TWI484542B - 溢飼裝置及方法 - Google Patents

Description

溢飼裝置及方法

本發明係關於一種溢飼裝置及方法。

在許多化學製造過程中(諸如，在半導體製造中)使用溢飼裝置及方法。

此類型之後續施配之目的在於在製造期間在一較長時期上達成混合物或浴中之個別物質之恆定濃度。使用此操作模式，亦可能在稀釋期間使在使用期間累積的物質保持恆定。

此常常使用「饋飼(feed)」溶液達成，「饋飼」溶液具有比標稱濃度高之濃度且僅含有所使用之物質。主要在負載相依之時間間隔中以恆定體積執行饋飼溶液之添加。舉例而言，每天更換總浴體積之5%與30%之間的體積一次。

藉由貯槽處之被動過溢或藉由一泵執行「溢流(bleed)」(亦即，移除)，該泵由最大最小值感測器控制。以此方式定期地稀釋在製造過程期間產生之分解產物，且可在較長時期中將分解產物保持在臨界濃度之下。

此製程控制之概念具有若干缺點，尤其在對混合物中之個別物質之濃度的恆定性具有較高要求的製程(諸如半導體技術)中更係如此。由於按時間間隔供應，故系統判定混合物中之濃度之鋸齒形進程。製造過程亦必須在供應時部分地停止，此係由於貯槽中之體積及濃度取決於在貯槽或處理腔室中之產物而波動。此外，歸因於製造過程， 輸送的饋飼溶液經受濃度波動。所有此等波動導致在要求苛刻的製程中製造之產物之不同結果，且在最壞情況下，導致對所製成之產物之拒收或所製成之產物在使用時之失效。另外，實務上，難以實現僅所使用之物質存在於饋飼溶液中之要求。

在美國專利申請案2004/0142566 A1中，建議按較短時間間隔更換浴之較小量，使得在24小時之時間週期上逐漸達成總體所要的再填充。在此方法中，24小時之典型間隔時間縮短至30至60分鐘。在此美國專利申請案中教示之方法中，自儲存貯槽取走溢流溶液，且將其施配至第二容器中，且量測第二容器中之溢流溶液之量且接著棄置該溢流溶液。隨後，使用來自該儲存貯槽之預定量之新溶液(饋飼溶液)填充該第二容器，且將該預定量之饋飼溶液施配至該儲存貯槽中，以便確保饋飼體積與排出體積為相同的，且因此不改變貯槽中之體積。

最終，此方法之缺點為其不在一較長時期上連續地工作。此外，歸因於溢流溶液及饋飼溶液在第二容器中之中間儲存，存在污染饋飼溶液之危險。

本發明之目標為提供一種溢飼方法，在該方法中避免污染，該方法準連續地(quasi-continuously)或連續地工作，且可在諸如半導體元件之製造的要求苛刻的製程中實施，以及目標為給出一種可執行該方法之系統。

根據本發明申請專利範圍第1及13項之特徵達成該目 標。

在根據本發明之方法中，將用於饋飼溶液之第一收納空間G1設置於用於該饋飼溶液之貯槽T1與製程貯槽PT之間，且相應地，將用於溢流溶液之第二收納空間G2設置於該製程貯槽PT與用於該饋飼溶液之貯槽T2之間。將該第一收納空間G1填充來自該貯槽T1之饋飼溶液。隨後，藉由泵使該饋飼溶液自該第一收納空間G1抽吸至該製程貯槽中，藉此量測輸送至該製程貯槽中的饋飼溶液量之體積。

以類似方式，藉由量測該溢流溶液之體積，藉由泵P3使該溢流溶液自該製程貯槽PT抽吸至用於該溢流溶液之該第二收納空間G2中，且隨後使該溢流溶液放空至貯槽T2中。

由於根據本發明之饋飼溶液被暫時儲存於與該溢流溶液不同之收納空間中，故避免了該饋飼溶液之污染。

此外，為了增加各別體積流量之準確度，根據本發明，不僅量測進入或離開該製程貯槽PT之體積，而且基於泵P2及P3之抽吸功率計算該等體積，且根據該等量測體積與該等計算體積之差異計算校正因子，在下一循環中使用該校正因子來校正該等泵P2及P3之標稱輸送體積。

