TWI504030B - A co-fired ceramic substrate having a built-in heat radiating portion, and a light emitting diode having the substrate - Google Patents

Description

具內建散熱部的共燒陶瓷基板及具該基板的發光二極體

本發明是關於一種共燒陶瓷基板，尤其是一種具內建散熱部的共燒陶瓷基板及具該基板的發光二極體。

目前發光二極體(LED)已相當普及，不僅體積小、反應時間快、使用壽命長、亮度不易衰減、且耐震動，因此LED元件漸漸取代包括顯示器背光光源、照相機閃光燈、交通號誌、車頭及車尾燈，甚至逐漸進入一般照明市場。然而，隨著高功率LED照明設備的應用發展，大電流所伴隨的高熱問題，絕非目前一般印刷電路板材料或半導體基板所能承受，故成為眾所矚目的議題。為能承受高亮度LED所發的大量熱能，業界多選擇耐高溫的陶瓷基板作為LED晶粒的承載件，為將基板與用以致能LED晶粒的電路結合，一般可選擇低溫共燒多層陶瓷(LTCC)或高溫共燒多層陶瓷(HTCC)基板。由於所謂共燒製程，就是將電路或內埋散熱柱與陶瓷基板共同燒結，因此無論是千度以上的高溫、或千度以下的低溫燒結，都可以製成具有散熱結構與電路的陶瓷基板。

一種LTCC的製程，是先將例如無機的氧化鋁粉與約30%~50%的玻璃材料加上有機黏結劑，使其混合均勻成為泥狀的漿料，接著利用刮刀把漿料刮成片狀，再經由一道乾燥過程將片狀漿料形成一片生胚，然後於生胚上鑽出導通孔，再分別於導通孔內注入金屬料材填孔，並於生胚表面印製金屬線路，最後放置於850~900℃的燒結爐中燒結成型，導通孔內所注入的漿料形成為內建散熱部，以作為傳遞能量或訊號、及導熱之用。HTCC製造過程與LTCC極為相似，主要差異點在陶瓷粉末並未加入玻璃材質，故在製成上必須以高溫1300~1600℃的環境乾燥硬化成生胚，接著同樣鑽導通孔，並進行填孔、及以網版印刷技術印製金屬線路。

因此，共燒陶瓷基板可在陶瓷散熱基板內埋設線路或內埋散熱柱；但在燒結過程中，由於陶瓷材料本身無法絕對均勻、受熱狀態亦無法絕對均勻，因此在批次的大量生產作業時，即使是同一批生產製造的多片共燒陶瓷基板，仍會因為膨脹與收縮比例不同，導致各基板間的尺寸不一、佈線或內埋散熱柱彼此累進公差過大等問題，令成形於基板表面的電路接點在對位上不精準，而且在基板外表面印製線路的方式，同樣受限於共燒製程而使得電路在厚度以及厚度方向上的精準度都受到限制，此種精度不佳的問題，嚴重地阻撓電路元件微型化的趨勢。

因此，若能確保LTCC或HTCC陶瓷散熱基板所包含的電路與內埋散熱柱等結構的累進公差被控制更精準的範圍內，一方面讓所有設置在該基板上的元件能夠更加精準對位，除可提昇產品良率，還將提供進一步微型化的契機；另方面，若佈局電路時，可以精準控制電路的位置與厚度，不僅增加佈局彈性，更可以進一步利用金屬電路本身作為導熱途徑，提升整體基板導熱能力，從而從容因應例如高亮度LED等高發熱元件的需求，避免大量的熱能累積，讓利用此種基板的高亮度LED，可以有更高的散熱效率，成為具有絕佳產品競爭力的解決方案。

