TWI526771B - 光源系統 - Google Patents

Description

光源系統

本案係關於一種光源系統，尤指一種具有光源陣列反射調整機構之光源系統。

近年來，各式各樣的投影裝置，例如投影機(Projector)已被廣泛地應用於家庭、學校或者各種商務場合中，以用於將一影像訊號源所提供之影像訊號放大顯示於屏幕。隨著投影裝置朝向輕薄化、高影像品質及低能耗之方向發展，為符合前述要求，目前的投影裝置之光源系統(Illumination System)係使用固態發光元件，例如發光二極體或雷射元件，以取代傳統的高密度氣體放電燈(HID Lamp)或高壓汞燈。

一般而言，採用固態發光元件之光源系統大多設計為群組式的光源陣列以增加光量，並於固態光源陣列之光軸上對應設置複數個反射鏡組，以將固態光源陣列所發射之光束進行角度之轉換，俾使複數條由該固態光源陣列所發射之光束可反射而導至同一聚光透鏡聚焦，之後再導送至成像系統成像。

然而，於實際操作使用上，固態光源陣列之複數個發光元件及複數個反射鏡組因設計時的組件公差，或因發光元件本身之光源特性(例如出光角度)，導致由反射鏡組反射後之光束無法集中導送至聚光透鏡聚焦，且複數個反射鏡組亦無適當的調整機構可供調整，使得固態光源陣列所提供之光源無法有效匯聚而造成能量耗損，降低光源系統之使用效率，此外，進入投影裝置內部之光強度不足將影響成像品質與亮度，且由於反射光束並未沿特定光路徑行進，亦 將使光源系統產生熱溫升之問題。

本案之目的在於提供一種光源系統，其可利用調整機構來調整反射鏡相對於發光元件所發射之光束的入射角度及位置，使反射光束可導至特定光路徑，藉此可有效匯聚光束，降低能量耗損，且可減低光源系統產生熱溫升的現像。

本案之另一目的在於提供一種光源系統，適用於一投影裝置，其具有較佳效率，且可提升投影裝置之成像品質及亮度。

為達前述目的，本案之一較廣實施態樣為提供一種光源系統，適用於投影裝置，至少包括：第一光源模組，包括複數個第一光源，且每一第一光源提供第一光束；以及第一反射鏡組，包括：至少一第一反射鏡，對應設置於第一光源之一光軸上；至少一第一固定裝置，係固定第一反射鏡；以及至少一第一調整機構，係與第一固定裝置相耦接，其中第一固定裝置可調整地沿第一調整機構之軸向移動及旋轉，以平移及轉動調整第一反射鏡相對於光軸之位置及角度，俾使第一反射鏡反射之第一光束導至特定光路上。

為達前述目的，本案之另一較廣實施態樣為提供一種光源系統，適用於投影裝置，至少包括：光源，係提供光束；反射鏡，對應設置於光源之光軸上；固定裝置，係固定反射鏡；以及調整機構，係與固定裝置相耦接，其中固定裝置可調整地沿調整機構之軸向移動及旋轉，以平移及轉動調整反射鏡相對於光軸之位置及角度，俾使反射鏡反射之光束導至特定光路上。