為了保證該製程之所需準確度，容器G1及G2之建構方式使得判定此等容器中之體積之誤差應小於0.1%，較佳地小於0.05%，且尤其較佳地小於0.02%。

G1及G2之絕對體積由最大所需溢流及饋飼速率、製程貯槽PT之體積，及所需製程窗來判定，藉此施配準確度 完全且簡單地取決於在長得多的時間週期上容器G1及G2之體積之再現性。

用於填充該第一收納空間G1之該饋飼溶液之體積流量較佳地為離開該第一收納空間G1進入該製程貯槽PT之該饋飼溶液之體積流量的倍數，詳言之至少2倍，較佳地為該值之至少5倍，且尤其較佳地為該值之至少20倍。歸因於進入該第一收納空間G1之該高體積流量，及由此引起之短填充週期，可藉由根據本發明之控制來達成較高準確度。

藉由該泵3使該溢流溶液自該製程貯槽PT抽吸至該第二收納空間G2中之時間亦應為使該溢流溶液從該第二收納空間G2放空而進入該貯槽T2中之時間的倍數，較佳地至少雙倍。

因為藉由不同管線來進行藉由貯槽T1填充該第一收納空間G1(或放空該收納空間G2而進入貯槽2中)及放空該第一收納空間G1而進入該製程貯槽PT中(或離開該製程貯槽PT而填充該收納空間G2)，且在溢飼循環期間不關斷該等泵P2及P3，所以可實現連續工作方法。在此製程中，使用在該第一收納空間G1及該第二收納空間G2中/上之感測器S1、S2、S3及S4之信號來計算用於該等泵P2及P3之校正因子K1及K2。

與此連續工作系統相對比，在先前描述之較容易系統中，該等感測器專門用來再填充該容器G1及放空該容器G2。此情形之結果為填充量總是恆定的，且因此可用於計算校正因子。

此外，因為根據標稱體積、上一循環V_1k-1 之校正體積、校準體積V_G1 ，及按校準填充位準輸送之體積計算下一循環之第一臨時容器G1之體積校正V_K1 ，所以此校正可得以改良。因此，藉由使完整的上一循環之標稱量乘以來自新校正因子與舊校正因子之商，在下一循環中校正上一循環之不合格體積。此量必須接著在體積流量偏移(volume flow offset)中傳輸歷時一特定週期，該特定週期(若可能)應為較短的且應最大為一循環。

在本發明之框架中，因此執行該等泵P2及P3之特性曲線校正。亦發生外部饋飼流之饋飼體積流量之校正及外部溢流流(例如，由於蒸發、分析等)之溢流體積流量之校正。

歸因於根據本發明之校正，溢流流與饋飼流之同步性為不可能的。

此外，本發明係關於一種用於執行溢飼方法之系統，該系統包含：用於每一饋飼溶液或溢流溶液之貯槽T1及T2，以及用於該饋飼溶液之臨時儲存之第一收納空間G1及用於該溢流溶液之臨時儲存之第二收納空間G2，及一製程貯槽PT，以及用於貯槽T1、T2與收納空間G1、G2之間的液體運輸之泵P1、P4及用於該收納空間G1、G2與該製程貯槽PT之間的液體運輸之泵P2、P3，用於觸發該等收納空間G1、G2中之預定填充位準之感測器S1、S2、S3及S4，閥(V1、V4)，以及製程控制電腦PR，該製程控制電腦PR控制離開該製程貯槽PT或進入該製程貯槽PT之該溢流 溶液或該饋飼溶液之流量。

