TWI512067B - 黏著劑層及黏著膜 - Google Patents

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Ryo Hasegawa
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Description

黏著劑層及黏著膜
本發明涉及一種用於光學構件的層間貼合等的黏著劑層及使用該黏著劑層的黏著膜，該黏著劑層雖然是厚度1μm~20μm的薄膜，但具有高黏著力和高附著性。
為了藉由黏著劑層將偏光板、相位差板等光學構件貼合在液晶單元等被黏附體上，提出了各種黏著膜(例如，參照專利文獻1~2)。
專利文獻1中記載了一種將丙烯酸丁酯等作為主要成分的單體，並含有丙烯醯胺化合物等的光學用黏著劑組合物。
專利文獻2中記載了一種將具有碳原子數為4~8的烷基的(甲基)丙烯酸酯作為主要成分單體，並含有含羧基的單體及含氮的乙烯基單體的光學用黏著劑組合物。
另外，為了提高黏著劑層的折射率，經過反復研究提出了多種黏著膜(例如，參照專利文獻3~8)。
專利文獻3中記載了一種具有芳環並含有折射率為1.51~1.75的增黏劑的光學用黏著劑組合物。
專利文獻4中記載了一種使用了含共聚性聚合物的黏著劑組合物的黏著片，該共聚性聚合物是含芳環的丙烯酸改性單體的共聚性聚合物。
專利文獻5中記載了一種含有具有芳環的增黏樹脂和芳香族磷酸酯類增塑劑的光學用黏著劑組合物。
專利文獻6中記載了一種由黏著劑組合物固化而成的黏著劑，該黏著劑組合物包括：丙烯酸類樹脂；以及含一個乙烯性不飽和基團的芳香族化合物。
專利文獻7中記載了一種藉由含芳香族單體的丙烯酸類黏著劑將相位差膜和雙折射板相互固定而成的光學元件。
專利文獻8中記載了一種含有聚胺酯樹脂的黏著劑組合物，該聚胺酯樹脂是使芳香族二異氰酸酯和芳香族聚酯二醇反應而成。
近年來，為了實現光學構件的薄膜化，要求用於光學構件的層間貼合的黏著膜是黏著劑層為厚度20μm以下薄層的黏著膜。
通常，黏著劑層的黏著力與黏著劑層的厚度大致成比例，因此，如果將黏著劑層的厚度變薄，隨之會降低黏著力。
但是，近年來要求黏著膜具有如下性能：即使將黏著劑層的厚度變薄，也具有與以往的黏著膜(黏著劑層是厚度約為30μm的厚層)同等的黏著力，並且對於高溫、高濕環境下長時間放置後的耐久性，也具有與以往的黏著膜同等以上的性能。
另外，從能夠將黏著劑層的厚度變薄並能夠形成無需實施時效處理(在恆溫下實施熟化)的黏著劑層的觀點出發，要求形成為NCF(Non Carrier Film，非承載膜)的形態，其具有包括去掉了黏著膜的基材後的黏著劑層的、“脫模膜/黏著劑層/脫模膜”的構件構成。
此外，在以往的黏著膜中，由於在被黏附體上貼合黏著膜後實施時效處理，因此，能夠提高被黏附體和黏著劑層之間的附著性。
但是，採用NCF形態的黏著膜已經完成了黏著劑層的時效處理，因此被黏附體與黏著劑層之間的附著性不足。基於此，存在需要對被黏附體的表面進行電暈處理等表面處理的問題。
因此需要一種滿足這些要求和克服這些問題的黏著膜。
此外，在以往的黏著膜中，若將黏著劑層的厚度製成20μm以下的薄膜 ，必然會使黏著力下降，因此，作為提高黏著劑層的黏著力的方法，不得不使含羧基的單體及其共聚物進行共聚，由此得到凝聚力得以提高的黏著劑組合物和黏著劑層。但是，在將含羧基的單體及其共聚物進行共聚而提高了黏著力的黏著劑層中，即使將厚度降為20μm以下的薄膜，由於因羧基帶來的腐蝕性，無法貼合在使用了ITO的透明導電膜的ITO表面等受腐蝕性影響的被黏附體上。
本案發明人對這些問題進行了精心的研究，結果獲得了在不使用含羧基的單體及其共聚物的情況下，即使將黏著劑層製成厚度20μm以下的薄膜，也能夠得到高黏著力的黏著劑層。
【先前技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開2012-177022號公報
【專利文獻2】日本特開2012-201734號公報
【專利文獻3】日本特開2007-084762號公報
【專利文獻4】日本特開2011-153169號公報
【專利文獻5】日本特開2012-167188號公報
【專利文獻6】日本特開2012-021148號公報
【專利文獻7】日本特開2006-293281號公報
【專利文獻8】日本特開2009-091522號公報
本發明是鑒於上述事情而完成的發明，其課題在於，提供一種雖然是厚度為1μm~20μm的薄膜，但具有高黏著力和高附著性的黏著劑層及使用該黏著劑層的黏著膜。
為了解決上述課題，本發明將以下作為技術思想：在使包括丙烯酸類 聚合物的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層中，將烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種作為主要成分的單體，並含有作為其他共聚合性單體之可共聚的含氮乙烯基單體中的至少一種以上，藉由共聚和交聯形成具有堅韌的黏著力和高附著性的黏著劑層。
