TWI578668B - 音圈馬達 - Google Patents

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Description

音圈馬達
本發明係主張關於2011年09月29日申請之韓國專利案號10-2011-0098861之優先權。藉以引用的方式併入本文用作參考。
本發明係關於一種音圈馬達。
近年來，發展出建置有微數位攝影機的各式各樣可攜式電子裝置，例如行動電話。
安裝在行動電話的微數位攝影機大多包含一影像感測器以轉換外部光線成數位影像、以及一光學透鏡面對該影像感測器排列。
對於習知微數位攝影機調整該影像感測器和該光學透鏡的距離是有困難的。然而，近來已發展發一種透鏡驅動裝置例如：音圈馬達(VCM)來調整該影像感測器和該光學透鏡的距離。
音圈馬達包含一捲線軸用以容置一透鏡、一驅動器具有一線圈擋塊(coil block)纏繞著該捲線軸、一定子用來驅動該驅動器、一彈性件用來彈性支撐該驅動器、以及一基座用來支撐該驅動器和該定子並具有一IR(紅外線)濾波器和一影像感測器安裝在該基座的一背面。
然而，習知音圈馬達是有其問題的，因為驅動器相對於該基座進行往復動作，在驅動器驅動作業或一VCM組裝作業期間，當 產生自驅動器的顆粒例如：微小灰塵或異物附著到固定至基座的IR濾波器時將造成對從影像感測器所獲得之影像的品質相當大的影響。
因此，本發明提供一音圈馬達配置來防止外部來的異物或在一組裝程序中產生的異物進入至IR濾波器中。
再者，本發明提供一音圈馬達，配置來防止因防異物流入膜(foreign-substance inflow prevention film)的運動所造成的污染和缺陷，其中該防異物流入膜係設置在具有一IR濾波器的一基座以防止異物進入至IR濾波器中。
本發明的一實施例提供一音圈馬達，該馬達包含：一基座，其具有一開口；一異物收集膜(foreign-substance trapping film)提供在該基座的一上表面上以收集(trap)異物；一驅動器(mover)設置在該基座上且包含支撐一透鏡的一捲線軸(bobbin)，以及提供在該捲線軸一外周邊上的一線圈擋塊(coil block)；一定子被支撐在該基座上且具有設置在面對該線圈擋塊的一磁鐵；以及連接該驅動器和該基座的一彈性件以彈性支撐該驅動器，其中在該基座的上表面沿著該異物收集膜的邊界形成有一容置部。
在本發明的另一實施例提供一音圈馬達，該馬達包含：一驅動器，其包含支撐一透鏡的一捲線軸以及提供在該捲線軸一外周 邊上的一線圈擋塊(coil block)；一定子包含設置在面對該線圈擋塊的一磁鐵；一基座支撐該驅動器和該定子且在對應該透鏡的一位置上具有一開口；一彈性件包含連接該驅動器和該基座的一彈性部以彈性支撐該驅動器；以及一異物收集膜提供在該基座的一上表面上且具有黏性以收集(trap)異物，其中一容置凹槽形成在該基座的一上表面上以防止該異物收集膜進入該基座的該彈性部和該開口中之至少一者中。
很明顯的，如上所述，根據本發明的音圈馬達的優點在於：其具有一異物收集膜在一基座的上表面以收集異物，且可防止因異物收集膜過度塗佈(excessive application)而進入安裝有IR濾波器的彈性件區域及/或開口，藉以防止因異物和異物收集膜所造成的污染。
圖1繪示根據本發明實施例之一音圈馬達的分解示意圖。圖2繪示圖1的基座平面視圖。圖3為沿著圖2線I-I’的剖視圖。
參照圖1至3，一音圈馬達(voice coil motor)800包含一基座100、一異物收集膜(foreign-substance trapping film)200、一驅動器(mover)300、一定子400以及一彈性件500。除了該些元件外，音圈馬達800可包含一覆蓋件600。
基座100為在其中央部份具有一開口110的一長方體板(rectangular parallelepiped plate)。一IR(紅外線)濾波器120設置在基座100的背面對應該開口110，且一影像感測器(未繪示)可設置在該IR濾波器120的背面。
多個彈性件區域ER形成在該基座的一上表面100上，因此部份的彈性件500(將於後文描述)可設置在其上面。該些彈性件區域ER分別形成在基座100上表面的四個角落。
異物收集膜200形成在基座100的上表面上。異物收集膜200收集(trap)在驅動器300垂直運動或組裝音圈馬達800期間所產生的異物，因此防止異物進入IR濾波器120中。
異物收集膜200藉由塗佈黏性液體在基座100的上表面上而薄薄的形成。異物收集膜200形成在基座100的上表面上，除了該些彈性件區域ER之外。
當在形成基座100上表面上之黏性異物收集膜200時候，如果塗佈了超過一預定量時，部份的異物收集膜200可能進入該些彈性件區域ER中。這樣的話，當部份的異物收集膜200進入該些彈性件區域ER時，異物收集膜200會落入在設置於該些彈性件區域ER的部份彈性件500上，因此將降低彈性件500的功能。
再者，當在形成基座100上表面上之黏性異物收集膜200時候，如果塗佈了超過預定的量時，如果塗佈了超過一預定程度 (level)時，黏性異物收集膜200可能透過基座100的開口110而進入IR濾波器120中。這樣的話，當部份的異物收集膜200透過開口110而進入IR濾波器120中時，IR濾波器120將被污染，因此將影響從影像感測器所形成之一數位影像或一移動影像的品質。
