CN204564389U - 一种喷雾器及其基片处理系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种喷雾器，包括：储存有待雾化的液体的储液腔体，内部设置有储液腔体加热管；通过输液组件与储液腔体连通的雾化腔体，具有底壁，输液组件包括吸液管和调节杆，调节杆固定于底壁，其顶部具有中空的混合区域，待雾化的液体通过吸液管进入混合区域；底壁具有气体通道，气体通过气体通道进入混合区域；在混合区域中，待雾化的液体在气体的作用下发生雾化后进入雾化腔体。本实用新型还涉及一种基片处理系统，包括至少一个上述的喷雾器。本实用新型中的气体通过气体通道进入调节杆顶部的混合区域，产生局部真空，迫使待雾化的液体顺利地通过吸液管进入混合区域中，使得液体和气体进行剧烈碰撞形成雾状液体，提高喷雾器的雾化量。
Description
技术领域
本实用新型涉及基片，更具体地涉及一种喷雾器及其基片处理系统。
背景技术
对于基片，例如半导体硅片，太阳能电池片及平板显示器，通常通过湿处理技术进行清洗，即将基片浸入化学液槽体内进行。现有技术中已知可以通过雾化液体来对基片进行处理，但是雾化量往往比较低，如此导致效率低下。
实用新型内容
为了解决上述现有技术存在的雾化量低的问题，本实用新型旨在提供一种喷雾器及其基片处理系统。
本实用新型所述的喷雾器，包括：储存有待雾化的液体的储液腔体，所述储液腔体的内部设置有储液腔体加热管；通过输液组件与所述储液腔体连通的雾化腔体，所述雾化腔体具有底壁，所述输液组件包括吸液管和调节杆，所述调节杆固定于所述底壁，所述调节杆的顶部具有中空的混合区域，所述待雾化的液体通过所述吸液管进入所述混合区域；所述底壁具有气体通道，气体通过所述气体通道进入所述混合区域；在所述混合区域中，所述待雾化的液体在所述气体的作用下发生雾化后进入所述雾化腔体。
所述输液组件还包括有支撑件，所述调节杆通过所述支撑件固定于所述底壁。
所述底壁具有底壁通孔，所述调节杆穿过所述底壁通孔延伸。
所述底壁通孔为台阶孔，所述支撑件容置于所述台阶孔中固定。
所述底壁具有回流孔，未雾化的液体通过所述回流孔从所述雾化腔体流回所述储液腔体。
所述调节杆具有调节杆通孔，所述吸液管的顶端容置于所述调节杆通孔中。
所述喷雾器还包括有通过连接管与所述雾化腔体连通的延伸腔体，所述延伸腔体的内部设置有延伸腔体加热管。
所述储液腔体的侧壁上设置有低液位传感器和高液位传感器。
本实用新型所述的基片处理系统，包括至少一个上述的喷雾器。
该基片处理系统包括通过阀门连通的密闭处理槽和所述喷雾器，至少一块基片容纳于所述密闭处理槽中。
本实用新型通过设置于储液腔体内部的储液腔体加热管加热待雾化的液体，使得液体分子的碰撞更为激烈，同时降低液体的粘度，便于后续的雾化，同时，气体从外部的储气器通过气体通道进入调节杆顶部的混合区域，产生局部真空，迫使待雾化的液体顺利地通过吸液管进入混合区域中，使得液体和气体进行剧烈碰撞形成雾状液体，从而进一步提高本喷雾器的雾化量。本实用新型提供的基片处理系统通过喷雾器的不同的气体和液体的选择对基片进行不同的处理，具有极大的灵活性能。
附图说明
图1是根据本实用新型的一个优选实施例的喷雾器的爆炸图；
图2是根据本实用新型的一个优选实施例的喷雾器的剖视图；
图3是图2的区域A的放大图；以及
图4是根据本实用新型的一个优选实施例的基片处理系统的示意图。
具体实施方式
下面结合附图，给出本实用新型的较佳实施例，并予以详细描述。
如图1所示，根据本实用新型的一个优选实施例的喷雾器10包括储液腔体1、输液组件2、雾化腔体3、连接管4和延伸腔体5。
储液腔体1内储存有待雾化的液体11，该待雾化的液体11从外部的储液器通过液体入口接头11a(例如锥形螺纹接头)进入储液腔体1内部。储液腔体1的内部设置有储液腔体加热管12，该储液腔体加热管12示出为由热氮气进行热传导，氮气通过氮气入口121进入储液腔体加热管12，然后通过氮气出口122流出，从而通过热氮气将热量传递给待雾化的液体11，使得液体分子的碰撞更为激烈，同时降低液体的粘度，便于后续的雾化，从而提高本喷雾器的雾化量。储液腔体1的侧壁上设置有低液位传感器13和高液位传感器14，当待雾化的液体11的液面低于低液位传感器13时，系统控制从外部的储液器通过液体入口接头11a向储液腔体1内部补充液体，当待雾化的液体11的液面达到高液位传感器14时，系统控制停止从外部的储液器向储液腔体1内部补充液体的动作。