本發明之一目的在提供一種電路佈局精度良好之形成有內建散熱部的共燒陶瓷基板，藉以提昇組裝良率。

本發明另一目的在提供一種散熱效率絕佳之形成有內建散熱部的共燒陶瓷基板。

本發明再一目的在提供一種電路佈局具有高度彈性之形成有內建散熱部的共燒陶瓷基板，藉以因應電路元件微型化的趨勢潮流。

本發明又一目的在提供一種可以批次製造之形成有內建散熱部的共燒陶瓷基板，讓製程可以自動化，不僅元件品質易於管控，產品也更具有市場競爭力。

本發明又另一目的在提供一種散熱效率絕佳的發光二極體，藉以確保使用過程中，發光二極體的光強度不輕易劣化，提供良好的發光能力；並且延長整體使用壽命。

本發明又再一目的在提供一種電路佈局精準、使產品可進一步微小化的發光二極體。

本發明所揭露的一種具內建散熱部的共燒陶瓷基板，是供設置至少一個發熱的電路元件，該共燒陶瓷基板包含：一片具有兩個絕緣表面、其中佈局有內部線路、及形成至少一個容置部的基材，該容置部是由前述二表面中，供設置該發熱電路元件之表面凹陷形成；至少一個填充於前述容置部的內建散熱部；至少形成於前述內建散熱部上、並暴露於該基材之供設置該發熱電路元件表面上的中介層；及一個形成於該中介層上、供前述電路元件設置的電路。

進一步應用上述基板，本發明揭露一種發光二極體，包含：至少一個具有二致能端部的發光二極體晶粒；及一片具內建散熱部的共燒陶瓷基板，包括：一片具有兩個絕緣表面、其中佈局有內部線路、及形成至少一個容置部的基材，該容置部是由前述二表面中，供設置該發熱電路元件之表面凹陷形成；至少一個填充於前述容置部的內建散熱部；至少形成於前述內建散熱部上、並暴露於該基材之供設置該發熱電路元件表面上的中介層；及一個形成於該中介層上、供前述電路元件設置的電路。

由於在內建散熱部與陶瓷材料共同燒結後，讓內建散熱部暴露於陶瓷基材供設置該發熱電路元件的側面，因此當在基材的該側面成形一層中介層時，將可覆蓋於所有內建散熱部的一端，並利用曝光微影製程，可將中介層成形為預定電路佈局圖案，並隨後在中介層所形成的佈局圖案上以例如電鍍方式增厚，再成形焊墊(pad)。相對地，內建散熱部中若有部分是同時要作為導接之用，則將會與原本基板內埋的線路連接，或直接在製造時將凹陷的容置部在底面形成穿孔，使內建散熱部直接貫穿基材的頂面至底面的兩側，將就此區分為負責導接基材兩側作為電路一部份的導接柱，以及僅供提昇基板導熱能力的導熱柱，如此，一方面可以讓共燒陶瓷基板藉由內建散熱部而提昇散熱效率，另方面，後製程所形成的電路佈局也徹底解決共燒陶瓷的熱漲冷縮不均勻問題，使得電路及晶粒等的設置更精準，讓電路元件微型化成為可行。尤其厚度方面的精度與變異性都提高，更可藉由電路本身的金屬材質作為輔助的導熱途徑，讓例如發光二極體晶粒等發熱元件所發的熱更可透過接觸而加速導離，確保操作環境溫度不致過高、保持良好發光狀態、更增加產品使用壽命及產品價值，達成所有上述目的。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。

本發明具內建散熱部的共燒陶瓷基板及具該基板的發光二極體之製造過程，將逐步揭露於圖1至圖12中，且在本例中係例釋為以批次作業的方式製作；當然，熟悉本技術領域者亦可輕易將部分步驟改以相同功效的其他方式替代，均無礙於本案技術領域的實施。

