TWI530837B - 觸控結構及其製造方法 - Google Patents

Description

觸控結構及其製造方法

本發明係有關於一種觸控結構及其製造方法，尤指一種可使光線穿透後，不會產生偏黃視覺效果之觸控結構及製造方法。

隨著時代進步，個人數位助理(Personal Digital Assistant,PDA)、手機、車用導航系統、平板電腦等具有觸控輸入功能的電子產品已日趨廣泛，而這些產品的顯示螢幕上一般係建置有觸控面板，以供使用者利用指頭或觸控筆輸入資訊，且觸控面板具有多種觸控技術，其中，電阻式及電容式是藉由使用者以手指或感應筆對面板表面進行觸碰，而於受觸碰位置的面板內部產生電容值的變化，據以偵測出面板表面所接受觸碰的位置，以達到觸控感測之目的。

習知觸控面板之結構包括一蓋板(cover lens)、觸控層及位於蓋板與觸控層之間之黏合層，其中，觸控層具有一基材以及位於基材表面之線路層，黏合層係用以黏合蓋板與觸控層且黏合層的材料通常採用光學膠(Optical Clear Adhesive)；然，一般基材所使用係為PET(聚對苯二甲酸乙二酯)材質，其PET基材所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標為3.2，呈現出黃色，而光學膠則為所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標為0至0.2，呈現出透明無色彩，當光線穿透PET基材以及光學膠後會產生偏黃之視覺效果，影響整體觸控結構之外觀視覺效果。

為解決此課題，本發明提供一種觸控結構製造方法可光線穿透後，不會產生偏黃視覺效果的技術手段。

為達成上述之目的，本發明之觸控結構包含：一第一基材、至少一第一感測結構以及第一藍色系光學黏著層，至少一第一感測結構係位於第一基材之表面，而第一藍色系光學黏著層位於該第一基材之表面，藉由第一藍色系光學黏著層可供後續之加工黏合程序，並可讓光線穿透本發明之觸控結構後，不會產生偏黃之視覺效果。

依據上述技術特徵，所述第一藍色系光學黏著層所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標為0至-5，呈現出藍色；或者，第一藍色系光學黏著層可吸收波長為560~600nm之黃光。

依據上述技術特徵，所述觸控結構更包括有一第二基材、至少一第二感測結構以及一第二藍色系光學黏著層，至少一第二感測結構係位於該第二基材之表面，第二藍色系光學黏著層係位於該第二基材與該第一基材之間。

依據上述技術特徵，所述第二藍色系光學黏著層所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標為0至-5，呈現出藍色；或者，第二藍色系光學黏著層可吸收波長為560~600nm之黃光。

依據上述技術特徵，所述第一感測結構或該第二感測結構更包含複數相互連接之透明感測串列以及周邊線路。

為達成上述之目的，本發明之觸控結構之製造方法，至少包含下列步驟：提供一第一基材；形成至少一第一感測結構於第一基材之表面；以及將一第一藍色系光學黏著層貼著於 第一基材之表面。

依據上述技術特徵，所述觸控結構之製造方法更包括：提供一第二基材；形成至少一第二感測結構於第二基材之表面；以及將一第二藍色系光學黏著層貼著第一基材與第二基材。

110,210,310,410,510‧‧‧第一基材

120,220,320,420,520‧‧‧第一觸控感測結構

121,221,321,421,521‧‧‧第一透明感測串列

122,222,322,422,522‧‧‧第一周邊線路

123‧‧‧金手指

230,330,530‧‧‧第二觸控感測結構

231,331,531‧‧‧第二透明感測串列

232,332,532‧‧‧第二周邊線路

140,240,340,540‧‧‧透明蓋板

350,550‧‧‧第二基材

160,260,360,460,560‧‧‧第一藍色系光學黏著層

370,570‧‧‧第二藍色系光學黏著層

491,591‧‧‧透明導電層

492,592‧‧‧金屬層

第1a圖至第1c圖所示為本發明中觸控結構之第一實施例示意圖。

第1d圖所示為CIE LAB色彩空間之示意圖。

第2圖所示為本發明中觸控結構之第二實施例示意圖。

第3圖所示為本發明中觸控結構之第三實施例示意圖。

第4a圖至第4d圖所示為本發明中觸控結構之製造方法之第一實施例示意圖。

第5a圖至第5d圖所示為本發明中觸控結構之製造方法之第二實施例示意圖。

請參閱第1a圖所示為本發明第一實施例之觸控結構示意圖。首先，本發明之觸控結構包括一第一基材110、至少一第一感測結構120以及第一藍色系光學黏著層160；其中第一基材110，具有可撓性及彎曲性之特性，並可捲曲成滾筒狀，因此，本發明之製程步驟均可採用捲對捲製程技術例如為捲對捲黃光製程、捲對捲雷射蝕刻製程或是捲對捲印刷技藝，可改良習知片狀生產製程無法高速連續生產之缺失。其材質例如可為PEN、PET、PES、可撓式玻璃、PMMA、PC或PI之一。

