TWI484002B - 印刷光罩用固態印墨 - Google Patents

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Description

印刷光罩用固態印墨
揭示在Francisco Torres等人於2009年8月17日申請之被一般指定為美國專利申請案第12/542,172號(Xerox Docket No.20070844-US-NP)者為一種印刷光罩，係得自一種組成物，其包含至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物、至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物，及至少一種紫外線輻射阻斷劑，其中使用鹼性溶液於約30秒以內可將該印刷光罩去除。
本文所述者為一種用於印刷電路板之印刷光罩用固態組成物。
印刷電路板(PCB)或印刷接線板(PWB)(以下統稱PCBs)為平台，係將大部分電子組件彼此連結及接合及與電腦、通信裝置、消費電子、自動化製造及檢驗設備中的其他元件連結及接合。PCBs可由以絕緣為主的材料而製造，係在薄銅層上疊片或電鍍(為熟知的鍍裸銅板)，並從蝕刻步驟選擇性去除銅區域而產生導電通路。
此選擇性的去除可藉由塗布印刷光罩或光圖案抗蝕刻(光阻)於銅層上之圖案而達成。在光圖案之情況下，PCB受光源而導致該印刷光罩轉變成耐顯影溶液，然後此顯影溶液用以去除在圖案上未曝光的光阻劑而留下已曝光的裸銅；在印刷光罩情況下，印刷光罩材料被設計作為抗酸蝕刻劑。在兩者情況下，PCB用蝕刻劑處理未覆蓋圖案光罩材質的鍍銅板區域而使蝕刻消失只留下圖案。圖案的光罩材料本身可能隨後以水性鹼溶劑去除，因此留下形成在PCB上之導電通路。
在PBCs的導電層亦可藉由電鍍銅在含有在絕緣層上鍍種層之絕緣層，此步驟通常作為外層步驟，因為其具有在PCB電鍍貫穿洞以使層互連之附加利益。在電鍍的情況下，光罩層描述為在蝕刻情況下藉光阻或印刷方法之一，而取代以蝕刻劑處理銅，以電鍍液處理板。電鍍液塗布銅或其它金屬在不能被光罩材料覆蓋的板面上，然後光罩材料及種層剝離，並在圖案留下金屬痕跡。
不論何種情況下，當水性鹼溶劑去除一些印刷光罩時，這類去除通常為不足的或者需要過度的處理時間，因為這些溶劑不會立刻地剝離印刷光罩或不會不需要關於更進一步的去除力(如：過切)。
因此，本案發明係針對一種用以印刷光罩之固態印墨組成物，可藉由合適的鹼溶劑而快速有效的去除印刷光罩，因此該光罩適合：所有的PCBs、利用印刷光罩之PCB製造過程，及減少關於使用較貴光罩過程(如光阻過程)之製造成本。
藉由本發明可解決上述及其他議題，其中在具體實施例中，本發明關於一種印刷光罩，係得自一種組成物，其包含至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物及至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物，其中使用鹼性溶液於約30秒以內可去除該印刷光罩。
在具體實施例中描述一種印刷光罩，係得自一種組成物，其包含至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物及至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物，其中該印刷光罩係利用在鹼性溶液約30秒以內可去除，以及其中該組成物不包括紫外線吸收劑。
在其他具體實施例中描述一種在基板上形成圖案之方法，該方法包括：塗布金屬層至基板；選擇性地塗布組成物至金屬層以形成複合結構，其中該組成物包含至少一種含一個鹼可水解基之化合物及至少一種含一個氧化乙烯基之化合物；用蝕刻液接觸該複合結構以去除未被組成物包覆之部分金屬層；以及在用蝕刻液接觸該複合結構後，施予鹼性溶液在約30秒以內去除組成物以在基板上形成影像。
