TWI481552B - Hydrogen-containing solution manufacturing equipment - Google Patents

Description

含氫溶液製造設備

本發明「含氫溶液製造設備」，涉及一種能將氫氣與溶液充份混合，以取得含氫溶液之技術領域。

氫是無色、無味且無臭的化學元素，通常是以氣體的方式存在，進年來氫水的應用相當廣泛，例如鹼性活氫水能用以降低水的氧化作用，若飲用氫水，部份研究認為對於人體健康有所幫助。當然，許多工業設備或商品中也都有使用到氫水或是各式含氫溶液。

習知氫水或氫溶液的備製設備，多半體積龐大，或有的成本高、結構複雜，且混合效果差，常見的混合效果多半只能達到ORP-350~-400mV，或者需要拉長時間或提高氫氣壓力以輔助氫氣溶解。顯見，現有氫溶液混合結構仍不理想完善，實有改進的必要。

發明人有鑑於此，特以研創成本案，期能藉本案之提出，俾改進現有含氫溶液混合結構之缺點，期使氫溶液混合技術得以更臻完善且理想，符合實際需求。

為改善前述氫溶液混合效果不彰與設備過於複雜、成本過高等缺失，本發明其主要目的在於：提供一種含氫溶液製造設備，其利用霧化溶液甚至再配合循環混 合之方式達成氫與溶液充份混合之目的，具有結構簡易、成本低且混合效果佳等優點，透過製造設備能快速製造氧化還原電位高達ORP-600mV的含氫溶液。

為達成上述目的，本案具體之手段為：該種含氫溶液製造設備，至少包括有一氫氣桶、一溶液桶、一霧化元件與一暫存桶。

所述該氫氣桶，內部貯存有氫氣。該氫氣桶或可為氫氣產生機。該氫氣桶配接有一第一管體連接至暫存桶之任意位置，該第一管體亦可連接到一該霧化元件。

所述該溶液桶，內部貯存有溶液，例如水，但不以此為限。該溶液桶配接有一第二管體並連接至該霧化元件。

所述該霧化元件，其出口連接至該暫存桶，該霧化元件具有將進入之流體改以霧化、小分子之形態噴出之作用。

所述該暫存桶，依需要另連設有一第三管體，進而連接有一貯存桶。該貯存桶能方便移置該混合有氫氣之溶液。

所述該暫存桶，依需要另連設有一第四管體，該第四管體靠近末端連接有一閥體，且該第四管體叉接有一第五管體，該第五管體連接有一真空泵。

所述該暫存桶，依需要另連設有一第六管體，該第六管體經配接一泵浦後其另一端連接到該第二管體，形成一循環迴路。

所述該暫存桶，依需要設置有一液位感應器，該液位感應器能用以偵測該暫存桶之液位高度，以決定是否補水。

所述該暫存桶，依需要設置有一氧化還原電位計，其能用以衍生自動控制ORP值到達預設值時，能自動 進入休息模式或循環模式。

1‧‧‧氫氣桶

11‧‧‧第一管體

2‧‧‧溶液桶

21‧‧‧第二管體

22‧‧‧第七管體

23‧‧‧控制閥

3‧‧‧霧化元件

4‧‧‧暫存桶

41‧‧‧第三管體

42‧‧‧第四管體

43‧‧‧閥體

44‧‧‧第五管體

45‧‧‧真空泵

46‧‧‧第六管體

47‧‧‧泵浦

5‧‧‧貯存桶

61‧‧‧液位感應器

62‧‧‧氧化還原電位計

第一圖：係為本發明第一實施例之結構示意圖。

第二圖：係為本發明第一實施例之動作示意圖。

第三圖：係為本發明第二實施例之動作示意圖。

第四圖：係為本發明第三實施例之動作示意圖。

茲謹就本發明「含氫溶液製造設備」其結構組成，及所能產生的功效，配合圖式，舉一本案之較佳實施例詳細說明如下。

首請參閱第一圖所示，本案「含氫溶液製造設備」，至少包括有一氫氣桶1、一溶液桶2、一霧化元件3與一暫存桶4。該氫氣桶1，內部貯存有氫氣；該溶液桶2，內部貯存有溶液。該氫氣桶1配接有一第一管體11連接至該暫存桶4；且該溶液桶2配接有一第二管體21連接至該霧化元件3。該霧化元件3具有將進入之流體改以霧化、小分子之形態噴出的作用。該霧化元件3其出口連接至該暫存桶4，該暫存桶4內能用以容置經混合氫氣之溶液。

該暫存桶4，依需要另連設有一第三管體41，進而連接有一貯存桶5，該貯存桶5能方便移置該混合有氫氣之溶液。又該暫存桶4，依需要另連設有一第四管體42，該第四管體42靠近末端連接有一閥體43，且該第四管體42叉接有一第五管體44，該第五管體44連接有一真空泵45。

又該暫存桶4，依需要另連設有一第六管體 46，該第六管體46經配接一泵浦47後其另一端連接到第二管體21，形成一溶液之循環迴路；且該暫存桶4，依需要設置有一氧化還原電位計62。

