TWI465562B - 洗淨液組成物及基板之洗淨方法 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種洗淨液組成物及基板之洗淨方法,且特別是有關於一種針對玻璃基板,具洗淨力佳且消泡性佳之洗淨液組成物。
以往,作為電視、個人電腦、鐘錶等液晶顯示用之玻璃基板,如鈉鈣玻璃、硼矽玻璃、矽玻璃、無鹼玻璃等,可經溶融成形工程製得玻璃母板,並切割成任意尺寸以供使用。
另外,近年來常用於彩色液晶顯示器、感測器及色分解裝置等之彩色濾光片,亦於透明玻璃基板上形成黑色矩陣及紅、綠、藍之畫素畫像,並使用分散顏料用之感光性樹脂,以一般微影製程(photolithography)製得。
然而,上述玻璃基板於切割時,玻璃切削粉(glass cullet)常附著於基板上而妨礙後續之精密的研磨製程、膜處理製程等。此外,彩色濾光片於製造時,飛散的微粒或前製程使用的感光性樹脂之殘渣等亦會附著於基板上,其不僅造成製品良率的低下,且當彩色濾光片與TFT array貼合時甚至可能產生共同短路(common short)之情形。
因此,上述製程中導入了玻璃基板的洗淨製程,而基板的製造及加工廠商為了提高製造良率,亦致力於洗淨技術的提升。特別是近年來,對於製品高度信賴性的需求,以及彩色濾光片之高精度化的走向,玻璃基板清淨化的要求變得愈來愈高。
為有效清除上述基板上殘存之附著物,目前業界改善之方式,乃採用特定之洗淨液組成物清洗玻璃基板。日本特開2009-084565號公開特許公報揭示,使用含非離子型界面活性劑、水、特定酸(或其鹽類)及鹼劑之鹼型非離子界面活性劑組成物等。然而,使用上述洗淨液組成物清洗玻璃基板時,仍有洗淨力不佳、消泡性不佳之問題,造成成本提高。
有鑑於此,亟需提出一種洗淨液組成物及基板之洗淨方法,藉以改善習知之洗淨液組成物洗淨力不佳、消泡性不佳等缺點。
因此,本發明之一態樣是在提供一種洗淨力佳且消泡性佳之洗淨液組成物,該洗淨液樹脂組成物至少包含鹼性化合物(A)、如式(I)或式(II)所示之非離子型界面活性劑(B)、多羥基羧酸化合物(C)以及水(D)。
本發明之另一態樣是在提供一種基板之洗淨方法,其係利用上述洗淨液組成物清洗基板。
本發明之洗淨液組成物包括鹼性化合物(A)、如式(I)或式(II)所示之非離子型界面活性劑(B)、多羥基羧酸化合物(C)以及水(D),以下析述之。
本發明之鹼性化合物(A)包含無機鹼性化合物(A-1)及/或有機鹼性化合物(A-2)。
上述無機鹼性化合物(A-1)之具體例,如:氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銨等之鹼金屬氫氧化物;磷酸氫二銨、磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二氫銨、磷酸二氫鈉、磷酸二氫鉀等之鹼金屬或銨之磷酸鹽類;矽酸鋰、矽酸鈉、矽酸鉀等之鹼金屬矽酸鹽類;碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀等之鹼金屬碳酸鹽類;硼酸鋰、硼酸鈉、硼酸鉀等之鹼金屬硼酸鹽類。其中,以鹼金屬氫氧化物為較佳。上述之無機鹼性化合物(A-1)可以單獨一種使用或者混合複數種使用。
本發明之有機鹼性化合物(A-2)包含氫氧四級銨基鹽類化合物及有機胺類之有機鹼性化合物。上述氫氧四級銨基鹽類化合物之具體例,如:氫氧四甲銨(tetramethyl ammonium hydroxide)、氫氧四乙胺、氫氧四丙胺、氫氧四丁胺、2-羥基-氫氧三甲銨(2-hydroxyl trimethyl ammonium hydroxide)等化合物;而有機胺類之具體例如:單甲胺、二甲胺、三甲胺、單乙胺、二乙胺、三乙胺、單異丙胺(monoisopropylamine)、二-異丙胺(di-isopropylamine)、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2-(2-胺基乙氧基)乙醇(2-(2-aminoethoxy) ethanol)、單異丙醇胺(monoisopropanol-amine)、二異丙醇胺、三異丙醇胺、正乙基乙醇胺(N-ethyl ethanolamine)、正丁基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺(N,N-dimethyl ethanolamine)、N,N-二甲基丙醇胺、N,N-二甲基異丙醇胺(N,N-dimethyl isopropanolamine)、環己胺、嗎啉(morpholine)等化合物。上述之有機鹼性化合物(A-2)可以單獨一種使用或者混合複數種使用。