如圖1及圖2所示，首先將三氧化鋁(Al₂ O₃ )或氮化鋁(AlN)加上有機黏結劑，使其混合均勻成為泥狀的漿料，再用刮刀把漿料刮成片狀，再經由一道乾燥過程將片狀漿料形成一片生胚1，而且，如果是以LTCC製成，則必需在漿料內另加入約30%~50%的玻璃材料，再850~900℃的燒結爐中燒結成型，如果是以HTCC製成，則不需加入玻璃材料，但必需要以1300~1600℃的燒結爐中燒結成型，接著如圖3所示，於生胚1表面鑽出多個貫穿至另一面的導通孔11，並於導通孔11注入熔鑄的金屬料材進行填孔。接著放置於燒結爐中燒結成型，即形成一個如圖4所示的基板2，並將基板2預切割成彼此連結的複數基材21，且圖3所示的導通孔11即形成複數個貫穿基材21之兩個絕緣表面213的穿孔214，熔鑄的金屬料材則於穿孔214內形成複數內建散熱部20，其中內建散熱部20是選自氧化鋁、氮化鋁、銀、銅、鋁、碳、石磨、鑽石、矽所構成的集合。

在本例中，為達到不同效用，內建散熱部20更區分為兩根較粗的導接柱201及複數根較細的導熱柱202。接著一併參考如圖5所示，在基材21上、下兩側的絕緣表面213濺鍍一層選自以鈦、鈦合金、銀、鎳、鎳合金、鎳鉻合金所構成的中介層22，因此中介層22將會覆蓋形成於內建散熱部20的兩端部，並暴露於絕緣表面213上，使得內建散熱部20被埋藏。

隨後如圖6所示，在中介層22表面設置一層犧牲高分子層31，再用一預定電路圖案的光罩32遮蔽部分犧牲高分子層31，接下來以例如紫外線照射，使得未被光罩32所遮蔽的犧牲高分子層31區域曝光而改變其相結構，隨即沖洗顯影，使得相結構未改變的部分被去除，形成如圖7所示僅剩下對應於光罩32之非預定電路圖案部分的犧牲高分子層31仍然遮蔽在中介層22的部分區域上。

接著如圖8所示，於中介層22暴露的區域上電鍍一層由銅所構成的導電層231，使預定圖案部分的厚度增加，藉此，一方面可以控制電路的厚度，另方面可以一併提昇導熱效率。導電層231表面規劃作為接墊232的適當位置，將再電鍍一層例如金及鎳而供電子元件焊接；一併參考圖9所示，去除剩下的犧牲高分子層31，使得在電鍍過程中被遮蔽的中介層22部份露出，接著蝕刻移除非預定電路圖案部分的殘留中介層22，而接墊232則僅稍微變薄，但仍保有預定圖案，並不會造成電氣性能的影響。

導電層231與接墊232所構成的電路23，一併參考如圖10所示，其中電路23形成有兩個導電端233、234，一旦發光二極體晶粒的致能端部被焊接其上，即可分別透過導接柱201、中介層22及接墊232而獲得來自外部的電能。另方面，與整個電路23電性獨立的導熱柱202，也將埋藏在基板內部，藉以提昇基板的導熱效率，避免來自發光二極體晶粒等發熱元件所發的熱能被累積在基板上，造成操作環境的溫度大幅提昇。藉由高效率地導熱，不僅可以確保發光二極體的發光強度，也可大幅延長發光二極體晶粒的壽命，讓採用此種基板的發光二極體性能提昇。

參考如圖11所示，此時，將發光二極體晶粒4分別安裝至尚未被分離的多個基材21的接墊232上，並將尚未被分離的諸多基材21共同置入一個模具5中，模具5內則形成有複數分別對應各基材21的預定形狀模穴，藉由向模穴中注入透明材質樹脂，經過一定時間後將模具5卸除，即會在各基材21上形成一個預定形狀之封裝的透光保護層6，一方面完整覆蓋住發光二極體晶粒4，並可同時作為光學透鏡而調整出光分佈。最後將基材21與基材21間彼此斷開分離，製成如圖12所示之發光二極體元件。