此外，為了解決上述課題，本發明提供一種黏著劑層，其是使包括丙烯酸類聚合物的黏著劑組合物交聯而成，其中，該黏著劑層的厚度為1μm~20μm，厚度5μm時的黏著力為4.0(N/25mm)以上。
此外，較佳為該黏著劑組合物含有作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體之烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上，並作為其他共聚合性單體含有含氮的乙烯基單體中的至少一種以上，並且，相對於該作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份，含氮的乙烯基單體的含量為5~50重量份。
此外，較佳為該黏著劑組合物，作為該其他共聚合性單體還含有含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上。
此外，較佳為該黏著劑組合物包括：相對於含有(A)烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份，含有5~50重量份的(B)含氮的乙烯基單體中的一種以上和0.1~5重量份的(C)含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上的重均分子量為20萬~200萬的共聚物；以及0.01~5重量份的(D)交聯劑。
此外，該黏著劑層的折射率較佳為1.47~1.50。
此外，本發明提供一種在脫模膜的單面形成有該黏著劑層並具有脫模膜/黏著劑層/脫模膜的構成的黏著膜。
此外，本發明提供一種在基材的單面層疊上述黏著劑層而成的黏著膜。
此外，本發明提供一種使用了上述黏著膜的偏光板週邊構件用膜。
此外，本發明提供一種使用了上述黏著膜的觸控面板用膜。
此外，本發明提供一種使用了上述黏著膜的電子紙用膜。
此外，本發明提供一種使用了上述黏著膜的有機EL(Electro-Luminescence)用膜。
此外，本發明提供一種在光學膜的至少一個面上層疊上述黏著劑層而成的帶有黏著劑層的光學膜。
根據本發明，能夠滿足以往技術中的要求事項以及克服以往技術中存在的問題，能夠提供一種雖然是厚度1μm~20μm薄膜，但具有高黏著力、高附著性的黏著劑層及使用該黏著劑層的黏著膜。
下面，根據較佳實施方式對本發明進行說明。
本發明的黏著劑層是使包括丙烯酸類聚合物的黏著劑組合物交聯而成，其中，該黏著劑層的厚度為1μm~20μm，厚度5μm時的黏著力為4.0(N/25mm)以上。
較佳為本發明的黏著劑組合物，含有作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單 體之烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上。
作為烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體，可以舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯等中的至少一種以上。(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的烷基可以是直鏈、支鏈、環狀中的任意一種。相對於黏合劑組合物的丙烯酸類聚合物(共聚物)100重量份，烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸酯單體的比例較佳為50~95重量份。
此外，在本發明的黏著劑層中，對黏著劑組合物而言，在由烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的一種以上組成的主要成分即(甲基)丙烯酸酯單體100重量份內，含有20重量份以上的丙烯酸甲酯的單體，由此，能夠將黏著劑層的折射率提高為1.47以上。
本發明的黏著劑組合物中，作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，還可以含有含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體中的一種以上。作為含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體，可以舉出(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧丁酯、(甲基)丙烯酸2-(1-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸6-(1-萘氧基)己酯、(甲基)丙烯酸6-(2-萘氧基)己酯、(甲基)丙烯酸8-(1-萘氧基)辛酯、(甲基)丙烯酸8-(2-萘氧基)辛酯等。為了得到折射率高的黏著劑層，較佳為配合至少一種以上的含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體。
