TWI521310B - 曝光機台 - Google Patents

Description

曝光機台

本發明是有關於一種曝光機台，其曝光分佈範圍係涵蓋基板之曝光範圍，以使基板能夠均勻曝光。

一般而言，液晶顯示器之製程(Liquid-Crystal Display,LCD)通常需經過多次的微影(Photo Lithography)、曝光(Exposing)以及蝕刻(Etching)等製程，液晶顯示器之製程係先在液晶面板的表面上塗佈光阻(Photoresist)，然後再藉由曝光製程以光源照射，使光罩之圖案轉移至塗佈光阻的液晶面板上，以使光阻的化學性質因光源的照射而產生變化。再經由顯影(Development)的步驟以去光阻劑將曝光過的光阻從液晶面板上移除，以形成對應於光罩的線路佈局，進而完成圖案轉移，以便進行後續的蝕刻等製程。

以目前的曝光製程技術而言，半成品的液晶面板通常會經由曝光機台以進行曝光動作，而曝光機台上的輸送機會運送半成品的液晶面板以朝向燈管的方向前進。為了使燈管所發出的光源能均勻地散佈於半成品的液晶面板上，所以燈管的長度必須能涵蓋整個半成品的液晶面板的寬度(係垂直於面板運送方向)。當半成品的液晶面板被輸送至燈管下時，藉此均勻的光源使半成品的液晶面板能順利地進行曝光。

近年來隨著液晶顯示技術發展的進步，液晶面板也朝向製作大尺寸的趨勢前進。如此一來，在進行曝光製程時，勢必燈管也需增長。然而，較長的燈管在製作上的困難度較高，且製造成本也相對的增加。此外，由於燈管所發出的光源是藉由燈管內的氣體結合後所釋放出的紫外線光照射塗佈在燈管內壁的螢光粉，以激發出可見光。所以若當燈管變長時，塗佈在燈管內的螢光粉均勻性會不易控制，使燈管的發光均勻性不佳，進而導致燈管所散發出光的範圍無法涵蓋液晶面板的曝光範圍而造成曝光不均的問題。

鑒於以上的問題，本發明提供一種燈管組，藉以解決先前技術中液晶面板的尺寸增加時而燈管的長度也需增長，不僅增加製造的成本並且使燈管的發光均勻度降低，進而導致燈管的照射範圍無法涵蓋整個液晶面板而造成液晶面板的曝光不均。

本發明係揭露一種燈管組，裝設於一曝光機台上。曝光機台具有一輸送裝置，用以運送一基板沿著一方向至燈管組的位置進行一曝光製程。基板具有平行於方向之一縱長邊界及垂直於方向之一橫寬邊界，並由橫寬邊界定義出一橫寬線及由縱長邊界定義出一縱長線。燈管組包括有沿著橫寬線併列之複數個燈管，且位於橫寬線上之這些燈管所構成之光分佈範圍係涵蓋基板之橫寬邊界的曝光範圍。

本發明的燈管組係利用沿著橫寬線併列的多個燈管所構成的光分佈範圍來涵蓋基板之橫寬邊界的曝光範圍，取代了習知中用於曝光的單一燈管，因此本案相較於習知技術而言，本發明的燈管組具有較佳的曝光均勻性。

以上的關於本發明內容的說明及以下的實施方式的說明係用以示範與解釋本發明的精神與原理，並且提供本發明的專利申請範圍更進一步的解釋。

第1圖及第2圖為根據本發明一實施例的燈管組對基板進行曝光的示意圖。請參閱第1圖及第2圖，本實施例之曝光機台10具有一輸送裝置110，此輸送裝置110用以運送一基板20。燈管組100裝設於曝光機台10上，且該燈管組100設置於該輸送裝置110之上，用以對基板20進行曝光。基板20係為沿著一方向D1輸送至燈管組100之下進行曝光。其中，本發明所揭露之基板20可為玻璃基板、電路板、晶圓等需要進行曝光顯影製程的電子半成品，但並不以此為限。於以下本發明的詳細說明中，將以薄膜電晶體陣列基板(Thin Film Transistor array,TFT array)做為本發明之較佳實施例，然而所附圖式僅提供參考與說明用，並非用以限制本發明的保護範疇。

