CN101498900A - 曝光机台 - Google Patents

Abstract

一种曝光机台，用于对沿一方向行进的一基板进行曝光。该曝光机台包括：输送装置，沿该方向输送该基板，灯管组，具有多个灯管，该灯管组设置于该输送装置之上，用以曝光该基板，其中该多个灯管设置于多个交错点，该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线所相交，该至少一横宽线垂直于该方向及该至少二纵长线平行于该方向，所述多个灯管分布范围涵盖该基板。

Description

曝光机台

【技术领域】

本发明是有关于一种曝光机台，其曝光分布范围涵盖基板的曝光范围，以使基板能够均匀曝光。

【背景技术】

一般而言，液晶显示器的制程(Liquid-Crystal Display，LCD)通常需经过多次的微影(Photo Lithography)、曝光(Exposing)以及蚀刻(Etching)等制程，液晶显示器的制程是先在液晶面板的表面上涂布光阻(Photoresist)，然后再通过曝光制程以光源照射，使掩模的图案转移至涂布光阻的液晶面板上，以使光阻的化学性质因光源的照射而产生变化。再经由显影(Development)的步骤以去光阻剂将曝光过的光阻从液晶面板上移除，以形成对应于掩模的线路布局，进而完成图案转移，以便进行后续的蚀刻等制程。

以目前的曝光制程技术而言，半成品的液晶面板通常会经由曝光机台以进行曝光动作，而曝光机台上的输送机会运送半成品的液晶面板以朝向灯管的方向前进。为了使灯管所发出的光源能均匀地散布于半成品的液晶面板上，所以灯管的长度必须能涵盖整个半成品的液晶面板的宽度(是垂直于面板运送方向)。当半成品的液晶面板被输送至灯管下时，藉此均匀的光源使半成品的液晶面板能顺利地进行曝光。

近年来随着液晶显示技术发展的进步，液晶面板也朝向制作大尺寸的趋势前进。如此一来，在进行曝光制程时，势必灯管也需增长。然而，较长的灯管在制作上的困难度较高，且制造成本也相对的增加。此外，由于灯管所发出的光源是通过灯管内的气体结合后所释放出的紫外线光照射涂布在灯管内壁的荧光粉，以激发出可见光。所以若当灯管变长时，涂布在灯管内的荧光粉均匀性会不易控制，使灯管的发光均匀性不佳，进而导致灯管所散发出光的范围无法涵盖液晶面板的曝光范围而造成曝光不均的问题。

【发明内容】

鉴于以上的问题，本发明提供一种灯管组，藉以解决先前技术中液晶面板的尺寸增加时而灯管的长度也需增长，不仅增加制造的成本并且使灯管的发光均匀度降低，进而导致灯管的照射范围无法涵盖整个液晶面板而造成液晶面板的曝光不均。

本发明揭露一种灯管组，装设于一曝光机台上。曝光机台具有一输送装置，用以运送一基板沿着一方向至灯管组的位置进行一曝光制程。基板具有平行于方向的一纵长边界及垂直于方向的一横宽边界，并由横宽边界定义出一横宽线及由纵长边界定义出一纵长线。灯管组包括有沿着横宽线并列的多个灯管，且位于横宽线上的这些灯管所构成的光分布范围涵盖基板的横宽边界的曝光范围。

本发明的灯管组利用沿着横宽线并列的多个灯管所构成的光分布范围来涵盖基板的横宽边界的曝光范围，取代了现有中用于曝光的单一灯管，因此本案相较于现有技术而言，本发明的灯管组具有较佳的曝光均匀性。

以上的关于本发明内容的说明及以下的实施方式的说明用以示范与解释本发明的精神与原理，并且提供本发明的专利申请范围更进一步的解释。

【附图说明】

图1为根据本发明一实施例的灯管组对基板进行曝光的立体示意图；

图2为根据本发明一实施例的灯管组对基板进行曝光的平面示意图；以及

图3至图7为图1的灯管组采用不同排列方式的结构示意图。

【主要组件符号说明】

10.................曝光机台

20.................基板

22.................纵长边界

24.................横宽边界

100................灯管组

110................输送装置

120................灯管

D1.................方向

W1、W2、W3…Wn.....横宽线

L1、L2、L3…Lm.....纵长线

θ..................夹角

【具体实施方式】

图1及图2为根据本发明一实施例的灯管组对基板进行曝光的示意图。请参阅图1及图2，本实施例的曝光机台10具有一输送装置110，此输送装置110用以运送一基板20。灯管组100装设于曝光机台10上，且该灯管组100设置于该输送装置110之上，用以对基板20进行曝光。基板20为沿着一方向D1输送至灯管组100的下进行曝光。其中，本发明所揭露的基板20可为玻璃基板、电路板、晶圆等需要进行曝光显影制程的电子半成品，但并不以此为限。于以下本发明的详细说明中，将以薄膜晶体管数组基板(ThinFilm Transistor array，TFT array)做为本发明的较佳实施例，然而所附图式仅提供参考与说明用，并非用以限制本发明的保护范畴。

上述的曝光制程为在基板20的表面均匀涂布光阻(未绘示)，将基板20透过输送装置110运送至灯管组100的位置，以灯管组100的光源照射基板20，使掩模(未绘示)的图案转移至涂布光阻的基板20上，的后再进行后续的蚀刻等制程。此外，由于光阻是光敏感性的化学物质，当光阻接触特定波长的光时会发生化学变化，而使得光阻受光照射处会分解成可以被显影剂洗掉的状态。