雾化腔体3的底部外壁示出为通过螺纹固定于储液腔体1的顶部内壁，从而将雾化腔体3固定于储液腔体1的上方。输液组件2将储液腔体1和雾化腔体3连通起来。其中，该输液组件2包括吸液管21、调节杆22和支撑件23，该输液组件2固定于雾化腔体3。如图2和图3所示，雾化腔体3具有底壁31，底壁31具有底壁通孔312，调节杆22穿过底壁通孔312延伸，从而通过支撑件23固定于底壁31。其中，该底壁通孔312为台阶孔，支撑件23容置于台阶孔的下段(直径较大的孔段)中固定。在本实施例中，底壁31的台阶孔的直径较大的孔段中具有内螺纹，而支撑件23具有外螺纹，从而通过螺纹配合使得支撑件23固定于底壁31，同时，调节杆22也通过螺纹配合固定于支撑件23，借此，调节杆22固定于雾化腔体3。调节杆22具有调节杆通孔221，吸液管21的顶端容置于调节杆通孔221中，例如该吸液管21的顶端通过螺纹配合固定于调节杆22的调节杆通孔221，实现吸液管21和调节杆22的相对固定。吸液管21的底端浸没在储液腔体1中的液体中，例如吸液管21的底端邻近于储液腔体1的底壁设置。调节杆22的顶部具有中空的混合区域22a，待雾化的液体11通过吸液管21进入该混合区域22a中。另外，底壁31还具有气体通道311，气体32通过气体通道311进入混合区域22a中，从而在该混合区域22a中，待雾化的液体11在气体32的作用下发生雾化后进入雾化腔体3。在本实施例中，该气体32例如为氮气，其从外部的储气器通过气体入口接头32a(例如锥形螺纹接头)进入气体通道311，从而进入雾化腔体3内部。该气体32在进入的过程中，在混合区域22a中产生局部真空，迫使待雾化的液体11顺利地通过吸液管21进入该混合区域22a中，使得液体11和气体32进行剧烈碰撞形成雾状液体，从而实现雾化，从而进一步提高本喷雾器的雾化量。
如图2所示，底壁31具有回流孔313，从调节杆22进入雾化腔体3内部的少量未雾化的液体通过该回流孔313从雾化腔体3流回储液腔体1内，从而确保雾化完全。
延伸腔体5通过连接管4与雾化腔体3连通，借此使得雾化腔体3内的的雾状液体进入延伸腔体5。延伸腔体5的内部设置有延伸腔体加热管51。该延伸腔体加热管51同样示出为由热氮气进行热传导，氮气通过氮气入口511进入延伸腔体加热管51，然后通过氮气出口512流出，从而通过热氮气将热量传递给雾状液体，使得雾状液体的碰撞更为激烈，进一步加强雾化，从而提高本喷雾器的雾化量。在本实施例中，该连接管4例如通过一接头6螺纹连接于雾化腔体3，该接头6可以单独形成后焊接于雾化腔体3上，也可以与雾化腔体3一体成型，只要能够将连接管3气密地连接固定于雾化腔体3即可。
如图4所示，根据本实用新型的一个优选实施例的基片处理系统100包括有至少一个根据本实用新型的一个优选实施例的上述的喷雾器10。具体地，该基片处理系统100包括密闭处理槽20，至少一块基片30容纳于该密闭处理槽20中，该密闭处理槽20可以呈现为图中的长方形，也可以是任何其他所需的形状。该密闭处理槽20由槽体210和盖体220组装形成，以便于将基片30放入密闭处理槽20中或者从密闭处理槽20中取出。喷雾器10排出的雾状液体通过一排阀门40被引入密闭处理槽20内，其中，阀门40和喷雾器10的数目取决于对基片工艺处理需求，可以根据需要进行调整。该引入处理过程中的压力通过压力传感器来进行调控，相应的电子模拟信号反馈给计算机控制系统，该部分内容属于现有技术，在此不再赘述。密闭处理槽20的下游连接有真空泵50和通风阀60，从而借助于该真空泵50和通风阀60实现密闭处理槽20内的压力控制。密闭处理槽20的下游还连接有排液控制阀70，使得密闭处理槽20的底部与相应的废液排液管路连通。
在具体的应用过程中，根据具体的需要开启阀门40，使得雾状液体从相应的喷雾器10进入密闭处理槽20内，这些雾状液体因受热量和压力作用于基片30上对该基片进行清洗。在清洗基片时，不同的气体和不同的液体被选择对基片进行不同的处理，例如，利用臭氧气体雾化去离子水(H2O)来祛除基片上的常见颗粒和剥离光胶，利用氟化氢气体雾化液态的过氧化氢(H2O2)防止基片上粘附各类颗粒，利用氟化氢气体雾化去离子水(H2O)来祛除金属物质和氧化物颗粒，使得本实用新型提供的基片处理系统100具有极大的灵活性能。