上述之曝光製程為在基板20的表面均勻塗佈光阻(未繪示)，將基板20透過輸送裝置110運送至燈管組100的位置，以燈管組100的光源照射基板20，使光罩(未繪示)之圖案轉移至塗佈光阻的基板20上，之後再進行後續的蝕刻等製程。此外，由於光阻是光敏感性的化學物質，當光阻接觸特定波長的光時會發生化學變化，而使得光阻受光照射處會分解成可以被顯影劑洗掉的狀態。

基板20具有一縱長邊界22以及一橫寬邊界24。縱長邊界22例如為基板20的長度，橫寬邊界24例如為基板20的寬度，其中縱長邊界22為平行於方向D1，而橫寬邊界24為垂直於方向D1。定義垂直於方向D1之複數條等長且相互平行之橫寬線W1、W2…Wn，和定義平行於方向D1之複數條等長且相互平行之縱長線L1、L2、L3…Lm，其中橫寬線W1、W2…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm相交於複數個交錯點，且該複數交錯點由至少一橫寬線與至少二縱長線所相交，至少一橫寬線垂直於方向D1及至少二縱長線平行於方向D1。該等縱長線L1、L2、L3…Lm係沿平行於該方向D1等分該曝光區，該橫寬線W1、W2…Wn係沿垂直於該方向D1等分該曝光區基板。燈管組100包括複數個燈管120，這些燈管120之中心係設置於橫寬線W1、W2…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm的交錯點，且複數個交錯點上的燈管120範圍係涵蓋基板20的範圍。進一步地說，由於基板20在進行曝光製程時，基板20需要經過燈管組100的照射以進行曝光，若燈管組100的照射範圍不足則可能造成基板20的曝光不均。因此，由複數個燈管120所構成之光分佈範圍需涵蓋整個基板20的曝光範圍，因此每一橫寬線W1、W2…Wn的長度以大於或等於基板20的橫寬邊界24為佳。其中該曝光區域面積等於大於該基板面積。在本實施例中，燈管120是以紫外光或黃光來進行照射。需注意的是，本發明所提的燈管組100是應用於基板20的曝光製程，但並不以此為限定。換言之，燈管組100亦可使用在其他如半導體製程的曝光。

如第2圖與第3圖所示，複數個燈管120為沿著每一橫寬線W1、W2…Wn排列，其中每一複數個燈管120與方向D1夾角為0度。

於另一實施例中，如第4圖所示，複數個燈管120為排列於橫寬線W1、W2、W3、W4…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm之交錯點上，但鄰近於每一具有燈管120之交錯點不具有燈管120，因此複數個燈管120為彼此間隔排列，每一複數個燈管120為垂直於方向D1。

於再一實施例中，如第5圖所繪示，複數個燈管120為排列於橫寬線W1、W2、W3…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm之交錯點上，其中每一燈管120與方向D1夾角為90度，且燈管120的長度小於橫寬線W1、W2、W3…Wn。以複數個燈管之長度小於或等於橫寬線之長度之1/2為佳。如此可減少燈管的長度，即能達到均勻曝光之功效。

於又一實施例，如第6圖所示，複數個燈管120為彼此平行排列於橫寬線W1、W2、W3…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm之交錯點上，每一複數個燈管120與方向D1具有夾角θ，其中夾角θ為0度至90度之間。

於一實施例，如第7圖所示，複數個燈管120為彼此平行排列於橫寬線W1、W2、W3…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm之交錯點上，但鄰近於每一具有燈管120之交錯點不具有燈管120，因此複數個燈管120為彼此間隔排列，每一複數個燈管120與方向D1具有一夾角θ，其中夾角θ為0度至90度之間。

以上數個實施例可根據實際光源照射情況更改每一橫寬線W1、W2、W3…Wn之間距，和每一縱長線L1、L2、L3…Lm之間距，進而使得複數個燈管120之間的距離得以調整，使得基板20曝光能夠均勻。