當然，根據本發明之方法亦可使用若干饋飼系統，且亦使用若干溢流系統及若干饋飼系統執行，藉此針對每一系統，提供對應收納空間、貯槽及泵。

本發明亦關於該溢飼系統藉由分析系統，及藉由用於處理該溢流溶液之額外系統之擴展。可藉由對溢流物質之分析、對饋飼物質之分析及/或對重新處理之溢流液體之分析來進行體積流量之校正。

將使用以下具體實例更詳細地描述本發明。

在圖1中展示溢飼系統之原則構造。使用泵P1、打開的閥V1及關閉的閥V2以高流動速率抽吸饋飼溶液離開貯槽T1進入用於饋飼溶液之第一收納空間G1中，第一收納空間G1經形成為臨時容器。感測器S2作出回應，因此閥V1關閉且泵P1停止(亦參看圖2)。臨時容器之此填充過程典型地持續幾秒，最大高達幾分鐘。

隨後，啟動泵P2且打開閥V2。製程控制電腦PR控制泵P2之流動速率，以便獲得饋飼溶液至製程貯槽PT中之所要體積流量，藉此放空臨時容器。感測器S1作出回應，因此閥V2關閉且泵P2關斷(參看圖2)，且臨時容器G1之填充過程再次開始，如上文描述。

饋飼循環可典型地持續30分鐘至數小時之間的時間。

對於溢流溶液，遵循與饋飼溶液相同的原理。使用打開的閥V3及關閉的閥V4，藉由泵P3抽吸溢流溶液離開製 程貯槽PT進入用於溢流溶液之第二收納空間G2中，第二收納空間G2在此具體實例中亦經形成為臨時容器G2。感測器S4作出回應，因此閥V3關閉且泵P3關斷。隨後以高流動速率使臨時容器G2放空至貯槽T2中，其中泵P4接通且閥V4打開。感測器S3作出回應，因此閥V4關閉且泵P4關斷。

隨後，泵P3接通且閥V3打開，且新的溢流循環開始。循環可典型地持續30分鐘至數小時。

必須精確地量測在臨時容器G1中在感測器S2之回應與感測器S1之減少之間的體積，臨時容器G1包括對應化學品混合物。針對第二臨時容器G2使用對應方法。

因此，在特定時間週期內在循環中泵P2及P3輸送的量測體積V_FE 及V_BL 為已知的。

必須形成具有相關聯感測器S1、S2、S3及S4之臨時容器G1及G2之構造，以便保證G1及G2中之校準體積之極高重複準確度(長期穩定性)。

當將短期穩定類型之泵用於P2及P3時，製程控制電腦PR可精確地計算每次之輸送體積。在每一循環中，可針對每一泵P2及P3產生一校正因子。使用此等校正因子，泵之標稱值輸送體積得以校正，使得控制可將泵極精確地設定至一精確輸送體積。針對每一循環重新計算此等校正值，且在必要時調適其以用於下一循環。在循環完成之後，若發現標稱體積與實際體積之間的差異，則在下一循環中輸送體積之計算中將考量此差異，且校正可能的錯誤。

若密封出現於泵P2或P3上，則此快速地改變校正因子，或校正因子與其標稱值大不相同。此可藉由製程控制電腦PR判定，且在出現故障之前向使用者給出進行必要維修之提示。

以相同方式監視泵P1及P4之抽吸時間。可向使用者給出值發生大變化之提示，但對P1及P4之準確度要求並非如此大。重要的僅是不超過最大填充或放空時間。所達成之準確度僅取決於容器G1及G2之絕對體積之準確度(或各別填充體積之準確度)。

關於所使用之容器之體積準確度，使用本系統及方法，對於絕對交換體積，達成0.05%之準確度及因此溢流溶液與饋飼溶液之間的小於0.1%之體積差。

在圖1中展示之具體實例中，為增加使用泵P1填充用於饋飼溶液之第一臨時容器G1及使用泵P4放空用於溢流溶液之第二臨時容器G2之準確度，用於第一臨時容器G1之填充管道FuL及引入管道AnL為同一管道，且饋飼泵P2及P3關斷。若泵P2與P1同時接通，則流動速率(歸因於來自泵之增加之壓力)將極大地不同於P2。此將導致較大不準確度。相同情形適用於第二臨時容器G2。