 具體實施例
在此所述一種印刷光罩，係得自一種組成物，其包含至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物及至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物，其中該印刷光罩係利用在鹼性溶液約30秒以內可去除。
含有至少一個鹼可水解基之化合物，係可為具有約10至約50個碳原子之未被取代或被取代的脂族羧酸，如，約14至約22個碳原子或約16至約20個碳原子。合適的脂族羧酸之例包括：飽和脂族羧酸，如，十二酸、十三酸、十四酸、十五酸、十六酸(棕櫚酸)、十七酸、十八酸(硬脂酸)、十九酸、二十酸、二十二酸(山萮酸)、二十六酸及二十四酸(木蠟酸)；不飽和脂族羧酸，如，軟脂油酸、油酸、亞麻油酸、次亞麻油酸、二十烯酸、二十碳五烯酸及二十二烯酸。另外的例子包括：線性的脂族羧酸，如，含UNICID350、UNICID425、UNICID550及UNICID700之UNICID羧酸聚合物(Baker-Petrolite公司製)。期望以飽和脂族羧酸維持在加熱的列印頭之組成物的穩定度。
該組成物亦可單獨包含或與上述至少一種含一個鹼可水解基團之化合物合併包含至少一種含兩個鹼可水解基團之化合物。這類化合物合適例為下式二元酸，
COOH─(Ca Hb )─COOH
其中，a為約5至約24之整數，如約10至約24、約14至約20或約16至約20；b為a值兩倍之整數。二元酸之例包括庚二酸、辛二酸及高分子量酸的混合物，如CORFREE M1(可得自於DuPont)。亦可利用高官能性酸，如三元酸。二元酸的有利方面包括因為鹼性基每分子產生兩個以上電荷基團，且電荷基團益於溶解/溶解度，所以每分子兩個以上的酸性基團將導致印刷光照的快速溶解。
該組成物可進一步包含至少一個下式一元醇，
其中，x為約8至約30之整數，如約12至約22或約14至約20。合適的一元醇或「脂肪醇」之例包括：十二醇、十三醇、十四醇、十五醇、十六醇、十七醇、十八醇、十九醇、二十醇、二十一醇、二十三醇等。
含至少一個鹼可水解基之化合物，係可存在於該組成物的量為至少約2重量%的組成物，例如約2至約99重量%的組成物、約2至約90重量%的組成物、約3至約80重量%的組成物、約5至約60重量%的組成物、約10至約50重量%的組成物，及約10至約30重量%的組成物。
含至少一個氧化乙烯基之化合物，係可為乙氧化醇或乙氧化醇之酯類。乙氧化醇(線性)為脂肪醇的縮合物，且包含烷基部分與氧化乙烯(EO)部分。合適的乙氧化醇亦揭示在例如美國專利第4,908,063號，其所全部揭示將做參考合併於此。乙氧化醇以下式表示，
其中，x為約1至約50之整數，如，約5至約40、約10至約30或約15至約25；y為約1至約70之整數，如，約1至約50、約10至約40或約1至約25。該物質可具有自約60℃至約150℃之熔點，如，約70℃至約120℃或約80℃至約110℃；以及數量平均分子量(Mn)範圍為約100至約5,000，如，約500至3,000或約500至約2,500。市售例包括：UNITHOX 420(Mn=560)、UNITHOX450(Mn=900)、UNITHOX 480(Mn=2,250)、UNITHOX 520(Mn=700)、UNITHOX 550(Mn=1,100)、UNITHOX 720(Mn=875)、UNITHOX 750(Mn=1,400)等。
如果組成物包含乙氧化醇及脂族羧酸時，所添加的乙氧化醇會破壞該組成物之結晶度，並會增加附加的極性基團以助於剝離性(strippability)。例如，混和乙氧化醇與脂族羧酸在上述溫度自約100℃至約150℃、約110℃至約150℃或約120℃至約130℃時，乙氧化醇之醇末端部分與脂族羧酸之羧基末端基反應而形成酯，而此反應破壞該組成分結晶度，並增加能幫助將含有極性鹼性溶液組成物的剝離或去除之極性基團。