藉由將這些含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體與作為主要成分的單體即烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體加以混合，能夠使所得到的黏著劑層的折射率提高而進行調整，減小光學構件間的折射率差，降低 全反射，由此能夠提高全光線透過率。在本發明的黏著劑層中，當黏著劑組合物含有含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體的情況下，其含量相對於作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份，較佳為5~30重量份。
此外，藉由使含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體共聚，具有比在上述主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份內含有20重量份以上的丙烯酸甲酯單體來提高黏著劑層的折射率，能夠進一步提高黏著劑層的折射率的效果。
此外，如上所述，作為提高黏著劑層的折射率的方法有兩種方法，即，在作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份內含有20重量份以上的丙烯酸甲酯單體的方法和使含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體共聚的方法，可以單獨地採用每個方法，但更較佳為並用這兩種方法。
在本發明的黏著劑組合物中，作為其他共聚合性單體，較佳為含有含氮的乙烯基單體中的至少一種以上。
作為含氮的乙烯基單體，例如可以舉出N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺、(甲基)丙烯醯啉等環狀氮乙烯基化合物；N-乙基-N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丁基(甲基)丙烯醯胺等二烷基取代(甲基)丙烯醯胺；(甲基)丙烯酸N-乙基-N-甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N-甲基-N-丙基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N-甲基-N-異丙基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺甲酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺丁酯、(甲基)丙烯酸N,N-二丙基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸二烷基胺酯；N-乙基-N-甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-丙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-異丙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺乙基(甲基)丙烯醯胺等二烷基取代胺基烷基(甲基)丙烯醯胺等中的至少一種以上。
為了能夠與後述(C)的化合物區別，作為上述含氮的乙烯基單體，較佳 為不含有羥基，更較佳為不含有羥基和羧基。作為這種單體，較佳為上述例示的單體，例如，含有N,N-二烷基取代胺基或N,N-二烷基取代醯胺基的丙烯酸類單體；N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺等N-乙烯基取代內醯胺類；N-(甲基)丙烯醯啉等N-(甲基)丙烯醯基取代環狀胺類。
此外，在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物所含有的含氮的乙烯基單體，能夠賦予黏著劑層必要的黏著力和耐久性。在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物中含有的含氮乙烯基單體的含量相對於主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份較佳為5~50重量份。
此外，在本發明的黏著劑層中，作為黏著劑組合物含有的含氮的乙烯基單體，特別較佳為使用N-乙烯基吡咯烷酮、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丁基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基己內醯胺等。