1、2‧‧‧光源系統

11、21‧‧‧第一光源模組

111、211‧‧‧第一光源

1111、2111‧‧‧第一光束

112‧‧‧第一基座

12、22‧‧‧第一反射鏡模組

121、121a~f、221‧‧‧第一反射鏡

1211、1411‧‧‧透光區

1212、1412‧‧‧反射區

122、222‧‧‧第一固定裝置

123、223‧‧‧第一調整機構

13、23‧‧‧第二光源模組

131、231‧‧‧第二光源

1311‧‧‧第二光束

132‧‧‧第二基座

14、24‧‧‧第二反射鏡模組

141、141a~f、241‧‧‧第二反射鏡

142、242‧‧‧第二固定裝置

143、243‧‧‧第二調整機構

15、25‧‧‧聚光元件

16‧‧‧殼體

17‧‧‧承座

18‧‧‧框體

181、271‧‧‧容置空間

19、272‧‧‧側板

191‧‧‧穿孔

26‧‧‧輔助固定件

27‧‧‧殼體

273‧‧‧穿孔

A、B‧‧‧箭號

第1A圖為本案第一較佳實施例之光源系統之結構示意圖。

第1B圖為第1A圖之光源系統之組合圖。

第2圖為第1A圖所示之第一反射鏡模組之結構示意圖。

第3A及3B圖係顯示第1A圖之光源模組所發射之光束經由反射鏡模組反射之示意圖。

第4A圖為本案第二較佳實施例之光源系統之結構示意圖。

第4B圖為第4A圖之光源系統之組合圖。

第5圖係顯示第4A圖之光源模組所發射之光束經由反射鏡模組反射之示意圖。

第6圖係顯示以第4A圖所示之調整機構進行調整之示意圖。

體現本案特徵與優點的一些典型實施例將在後段的說明中詳細敘述。應理解的是本案能夠在不同的態樣上具有各種的變化，其皆不脫離本案的範圍，且其中的說明及圖式在本質上當作說明之用，而非架構於限制本案。

請參閱第1A圖、第1B圖、第2圖、第3A圖及第3B圖，其中第1A圖係為本案第一較佳實施例之光源系統之結構示意圖，第1B圖係為第1A圖之光源系統之組合圖，第2圖係為第1A圖所示之第一反射鏡模組之結構示意圖，以及第3A及3B圖係顯示第1A圖之光源模組所發射之光束經由反射鏡模組反射之示意圖。本案之光源系統1適用於一投影裝置，例如數位光學處理投影機(Digital Light Processing Projector，DLP Projector)或液晶投影機(Liquid Crystal Display Projector，LCD Projector)，但不以此為限。本案之光源系統1包括第一光源模組11、第一反射鏡模組12及殼體16。第一光源模組11係位於殼體16外部且設置於殼體16之一側。第一反射鏡模組12係至少部分地設置於殼體16內部。第一光源模組11包括一個或複數個第一光源111，每一個第一光源111係用以提供第一光束1111。第一反射鏡模組12包括至少一第一反射鏡121、至少一第一固定裝置122及至少一第一調整機構123，其中第一反射鏡121係位於 殼體16之內部，並對應設置於該第一光源111之光軸(未圖示)上。第一固定裝置122係架構於固定第一反射鏡121。第一調整機構123係至少部分位於殼體16之外部且與第一固定裝置122耦接。藉由第一調整機構123，第一固定裝置122係可調整地沿第一調整機構123之軸向移動及轉動，以平移及轉動調整第一反射鏡121相對於第一光源111之光軸位置，俾使第一反射鏡121反射之第一光束1111導至特定光路上，即導送至聚光元件15。

第一光源模組11包括複數個第一光源111，每一個第一光源111可提供一第一光束1111，且第一光源111可為但不限於雷射元件或發光二極體等發光元件。複數個第一光源111係排列成平面陣列，例如第1A圖所示之第一光源模組11係將二十四個第一光源111等間隔地排列成六列四行的平面陣列形式，然其數量及排列形式可依實際施作情形任施變化，並不以此為限。此外，第一光源模組11更可包括一個或複數個第一基座112，其係用以固定及容置複數個第一光源111。舉例而言，第一光源模組11包括三個第一基座112，且該三個第一基座112係堆疊排列地設置於殼體16之一側，而二十四個第一光源111中之8個第一光源111係以兩列四行之陣列排列方式容置於第一基座112中，藉此以組成平面陣列形式之第一光源模組11，並可發射複數個第一光束1111以實質上相同的入射方向投射至殼體16內部之第一反射鏡模組12。

第一反射鏡模組12包括一個或複數個第一反射鏡121、一個或複數個第一固定裝置122及一個或複數個第一調整機構123。其中，每一個第一反射鏡121係對應設置於第一光源111之光軸上，用以反射該第一光束1111，俾將第一光束1111進行角度之轉換而導送至聚光元件15聚焦。第一反射鏡模組12之第一反射鏡121數量係與第一光源模組11之第一光源111所排列之列數相對應，舉例而言，如第1A圖所示，第一反射鏡模組12係包括六面第一反射鏡121，且該六面第一反射鏡121分別對應該六列第一光源111之光軸設置。第一反射鏡121可為但不限於長方形，複數個第一反射鏡121間彼此平行且斜向地排成陣列 形式，以分別與第一光源模組11之對應列相對設置，藉此可避免經由第一反射鏡121反射後之第一光束1111彼此間互相干擾。當然，第一反射鏡121之數量、形式及其排列方式並不以此為限，可依實際施作情形任施變化。