根據本發明實施例，為了防止黏性異物收集膜200進入基座100的開口110或該些彈性件區域ER中，因此在基座100的上表面沿著異物收集膜200的邊界形成有一容置部(或容置凹槽)130。
在本發明的一實施例中，容置部130容置部份塗佈過多的異物收集膜200，藉以防止異物收集膜200進入基座100的開口110和該些彈性件區域ER中。
容置部130包含一第一容置部132和一第二容置部134。
第一容置部132形成在基座100的一上表面，且形成為沿著基座100開口110的一溝槽其為異物收集膜200的內邊界(inner boundary)。在本發明的一實施例中，當俯視(viewed on a plane)時，第一容置部132為一閉環狀(closed loop)。
第一容置部132的寬度和深度可考慮到可能過多的異物收集膜200塗佈量而調整。
第二容置部134形成在基座100的一上表面，且形成為沿著該些彈性件區域ER的一溝槽其為異物收集膜200的外邊界(outer boundary)。在本發明的一實施例中，當俯視(viewed on a plane)時，第二容置部134為一閉環狀。
第二容置部134的寬度和深度可考慮到可能過多的異物收集膜200塗佈量而調整。
圖4繪示根據本發明另一實施例之一音圈馬達的基座平面視圖。
參照圖1和4，一黏性異物收集膜200形成在具有一開口110之一基座100的上表面上。具有一溝槽狀的一容置部140可形成在基座100的開口110周圍以防止異物收集膜200過多的塗佈部份透過開口110而進入一IR濾波器120。當俯視溝槽狀的容置部140時，容置部140可為一閉環狀。
同時，為了防止異物收集膜200進入該些彈性件區域ER中，一環形突起(annular protrusion)145可被提供在該些彈性件區域ER和異物收集膜200之間。
圖5繪示根據本發明另一實施例之一音圈馬達的基座平面視圖。
參照圖1和5，一黏性異物收集膜200形成在具有一開口110之一基座100的上表面上。再者，為了防止異物收集膜200過多的塗佈部份透過開口110而進入一IR濾波器120，一溝槽狀容置部150係形成在基座100的開口110周圍。當俯視溝槽狀的容置 部150時，容置部150可包含為間歇(intermittently)排列的複數個容置部。
同時，為了防止異物收集膜200進入該些彈性件區域ER中，一環形突起155可被提供在該些彈性件區域ER和異物收集膜200之間。
圖6繪示根據本發明另一實施例之再一音圈馬達的基座平面視圖。
一黏性異物收集膜200形成在具有一開口110之一基座100的上表面上。再者，為了防止異物收集膜200過多的塗佈部份進入該些彈性件區域ER中，一溝槽狀容置部160係形成在基座100上位於基座100的該些彈性件區域ER和異物收集膜200之間。當俯視溝槽狀的容置部160時，容置部160可為一閉環狀。
同時，為了防止異物收集膜200進入開口110中，一環形突起165可沿著開口110設置。
圖7繪示根據本發明另一實施例之再一音圈馬達的基座平面視圖。
一黏性異物收集膜200形成在具有一開口110之一基座100的上表面上。再者，為了防止異物收集膜200過多的塗佈部份進入該些彈性件區域ER中，一溝槽狀容置部170係形成在基座100上位於基座100的該些彈性件區域ER和異物收集膜200之間。當 俯視溝槽狀的容置部170時，容置部170可包含為間歇排列的複數個容置部。特別是，容置部170可選擇性地形成在對應該些彈性件區域ER的位置上。
同時，為了防止異物收集膜200進入開口110中，一環形突起175可沿著開口110設置。
請再次參照圖1，驅動器300包含一捲線軸310用以容置一透鏡、以及一線圈擋塊(coil block)320耦接捲線軸310的外周邊。
捲線軸310可為一圓筒形(cylindrical shape)以容置該透鏡。線圈擋塊320可藉由包含絕緣樹脂絕緣之長的電線直接纏繞捲線軸310的外周邊而形成，或者線圈擋塊320可先被纏繞後再耦接捲線軸310。
定子400包含一軛鐵(yoke)410和一磁鐵420。軛鐵410為一方柱(square pillar)形，且具有磁鐵420設置在軛鐵410中。磁鐵420係面對耦接捲線軸310外周邊的線圈擋塊320設置。
彈性件500包含一下彈性件510和一上彈性件520。
下彈性件510包含一對下彈性件。每一下彈性件510耦接捲線軸310的下表面，且係電性連接線圈擋塊320的兩端部。
每一下彈性件510包含一彈性部，該彈性部以屈折態(zigzag mode)產生彈力。該彈性部設置在對應基座100一關聯彈性件區域ER的位置。
上彈性件520設置在軛鐵410上，且耦接捲線軸310的上端部。
覆蓋件600與基座100結合，且壓制上彈性件520以保持上彈性件520在適當位置。
如上所述，本發明提供一種音圈馬達，其具有一異物收集膜在一基座的上表面上以收集異物和防止因異物收集膜過度塗佈(excessive application)而進入安裝有一IR濾波器的一彈性件區域及/或一開口，藉以防止因異物和異物收集膜所造成的污染。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍。