圖1中之裝置及方法準連續地工作。圖2中之濃度進程仍為稍微鋸齒形的。藉由比較量測體積流量與計算體積流量，及計算每一循環中之泵P2及P3之校正因子，達成該方法之格外高之準確度及因此之可靠性。

在圖3中展示完整的連續工作溢飼系統。此處，分離 地使用管道FuL及AnL。此亦允許溢飼泵P2及P3在第一臨時容器G1之填充及第二臨時容器G2之放空期間繼續工作。藉此，若自T1使用饋飼溶液短期填充臨時容器G1(參看圖4)，甚至在感測器S1之減少之後，仍可獲得待抽吸至製程貯槽PT中之充分體積的饋飼溶液，泵P2將恆定的饋飼溶液輸送至製程貯槽PT中，因此亦與圖1形成對比。相應地，亦在藉由泵4將溢流溶液以較高流動速率抽吸離開臨時容器G2進入貯槽T2中的週期中，藉由泵P3連續地抽吸溢流溶液離開製程貯槽PT。一旦饋飼溶液進入製程貯槽PT之流量及溢流溶液離開製程貯槽之流量為恆定的，由於泵P2及P3不關斷且因此無停機時間，製程貯槽中之濃度在時間方面為恆定的，且溢飼過程連續地工作。

亦在此具體實例中，製程控制電腦PR收集輸送體積且產生校正因子。藉此，製程貯槽PT中之濃度之恆定性可進一步增加，而不會影響體積差及交換之體積之準確度。

在本發明之上下文中，此外，可減小公差相關不準確度，如圖5中之實例所展示。

用於填充第一臨時容器G1及用於放空第二臨時容器G2之填充量可根據所使用之泵(P1、P4)及閥(V1、V4)變化。舉例而言，若在達到感測器S2之最大位置時泵P1不被立即關斷，則由於泵P1之進入臨時容器G1中之流動速率較高，故第一臨時容器G1可過度填充。在此情況下，經抽吸進入第一臨時容器G1之饋飼溶液之體積「超越(overshoot)」校準體積V_G1 。

同樣地，由於在達到感測器S3之最小位置時，快速泵P4不被立即關斷，故可發生溢流溶液之體積V_G2 之減小。由於使用泵P2緩慢地進行第一臨時容器G1之放空，亦使用泵P3緩慢地進行第二臨時容器G2之填充，故在此變型中製程控制電腦PR使用感測器信號(S1、S2、S3及S4)來計算校正因子，藉此可達成極高準確度。

在下一循環中校正作為實例描述之此等不準確度及起因於不論何時及不論何處之所有其他不準確度。要求簡單地為G1及G2不完全空(以下泵汲取空氣)且G1/G2不過溢。

在饋飼循環期間，在時間週期t_iG1 上施配臨時容器G1之校準體積V_G1 。此外，在時間週期t_iG1 中，施配額外體積，根據以積分時間t_iG1 積分泵P2之輸送體積來計算該額外體積。t_iG1 為感測器(S1)之衰退邊緣(failing edge)與感測器S2之衰退邊緣之間的時間間隔。

以相同方式，根據第二臨時容器G2之校準體積V_G2 及以t_iG2 積分之額外輸送體積計算溢流循環之體積。歸因於此等改良，系統較不易受在製造中及在系統操作時產生之公差之影響。在圖6中，展示根據圖5之變型的對泵P2及P3之調節及控制之方塊圖。此展示若干實施可能性中之一者。

圖6中之個別公式及參數之意義係如下：

K₁ 用於泵P2之校正因子

V_G1 G1之校準體積(實際體積)

第一臨時容器G₁ 中之標稱體積

t_G1 S2之衰退邊緣與S1之衰退邊緣之間的時間間隔(參見圖5及圖6)。

Q₁ (t) 至時間點t的泵2之體積流量

V_k1 下一循環必須校正之體積

標稱體積

V_1k-1 來自上一循環之校正體積

V_G1 G1之校準體積(實際體積)