請再參閱第1A圖、第1B圖、第2圖、第3A圖及第3B圖，於本實施例中，每一個第一反射鏡121包括至少一透光區1211及至少一反射區1212，且透光區1211與反射區1212係間隔交錯排列，透光區1211可讓光束通過，反射區1212則用以反射光束，且反射區1212可以金屬濺鍍方式形成，但不以此為限。舉例而言，複數個第一光源111係排列成六列四行的平面陣列形式，即第一光源模組11之每一列係由四個第一光源111以相等間距排列形成，每一對應之第一反射鏡121係劃分為四個透光區1211及四個反射區1212，並使該四個反射區1212分別對應第一光源模組11之每一列的四個第一光源111之光軸，藉此，每一個第一光源111所發射出的第一光束1111係可一對一地經由第一反射鏡121之每一反射區1212反射，俾將第一光束1111導送至聚光元件15聚焦。

殼體16包括承座17、框體18及側板19，其中框體18具有一容置空間181可容設承座17，承座17係用於承載第一反射鏡模組12，其中第一反射鏡模組12之第一反射鏡121係設置於承座17內部，第一固定裝置122及第一調整機構123則設置於承座17外部。第一光源模組11係固設於框體18之一側。側板19係設置於框體18上，且側板19包括複數個穿孔191以供複數個第一調整機構123穿射，其中複數個第一調整機構123係部分外露於殼體16之側板19之外表面，俾利進行調校作業。

第一固定裝置122係用以固定及承載第一反射鏡121，且第一固定裝置122可以夾持、黏附、鎖固或卡合等方式固定第一反射鏡121，但不以此為限。於本實施例中，如第2圖所示，每一個第一反射鏡121之兩端係分別設置兩個第一固定裝置122，且第一固定裝置122以夾持方式固定第一反射鏡121。

第一調整機構123係與第一固定裝置122相耦接，且第一調整機構123 係經由殼體16之側板19上的對應穿孔191而部分外露於殼體16之外側，且第一調整機構123與側板19之對應穿孔191內壁係以緊配干涉方式相配合。當第一光源模組11及第一反射鏡模組12之組件設計誤差或組裝上發生偏差時，例如第一反射鏡121位移或其反射區1212相對於第一光源111之光軸角度偏差時，將會導致經由第一反射鏡121所反射之第一光束1111導送路徑偏移，無法有效導送至聚光元件15聚焦，此時使用者可利用第一調整機構123，使第一固定裝置122及其所承載之第一反射鏡121可調整地沿第一調整機構123之軸向平移及轉動，故可調整第一反射鏡121相對於第一光源111之光軸位置並定位。

當然，第一調整機構123調整第一固定裝置122之平移及軸轉方式可有多種實施態樣，並不以前述方式為限。舉例而言，第一調整機構123亦可包括一迫緊螺絲(未圖示)、一螺孔(未圖示)及一彈簧(未圖示)，其中螺孔係設置於第一固定裝置122中，彈簧係設置於螺孔內且套設於該迫緊螺絲上。當第一光源模組11及第一反射鏡模組12之組件設計誤差或組裝上發生偏差時，可藉由調整第一調整機構123來平移或旋轉第一反射鏡121相對於該第一光源111之光軸位置。於本實施例中，由於第一調整機構123係利用迫緊螺絲來實現，因此可藉由調整迫緊螺絲於螺孔中的位置，使彈簧因應地壓縮與形變，以帶動第一固定裝置122及第一反射鏡121可沿平行於第一調整機構123之軸向平移，藉此可達到使第一反射鏡121上每一個反射區1212與第一光源模組11之每一列第一光源111之光軸相對應。當然，亦可同時旋轉第一調整機構123，使其帶動第一固定裝置122及第一反射鏡121旋轉，以轉動調整第一反射鏡121之角度，使得第一光束1111相對於第一反射鏡121之反射區1212之入射角改變，進而調整第一光束1111之反射路徑。