以上所述的，仅为本实用新型的较佳实施例，并非用以限定本实用新型的范围，本实用新型的上述实施例还可以做出各种变化。即凡是依据本实用新型申请的权利要求书及说明书内容所作的简单、等效变化与修饰，皆落入本实用新型专利的权利要求保护范围。本实用新型未详尽描述的均为常规技术内容。
Claims (10)
1.一种喷雾器，其特征在于，所述喷雾器包括：
储存有待雾化的液体的储液腔体，所述储液腔体的内部设置有储液腔体加热管；
通过输液组件与所述储液腔体连通的雾化腔体，所述雾化腔体具有底壁，所述输液组件包括吸液管和调节杆，所述调节杆固定于所述底壁，所述调节杆的顶部具有中空的混合区域，所述待雾化的液体通过所述吸液管进入所述混合区域；所述底壁具有气体通道，气体通过所述气体通道进入所述混合区域；在所述混合区域中，所述待雾化的液体在所述气体的作用下发生雾化后进入所述雾化腔体。
2.根据权利要求1所述的喷雾器，其特征在于，所述输液组件还包括有支撑件，所述调节杆通过所述支撑件固定于所述底壁。
3.根据权利要求2所述的喷雾器，其特征在于，所述底壁具有底壁通孔，所述调节杆穿过所述底壁通孔延伸。
4.根据权利要求3所述的喷雾器，其特征在于，所述底壁通孔为台阶孔，所述支撑件容置于所述台阶孔中固定。
5.根据权利要求1所述的喷雾器，其特征在于，所述底壁具有回流孔，未雾化的液体通过所述回流孔从所述雾化腔体流回所述储液腔体。
6.根据权利要求1所述的喷雾器，其特征在于，所述调节杆具有调节杆通孔，所述吸液管的顶端容置于所述调节杆通孔中。
7.根据权利要求1所述的喷雾器，其特征在于，所述喷雾器还包括有通过连接管与所述雾化腔体连通的延伸腔体，所述延伸腔体的内部设置有延伸腔体加热管。
8.根据权利要求1所述的喷雾器，其特征在于，所述储液腔体的侧壁上设置有低液位传感器和高液位传感器。
9.一种基片处理系统，其特征在于，所述基片处理系统包括至少一个根据权利要求1-8中任一项所述的喷雾器。
10.根据权利要求9所述的基片处理系统，其特征在于，该基片处理系统包括通过阀门连通的密闭处理槽和所述喷雾器，至少一块基片容纳于所述密闭处理槽中。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520065255.6U CN204564389U (zh) | 2015-01-29 | 2015-01-29 | 一种喷雾器及其基片处理系统 |
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| CN201520065255.6U CN204564389U (zh) | 2015-01-29 | 2015-01-29 | 一种喷雾器及其基片处理系统 |
Publications (1)
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| CN201520065255.6U Active CN204564389U (zh) | 2015-01-29 | 2015-01-29 | 一种喷雾器及其基片处理系统 |
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| CN (1) | CN204564389U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109470420A (zh) * | 2018-11-26 | 2019-03-15 | 惠州和创智造科技有限公司 | 一种流体系统气密性烟雾检漏装置 |
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- 2015-01-29 CN CN201520065255.6U patent/CN204564389U/zh active Active
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