直鏈或支鏈構型之高分子量醇(例如含至少八個碳原子的醇)與每莫耳約4至20莫耳EO之醇縮合之合適的乙氧化醇縮合物，包括例如：月桂醇或肉豆蔻醇與每莫耳約16莫耳EO之醇縮合；十三醇與每莫耳約6至15莫耳EO之醇縮合；肉豆蔻醇與每莫耳約10莫耳EO之醇、含每莫耳約6至11莫耳EO之醇的獸脂醇乙氧基化合物，及含每莫耳約6至9莫耳EO之醇的椰子脂肪醇乙氧基化合物縮合。
合適的乙氧化醇其他例包括：NEODOL乙氧基化合物(可得自於Shell公司，德州)，係為高級脂肪族且含約9-15碳原子之一級脂肪醇，如，C9 -C11 烷醇與4至10莫耳EO縮合(NEODOL 91-8或NEODOL 91-5)、C12 -C13 烷醇與6.5莫耳EO縮合(NEODOL 23-6.5)、C12 -C15 烷醇與12莫耳EO縮合(NEODOL 25-12)、C14 -C15 烷醇與13莫耳EO縮合(NEODOL 45-13)、C12 烷醇與7莫耳EO縮合(NEODOL 1-7)、C9 -C11 烷醇與平均2.5莫耳EO縮合(NEODOL 91-2.5)、C9 -C11 烷醇與6莫耳EO縮合(NEODOL 91-6)、C9 -C11 烷醇與8莫耳EO縮合(NEODOL 91-8)、C12 -C13 烷醇與6.5莫耳EO縮合(NEODOL 23-6.5)、C12 -C13 烷醇與7莫耳EO縮合(NEODOL 23-7)、C12 -C15 烷醇與7莫耳EO縮合(NEODOL 25-7)、C12 -C15 烷醇與9莫耳EO縮合(NEODOL 25-9)、C12 -C15 烷醇與12莫耳EO縮合(NEODOL 25-12)，及C14 -C15 烷醇與13莫耳EO縮合(NEODOL 45-13)。
合適作為乙氧化醇的其他例，亦可得自於Cognis公司的商標TRYCOL ST-8049，係為含有約4莫耳EO之C8 -C10 乙氧化醇；亦可得自於Sasol公司的ALFONIC 810-4.5，係為含有約4.5莫耳EO之C8 -C10 乙氧化醇。乙氧化醇其他例包括含8至18碳原子之直鏈或支鏈構型之二級脂族醇與5至30莫耳乙氧基縮合之縮合物。商業上可得的非離子清潔劑之例包括Union Carbide販售之與9莫耳EO(TERGITOL 15-S-9)或12莫耳EO(TERGITOL 15-S-12)之任一者縮合的C11 -C15 二級烷醇。
於本申請案前，如美國專利公開案號2005/0164121所述，UV吸收劑被包括在印刷光罩組成物中以防止或「阻斷」UV輻射。然而，在具體實施例中，本文所述組成物實質上無及/或未包含任何UV吸收劑。因為印刷光罩組成物在無添加UV吸收劑時能散射或反射UV光，所以可不需要UV吸收劑。
在具體實施例中，此組成物能進一步含有至少一種添加劑，係選自於由可塑劑、膠黏劑及其他合適的添加劑所組成之群組。
可塑劑可選自於由UNIPLEX 250(商業上可得自於Uniplex)、酞酸酯可塑劑(商業上可得自於Monsanto，商標名SANTICIZER)，如，酞酸二辛酯、雙十一基酯、烷基苯酞酸鹽(SANTICIZER 278)、磷酸三苯酯(商業上可得自於Monsanto)、磷酸三丁氧乙酯之KP-140(商業上可得自於FMC公司)、酞酸二環己酯之MORFLEX 150(商業上可得自於Morflex化學有限公司)、苯偏三酸三辛酯(商業上可得自於Eastman Kodak公司)等所組成之群組。可塑劑可存在的量自約0.01重量%之組成物至約98重量%之組成物、約0.1重量%之組成物至約50重量%之組成物、約1重量%之組成物至約10重量%之組成物。