藉由校準填充位準填充之體積

t_iG1 S1之衰退邊緣與S2之衰退邊緣之間的時間間隔(參見圖5)

Q_k1 =V_k1 /t_k

Q_k1 校正體積V_k1 所必要之體積流量(在t_k 期間為恆定的)

t_k 體積V_k1 應被校正之時間(選擇一短時間以使得可儘可能快地將其與V_k1 比較。)

關於泵3，溢流為與泵2之饋飼相同的過程，且在圖6 中展示。

藉由後續施配之增強

存在一些應用，在其中產生分解產物或材料之累積，分解產物或材料之累積僅可由一溢飼系統稀釋，但儘管如此，仍無法使用具有所有材料濃度之饋飼溶液保持恆定。在此等情況下，根據個別使用將個別物質添加至製程貯槽PT中。

在圖7中展示一示意性實例，其中藉由由PR控制的每一泵P4、P5及P6添加物質A、B及C。此情形之結果為，在添加A、B或C或物質之任何各別組合時，饋飼溶液之體積流量必須減小，以便不破壞製程貯槽PT之流入與流出之平衡。相應地提昇溢流溶液之體積流量亦為可能的。何種系統給出最佳結果總是取決於化學品之組成及行為。

藉由分析系統之增強

主要依據製造輸貫量外部地控制此處描述之溢流溶液及饋飼溶液。在許多情況下，此引起良好結果且引起浴之相對較長使用壽命。可藉由將一分析系統添加至溢飼系統來達成封閉迴路控制。該分析系統必須能夠判定對於製造結果而言為重要的個別材料濃度。

在圖8中展示具有一耦接的分析系統AS之溢飼裝置之可能變型。圖8中之分析系統AS在每一情況下分析何時將饋飼溶液施配至T1中，何時改變此，或整體地更換T1。取決於材料濃度，計算溢飼系統之必要體積流量Q。因此，可使用並不精確地對應於理論濃度之饋飼溶液。相應地，在 製程控制電腦中校正用於一預定製造輸貫量之體積流量。

在製造期間，藉由使用分析系統AS定期地判定製程貯槽PT中之材料濃度。根據該等結果，調適溢飼系統之Q，且在必要時，隨後施配諸如A、B及C之額外組分，以便保持製程貯槽PT中之材料濃度儘可能地接近標稱值。以規則間隔分析圖8中之溢流貯槽T2，以便檢查系統之效率。

藉由處理系統之增強

當具有分析系統之溢飼系統亦與一處理系統耦接時，得到閉路，如圖9中展示。此顯著減少由製造產生之廢料，且亦減少製造成本。

到目前為止，僅已知以分批製程製備溢流溶液之系統，其中必須運輸溢流溶液及饋飼溶液。使用此整合系統，可避免運輸。由於不存在運輸，故環境損害得以減少，且同樣地由在運輸期間之事故引起之環境污染的風險得以減少。總成本亦藉由使用處理系統之增強進一步減小。

藉由以下實例更詳細地描述本發明。

整合處理系統之實施例

在半導體之製造中，使銅沉積於晶圓上。銅浴典型地含有硫酸銅、硫酸、氯化物及若干有機黏合劑。在此類型之浴之溢流溶液中，有機黏合劑之分解產物為此類型之浴之使用壽命的限制因素。有機黏合劑可在處理系統中藉由UV氧化及/或化學手段完全分解。

在清潔之後，將有機材料再次添加至饋飼貯槽T1(如圖9中展示為A、B及C及閥V6)。典型地，亦使用添加 劑以便在製程貯槽PT中保持標稱濃度恆定。此亦藉由A、B及C之泵及閥V5進行。