第一觸控感測結構120位於第一基材110之表面，具有複數相互連接之第一透明感測串列121以及第一周邊線路122， 請同時參閱第1b圖所示，第一周邊線路122係位於第一基材110之外圍框邊處，並與第一透明感測串列121接觸而形成電性連接，並且第一周邊線路122於另一端分別電性連接金手指123，而可供與FPC電性連接。其中第一透明感測串列使用具有透光能力且導電能力之材質，例如可為金屬氧化物所構成，其中金屬氧化物例如可為氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide,IZO)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide,CTO)、氧化鋁鋅(aluminum zinc oxide,AZO)、氧化銦鋅錫(indium tin zinc oxide,ITZO)、氧化鋅(zinc oxide)、氧化鎘(cadmium oxide)、氧化鉿(hafnium oxide,HfO)、氧化銦鎵鋅(indium gallium zinc oxide,InGaZnO)、氧化銦鎵鋅鎂(indium gallium zinc magnesium oxide,InGaZnMgO)、氧化銦鎵鎂(indium gallium magnesium oxide,InGaMgO)或氧化銦鎵鋁(indium gallium aluminum oxide,InGaAlO)等。當然，第一觸控感測結構可為電容式觸控面板之單面架橋結構，亦可為電阻式觸控面板。

第一藍色系光學黏著層160位於第一基材110之表面，如圖所示之實施例中，第一藍色系光學黏著層160可同時覆蓋於第一基材110以及第一觸控感測結構120之表面。其中，第一藍色系光學黏著層160所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標為0至-5，而b^＊座標以0至-1.5為佳，且呈現出藍色，且第一藍色系光學黏著層160可吸收波長為560~600nm之黃光。上述之CIE LAB色彩空間(color space)，其係由國際照明協會(Commission Internationale de l’Eclairage,CIE)於西元1976年所提出的制式色彩空間，它的坐標實際上是L^＊、a^＊和b^＊。該Lab色彩空間是顏色-對立空間，如第1d圖所示，在CIE LAB色彩空間中，三個基本坐標中L^＊表示顏色的亮度，L^＊=0生成黑色，而L^＊=100 指示白色，a^＊及b^＊表示顏色對立維度，a^＊定義為紅色至綠色之間的位置，a^＊負值(-a^＊)指示綠色，而a^＊正值(+a^＊)指示紅色，b^＊定義為黃色至藍色之間的位置，b^＊負值(-b^＊)指示藍色，而b^＊正值(+b^＊)指示黃色。

其中，上述第一藍色系光學黏著層160可供貼合於一透明蓋板140，如第1c圖所示，透明蓋板140可為各種透明材質，不限於硬質蓋板或是可撓式蓋板，例如玻璃、聚碳酸脂(polycarbonate,PC)、聚對苯二甲酸乙二脂(polyethylene terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(polymethylmesacrylate,PMMA)、聚碸(Polysulfone,PES)或其他環烯共聚物(cyclic olefin copolymer)，由透明蓋板140提供觸控之使用面，並提供保護作用；而當光線依序穿透第一基材110、第一感測結構120以及第一藍色系光學黏著層160並由透明蓋板140射出時，利用第一藍色系光學黏著層160可調整出光顏色效果，將原有穿透出第一基材110之黃色光加以吸收，而讓光線穿透本發明之觸控結構後，所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標約為0，而不會產生偏黃之視覺效果。

如第2圖之第二實施例所示，本發明之觸控結構同樣具有包括一第一基材210、第一感測結構220、第一藍色系光學黏著層260以及第二感測結構230；其中，第一觸控感測結構220係位於第一透明基材210之上表面，具有複數相互連接之第一透明感測串列221以及第一周邊線路222；而第二感測結構230係位於第一基材210之下表面，其具有複數相互連接之第二透明感測串列231以及第二周邊線路232，第一透明感測串列221與第二透明感測串列231係相互交錯，而第一透明基材210係由第一藍色系光學黏著層260黏貼於透明蓋板240之下。