當然，如熟悉本技術領域者所能輕易理解，並非所有散熱部都必須設計為穿孔形式，且導接致能端部的電極也不侷限於採用上述導接柱，如圖13所示，為導出例如高亮度LED晶粒4’在發光同時所發的高熱，亦可在共燒陶瓷基板之基材21’中，預先由頂面凹陷形成一個容置部25’，並且利用例如石墨等導熱佳的材質填入該容置部25’，從而形成一個內建散熱部20’。由於此種內建散熱部20’材料無論是預先填入而與生胚共燒，或是在陶瓷基板燒結後填入，表面都有其侷限，內建散熱部20’本身的頂面以及內建散熱部20’與旁邊的陶瓷基材21’交界位置，都難求其完全平整，若是以共燒方式成形，則即使容置部25’僅為直徑5 μm的尺寸，都可能產生2至3 μm的不平整。因此，要在散熱部上方直接安裝晶粒有其困難。

但是在導熱過程中，些許的間隙將帶來暴增的熱阻，大幅影響熱傳導效能。故為求良好的導熱效果，仍必須讓LED晶粒4’可以直接平坦緊密貼合於此種內建散熱部的頂面上方，依照本案的製造方式，可以在基材21’以及內建散熱部20’的頂面共同經由例如以導電膠直接網印10 μm厚度的銀膠，形成暴露的預定圖案作為種子層的中介層22’，並經過例如電鍍增厚，使得內建散熱部20’上方也形成有厚度達例如100 μm厚度的電路23’，最後利用拋光等技術，將內建散熱部20’上方的電路23’與旁邊基材21’上方的電路23’拋至齊平。藉此克服共燒陶瓷基板可能產生的例如50 μm厚度板彎或高度差，LED晶粒4’從而可以順利安裝且良好貼附在內建散熱部20’頂面的電路23’上。

在本實施例中所示LED晶粒4’的兩個致能端部是形成在晶粒頂部，因此可以從兩個致能端部分別打線導接至例如成形於基材21’側面的端部電極27’，再以樹脂封裝成形，製成一顆完整的發光二極體。當然，無論是致能端部形成在晶粒頂面、底面、或頂面底面各一，都可以藉由直接的焊接或打線等不同方式，一方面將電能導入，另方面保持晶粒與內建導熱部的良好導熱結合。

因此，依照以上所揭露的具內建散熱部的共燒陶瓷基板可透過中介層使內建散熱部與電路穩固結合，並作為導電及導熱的最佳媒介，而且藉由燒結後成形中介層與電路之設計，使得電路佈局的精度大幅提升，不僅讓後續安裝作業的良率提高，線路佈局設計的彈性提昇，也使電路元件的微型化成為可能，徹底解決以往LTCC與HTCC製成的基板有線路精準度與累進公差較差的問題。

並且可以藉由控制電路中金屬導線的厚度，使得電路本身兼具良好導熱性，搭配埋藏於基板中的導熱柱，讓基板整體具有絕佳散熱效率，藉此，可將原本三氧化二鋁基板的熱阻由每瓦可能提昇攝氏15度，大幅降低至每瓦5度以下，讓運用高亮度發光二極體晶粒時，所發的熱能迅速導出，保持發光二極體晶粒的操作環境較接近室溫，確保發光強度、延長使用壽命，更增加產品價值，從而提升運用本案基板的發光二極體在市埸上的競爭力，確實有效達成本案之所有上述目的。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆應仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