在本發明的黏著劑組合物中，作為其他共聚合性單體，較佳為還含有含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上。
作為含羥基的共聚合性乙烯基單體(含羥基的單體)，例如可以舉出(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類，N-羥基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等含羥基的(甲基)丙烯醯胺類等中的至少一種以上。
此外，在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物含有的含羥基的單體是作為用於減少含羧基的單體含量的共聚合性單體來使用，該含羧基的單體能夠使所得到的黏著劑層對透明導電性膜的ITO表面等易腐蝕的被黏附體的腐蝕性產生影響。因此，含羥基的單體能夠有助於提高黏著劑層的黏著力，並且有助於減少腐蝕性。在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物中含有的含羥基的單體的含量相對於主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份較佳為0.1~5重量份。
對用於本發明黏著劑層的黏著劑組合物的共聚物而言，相對於100重量份(A)作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較佳為含有5~50重量份的(B)含氮的乙烯基單體中的一種以上和0.1~5重量份的(C)含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上，該(A)作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體是烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上。
在上述本發明中使用的黏著劑組合物，還可以含有含芳基的乙烯基單體中的一種以上。含芳基的乙烯基單體是在結構中含有芳基的單體，例如可以舉出(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄基酯等(甲基)丙烯酸酯單體或苯乙烯、α-甲基苯乙烯等。藉由使這些含芳基的乙烯基單體共聚，能夠提高所形成的黏著劑層的折射率來進行調整，並減小光學構件間的折射率差而降低全反射，由此能夠提高全光線透過率。在使用含芳基的乙烯基單體的情況下，在作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份內，較佳為含有5~30重量份含芳基的乙烯基單體。
對共聚物的聚合方法沒有特別的限定，可以使用溶液聚合法、乳液聚合法等適宜的公知的聚合方法。共聚物的重均分子量較佳為20萬~200萬。
上述共聚物較佳為丙烯酸類聚合物，較佳為含有(甲基)丙烯酸酯單體或(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯醯胺類等丙烯酸類單體50~100重量%。
在上述黏著劑組合物中，藉由對上述共聚物配合交聯劑、適宜的任意添加劑，能夠調整所需的物理性質等特性。
作為交聯劑，例如可以舉出六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等二異氰酸酯類的縮二脲改性體或異氰脲酸酯改性體；與三羥甲基丙烷或甘油等三價以上的多元醇的加成物等的聚異氰酸酯化合物；金屬類螯合物；環氧化合物等中的至少一種以上。此外，也可以藉由紫外線等光交聯來使黏著劑進行交聯。
在使用交聯劑來使共聚物交聯的情況下，較佳為共聚物具有能夠與交聯劑進行交聯反應的官能團(根據交聯劑的種類可以選擇羥基或羧基等)，而 且較佳為含有在側鏈具有這些官能團的單體。此外，較佳為黏著劑組合物含有0.01~5重量份的(D)交聯劑。此外，重量份的基準與上述共聚物中的(A)至(C)相同。
作為其他任意成分，可以適宜地配合矽烷偶聯劑、抗氧化劑、表面活性劑、固化促進劑、增塑劑、填充劑、交聯催化劑、交聯抑制劑、固化抑制劑、加工助劑、防老化劑等公知的添加劑。這些添加劑可以單獨使用或並用兩種以上使用。
本發明的黏著劑層可以藉由在基材或脫模膜上塗布上述黏著劑組合物後，使黏著劑組合物交聯而得到。
希望用於光學構件的層間貼合的黏著劑層是薄的黏著劑層，較佳為上述黏著劑層的厚度為1μm~20μm。而且，通常黏著劑層的黏著力與黏著劑層的厚度大致成比例，但較佳為厚度5μm時的黏著力為4.0(N/25mm)以上。此外，當黏著劑層的厚度不為5μm的情況下，“厚度5μm時的黏著力”(N/25mm)可將黏著劑層的厚度記為T(μm)、將黏著劑層的黏著力記為F(N/25mm)，並藉由算式“(厚度5μm時的黏著力)=5F/T”來推算。