基板20具有一纵长边界22以及一横宽边界24。纵长边界22例如为基板20的长度，横宽边界24例如为基板20的宽度，其中纵长边界22为平行于方向D1，而纵长边界22为垂直于方向D1。定义垂直于方向D1的多条等长且相互平行的横宽线W1、W2…Wn，和定义平行于方向D1的多条等长且相互平行的纵长线L1、L2、L3…Lm，其中横宽线W1、W2…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm相交于多个交错点，且该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线所相交，至少一横宽线垂直于方向D1及至少二纵长线平行于方向D1。所述纵长线L1、L2、L3…Lm沿平行于该方向D1等分该曝光区，该横宽线W1、W2…Wn沿垂直于该方向D1等分该曝光区基板。灯管组100包括多个灯管120，这些灯管120的中心设置于横宽线W1、W2…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm的交错点，且多个交错点上的灯管120范围涵盖基板20的范围。进一步地说，由于基板20在进行曝光制程时，基板20需要经过灯管组100的照射以进行曝光，若灯管组100的照射范围不足则可能造成基板20的曝光不均。因此，由多个灯管120所构成的光分布范围需涵盖整个基板20的曝光范围，因此每一横宽线W1、W2…Wn的长度以大于或等于基板20的横宽边界24为佳。其中该曝光区域面积等于大于该基板面积。在本实施例中，灯管120是以紫外光或黄光来进行照射。需注意的是，本发明所提的灯管组100是应用于基板20的曝光制程，但并不以此为限定。换言之，灯管组100亦可使用在其它如半导体制程的曝光。

如图2与图3所示，多个灯管120为沿着每一横宽线W1、W2…Wn排列，其中每一多个灯管120与方向D1夹角为0度。

于另一实施例中，如图4所示，多个灯管120为排列于横宽线W1、W2、W3、W4…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm的交错点上，但邻近于每一具有灯管120的交错点不具有灯管120，因此多个灯管120为彼此间隔排列，每一多个灯管120为垂直于方向D1。

于再一实施例中，如图5所绘示，多个灯管120为排列于横宽线W1、W2、W3…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm的交错点上，其中每一灯管120与方向D1夹角为90度，且灯管120的长度小于横宽线W1、W2、W3…Wn。以多个灯管的长度小于或等于横宽线的长度的1/2为佳。如此可减少灯管的长度，即能达到均匀曝光的功效。

于又一实施例，如图6所示，多个灯管120为彼此平行排列于横宽线W1、W2、W3…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm的交错点上，每一多个灯管120与方向D1具有夹角θ，其中夹角θ为0度至90度之间。

于一实施例，如图7所示，多个灯管120为彼此平行排列于横宽线W1、W2、W3…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm的交错点上，但邻近于每一具有灯管120的交错点不具有灯管120，因此多个灯管120为彼此间隔排列，每一多个灯管120与方向D1具有一夹角θ，其中夹角θ为0度至90度之间。

以上数个实施例可根据实际光源照射情况更改每一横宽线W1、W2、W3…Wn之间距，和每一纵长线L1、L2、L3…Lm的间距，进而使得多个灯管120之间的距离得以调整，使得基板20曝光能够均匀。

由上述灯管组100不同的排列型态可知，这些排列于横宽线W1、W2、W3…Wn和纵长线L1、L2、L3…Lm的交错点上的多个灯管120，不论是平行或垂直于方向D1，又或是与输送方向D1具一夹角θ，多个灯管120所发出光的分布范围皆能涵盖基板20的曝光范围，使基板20经由输送至灯管组100进行曝光时，可以达到均匀的曝光效果。在本实施例中，本发明对于灯管120的排列顺序与排列型态并不局限，在依据本发明的其它实施例中也可以其它实施态样来表示。

综上所述，由于本发明的灯管组利用排列于横宽线和纵长线的交错点上的多个灯管所构成的光分布范围来涵盖基板的横宽边界的曝光范围，相较于现有技术而言，本发明改善了习知制作长灯管的困难且具有降低制造成本的优点。此外，由于本发明的灯管组可以多种排列组合型态以构成光的分布范围，是以本发明具有较佳的曝光均匀性。

虽然本发明以前述的实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明。在不脱离本发明的精神和范围内，所为的更动与润饰，均属本发明的专利保护范围。关于本发明所界定的保护范围请参考所附的申请专利范围。

Claims (12)

1.一种曝光机台，是用于对沿一方向行进的一基板进行曝光，包括：

一输送装置，沿该方向输送该基板；以及

一灯管组，设置于该输送装置的一曝光区上，用以曝光该基板，其中该灯管组具有多个灯管，每一所述灯管具有一中心点，其中所述灯管的每一该中心点对应于每一所述交错点所设置，其中该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线所相交，该至少一横宽线垂直于该方向及该至少二纵长线平行于该方向，所述多个灯管分布范围涵盖该曝光区。

2.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，所述纵长线沿平行于该方向等分该曝光区。

3.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，该横宽线沿垂直于该方向等分该曝光区基板。

4.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，该曝光区域面积等于大于该基板面积。

5.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，所述灯管以平行于该方向设置。

6.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，所述灯管以垂直于该方向设置。

7.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，所述灯管以与该方向呈一夹角设置。

8.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，该多个灯管彼此平行排列所述交错点上。

9.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，位于所述交错点上所排列的所述灯管的长度小于该基板的长度。

10.根据权利要求7所述的曝光机台，其特征在于，该夹角的角度为0度至90度。

11.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，该多个灯管的长度小于横宽线的长度。

12.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，该多个灯管的长度小于或等于横宽线的长度的1/2。

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