請再參閱第1A圖、第1B圖、第2圖、第3A圖及第3B圖，本案之光源系統1更可包括第二光源模組13及第二反射鏡模組14。第二光源模組13位於殼體16外部且設置於殼體16之另一側，其中第一光源模組11及第二光源模 組13係設置於殼體16之兩相對側。第二光源模組13包括一個或複數個第二光源131以及一個或複數個第二基座132，其中第二光源131係用以提供第二光束1311。第二反射鏡模組14包括一個或複數個第二反射鏡141、一個或複數個第二固定裝置142及一個或複數個第二調整機構143，且第二反射鏡141係由第二固定裝置142固定，並對應設置於第二光源131之光軸(未圖示)上，用以反射該第二光束1311。第二反射鏡141之鏡面亦劃分為間隔交錯的透光區1411與反射區1412，例如第二反射鏡141具有四個透光區1411及四個反射區1412，且該四個反射區1412分別對應第二光源模組13之每一列的四個第二光源131之光軸而設置。於本實施例中，第二光源模組13及第二反射鏡模組14之細部結構、功能、數量、排列方式係與第一光源模組11及第一反射鏡模組12之對應結構相似，於此不再贅述。

於一些實施例中，如第3A圖及第3B圖所示，距離聚光元件15相對較遠之三個第一反射鏡121a、121b、121c係分別以其各自的四個反射區1212將第一光源111所發射之第一光束1111反射導向至聚光元件15聚光，且第一反射鏡121a、121b、121c之各自的四個透光區1211則無光束穿過。距離聚光元件15相對較遠之三個第二反射鏡141a、141b、141c係分別以其各自的四個反射區1412將第二光源131所發射之第二光束1311反射導向至聚光元件15聚光，且第二反射鏡141a、141b、141c之各自的四個透光區1411則無光束穿過。距離聚光元件15相對較近之三個第一反射鏡121d、121e、121f係分別以其各自的四個反射區1212將穿過第二反射鏡141d、141e、141f之對應透光區1411之第一光束1111反射導向至聚光元件15聚光，第一反射鏡121d、121e、121f之各自的四個透光區1211則供第二光源模組13所發射之第二光束1311穿過。距離聚光元件15相對較近之三個第二反射鏡141d、141e、141f係分別以其各自的四個反射區1412將穿過第一反射鏡121d、121e、121f之對應透光區1211之第二光束1311反射導向至聚光元件15聚光，第二反射鏡141d、141e、141f之各自的四個透光區 1411則供第一光源模組11所發射之第一光束1111穿過。藉由第一光源模組11、第一反射鏡組12、第二光源模組13及第二反射鏡模組14的結構設計與配置，可使光束不會互相干擾，同時可增加空間之利用而有利於光源系統小型化。

請參閱第4A圖、第4B、第5圖及第6圖，其中第4A圖為本案第二較佳實施例之光源系統之結構示意圖，第4B圖為第4A圖之光源系統之組合圖，第5圖係顯示第4A圖之光源模組所發射之光束經由反射鏡模組反射之示意圖，以及第6圖係顯示以第4A圖所示之調整機構進行調整之示意圖。於本實施例中，光源系統2包括第一光源模組21、第一反射鏡模組22及殼體27。第一光源模組21係位於殼體27外部且設置於殼體27之一側。第一反射鏡模組22係設置於殼體27內部之容置空間271。第一光源模組21包括一個或複數個第一光源211，且每一個第一光源211可提供第一光束2111，其中第一光源模組21之第一光源211的數量及排列形式與前述實施例相似，於此不再贅述。

第一反射鏡模組22包括至少一第一反射鏡221、至少一第一固定裝置222及一第一調整機構223。其中，第一反射鏡221係對應設置於第一光源211之光軸上，用以反射該第一光束2111，並將第一光束2111導送至聚光元件25聚焦。第一反射鏡221係固定於第一固定裝置222，且第一固定裝置222可藉由黏附、夾持或卡合等方式固定第一反射鏡221，但不以此為限。於本實施例中，第一固定裝置222之數量係與第一光源模組21之第一光源211所排列之行數相對應，舉例而言，四個第一固定裝置222係分別對應第一光源模組21之四行第一光源211而彼此平行設置。於一些實施例中，每一個第一固定裝置222可設置複數個第一反射鏡221，且複數個第一反射鏡221係以階梯狀相間隔地配置於第一固定裝置222上，以避免由第一反射鏡221反射後之第一光束2111彼此間相互干擾。舉例而言，第一光源模組21之複數個第一光源211係排列成六列四行的平面陣列形式，即第一光源模組21之每一行係由六個第一光源211以相等間距排列形成，且每一個第一固定裝置222上設置六面第一反射鏡221，該六面反 射鏡221係以階梯狀相間隔地配置於第一固定裝置222上，以分別對應第一光源模組21之每一行的第一光源211之光軸，藉此將每一個第一光源211所發射出的第一光束2111一對一地經由第一反射鏡221反射，再導送至聚光元件25聚焦。