當將本發明的黏著劑層用於光學構件的層間貼合等的情況下，為了減少黏著劑層與光學構件的介面上的光線的反射，希望折射率差儘可能小。因此，上述黏著劑層的折射率較佳為1.47~1.50。
本發明的黏著膜可藉由在基材或脫模膜的單面形成本發明的黏著劑層來製備。
作為用於形成黏著劑層的基材膜或保護黏著面的脫模膜(隔膜)，可以使用聚酯膜等樹脂膜等。
對基材膜而言，可在樹脂膜的與形成有黏著劑層一側相反的面上，實施藉由矽酮類、氟類的脫模劑或塗層劑、二氧化矽微粒等進行的防污處理，可實施藉由抗靜電劑的塗布或混入等進行的抗靜電處理。
對剝離膜而言，在與黏著劑層的黏著面進行貼合一側的面上，實施藉由矽酮類、氟類的脫模劑等進行的脫模處理。
藉由在一個黏著劑層的兩面分別貼合脫模膜的實施了脫模處理的面，能夠形成“脫模膜/黏著劑層/脫模膜”的構成。在此情況下，藉由將兩側的脫模膜依次或同時剝離而露出黏著面，從而能夠與光學膜等光學構件貼合。作為光學膜，可以舉出偏光膜、相位差膜、防反射膜、防眩(防閃光)膜、紫外線吸收膜、紅外線吸收膜、光學補償膜、亮度提高膜等。
本發明的黏著膜可用於以偏光板為主的液晶顯示器的週邊構件用各種光學膜、觸控面板用各種光學膜、電子紙用各種光學膜、有機EL用各種光學膜等的貼合中。
另外，可在這些光學膜的至少單面上層疊上述黏著劑層而製備帶有黏著劑層的光學膜。具體地，可以舉出“光學膜/黏著劑層/光學膜”、“光學膜/黏著劑層/脫模膜”、“光學膜/黏著劑層”、“光學膜/黏著劑層/光學膜/黏著劑層/光學膜”、“光學膜/黏著劑層/光學膜/黏著劑層/脫模膜”、“脫模膜/黏著劑層/光學膜/黏著劑層/脫模膜”等構成。
例如，如“光學膜/黏著劑層/脫模膜”，在具有由脫模膜保護的黏著劑層的情況下，藉由剝掉脫模膜而露出像“光學膜/黏著劑層”那樣的黏著劑層，並與其他光學膜進行貼合，能夠得到將黏著劑層用於層間貼合的如“光學膜/黏著劑層/光學膜”的構成。
【實施例】
下面藉由實施例具體說明本發明。
<丙烯酸共聚物的製備>
[實施例1]
向具有攪拌機、溫度計、回流冷凝器及氮導入管的反應裝置中導入氮氣，從而將反應器內的空氣置換為氮氣。之後，向反應裝置內加入丙烯酸丁酯60重量份、丙烯酸甲酯40重量份、N-甲基吡咯烷酮10重量份、丙烯酸-6-羥己酯2.0重量份及溶劑(乙酸乙酯)60重量份。之後，經過2小時滴入0.1重量 份的作為聚合引發劑的偶氮二異丁腈，在65℃下使其反應6小時，得到了重均分子量為50萬的、用於實施例1的丙烯酸共聚物溶液1。取丙烯酸共聚物的一部分，用作後述的酸值測定試樣。
[實施例2~6及比較例1~3]
除了如表1的(A)、(B)、(C)、(C’)中該地分別調整了各單體的組成以外，與上述用於實施例1的丙烯酸共聚物溶液1同樣地進行操作，得到了用於實施例2~6及比較例1~3的丙烯酸共聚物溶液。在此，雖沒有特別示出測定結果，但實施例2~6及比較例1~3的丙烯酸共聚物溶液中含有的共聚物的重均分子量在20萬~200萬的範圍內。
<黏著劑組合物、黏著劑層及黏著膜的製備>
[實施例1]
在如上述製備的實施例1的丙烯酸共聚物溶液1中加入Coronate L-45(甲苯二異氰酸酯(TDI)化合物的加成物)0.5重量份並進行攪拌混合，得到了實施例1的黏著劑組合物。將該黏著劑組合物塗布於由塗有矽酮樹脂的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜構成的剝離膜上，然後在90℃下進行乾燥而去除溶劑。之後，藉由在23℃、50%RH的環境下實施7天的時效處理，獲得了在剝離膜的單面具有黏著劑層的實施例1的黏著膜，該黏著劑層是使黏著劑組合物交聯而成。
[實施例2~6及比較例1~3]
除了如表1的(D)該地分別調整了添加劑的組成以外，與上述實施例1的黏著膜同樣地進行操作，得到了實施例2~6及比較例1~3的黏著膜。
表1中，括弧內的數值表示以(A)組的合計重量設為100重量份而求出的(B)組~(D)組的重量份的數值。
另外，將與表1中使用的各成分的簡稱對應的化合物名稱示於表2中。 在此，Coronate(註冊商標)L-45、及Coronate HL為日本聚胺酯工業(股)公司的商品名稱，D-110N為三井化學(股)公司的商品名稱。TDI指甲苯二異氰酸酯，XDI指苯二甲基二異氰酸酯，HDI指六亞甲基二異氰酸酯。
<試驗方法及評價>
從實施例1~6和比較例1~3的黏著膜剝掉剝離膜(塗有矽酮樹脂的PET膜)而露出黏著劑層，並將黏著劑層轉移至偏光板(膜)的單面上。
<黏著力的測定方法>
將黏著劑層轉移至厚度180μm的偏光板(膜)的單面，從而得到了作為試 樣的黏著膜(帶有黏著劑層的光學膜)。
用壓緊輥將該黏著膜貼合在用丙酮清洗過的鈉鈣玻璃的非錫面上。之後，在50℃、0.5MPa×20分鐘的條件下進行高壓鍋處理後，回到23℃×50%RH的環境，藉由拉伸試驗機測定經過1小時後的黏著膜的剝離強度。根據JIS Z0237《黏著帶、黏著片試驗方法》進行測定，將以300mm/min的速度向180°方向剝離時的剝離強度作為黏著膜的黏著劑層的黏著力。