100‧‧‧基座
110‧‧‧開口
120‧‧‧IR濾波器
130、140、150‧‧‧容置部
132‧‧‧第一容置部
134‧‧‧第二容置部
145、155、165、175‧‧‧環形突起
160、170‧‧‧容置部
200‧‧‧異物收集膜
300‧‧‧驅動器
310‧‧‧捲線軸
320‧‧‧線圈擋塊
400‧‧‧定子
410‧‧‧軛鐵
420‧‧‧磁鐵
500‧‧‧彈性件
510‧‧‧下彈性件
520‧‧‧上彈性件
600‧‧‧覆蓋件
800‧‧‧音圈馬達
ER‧‧‧彈性件區域
圖1繪示根據本發明實施例之一音圈馬達的分解示意圖；圖2繪示圖1的基座平面視圖；圖3為沿著圖2線I-I’的剖視圖；圖4繪示根據本發明另一實施例之一音圈馬達的基座平面視圖；圖5繪示根據本發明另一實施例之一音圈馬達的基座平面視 圖；圖6繪示根據本發明另一實施例之再一音圈馬達的基座平面視圖；以及圖7繪示根據本發明另一實施例之再一音圈馬達的基座平面視圖。
100‧‧‧基座
120‧‧‧IR濾波器
300‧‧‧驅動器
310‧‧‧捲線軸
320‧‧‧線圈擋塊
400‧‧‧定子
410‧‧‧軛鐵
420‧‧‧磁鐵
500‧‧‧彈性件
510‧‧‧下彈性件
520‧‧‧上彈性件
600‧‧‧覆蓋件
800‧‧‧音圈馬達

Claims (15)

  1. 一種音圈馬達，包含：一基座，包含一開口及一彈性件區域；一捲線軸，設置於該基座上以支撐一透鏡，並以垂直方向移動；一線圈擋塊，設置於該捲線軸的外周邊；一磁鐵，面對該線圈擋塊；以及一彈性件，包含一彈性部，並耦接至該捲線軸及該基座，以彈性支撐該捲線軸，其中該基座包含一容置部，該容置部包括：一第一容置部形成在該基座的該開口周圍；以及一第二容置部與該第一容置部間隔開且包圍該第一容置部；其中一異物收集膜位於該基座的一上表面的該第一容置部及該第二容置部之間用以收集異物；其中該彈性部設置於對應至該基座的一關聯彈性件區域的一位置。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之音圈馬達，其中該容置部為沿著該基座的該開口的一閉環狀(closed loop)。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之音圈馬達，其中該容置部包含沿著該基座的該開口之間歇排列的複數個容置部。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之音圈馬達，其中對應該彈性件之該彈性部的該彈性件區域形成於該異物收集膜與該第二容置部之間。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之音圈馬達，其中該彈性件區域形成在該基座的該上表面的四個角落上，且該容置部之形狀於俯視時為一閉環狀。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之音圈馬達，其中該容置部係選擇性地形成在對應該彈性件區域的一位置。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之音圈馬達，其中該容置部係以凹形形成在該基座的該上表面上。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之音圈馬達，其中該容置部為一溝槽狀或一突起狀。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之音圈馬達，其中該異物收集膜包含具有黏性的環氧樹脂。
  10. 一種音圈馬達，包含：一基座，包含一開口及一彈性件區域；一捲線軸，設置於該基座上以支撐一透鏡，並以垂直方向移動；一線圈擋塊，設置於該捲線軸的一外周邊上；一磁鐵，面對該線圈擋塊； 一彈性件，包含一彈性部，並耦接至該捲線軸及該基座，以彈性支撐該捲線軸；以及一異物收集膜，以水平方向設置於該開口及該彈性件區域之間的該基座上，其中一容置凹槽形成在該基座的一上表面上以防止異物進入該基座的該開口及該彈性部的至少一者中，其中該容置凹槽包括一第一容置凹槽以一溝槽狀沿著該開口的周邊來形成，以及沿著該彈性部形成的一第二容置凹槽介於該彈性部和該開口之間。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之音圈馬達，其中該容置凹槽之形狀於俯視時為一閉環狀。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之音圈馬達，其中該容置凹槽包含於俯視時為間歇排列的複數個容置凹槽。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之音圈馬達，其中該容置凹槽形成在該彈性部和該開口之間，且係形成在對應該彈性部的一位置。
  14. 如申請專利範圍第10項所述之音圈馬達，其中每一該第一和該第二容置凹槽當俯視時為一閉環狀。
  15. 如申請專利範圍第10項所述之音圈馬達，其中形成的每一該第一和該第二容置凹槽當俯視時為間歇排列。
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