第一調整機構223係與第一固定裝置222相耦接。於一些實施例中，第一調整機構223係穿設於第一固定裝置222且與第一固定裝置222耦接，利用第一調整機構223可使第一固定裝置222及其所承載之第一反射鏡221可調整地沿第一調整機構223之軸向移動及旋轉，以調整第一反射鏡221相對於第一光源211之光軸位置。於本實施例中，第一調整機構223可為但不限於一軸桿，且第一固定裝置222上之相對應位置設置一軸孔，例如於每一個第一固定裝置222中設置外徑略大於軸桿之軸孔。組裝時，將每一個第一固定裝置222上之第一反射鏡221與每一行第一光源211之光軸對應，並將第一調整機構223對應穿過複數個第一固定裝置222之複數個軸孔，即完成第一反射鏡模組22之組裝。

當第一光源模組21及第一反射鏡模組22之組件設計誤差或組裝時發生偏差而導致經由第一反射鏡221所反射之第一光束2111導送路徑偏移，無法有效導送至聚光元件25聚焦時，藉由第一調整機構223，使第一固定裝置222可沿第一調整機構223之軸向移動及轉動，以平移及轉動調整第一反射鏡221相對於第一光源211之光軸位置，俾使第一反射鏡221反射之第一光束2111導至特定光路上，即導送至聚光元件25。於本實施例中，如第5圖所示，可以第一調整機構223為轉軸，將第一固定裝置222及其所承載之第一反射鏡221沿該第一調整機構223軸轉，以調整第一反射鏡221相對於該第一光源211之光軸之角度，俾使經由該第一反射鏡221反射之第一光束2111可確實導送至聚光元件25聚焦。此外，如第6圖所示，使用者亦可將第一固定裝置222沿第一調整機構223之軸向平移，如箭頭A或箭頭B之方向，俾以調整每一第一固定裝置222上之第一反射鏡221相對於每一行之第一光源211位置。是以，藉由前述之調整機制，使用者可依實際操作上需要，將第一固定裝置222相對於第一調整機構 223旋轉或沿其軸向平移，進而調整第一反射鏡221相對該第一光源211之光軸角度或位置，使得經由第一反射鏡221反射後之第一光束2111可確實集中導送至聚光元件25聚焦，俾使光源利用達到最佳效率，並可避免習知組件或組裝上之誤差造成的能量損耗及光源系統過熱之問題。

請再參閱第4A圖、第4B、第5圖及第6圖，光源系統2更可包括第二光源模組23及第二反射鏡模組24。其中，第二光源模組23係位於殼體27外部且設置於殼體27之另一側，且第一光源模組21與第二光源模組23係設置於殼體27之兩相對側。第二光源模組23包括一個或複數個第二光源231，每一個第二光源231可提供一第二光束(未圖示)，且為避免第二光源231提供之第二光束與第一光源211之第一光束2111相互干擾，每一列之第二光源231係與對向之第一光源211錯位排列，另外，第二光源模組23之第二光源231之數量及排列形式與第一光源模組21之第一光源211相似，於此不再贅述。

第二反射鏡模組24包括至少一第二反射鏡241、至少一第二固定裝置242及一第二調整機構243，且第二反射鏡241係固定於第二固定裝置242，以與第二光源231之光軸相對應，用以反射該第二光束。第二調整機構243係與第二固定裝置242相耦接。於一實施例中，第二調整機構243係對應穿設於第二固定裝置242之軸孔且與第二固定裝置242相耦接。藉由第二調整機構243，第二固定裝置242係可調整地沿第二調整機構243之軸向移動及轉動，以平移及轉動調整第二反射鏡241相對於第二光源231之光軸位置，俾使經由第二反射鏡241反射之第二光束導至聚光元件25。至於第二光源模組23及第二反射鏡模組24之細部結構及調整機制係與第一光源模組21及第一反射鏡模組22之對應結構與調整機制相似，於此不再贅述。