另該暫存桶4，依需要設置有一液位感應器61，該液位感應器61能用以偵測該暫存桶4之液位高度，以決定是否補水。

本案實施時，如第二圖，先令真空泵45動作以便將暫存桶4內部之空氣以抽真空方式排出後形成真空狀態，而後關閉真空泵45，令該氫氣桶1之氫氣因正壓而流向暫存桶4，且溶液桶2之溶液因正壓而流向霧化元件3，經注入暫存桶4後，多餘的氫氣可以自閥體43排出，以維持壓力的平衡。經該霧化元件3進行溶液的霧化後，溶液被分散成為細小的顆粒與小分子，藉由將溶液其表面積增加，氫氣與溶液能進行充份的接觸與混合，經與氫氣充份混合後，即形成含氫溶液，最後收集於暫存桶4，而完成該含氫溶液之備製。

由於該暫存桶4配置有一氧化還原電位計62，若偵測暫存桶4內ORP值仍未到達預設值時，能自動進入循環模式，亦即令該泵浦47作動，使溶液經由第六管體46送回到第二管體21，以便再次進行霧化與混合；直到暫存桶4內ORP值到達預設值時，才停止該循環模式，而進入休息模式。

第三圖係為本案之第二實施例，相較於前一實施之不同，在於該第一管體11係直接連接到該霧化元件3；如此一來，溶液於被該霧化元件3進行霧化之同時也混入氫氣，亦能獲致氫氣與溶液充份混合之目的。

第四圖係為本案之第三實施例，相較於前兩實施之不同，在於該溶液桶2所配接之該第二管體21旁路有一第七管體22，該第七管體22連接至該暫存桶4之底部， 能作為快速補充液體使用，且該第七管體22上設置有一控制閥23，能用以控制該第七管體22之通路或封閉。

綜上所述，本案「含氫溶液製造設備」，結構簡易、成本低且混合效果佳，其技術內容完全符合發明專利之取得要件。本案在產業上確實得以利用，於申請前未曾見於刊物或公開使用，且非為公眾所知悉之技術。再者，本案有效解決先前技術中長期存在的問題並達成相關使用者與消費者長期的需求，得佐證本發明並非能輕易完成。本案富具專利法規定之「產業利用性」、「新穎性」與「進步性」等要件，爰依法提請專利，懇請 鈞局詳查，並儘早為准予專利之審定，以保護申請人之智慧財產權，俾勵創新。

本發明雖藉由前述實施例來描述，但仍可變化其形態與細節，於不脫離本發明之精神而達成，並由熟悉此項技藝之人士可了解。前述本案之較佳實施例，僅係藉本案原理可以具體實施的方式之一，但並不以此為限制，應依後附之申請專利範圍所界定為準。

1‧‧‧氫氣桶

11‧‧‧第一管體

2‧‧‧溶液桶

21‧‧‧第二管體

3‧‧‧霧化元件

4‧‧‧暫存桶

41‧‧‧第三管體

42‧‧‧第四管體

43‧‧‧閥體

44‧‧‧第五管體

45‧‧‧真空泵

46‧‧‧第六管體

47‧‧‧泵浦

5‧‧‧貯存桶

61‧‧‧液位感應器

62‧‧‧氧化還原電位計

Claims (9)

1. 一種含氫溶液製造設備，包括有：一氫氣桶，內部貯存有氫氣，該氫氣桶連設有一第一管體；一溶液桶，內部貯存有溶液，該溶液係為水，該溶液桶連設有一第二管體；一霧化元件，該霧化元件藉由該第二管體連接到該溶液桶；該霧化元件具有將進入之流體改以霧化之形態噴出之作用；一暫存桶，該霧化元件其出口連接至該暫存桶，且該第一管體與該暫存桶連接；該暫存桶，連設有一第四管體，該第四管體靠近末端連接有一閥體，且該第四管體叉接有一第五管體，該第五管體連接有一真空泵。
2. 如申請專利範圍第1項所述之含氫溶液製造設備，其中該氫氣桶為氫氣產生機。
3. 如申請專利範圍第1項所述之含氫溶液製造設備，其中該第一管體先連接到該霧化元件再連接到該暫存桶。
4. 如申請專利範圍第1項所述之含氫溶液製造設備，其中該暫存桶，連設有一第三管體，進而連接有一貯存桶。
5. 如申請專利範圍第1項所述之含氫溶液製造設備，其中該暫存桶，設置有一液位感應器，該液位感應器能用以偵測該暫存桶之液位高度。
6. 如申請專利範圍第1項所述之含氫溶液製造設備，其中該暫存桶，連設有一第六管體，該第六管體經配接一泵浦後，其另一端連接到該第二管體，形成一循環迴路。
7. 如申請專利範圍第6項所述之含氫溶液製造設備，其中該暫存桶，設置有一氧化還原電位計，其能用以偵測暫存桶內之ORP值。
8. 如申請專利範圍第7項所述之含氫溶液製造設備，其中該ORP值未達設定數值時，將令泵浦作動，使溶液於循環迴路中輸送。
9. 如申請專利範圍第1或3項所述之含氫溶液製造設備，其中該第二管體旁路有一第七管體，該第七管體末端連接至該暫存桶之底部，且該第七管體上設置有一控制閥。