1．．．生胚

11．．．導通孔

2．．．基板

21、21’．．．基材

213．．．絕緣表面

214．．．穿孔

20、20’．．．內建散熱部

201．．．導接柱

202．．．導熱柱

22、22’．．．中介層

31．．．犧牲高分子層

32．．．光罩

231．．．導電層

232．．．接墊

23、23’．．．電路

233、234．．．導電端

25’．．．容置部

27’．．．端部電極

4、4’．．．發光二極體晶粒

5．．．模具

6．．．透光保護層

圖1是本案第一較佳實施例之具內建散熱部的共燒陶瓷基板先製作的生胚的示意圖；

圖2是圖1之生胚的側示剖面圖；

圖3是圖1之生胚燒結成型為基板、且基材形成有貫穿兩個表面之穿孔的側示剖面圖；

圖4是圖3於穿孔內填孔、形成內建散熱部的側示剖面圖；

圖5是圖4於基材及內建散熱部之表面濺鍍一層中介層的側示剖面圖；

圖6是圖5於中介層表面設置一層犧牲高分子層、並以一個預定電路圖案的光罩遮蔽部分犧牲高分子層的側示剖面圖；

圖7是圖6的犧牲高分子層剩下對應於光罩之非預定電路圖案部分的仍然遮蔽在中介層之部分區域上的側示剖面圖；

圖8是圖7於中介層暴露的區域上電鍍一層導電層的側示剖面圖；

圖9是圖8之犧牲高分子層去除以及蝕刻移除非預定電路圖案部分之中介層的側示剖面圖；

圖10是圖9形成之電路形成有導電端的俯示圖；

圖11是圖10之尚未被分離的基材上供發光二極體晶粒安裝並同置入一個模具的側示剖面圖；

圖12是圖11之基材與基材間彼此斷開分離形成發光二極體元件的側示剖面圖；及

圖13是本案第二較佳實施例的側示剖面圖，是說明具有一個非貫穿的容置部，及左右兩側分別形成有端部電極。

無元件符號

Claims (10)

1. 一種具內建散熱部的共燒陶瓷基板，是供設置至少一個發熱的電路元件，該共燒陶瓷基板包含：一片具有兩個絕緣表面、其中佈局有內部線路、及形成至少一個容置部的基材，該容置部是由前述絕緣表面中，供設置上述電路元件之前述絕緣表面凹陷形成；至少一個填充於前述容置部、並與該基材共同燒結的內建散熱部；至少形成於與該基材共同燒結的前述內建散熱部上、並暴露於該基材之供設置上述電路元件表面上的中介層；及一個形成於該中介層上、供前述電路元件設置的電路。
2. 如申請專利範圍第1項的共燒陶瓷基板，其中前述容置部更包括貫穿前述絕緣表面的一穿孔，且該內建散熱部包括至少一根導接柱。
3. 如申請專利範圍第2項的共燒陶瓷基板，其中該電路包括形成於前述至少一導接柱在對應該電路端部上的導電層。
4. 如申請專利範圍第3項的共燒陶瓷基板，其中該電路更包括複數形成於該導電層上、供上述電路元件設置的接墊。
5. 如申請專利範圍第1、2、3或4項的共燒陶瓷基板，其中該中介層是選自以鈦、鈦合金、銀、鎳、鎳合金、鎳鉻合金所構成的集合。
6. 如申請專利範圍第1、2、3或4項的共燒陶瓷基板，其中該基材是複數層三氧化鋁(Al₂ O₃ )、氮化鋁(AlN)、或其混合物。
7. 如申請專利範圍第1、2、3或4項的共燒陶瓷基板，其中該內建散熱部是選自氧化鋁、氮化鋁、銀、銅、鋁、碳、石磨、鑽石、矽所構成的集 合。
8. 一個發光二極體，包含：至少一個具有二致能端部的發光二極體晶粒；及一片具內建散熱部的共燒陶瓷基板，包括：一片具有兩個絕緣表面、其中佈局有內部線路、及形成至少一個容置部的基材，該容置部是由前述絕緣表面中，供設置上述發光二極體晶粒之前述絕緣表面凹陷形成；至少一個填充於前述容置部、並與該基材共同燒結的內建散熱部；至少形成於與該基材共同燒結的前述內建散熱部上、並暴露於該基材之供設置上述發光二極體晶粒表面上的中介層；及一個形成於該中介層上、供上述發光二極體晶粒設置的電路。
9. 如申請專利範圍第8項的發光二極體，其中該發光二極體更包含一個覆蓋該發光二極體晶粒的透光保護層。
10. 如申請專利範圍第8項的發光二極體，其中前述容置部更包括貫穿前述絕緣表面的一穿孔，且該內建散熱部包括至少一根供導接該發光二極體晶粒之一致能端部的導接柱。