於本實施例中，如第4A圖所示，複數個第一固定裝置222係與複數個第二固定裝置242交錯排列設置，並分別與第一光源模組21之每一行之第一光源211及第二光源模組23之每一行之第二光源231對應設置，藉此每一個第一 光源211所提供之第一光束2111經由對應的第一反射鏡221反射，再導送至聚光元件25聚焦，同時，每一個第二光源231所提供之第二光束亦可經由對應的第二反射鏡241反射，再導送至聚光元件25聚焦。因此，藉由複數個第一固定裝置222與複數個第二固定裝置242之交錯間隔設置，可避免第一光束2111與第二光束之間相互干擾，俾使第一光束2111及第二光束可順利導送聚光元件25聚焦。

此外，於一些實施例中，殼體27包括一側板272，該側板272具有複數個穿孔273。光源系統2更可包括一輔助固定件26，其可為但不限於一桿件，以輔助複數個第一固定裝置222及複數個第二固定裝置242作暫時定位之用。如第4A圖及第4B圖所示，第一調整機構223、第二調整機構243以及輔助固定件26之各端部係可穿設於側板272之對應穿孔273，並外露於側板272之外表面。於此實施例中，每一個第一固定裝置222及第二固定裝置242更可包括一固定孔，且複數個第一固定裝置222之複數個固定孔係與複數個第二固定裝置242之複數個固定孔相對位，藉此使輔助固定件26可穿設於複數個第一固定裝置222之複數個固定孔與複數個第二固定裝置242之複數個固定孔，以輔助複數個第一固定裝置222及複數個第二固定裝置242作暫時定位。當使用者因組件設計誤差而欲調整第一固定裝置222或第二固定裝置242之角度或位置時，可將輔助固定件26抽離出第一固定裝置222及第二固定裝置242外，俾進行前述之調整作業。

綜上所述，本案之光源系統係藉由調整機構之設置，俾以實現平移或轉動調整反射鏡相對於光源之光軸位置，如此一來，經由反射鏡所反射之光束可確實導送至聚光元件聚焦，使得光源系統利用達到最佳效率，同時避免習知光源系統中組件或組裝上的誤差所造成的能量損耗及光源系統過熱之問題。

縱使本發明已由上述實施例詳細敘述而可由熟悉本技藝人士任施匠思而為諸般修飾，然皆不脫如附申請專利範圍所欲保護者。

1‧‧‧光源系統

11‧‧‧第一光源模組

111‧‧‧第一光源

112‧‧‧第一基座

12‧‧‧第一反射鏡模組

121‧‧‧第一反射鏡

1211‧‧‧透光區

1212‧‧‧反射區

122‧‧‧第一固定裝置

123‧‧‧第一調整機構

13‧‧‧第二光源模組

131‧‧‧第二光源

132‧‧‧第二基座

14‧‧‧第二反射鏡模組

141‧‧‧第二反射鏡

142‧‧‧第二固定裝置

143‧‧‧第二調整機構

15‧‧‧聚光元件

16‧‧‧殼體

17‧‧‧承座

18‧‧‧框體

181‧‧‧容置空間

19‧‧‧側板

191‧‧‧穿孔

Claims (14)