本發明之有機鹼性化合物(A-2),於製造上因不含有金屬離子,故對於薄膜電晶體等半導體元件較不易產生殘影等不良影響。其中,乃以單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺以及單異丙醇胺為較佳。
本發明之非離子型界面活性劑(B)係具有如式(I)或式(II)所示之結構:
在式(I)及式(II)中,EO為乙氧基;AO為PO及/或BO,PO為丙氧基,且BO為丁氧基;m為3~100之數;n為0~0.2×m之數;p為3~100之數;q為0至0.2×p之數;x為1或2;且y為1或2。
其次,在式(I)及式(II)中,m與p為平均加成莫耳數,m與p可互為不同,且n與q可互為不同。當AO為PO時,n與q為PO之平均加成莫耳數;當AO為BO時,n與q為BO之平均加成莫耳數;當AO包含PO及BO時,n與q則為PO之平均加成莫耳數以及BO之平均加成莫耳數的總和。在式(I)之(EO)m
(AO)n
以及式(II)之(EO)p
(AO)q
中,其各自的EO與AO的排列可為嵌段或隨機。當式(I)及式(II)之AO包含PO及BO時,PO與BO的排列可為嵌段或隨機。EO亦可為嵌段或隨機排列的方式插入由PO及/或BO構成的排列中。上述之平均加成莫耳數可利用1
H-核磁共振光譜儀(1
H-NMR spectroscopy)測定。
當EO與AO為嵌段排列時,只要各個平均加成莫耳數在上述範圍之內,則EO的嵌段數與AO的嵌段數可分別為1個或分別為2個以上。其次,當EO構成之嵌段數為2個以上時,各嵌段中EO的重複數可互為相同或不同。當EO以嵌段排列的方式插入由PO及/或BO構成的排列時亦然,EO之嵌段數可為1個或2個以上。當EO的嵌段數為2個以上時,各嵌段中EO的重複數可互為相同或不同。
當AO包含PO及BO時,PO與BO可為嵌段排列,只要PO的嵌段數與BO的嵌段數之各個平均加成莫耳數在上述範圍內即可,可分別為1個或分別為2個以上。其次,當PO構成之嵌段數為2個以上時,各嵌段中PO的重複數可互為相同或不同。當BO的嵌段數為2個以上時,各嵌段中BO的重複數可互為相同或不同。
再者,基於確保非離子型界面活性劑(B)具有適當的水溶性之考量下,式(I)及式(II)構成醚鍵的氧原子(O)以與EO鍵結為較佳。
又,為了提高玻璃基板表面附著之樹脂污垢的剝離性,因此式(I)與式(II)的m與p較佳分別為3至70之數,更佳分別為3至50之數;n較佳為0至0.1×m之數,更佳為0;而q較佳為0至0.1×p之數,更佳為0。
本發明之非離子型界面活性劑(B)中,較佳為m為5至50之數且n為0之聚乙氧基二苯乙烯化苯醚,如聚乙氧基-3,5-雙(1-苯乙基)苯醚(EO個數為13)、聚乙氧基-3,5-雙(1-苯乙基)苯醚(EO個數為19)、聚乙氧基-3,5-雙(1-苯乙基)苯醚(EO個數為64)、商品化之EMULGEN A-60、EMULGEN A-90、EMULGEN A-500(花王製)、Sinopol 607、Sinopol 609、Sinopol 610、Sinopol 614、Sinopol 620、Sinopol 623(中日合成化學製)等;p為5至50之數且q為0之聚乙氧基三芐基化苯醚,如聚乙氧基-2,4,6-三(1-苯甲基)苯醚(EO個數為14)、商品化之EMULGEN B-66(花王製)等。其中,更佳為聚乙氧基-3,5-雙(1-苯乙基)苯醚(EO個數為19)、聚乙氧基-3,5-雙(1-苯乙基)苯醚(EO個數為64)、EMULGEN A-60、EMULGEN A-90、Sinopol 607、Sinopol 609、Sinopol 620、Sinopol 623、聚乙氧基-2,4,6-三(1-苯甲基)苯醚(EO個數為14)以及EMULGEN B-66。
上述之非離子型界面活性劑(B)可以單獨一種使用或者混合複數種使用。
本發明之洗淨液組成物中,基於鹼性化合物(A)100重量份,非離子型界面活性劑(B)之使用量通常為10至300重量份,較佳為15至250重量份,更佳為20至200重量份。若無使用非離子型界面活性劑(B),則會因濕潤性不佳而造成洗淨力不佳之問題。