該組成物可進一步包含膠黏劑，係選自於由氫化松酯(松香)酸的甘油酯之FORAL 85(商業上可得自於Hercules)、氫化松脂(松香)酸的新戊四醇酯之FORAL 105(商業上可得自於Hercules)、酞酸的氫化松脂(松香)醇酯之CELLOLYN 21(商業上可得自於Hercules)、氫化松脂(松香)酸的三酸甘油酯之ARAKAWA KE-311及KE-100 Resins(商業上可得自於Arakawa化學工業有限公司)、合成多萜樹脂，如，NEVTAC 2300、NEVTAC 100及NEVTACO 80(商業上可得自於Neville化學公司)、修飾過的合成多萜樹脂之WINGTACK 86(商業上可得自於Goodyear)等所組成之群組。膠黏劑可存在於組成物之任何有效量，如自約0.01重量%之組成物至約50重量%之組成物、約0.1重量%之組成物至約20重量%之組成物，或約5重量%之組成物至約10重量%之組成物。
該組成物的具體實施例可進一步包括習知的添加劑以利用已知官能性與這些習知添加劑的關聯。這些添加劑可包括，如，聚醯胺樹脂、除生物劑、抗氧化劑、黏合劑等。
在具體實施例中，該組成物可進一步包括合適的聚醯胺樹脂以使增加黏性或增加組成物的黏度、或增加組成物中至少一個其他組成物之溶解度。合適的聚醯胺樹脂之例包括重量平均分子量小於15,000g/mole之聚酯醯胺樹脂，係可得自於Arizona化學且販售於商標名UNIREZ，如，UNIREZ 2970、UNIREZ 2974及UNIREZ 2980。這些樹脂具有自約90℃至約140℃之軟化點，以及在130℃約20至約150cP之間之黏度。
除生物劑可存在的量自約0.1至約1.0重量%之組成物。合適的除生物劑包括，如，山梨酸、商業可得自如DOWICIL 200(Dow化學公司)之1-(3-氯丙烯基)-3,5,7-三氮雜-1-氮鎓金剛烷氯化物、商業上可得自如CYTOX 3711(American Cyanamid公司)之伸乙烯雙硫氰酸鹽、商業上可得自如DITHONE D14(Rohm＆Haas公司)之伸乙雙二硫胺甲酸鈉、商業上可得自如BIOCIDE N-1386(Stauffer化學公司)之雙(三氯甲基)碸、商業上可得自如奧麥丁鋅(Olin公司)之巰基吡啶鋅、商業上可得自如ONYXIDE 500(Onyx化學公司)、BOSQUAT MB50(Louza有限公司)之2-溴-t-硝丙基-1,3-二醇等。
該組成物可包含抗氧化劑，以保護組成物成份免於當存於如在儲存器熱熔解之氧化作用。合適的抗氧化劑實施例包括(1)N,N’-六亞甲基雙(3,5-二-第三-丁基-4-羥氫桂皮醯胺)(IRGANOX 1098，可得自於Ciba-Geigy公司)、(2)2,2-雙(4-(2-(3,5-二-第三-丁基-4-羥氫桂皮醯胺))乙氧苯基)丙烷(TOPANOL-205，可得自於ICI美國公司)、(3)三(4-第三-丁基-3-羥-2,6-二甲基苄基)異氫尿酸酯(CYANOX 1790、41,322-4、LTDP、Aldrich D12,840-6)、(4)2,2'-亞乙基雙(4,6-二-第三-丁基苯基)氟亞膦酸酯(ETHANOX-398，可得自於Ethyl公司)、(5)四(2,4-二-第三-丁基苯基)-4,4'-聯苯雙亞膦酸酯(ALDRICH 46,852-5；硬度值90)、(6)季戊四醇四硬脂酸酯(TCI America #PO739)、(7)三丁基銨次磷酸鹽(Aldrich 42,009-3)、(8)2,6-二-第三-丁基-4-甲氧基苯酚(Aldrich 25,106-2)、(9)2,4-二-第三-丁基-6-(4-甲氧基苄基)苯酚(Aldrich 23,008-1)、(10)4-溴-2,6-二甲基苯酚(Aldrich 34,951-8)、(11)4-溴-3,5-二二甲基苯酚(Aldrich B6,420-2)、(12)4-溴-2-硝苯酚(Aldrich 30,987-7)、(13)4-(二乙銨甲基)-2,5-二甲基苯酚(Aldrich 14,668-4)、(14)3-二甲基胺苯酚(Aldrich D14,400-2)、(15)2-胺基-4-第三-戊基苯酚(Aldrich 