1. 一種光源系統，適用於一投影裝置，至少包括：一第一光源模組，包括複數個第一光源，且每一該第一光源提供一第一光束；以及一第一反射鏡組，包括：至少一第一反射鏡，對應設置於該第一光源之一光軸上；至少一第一固定裝置，係固定該第一反射鏡；以及至少一第一調整機構，係與該第一固定裝置相耦接，其中該第一固定裝置可調整地沿該第一調整機構之軸向移動及旋轉，以平移及轉動調整該第一反射鏡相對於該光軸之位置及角度，俾使該第一反射鏡反射之該第一光束導至一特定光路上。如申請專利範圍第1項所述之以熔融沉積成型機構製造立體拖鞋物件之方法，其中該高分子材料係為一線性材料。
2. 如申請範圍第1項所述之光源系統，其更包括：一第二光源模組，設置於該第一光源模組之相對側，且包括複數個第二光源，每一該第二光源提供一第二光束；以及一第二反射鏡模組，包括：至少一第二反射鏡，對應設置於該第二光源之一光軸上；至少一第二固定裝置，係固定該第二反射鏡；以及至少一第二調整機構，係與該第二固定裝置相耦接，其中該第二固定裝置可調整地沿該第二調整機構之軸向移動及旋轉，以平移及轉動調整該第二反射鏡相對於該第二光軸之位置及角度，俾使該第二反射鏡反射之該第二光束導至該特定光路上。
3. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其更包括一聚光元件，其中經由該第一反射鏡反射後之該第一光束以及經由該第二反射鏡反射後之該第二 光束係導至該聚光元件。
4. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其中該複數個第一光源及該複數個第二光源係分別排列成一平面陣列。
5. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其中該第一反射鏡模組之該第一反射鏡之數量係與該第一光源模組之該複數個第一光源所排列之列數相對應，且每一該第一反射鏡間彼此平行且斜向地排列，以分別與該第一光源模組之對應列相對設置，該第二反射鏡模組之該第二反射鏡之數量係與該第二光源模組之該複數個第二光源所排列之列數相對應，且每一該第二反射鏡間彼此平行且斜向地排列，以分別與該第二光源模組之對應列相對設置。
6. 如申請專利範圍第5項所述之光源系統，其中該第一反射鏡包括至少一透光區及至少一反射區，該透光區與該反射區間隔交錯排列，且每一該反射區與每一該第一光源之該光軸相對設置，以及其中該第二反射鏡包括至少一透光區及至少一反射區，該透光區與該反射區間隔交錯排列，且每一該反射區與每一該第二光源之該光軸相對設置。
7. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其中該第一固定裝置係以夾持方式固定該第一反射鏡，且該第二固定裝置係以夾持方式固定該第二反射鏡。
8. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其更包括一殼體，該殼體包括一承座、一框體及一側板，其中該框體具有一容置空間以容設該承座，該承座係承載該第一反射鏡模組及該第二反射鏡模組，該側板係設置於框體上且包括複數個穿孔，其中該第一調整機構及該第二調整機構係部分外露於該側板之一外表面。
9. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其中該第一固定裝置係與該第二固定裝置交錯排列設置，且該第一固定裝置之數量係與該第一光源模組之該複數個第一光源所排列之行數相對應，該第二固定裝置之數量係與該 第二光源模組之該複數個第二光源所排列之行數相對應。
10. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其中該第一調整機構為一軸桿，且每一該第一固定裝置包括一軸孔，該軸桿係對應穿設於每一該第一固定裝置之該軸孔，使每一該第一固定裝置可相對於該第一調整機構軸轉及軸向平移，以及其中該第二調整機構為一軸桿，且每一該第二固定裝置包括一軸孔，該軸桿對應穿設於每一該第二固定裝置之該軸孔，使每一該第二固定裝置可相對於該第二調整機構軸轉及軸向平移。
11. 如申請範圍第2項所述之光源系統，其更包括一輔助固定件，且每一該第一固定裝置與該第二固定裝置包括一固定孔，其中該輔助固定件係可抽拔地穿設於該第一固定裝置及該第二固定裝置之該固定孔。
12. 如申請範圍第11項所述之光源系統，其更包括一殼體，該殼體包括一側板，該側板具有複數個穿孔，其中該第一調整機構、該第二調整機構以及該輔助固定件之各端部係穿設於該側板之該複數個穿孔，且外露於該側板之一外表面。
13. 一種光源系統，適用於一投影裝置，至少包括：一光源，係提供一光束；一反射鏡，對應設置於該光源之一光軸上；一固定裝置，係固定該反射鏡；以及一調整機構，係與該固定裝置相耦接，其中該固定裝置可調整地沿該調整機構之軸向移動及旋轉，以平移及轉動調整該反射鏡相對於該光軸之位置及角度，俾使該反射鏡反射之該光束導至一特定光路上。
14. 如申請範圍第13項所述之光源系統，其更包括一聚光元件，且該反射鏡反射後之該光束係導至該聚光元件。