此類型之處理亦可用於其他化學製造過程。可使用諸如過濾、電解、製備性HPLC及其他者之不同技術。

A~C‧‧‧物質

G1‧‧‧第一收納空間

G2‧‧‧第二收納空間

K1,K2‧‧‧校正因子

P1~P4‧‧‧泵

PT1‧‧‧製程貯槽

PR1‧‧‧製程控制電腦

Q‧‧‧體積流量

S1~S4‧‧‧感測器

T1‧‧‧貯槽

T2‧‧‧貯槽

V1~V6‧‧‧閥

AS1‧‧‧分析系統

圖1展示根據本發明之溢飼裝置之原則上之構造，圖2展示根據圖1之系統的感測器之信號及具有視時間而定的濃度進程及體積進程的在一溢飼循環期間對泵之調節。

圖3為來自圖1之溢飼裝置，其具有分離的至收納空間G1及G2中之供應及自收納空間G1及G2之移除，圖4展示根據圖3之系統的感測器之信號及具有視時間而定的濃度進程及體積進程的在一溢飼循環期間對泵之調節。

圖5展示圖3中之系統的感測器之信號及根據公差相關不準確度之調整的在一溢飼循環期間對泵之調節。

圖6展示用於圖3中之裝置的泵之調節及控制之方塊圖。

圖7展示具有後續施配之溢飼系統。

圖8展示具有一額外分析系統之溢飼系統。

圖9展示具有一額外分析及處理之溢飼系統。

G1‧‧‧第一收納空間

G2‧‧‧第二收納空間

P1~P4‧‧‧泵

PR1‧‧‧製程控制電腦

PT1‧‧‧製程貯槽

Q‧‧‧體積流量

S1~S4‧‧‧感測器

T1‧‧‧貯槽

T2‧‧‧貯槽

V1~V4‧‧‧閥

Claims (23)