41,258-9)、(16)2,6-雙(羥基甲基)-p-甲酚(Aldrich 22,752-8)、(17)2,2'-亞甲基二苯酚(Aldrich B4,680-8)、(18)5-(二乙胺基)-2-亞硝苯酚(Aldrich 26,951-4)、(19)2,6-二氯-4-氟苯酚(Aldrich 28,435-1)、(20)2,6-二溴氟苯酚(Aldrich 26,003-7)、(21)α-三氟-o-甲酚(Aldrich 21,979-7)、(22)2-溴-4-氟苯酚(Aldrich 30,246-5)、(23)4-氟苯酚(Aldrich F1,320-7)、(24)4-氯苯基-2-氯-1,1,2-三-氟乙碸(Aldrich 13,823-1)、(25)3,4-二氟苯乙酸(Aldrich 29,043-2)、(26)3-氟苯乙酸(Aldrich 24,804-5)、(27)3,5-二氟苯乙酸(Aldrich 29,044-0)、(28)2-氟苯乙酸(Aldrich 20,894-9)、(29)2,5-雙(三氟甲基)苯甲酸(Aldrich 32,527-9)、(30)乙基-2-(4-(4-(三氟甲基)苯氧基)苯氧基)丙酸酯(Aldrich 25,074-0)、(31)四(2,4-二-第三-丁基苯基)-4,4'-聯苯雙亞膦酸酯(Aldrich 46,852-5)、(32)4-第三-戊基苯酚(Aldrich 15,384-2)、(33)3-(2H-苯三唑-2-基)-4-羥苯乙醇(Aldrich 43,071-4)、NAUGARD 76、NAUGARD 445、NAUGARD 512，及NAUGARD 524(Uniroyal化學公司製)等及其混和物。當存在抗氧化劑時，其可存在於該組成物中任何需要或有效量，如，自約0.25重量%至約10重量%之組成物或自約1重量%至約5重量%之組成物。
黏著劑，如，VERSAMID 757、759或744(商業上可得自於Henkel)可存在於組成物自約0.01重量%之組成物至約98重量%之組成物、自約0.1重量%之組成物至約50重量%之組成物、自約5重量%之組成物至約10重量%之組成物。
當存在之添加劑各自或組合時，其可存在於該組成物中任何需要或有效量，如，自約1重量%至約10重量%之組成物或自約3重量%至約5重量%之組成物。
本文之組成物可有相變印墨(phase change ink)相似方式之作用。相變印墨(有時稱作「固態印墨」及「熱熔印墨」已用於各種液體沉積技術。相變印墨通常包含「相變劑」，係能使印墨在常溫下存在於固相，但在噴墨列印裝置提高操作溫度下亦存在於液相。在沉積操作溫度，液態墨滴自列印裝置噴出，並在印墨噴向或接觸記錄基板的表面上，係直接或藉由通過中間加熱傳輸帶或圓筒，使印墨快速固化而形成預設圖案之固化墨滴。相變印墨亦能使用在其他印刷技術，如，凹版印花，如同揭示在美國專利第5,496,879號。
本文之組成物為適用於噴墨列印機的應用，因為其在運送、長期儲存等之室溫下仍維持固相。此外，關於由於具溶劑為主的噴墨印墨之組成物蒸發造成的噴嘴堵塞的問題被大幅排除，因此改善了噴墨列印的再現性。此外，當直接施加該組成物微滴在PCB材料上，微滴與基板接觸後迅速固化，以致能防止印墨沿表面遷移及改善點和邊緣之品質。
一般而言，此組成物例如於周圍溫度或室溫時為固相，如約20℃至約27℃，但在噴墨列印裝置提高操作溫度下其以液相存在。在噴墨操作溫度時，印墨為熔融且液態墨滴自列印裝置噴出。
在具體實施例中，該組成物係可具有自約40℃至約85°C之熔點，例如自約40℃至約60℃、45℃至約55℃、或自約45℃至約50℃，而熔點為藉由例如在顯微鏡熱載台觀察及測量，其中該組成物加熱在載玻片上並以顯微鏡觀察，或藉由示差掃描熱析儀測量其特性。此外，該組成物係具有約5cP至約25cP之噴射黏度。