如第3圖之第三實施例所示，本發明之觸控結構包括一第一基材310、第一感測結構320、第一藍色系光學黏著層360、第二基材350、第二感測結構330以及第二藍色系光學黏著層370；其中，第一觸控感測結構320係位於第一透明基材310之表面，具有複數相互連接之第一透明感測串列321以及第一周邊線路322；而第二感測結構330係位於第二基材350之表面，其具有複數相互連接之第二透明感測串列331以及第二周邊線路332，第二藍色系光學黏著層370位於第二基材350與第一基材310之間，而第一透明基材310係由第一藍色系光學黏著層360黏貼於透明蓋板340之下，第一基材310與第二基材350具有可撓性及彎曲性之特性，並可捲曲成滾筒狀，因此，本發明之製程步驟均可採用捲對捲製程技術例如為捲對捲黃光製程、捲對捲雷射蝕刻製程或是捲對捲印刷技藝，可改良習知片狀生產製程無法高速連續生產之缺失。其材質例如可為PEN、PET、PES、可撓式玻璃、PMMA、PC或PI之一。同樣利用第二藍色系光學黏著層370將原有穿透出第二基材350之黃光加以吸收，以及利用第一藍色系光學黏著層360將原有穿透出第一基材310之黃光加以吸收，而讓光線穿透本發明之觸控結構後，所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標約為0，而不會產生偏黃之視覺效果。

請參閱第4a圖至第4d圖所示為本發明之觸控結構之製造方法示意圖。首先，提供一第一基材410；第一基材410可以捲曲成滾筒狀。其材質例如可為PEN、PET、PES、可撓式玻璃、PMMA、PC或PI之一。

形成至少一第一感測結構420於第一基材410之表面；其中先於第一基材410之表面依序形成透明導電層491和金屬層492，如第4b圖所示，以形成多層之透明堆疊結構。其中形成 透明堆疊結構的方式例如可採用捲對捲物理氣相沉積(PVD)、捲對捲化學氣相沉積(CVD)、捲對捲電鍍、捲對捲塗佈製程等手段。而透明導電層491可為金屬氧化物所構成，其中金屬氧化物例如可為氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide,IZO)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide,CTO)、氧化鋁鋅(aluminum zinc oxide,AZO)、氧化銦鋅錫(indium tin zinc oxide,ITZO)、氧化鋅(zinc oxide)、氧化鎘(cadmium oxide)、氧化鉿(hafnium oxide,HfO)、氧化銦鎵鋅(indium gallium zinc oxide,InGaZnO)、氧化銦鎵鋅鎂(indium gallium zinc magnesium oxide,InGaZnMgO)、氧化銦鎵鎂(indium gallium magnesium oxide,InGaMgO)或氧化銦鎵鋁(indium gallium aluminum oxide,InGaAlO)等；金屬層492可為至少一層導電金屬層，或者多層導電金屬層。其材質可為銅合金、鋁合金、金、銀、鋁、銅、鉬等導電金屬或導電合金。多層導電金屬層之結構，例如可為鉬層/鋁層/鉬層之堆疊結構，或者可為選自銅合金、鋁合金、金、銀、鋁、銅、鉬等導電金屬或導電合金之一種或多種材質而堆疊之多層導電金屬層結構。

再施以圖案化，如第4c圖所示，圖案化製程可採用捲對捲黃光製程或捲對捲雷射製程，較佳為採用捲對捲黃光製程，將上述多層之透明堆疊結構進行第一道黃光製程，將透明導電層491和金屬層492圖案化。其中第一道黃光製程包括形成圖案化光阻層(圖未示)於金屬層492之上，光阻層之材質可為液態光阻或乾膜光阻。然後進行蝕刻步驟，蝕刻去除未受光阻層保護之透明導電層491和金屬層492，以及去除圖案化光阻層。接著再進行第2道黃光製程，移除部分位於透明導電層491上之金屬層，形成相互連接之第一透明感測串列421以及第一周邊線路422，而於第一基材410表面形成第一觸控感測結構420；如圖所示之實施例 中，第一周邊線路422係位於第一基材410之外圍框邊處，並與第一透明感測串列421接觸而形成電性連接。

再將一第一藍色系光學黏著層460貼著於第一基材410之表面，如第4d圖所示，第一藍色系光學黏著層460可以為液態光學膠或光學膠帶，其中先將液態光學膠塗佈於第一基材410之表面，並同時覆蓋於第一觸控感測結構420表面，再經光固化成型，而液態光學膠可使用包括但不限於諸如聚矽氧類、丙烯酸類、甲基丙烯酸類、環氧類之液態光學膠，並於液態光學膠內均勻混合有顏色粒子，讓第一藍色系光學黏著層460所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b^＊座標為0至-5，而b^＊座標以0至-1.5為佳，且呈現出藍色，且第一藍色系光學黏著層160可吸收波長為560~600nm之黃光。或者第一藍色系光學黏著層460可為光學膠帶而直接黏貼於第一基材410之表面。