1. 一種用於執行製程貯槽中之製程溶液的溢流及饋飼之方法，其中抽吸該饋飼溶液離開第一貯槽T1進入用於該饋飼溶液之第一收納空間G1中，且隨後藉由泵P2使該第一收納空間G1放空至該製程貯槽PT中，藉此量測該製程貯槽PT中的饋飼溶液之輸送量之體積，其中藉由泵P3抽吸該溢流溶液離開該製程貯槽PT進入用於該溢流溶液之第二收納空間G2中，藉此量測在該第二收納空間G2中來自該製程貯槽PT的溢流溶液之輸送量之體積，且隨後使該第二收納空間G2中之該溢流溶液放空至第二貯槽T2中，且藉此該第一收納空間G1與該第二收納空間G2不同，且藉此總是根據由泵P2及P3輸送之該溢流溶液及該饋飼溶液之該等量測體積與計算體積之比較來計算校正因子，在下一循環中使用該校正因子來校正泵P2及P3之標稱輸送體積。
2. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該等收納空間G1及G2之建構方式使得量測該等體積之誤差小於0.1%。
3. 如申請專利範圍第2項之方法，其特徵在於該等收納空間G1及G2之建構方式使得量測該等體積之誤差小於0.05%。
4. 如申請專利範圍第2項之方法，其特徵在於該等收納空間G1及G2之建構方式使得量測該等體積之誤差小於0.02%。
5. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於來自貯槽T1的用於填充該第一收納空間G1之該饋飼溶液之體積流量為用於填充該製程貯槽PT之該饋飼溶液之體積流量之值的至少2倍。
6. 如申請專利範圍第5項之方法，其特徵在於來自貯槽T1的用於填充該第一收納空間G1之該饋飼溶液之體積流量為用於填充該製程貯槽PT之該饋飼溶液之體積流量之值的至少5倍。
7. 如申請專利範圍第5項之方法，其特徵在於來自貯槽T1的用於填充該第一收納空間G1之該饋飼溶液之體積流量為用於填充該製程貯槽PT之該饋飼溶液之體積流量之值的至少20倍。
8. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於藉由該泵P2使該饋飼溶液從該第一收納空間G1放空而進入該製程貯槽PT中的時間為將該饋飼溶液抽吸離開該第一貯槽T1而進入該第一收納空間G1中的時間之倍數。
9. 如申請專利範圍第8項之方法，其特徵在於藉由該泵P2使該饋飼溶液從該第一收納空間G1放空而進入該製程貯槽PT中的時間為將該饋飼溶液抽吸離開該第一貯槽T1而進入該第一收納空間G1中的時間的至少2倍。
10. 如申請專利範圍第8項之方法，其特徵在於藉由該泵P2使該饋飼溶液從該第一收納空間G1放空而進入該製程貯槽PT中的時間為將該饋飼溶液抽吸離開該第一貯槽T1而進入該第一收納空間G1中的時間的5倍。
11. 如申請專利範圍第8項之方法，其特徵在於藉由該泵P2使該饋飼溶液從該第一收納空間G1放空而進入該製程貯槽PT中的時間為將該饋飼溶液抽吸離開該第一貯槽T1而進入該第一收納空間G1中的時間的至少20倍。
12. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於分別藉由同一管道來進行藉由該貯槽T1對該第一收納空間G1之該抽吸及該放空該第一收納空間G1而進入該製程貯槽PT中以及藉由同一管道來進行放空該第二收納空間G2而進入貯槽T2中及自該製程貯槽PT填充該第二收納空間G2，且分別在使用泵P2時關斷泵P1且在使用泵P1時關斷泵P2以及在使用泵P3時關斷泵P4且在使用泵P4時關斷泵P3。
13. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於分別藉由不同管道來進行藉由貯槽T1對該第一收納空間G1之該抽吸及該放空該第一收納空間G1而進入該製程貯槽PT中以及藉由不同管道來進行放空該第二收納空間G2而進入貯槽T2中及自該製程貯槽PT填充該第二收納空間G2，且在溢飼循環期間不關斷該等泵P2及P3。
14. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於用於判定填充位準之感測器(S1、S2、S3、S4)係設置於該第一收納空間G1及/或該第二收納空間G2之上或其中，且在用於該等泵(P2、P3)之該等校正因子(K1、K2)之該計算中使用感測器信號(S1、S2、S3、S4)。
15. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於根據該 標稱體積、上一循環V_1k-1 之校正體積、校準體積V_G1 ，及按校準填充位準填充之體積來計算在下一循環之後該第一臨時容器G1之體積校正V_K1 。
16. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於發生對泵P2及P3之特性校正。
17. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於藉由外部溢流流來進行外部饋飼流之饋飼體積流量之校正及/或溢流體積流量之校正。
18. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於藉由對饋飼物質及/或溢流物質之分析，及/或藉由對重新處理之溢流溶液之分析來進行該等體積流量之校正。
19. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其特徵在於該溢流流與該饋飼流為不同步的。
20. 一種用於溢飼過程之裝置，其特徵在於該裝置含有：用於各別饋飼溶液或溢流溶液之貯槽T1、T2，以及在每一情況下用於該饋飼溶液或該溢流溶液之臨時儲存之收納空間G1、G2，及製程貯槽PT，以及用於該貯槽T1、T2與該收納空間G1、G2之間的液體運輸之泵P1、P4，及用於該收納空間G1、G2與該製程貯槽PT之間的液體運輸之泵P2、P3，用於判定該收納空間G1、G2中之填充位準之感測器S1、S2、S3及S4，閥(V1、V2、V3、V4)，以及製程控制電腦PR，該製程控制電腦PR控制離開該製程貯槽PT或進入該製程貯槽PT之該溢流溶液或該饋飼溶液之流量。
21. 如申請專利範圍第20項之裝置，其特徵在於提供具有用於該等饋飼溶液之臨時儲存之若干收納空間、貯槽及泵之若干饋飼系統，及具有用於臨時儲存之收納空間、貯槽及泵之一或多個溢流系統。
22. 如申請專利範圍第20或21項之裝置，其特徵在於該裝置亦包括用於分析該溢流溶液之系統。
23. 如申請專利範圍第20或21項之裝置，其特徵在於該裝置亦包括用於處理該溢流溶液之系統。