在具體實施例中，金屬表面係可藉由任何合適的方法塗布至印刷圖案的基板，如無電鍍、電解及浸泡。金屬可藉電鍍沉積，係包括但不限於貴金屬和非貴金屬及其合金。合適貴金屬的例子包括金、銀、鉑、鈀及其合金。合適的非貴金屬的例子包括銅、鎳、鈷、鉛、鐵、鉍、鋅、釕、銠、銣、銦及其合金。
該基板係可由例如矽、玻璃板、塑料薄膜或塑料薄片而組成。對於塑膠基板之結構上地撓性裝置，例如可使用聚酯薄片、聚碳酸酯薄片、聚醯亞胺薄片等。基板的厚度可自量10微米至約10毫米、約50微米至約2毫米，特別是用於撓性塑膠基板；以及用於剛性基板(如玻璃或矽)自約0.4毫米至10毫米。
任何合適的噴墨裝置或設備可被使用以選擇性以圖案施予印刷光罩組成物至金屬層。金屬層和印刷光罩之組合在此統稱為複合結構。此外，印刷光罩的圖案將與導電通路的圖案大致相似。而噴墨裝置已為熟知的技術，因此此種裝置在此不需要廣泛描述。如美國專利第6,547,380號(以參考文獻完整併入本文中)所述，噴墨列印系統一般為兩種類型：連續流及按需求滴墨。
在應用印刷光罩後，整個基板以蝕刻液處理，使無塗布印刷光罩的金屬層之區域被蝕刻而消失，僅留下圖案。合適的蝕刻液具有pH值範圍自2至6.5，或如自3至6，或如自3.5到5.5。蝕刻液係由溶質溶解在水中所組成。蝕刻液中溶質的例子包括：氯化銅、氯化鐵、鉻鹽、過氧化氫-硫酸和過氧化氫-硝酸。蝕刻化合物的其他例子包括描述在美國專利第4,144,119號、美國專利第4,437,931號、美國專利第3,666,131號、美國專利第4,849,124號、美國專利第4,130,454號、美國專利第4,859,281號、及美國專利第3,773,577號。而溶質可存在於蝕刻液中的量為0.1至90重量%之蝕刻液。
在蝕刻液完全去除或全部去除部分無塗布印刷光罩之金屬層後，然後該印刷光罩在少於約30秒之鹼性溶液(水性鹼)可被去除或「剝離」，因此，在約30秒以內可去除印刷光罩。
合適的鹼性溶液具有pH範圍自7.5至14、或如自8至13、或如自9至12。該鹼性溶液典型由金屬氫氧化溶質或金屬碳酸鹽溶質溶解於水中所組成。合適溶質的例子包括鹼金屬氫氧化物，如氫氧化鈉及氫氧化鉀；及鹼金屬碳酸鹽，如碳酸鈉和碳酸鉀。溶質的量可存在於鹼性溶液，係自約0.05重量%之鹼性溶液至約5重量%之鹼性溶液、自約0.1重量%之鹼性溶液至約4重量%之鹼性溶液、自約1重量%之鹼性溶液至約2重量%之鹼性溶液。
<實施例>
實施例1：組成物A之製備
組成物之製備為形成一種混合物，其係包含63.75重量份之十六酸(棕櫚酸)、63.75重量份之十八酸(硬脂酸)、63.75重量份之二十二酸(山萮酸)及50.00重量份之UNITHOX 450(乙氧基醇)，並在130℃下二小時，係隨標準每小時立方呎數(SCFH)氮氣氣泡在三葉瓣輪445轉。氮氣泡提供去除來自UNITHOX 450和酸縮合之水。混合後，將混合物冷卻至90℃，先以通過Whatman Grade第42號定量濾紙過濾，再以Advantex PTFE 1微米過濾器過濾。
實施例2：印刷組成物A至形成印刷光罩A
於玻璃基板上印刷之前，組成物A之黏度、熔點溫度及固化溫度皆要測量，以確定組成物A為適合噴墨印刷。而各種溫度下之組成物A的黏度係利用布氏(Brookfield)流變儀測量，測量的黏度結果顯示在下列表1。
此外，組成物A之熔點溫度和固化溫度則利用示差掃描熱析儀(DSC)測量。如第1圖所示，組成物A之熔點溫度為54.71℃、固化溫度為46.13℃。表1及第1圖顯示組成物A適合做為噴墨印刷的結果。
將組成物A噴至1 in2面積的玻璃基板上，係利用噴墨裝置以形成帶有適當厚度25μm的印刷光罩A。
實施例3：印刷光罩A之剝離性
印刷光罩A藉由旋轉噴霧(rotospray)設備施予含有1.2重量%碳酸鉀溶於水之鹼性溶液(50℃)而剝離去除。然後該基板以去離子水滴洗10秒。
實施例4：組成物B之製備