<附著性的試驗方法>
用目視確認測定黏著力後的試樣的黏著膜的黏著劑層，並以從基材層的偏光板(膜)脫落的狀態，判斷其附著性。
○‧‧黏著劑層完全没有從基材層脫落。
△‧‧黏著劑層的一部分從基材層分離而脫落。
×‧‧黏著劑層從基材層脫落而附著在被黏附體的玻璃上。
<耐久性的試驗方法>
將藉由與黏著力的測定同樣的方法製備的10cm見方的黏著膜，用同樣的方法貼合在鈉鈣玻璃的非錫面上，從而獲得了試樣。將該試樣放置在60℃×90%RH的環境下250小時後，取出至23℃×50%RH的環境，用目視觀察1小時後的黏著膜的狀態，從而判斷耐久性。
○‧‧黏著膜完全没有產生剝離及發泡。
△‧‧黏著膜的一部分產生了剝離及發泡。
×‧‧黏著膜的整體產生了剝離及發泡。
<折射率的測定方法>
用阿貝折射儀(製造商：ERMA，型號：ER-2S)測定23℃下的黏著劑層的折射率。
<ITO腐蝕性試驗>
在ITO膜的表面貼合黏著劑層，在85℃、90%RH的環境下放置1000小時後，測定ITO膜的表面電阻。將貼合前的ITO膜的表面電阻值記為初期值， 計算出表面電阻的變化率。
○‧‧表面電阻的變化率小於2%。
△‧‧表面電阻的變化率為2%以上且小於5%。
×‧‧表面電阻的變化率為5%以上。
表3中示出了評價結果。
在實施例1~6的黏著膜中，厚度5μm的黏著劑層的黏著力為4.0N/25mm以上、黏著劑層的折射率在1.47~1.50的範圍內、並且附著性及耐久性也優異。即，實施例1~6的黏著膜能夠滿足所需要求及克服問題。
比較例1的黏著膜也許是因為黏著劑組合物中不含有含氮的單體，其厚度5μm的黏著劑層的黏著力弱。另外，黏著劑層的折射率低，附著性及耐久性也差。而且，由於在黏著劑組合物中含有含羧基的共聚合性乙烯基單體，因此，在ITO腐蝕性上稍差。
比較例2的黏著膜也許是因為黏著劑組合物中含羧基的共聚合性乙烯基單體的配合量過多，厚度5μm的黏著劑層的黏著力弱，在ITO腐蝕性上稍差。而且，黏著劑層的折射率低、附著性及耐久性也稍差。
比較例3的黏著膜也許是因為黏著劑組合物中含羥基的共聚合性乙烯基單體的配合量過多，厚度5μm的黏著劑層的黏著力弱。而且，黏著劑層的折射率低、附著性及耐久性也差。
如此的，比較例1~3的黏著膜不能滿足以往所需要求及克服以往的問題。

Claims (10)

  1. 一種黏著劑層，其是使由丙烯酸類聚合物所構成的黏著劑組合物交聯而成，其中，該丙烯酸類聚合物是由以下共聚合而成之共聚物所構成：(A)含有烷基的碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體的至少一種以上作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份，(B)含氮的乙烯基單體的一種以上5~50重量份，以及(C)含羥基的共聚合性乙烯基單體的至少一種以上0.1~5重量份，該黏著劑層的厚度為1μm~20μm，厚度5μm時的黏著力為4.0N/25mm以上。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著劑層，其中，該黏著劑組合物更包括：相對於上述主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體100重量份，含有0.01~5重量份的(D)交聯劑，上述丙烯酸類聚合物為重均分子量20萬~200萬的共聚物。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑層，其中，該黏著劑層的折射率為1.47~1.50。
  4. 一種黏著膜，其在脫模膜的單面形成如申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑層而成，並依序以脫模膜、黏著劑層、及脫模膜構成而成。
  5. 一種黏著膜，其在基材的單面上層疊如申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑層而成。
  6. 一種偏光板的週邊構件用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  7. 一種觸控面板用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  8. 一種電子紙用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  9. 一種有機EL用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  10. 一種帶有黏著劑層的光學膜，其在光學膜的至少一個面上層疊如申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑層而成。
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