由上述燈管組100不同的排列型態可知，這些排列於橫寬線W1、W2、W3…Wn和縱長線L1、L2、L3…Lm之交錯點上的複數個燈管120，不論是平行或垂直於方向D1，又或是與輸送方向D1具一夾角θ，複數個燈管120所發出光的分佈範圍皆能涵蓋基板20的曝光範圍，使基板20經由輸送至燈管組100進行曝光時，可以達到均勻的曝光效果。在本實施例中，本發明對於燈管120的排列順序與排列型態並不侷限，在依據本發明的其他實施例中也可以其他實施態樣來表示。

綜上所述，由於本發明的燈管組係利用排列於橫寬線和縱長線之交錯點上的多個燈管所構成的光分佈範圍來涵蓋基板之橫寬邊界的曝光範圍，相較於習知技術而言，本發明改善了習知製作長燈管的困難且具有降低製造成本的優點。此外，由於本發明的燈管組可以多種排列組合型態以構成光的分佈範圍，是以本發明具有較佳的曝光均勻性。

雖然本發明以前述的實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。在不脫離本發明的精神和範圍內，所為的更動與潤飾，均屬本發明的專利保護範圍。關於本發明所界定的保護範圍請參考所附的申請專利範圍。

10．．．曝光機台

20．．．基板

22．．．縱長邊界

24．．．橫寬邊界

100．．．燈管組

110．．．輸送裝置

120．．．燈管

D1．．．方向

W1、W2、W3…Wn．．．橫寬線

L1、L2、L3…Lm．．．縱長線

θ．．．夾角

第1圖為根據本發明一實施例的燈管組對基板進行曝光的立體示意圖；

第2圖為根據本發明一實施例的燈管組對基板進行曝光的平面示意圖；以及

第3圖至第7圖為第1圖之燈管組採用不同排列方式的結構示意圖。

10．．．曝光機台

20．．．基板

22．．．縱長邊界

24．．．橫寬邊界

100．．．燈管組

110．．．輸送裝置

120．．．燈管

D1．．．方向

W1、W2…Wn．．．橫寬線

L1、L2、L3、L4…Lm．．．縱長線

Claims (10)

1. 一種曝光機台，係用於對沿一方向行進之一基板進行曝光，包括：一輸送裝置，沿該方向輸送該基板；以及一燈管組，設置於該輸送裝置之一曝光區上，用以曝光該基板，其中該燈管組具有複數個燈管，每一該等燈管具有一中心點，其中該等燈管之每一該中心點係對應於複數個交錯點之每一該等交錯點所設置，其中該複數交錯點由至少一橫寬線與至少二縱長線所相交，該至少一橫寬線垂直於該方向及該至少二縱長線平行於該方向，該等縱長線係沿平行於該方向等分該曝光區，該橫寬線係沿垂直於該方向等分該曝光區基板，該橫寬線具有可設置至少二個該等燈管之長度，該等複數個燈管分佈範圍係涵蓋該曝光區。
2. 如請求項1所述之曝光機台，其中該曝光區域面積等於大於該基板面積。
3. 如請求項1所述之曝光機台，其中該等燈管係以平行於該方向設置。
4. 如請求項1所述之曝光機台，其中該等燈管係以垂直於該方向設置。
5. 如請求項1所述之曝光機台，其中該等燈管係以與該方向呈一夾角設置。
6. 如請求項1所述之曝光機台，其中該複數個燈管彼此平行排列該等交錯點上。
7. 如請求項1所述之曝光機台，其中位於該等交錯點上所排列之該等燈管的長度係小於該基板的長度。
8. 如請求項5所述之曝光機台，其中該夾角之角度為0度至90度。
9. 如請求項1所述之曝光機台，其中該複數個燈管之長度小於橫寬線之長度。
10. 如請求項1所述之曝光機台，其中該複數個燈管之長度小於或等於橫寬線之長度之1/2。