將UNICID350通過Whatman第3號濾紙及含9克DARCO G-60與19克矽藻土之Mott-40-微米濾盤而過濾。然後組成物之製備係藉由在130℃下二小時且在三葉瓣輪445轉下混和過濾的UNICID350(425.6重量份)與435.0重量份的二十二酸(山萮酸)、90重量份的URIREZ 2970(聚醯胺樹脂)及240.0重量份的KE-100(膠黏劑)。混合後，將混合物冷卻至105℃，並通過Whatman第3號膜在Mott-40-微米濾盤而過濾。
實施例5：印刷組成物B至形成印刷光罩
於玻璃基板上印刷之前，組成物B之黏度、熔點溫度及固化溫度皆要測量，以確定組成物B為適合噴墨印刷。而各種溫度下之組成物B的黏度係利用布氏(Brookfield)流變儀測量，測量的黏度結果顯示在下列表2。
此外，組成物B之熔點溫度和固化溫度則利用示差掃描熱析儀(DSC)測量。如第2圖所示，組成物B之熔點溫度為68.17℃、固化溫度為58.79℃。表2及第2圖顯示組成物B適合做為噴墨印刷的結果。
將組成物B噴至1 in2面積的玻璃基板上，係利用噴墨裝置以形成帶有適當厚度5μm的印刷光罩B。
實施例6：印刷光罩B之剝離性
印刷光罩B藉由旋轉噴霧(rotospray)設備塗布含有1.2重量%碳酸鉀溶於水之鹼性溶液(50℃)而剝離去除。然後該基板以去離子水滴洗10秒。
第1圖為實施例1的印刷光罩組成物之示差掃描熱析資料。
第2圖為實施例2的印刷光罩組成物之示差掃描熱析資料。

Claims (12)

  1. 一種印刷光罩，係得自一種組成物，該組成物包含至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物及至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物，其中使用鹼性溶液於約30秒以內可去除該印刷光罩；及其中該組成物不包括紫外線吸收劑。
  2. 如請求項1的印刷光罩，其中該組成物更包含具有下式之醇 其中x為約8至約30的整數。
  3. 如請求項1的印刷光罩，其中該組成物具有約40℃至約85℃的熔點。
  4. 如請求項1的印刷光罩，其中該組成物更包含至少一添加物，其選自由可塑劑、膠黏劑、聚醯胺樹脂、除生物劑、抗氧化劑、黏合劑所組成之群組。
  5. 如請求項1的印刷光罩，其中該至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物為具有約10至約50個碳原子的脂族羧酸。
  6. 如請求項5的印刷光罩，其中該至少一種含至少一個鹼可水解基之化合物為包含2個鹼可水解基的化合物。
  7. 如請求項6的印刷光罩，其中該包含2個鹼可水解基的化合物為經取代或未取代的具有下式之二酸 COOH-(C a H b )-COOH其中a為約10至約24的整數，b為a值兩倍的整數。
  8. 如請求項1的印刷光罩，其中該至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物為具有下式的乙氧化醇 其中x為約1至約50的整數，y為約1至約70的整數。
  9. 如請求項8的印刷光罩，其中該乙氧化醇係在每一乙氧化醇分子中包含約2個至約26個氧化乙烯基。
  10. 一種在基板上形成圖案之方法，係包括：施加金屬層至基板；選擇性施加組成物至金屬層以形成複合結構，其中該組成物包含至少一種含一個鹼可水解基之化合物及至少一種含至少一個氧化乙烯基之化合物；用蝕刻液接觸該複合結構以去除未被組成物包覆之部分金屬層；以及在用蝕刻液接觸該複合結構後，施予鹼性溶液在約30秒以內去除該組成物以在該基板上形成影像，其中該組成物不包括紫外線吸收劑。
  11. 如請求項10的方法，其中該鹼性溶液為鹼金屬氫氧化物或鹼金屬碳酸鹽溶液。
  12. 如請求項10的方法，其中該組成物藉由噴墨裝置選擇性施加至該金屬層。
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