接組件10、一第二連接組件20、一節流閥本體30、一閥桿單元40、一第一刮刀51以及一第二刮刀52。第一連接組件10包括一O型環11、一密封墊12以及一O型環14。第二連接組件20包括一O型環21、一密封墊22以及一O型環24。節流閥本體30包括一進氣口31。該閥桿單元40包括一閥桿41,一缺口42形成於該閥桿41。節流閥本體30包括底蓋32,底蓋32上形成有一出氣口33。第一刮刀51設於該閥桿41之上。第二刮刀52設於該閥桿41之上。
參照第3圖,一流道形成於該節流閥本體30之中(從 該進氣口31至該出氣口33)。在此實施例中,該流道為直線形,該進氣口31與該出氣口33位於同一直線之上。閥桿41設於該節流閥本體30之中,其中,透過旋轉該閥桿41,缺口42的位置被調整,該流道的開度大小因此被調整。O型環11設於該密封墊12與一外部管路(未顯示)之間。O型環14設於該節流閥本體30與該外部管路(未顯示)之間。O型環21設於該密封墊22與該底蓋32之間,O型環24設於該節流閥本體30與該底蓋32之間。
參照第3圖,密封墊12具有凹凸形狀的抵接部13,抵接部13以可密封的方式抵接該閥桿41。密封墊22具有凹凸形狀的抵接部23,抵接部23以可密封的方式抵接該閥桿41。在此實施例中,抵接部23具有一定程度的面積,該第一刮刀51以及該第二刮刀52接觸該抵接部23,當該閥桿41旋轉時,該第一刮刀51以及該第二刮刀52對該抵接部23進行清潔。
參照第4A圖,該第一刮刀51對應該缺口42,該第二刮刀52對應該缺口42。參照第4B圖,該第一刮刀51與該閥桿41之一對稱中心平面S間的夾角θ 1為45度,該第二刮刀52與該閥桿41之該對稱中心平面S間的夾角θ 2為-45度。換言之,該第二刮刀52與該第一刮刀51對稱於該閥桿41之該對稱中心平面S。
參照第4A圖,在此實施例中,該第一刮刀51為金屬絲,該第二刮刀52為金屬絲。該第一刮刀51的兩端嵌設於該閥桿41之上並位於該缺口42的兩側,該第二刮刀52的兩端嵌設於該閥桿41之上並位於該缺口42的兩側。,換言之,該第一刮刀51與該第二刮刀52均橫跨該缺口42。該第一刮刀51及該第二 刮刀52的延伸方向平行於該軸桿41的一中軸方向A。
同第一實施例所述,在一實施例中,該節流閥本體30包括一本體內壁(未顯示),該第一刮刀51及該第二刮刀52接觸該本體內壁,當該閥桿旋轉時,該第一刮刀51及該第二刮刀52並對該本體內壁進行清潔。
應用本發明第二實施例之節流閥,更增加使用了第二刮刀對密封墊及節流閥本體之本體內壁進行清潔,可避免因為公差而造成之第一刮刀清潔不徹底的情況。因此,微粒不會沉積於密封墊及本體內壁之上。節流閥的內部流道不再會因為微粒沉積阻塞,因而可減少反覆調整節流閥開度的情況。因此可提供穩定的反應室壓力,並提高節流閥的壽命。
雖然本發明已以具體之較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此項技術者,在不脫離本發明之精神和範圍內,仍可作些許的更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
40‧‧‧閥桿單元
41‧‧‧閥桿
42‧‧‧缺口
51‧‧‧第一刮刀
A‧‧‧中軸方向

Claims (10)

  1. 一種節流閥,包括:一節流閥本體,其中,一流道形成於該節流閥本體之中;一閥桿,設於該節流閥本體之中,其中,該閥桿上形成有一缺口,透過旋轉該閥桿,該缺口的位置被調整,該流道的開度大小因此被調整;一密封墊,設於該節流閥本體之中,該密封墊上形成有一抵接部,該抵接部以可密封的方式抵接該閥桿;以及一第一刮刀,設於該閥桿之上,該第一刮刀接觸該抵接部,當該閥桿旋轉時,該第一刮刀對該抵接部進行清潔。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之節流閥,其中,該第一刮刀對應該缺口。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之節流閥,其中,該第一刮刀與該閥桿之一對稱中心平面間的夾角為45度。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之節流閥,其更包括一第二刮刀,該第二刮刀對應該缺口,並與該第一刮刀對稱於該閥桿之一對稱中心平面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之節流閥,其中,該第一刮刀與該閥桿之該對稱中心平面間的夾角為45度,該第二刮刀與該閥桿之該對稱中心平面間的夾角為-45度。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之節流閥,其中,該第一刮刀為金屬絲。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之節流閥,其中,該第一刮刀的兩端嵌設於該閥桿之上並位於該缺口的兩側。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之節流閥,其中,該第一刮刀的延伸方向平行於該軸桿的一中軸方向。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之節流閥,其中,該節流閥本體包括一進氣口以及一出氣口,該進氣口與該出氣口位於同一直線之上,該密封墊位於該出氣口與該軸桿之間。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之節流閥,其中,該節流閥本體包括一本體內壁,該第一刮刀接觸該本體內壁,當該閥桿旋轉時,該第一刮刀並對該本體內壁進行清潔。
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Citations (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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