請參閱第5a圖至第5d圖所示為本發明之第二實施例之觸控結構之製造方法示意圖。利用上述製程完成第一基材510，第一基材510上具有第一觸控感測結構520，如第5a圖所示，其具有複數相互連接之第一透明感測串列521以及第一周邊線路522，而第一基材510以及第一觸控感測結構520之表面具有第一藍色系光學黏著層560；同樣利用上述製程形成一第二觸控感測結構，先於第二基材550之表面依序形成透明導電層591和金屬層592，如第5b圖所示，以形成多層之透明堆疊結構。其中形成透明堆疊結構的方式例如可採用捲對捲物理氣相沉積(PVD)、捲對捲化學氣相沉積(CVD)、捲對捲電鍍、捲對捲塗佈製程等手段。而透明導電層591可為金屬氧化物所構成，其中金屬氧化物例如可為氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide,IZO)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide,CTO)、氧化鋁鋅(aluminum zinc oxide,AZO)、氧化銦鋅錫(indium tin zinc oxide,ITZO)、氧化鋅(zinc oxide)、氧化鎘(cadmium oxide)、氧化鉿(hafnium oxide,HfO)、氧化銦鎵鋅(indium gallium zinc oxide,InGaZnO)、氧化銦鎵鋅鎂(indium gallium zinc magnesium oxide,InGaZnMgO)、氧化銦鎵鎂(indium gallium magnesium oxide,InGaMgO)或氧化銦鎵鋁(indium gallium aluminum oxide,InGaAlO)等；金屬層592可為至少一層導電金屬層，或者多層導電金屬層。其材質可為銅合金、鋁合金、金、銀、鋁、銅、鉬等導電金屬或導電合金。多層導電金屬層之結構，例如可為鉬層/鋁層/鉬層之堆疊結構，或者可為選自銅合金、鋁合金、金、銀、鋁、銅、鉬等導電金屬或導電合金之一種或多種材質而堆疊之多層導電金屬層結構。

再施以圖案化，如第5c圖所示，圖案化製程可採用捲對捲黃光製程或捲對捲雷射製程，較佳為採用捲對捲黃光製程，將上述多層之透明堆疊結構進行第一道黃光製程，將透明導電層591和金屬層592圖案化。其中第一道黃光製程包括形成圖案化光阻層(圖未示)於金屬層592之上，光阻層之材質可為液態光阻或乾膜光阻。然後進行蝕刻步驟，蝕刻去除未受光阻層保護之透明導電層591和金屬層592，以及去除圖案化光阻層。接著再進行第2道黃光製程，移除部分位於透明導電層591上之金屬層，形成相互連接之第二透明感測串列531以及第二周邊線路532，而於第二基材550上形成第二觸控感測結構530。

再利用一第二藍色系光學黏著層570貼合第一基材510和第二基材550，如第5d圖所示，而完成本發明之觸控結構；然後，亦可將上述之觸控結構以第一藍色系光學黏著層560黏貼於透明蓋板540。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限 定本發明。任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視申請專利範圍所界定者為準。

110‧‧‧第一基材

120‧‧‧第一觸控感測結構

121‧‧‧第一透明感測串列

122‧‧‧第一周邊線路

160‧‧‧第一藍色系光學黏著層

Claims (10)

1. 一種觸控結構，其包含：一第一基材；至少一第一感測結構，其位於該第一基材之表面；一第一藍色系光學黏著層，其位於該第一基材之表面，該第一藍色系光學黏著層所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b*座標為0至-5之間。
2. 如請求項1所述之觸控結構，其中，該第一藍色系光學黏著層可吸收波長為560~600nm之黃光。
3. 如請求項1或2所述之觸控結構，更包含有一第二基材；至少一第二感測結構，其位於該第二基材之表面；一第二藍色系光學黏著層，其位於該第二基材與該第一基材之間。
4. 如請求項3所述之觸控結構，其中，該第二藍色系光學黏著層所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b*座標為0~ -5之間；或者，該第二藍色系光學黏著層可吸收波長為560~600nm之黃光。
5. 如請求項3所述之觸控結構，其中第一感測結構或第二感測結構更包含複數相互連接之透明感測串列以及周邊線路。
6. 一種觸控結構之製造方法，其包含：提供一第一基材；形成至少一第一感測結構於該第一基材之表面； 將一第一藍色系光學黏著層貼著於該第一基材之表面，該第一藍色系光學黏著層所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b*座標為0至-5之間。
7. 如請求項6所述之觸控結構之製造方法，其中，該第一藍色系光學黏著層可吸收波長為560~600nm之黃光。
8. 如請求項6或7所述之觸控結構之製造方法，更包含有：提供一第二基材；形成至少一第二感測結構於該第二基材之表面；將一第二藍色系光學黏著層貼著該第一基材與該第二基材。
9. 如請求項8所述之觸控結構之製造方法，其中，該第二藍色系光學黏著層所呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的b*座標為0~ -5之間；或者，該第二藍色系光學黏著層可吸收波長為560~600nm之黃光。
10. 如請求項8所述之觸控結構之製造方法，其中，該第一感測結構或該第二感測結構更形成複數相互連接之透明感測串列以及周邊線路。