本發明之多羥基羧酸化合物(C)可包含2個或2個以上之羥基,例如酒石酸(鹽)、甘油酸(鹽)、咖啡酸(鹽)(caffeic acid)、二羥基苯甲酸(dihydroxy-benzoic acid)、二羥基苯乙酸(鹽)(dihydroxyphenylacetic acid)、3-羥基苯乙醇酸(鹽)、二羥基-2-二萘甲酸(鹽)(3,5-dihydroxy-2-naphthalenecarboxylic acid)等包含2個羥基之多羥基羧酸化合物;沒食子酸(鹽)、莽草酸(鹽)(shikimic acid)、三羥基棕櫚酸(鹽)(trihydroxy palmitic acid)、二羥基苯乙醇酸(鹽)等包含3個羥基之多羥基羧酸化合物;黏液酸(鹽)(mucic acid)、氨基葡萄糖酸(鹽)、二羥基酒石酸(鹽)、阿糖酸(鹽)等包含4個羥基之多羥基羧酸化合物;葡萄糖酸(鹽)(gluconic acid)、半乳糖酸(鹽)(galactonic acid)、葡庚糖酸(鹽)(glucoheptonic acid)等鹼金屬鹽或低級胺鹽等包含5個羥基以上之多羥基羧酸化合物。
上述之多羥基羧酸化合物(C)可以單獨一種使用或者混合複數種使用。
基於鹼性化合物(A)100重量份,多羥基羧酸化合物(C)的使用量通常為10重量份至300重量份,較佳為15重量份至250重量份,更佳為20重量份至200重量份。若無使用多羥基羧酸化合物(C),則會有泡沫過多造成水垢容易累積之問題。當多羥基羧酸化合物(C)含3個或3個以上之羥基時,則可進一步提升消泡性,並減緩水垢的產生。
另外,在不影響本發明之洗淨液的消泡性質下,亦可選擇性併用單羥基羧酸化合物,其具體例如:乳酸(鹽)、蘋果酸(鹽)、檸檬酸(鹽)、水楊酸(鹽)、乙醇酸(鹽)、羥基丁酸(鹽)、羥基庚酸(鹽)、羥基辛酸(鹽)、羥基壬酸(鹽)、羥基癸酸(鹽)、羥基苯乙酸(鹽)、羥基苯丙酸(鹽)、羥基環丙烷羧酸(鹽)、羥基環己烷羧酸(鹽)等。
本發明中所使用的水(D)並無特別限制。其具體例如:蒸餾水、純水(經離子交換樹脂等行脫鹽處理而得之水)、超純水(除無機離子外,不含有機物、生菌、微粒子及溶解氣體)及近年來被提案之各種機能水等。基於金屬離子對電子控制迴路具不佳影響,本發明中所使用的水(D)較佳為純水或超純水,更佳為超純水。其中,上述超純水可藉由將自來水通過活性碳、離子交換處理、蒸餾處理後,必要時以紫外光照射殺菌,或者通過過濾器而得。根據25℃之電阻值來區分,電阻值在1MΩ‧cm以上即可稱為純水,電阻值在10MΩ‧cm以上即可稱為超純水。
本發明之洗淨液組成物中,基於鹼性化合物(A)100重量份,水(D)之使用量通常為300重量份至25,000重量份,較佳為400重量份至20,000重量份,更佳為500重量份至15,000重量份。當水(D)之使用量介於300重量份至25,000重量份時,較不易有洗劑殘留及洗淨力下降之問題。
本發明之洗淨液組成物可進一步選擇性加入添加劑(E),例如:pH調整劑、有機溶劑、消泡劑、抗氧化劑、防腐劑等。
上述pH調整劑之具體例如:鹽酸、硫酸、硝酸、磺胺酸、磷酸等之無機酸;氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等之無機鹼等。上述之pH調整劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
上述之有機溶劑以於20℃時對水之溶解度以3(g/100g)以上為佳,然以10以上為更佳,其具體例如:二甲基亞碸、環丁碸、3-甲基環丁碸、2,4-二甲基環丁碸等之亞碸類;二甲碸、二乙碸、雙(2-羥乙基)碸等之碸類;N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基丙酼胺等之醯胺類;N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-羥甲基-2-吡咯烷酮等之內醯胺類;β-丙內酯、β-丁內酯、γ-丁內酯、γ-戊內酯、δ-戊內酯等之內酯類;甲醇、乙醇、異丙醇等之醇類;乙二醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚、二乙二醇單己基醚、二乙二醇單苯基醚、三乙二醇單甲基醚、丙二醇、丙二醇單甲基醚、二丙二醇單甲基醚、1,3-丁二醇、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、三乙二醇二甲基醚、三乙二醇三乙基醚等之乙二醇及乙二醇醚類;N-甲基-2-噁唑烷酮、3,5-二甲基-2-噁唑烷酮等之噁唑烷酮(oxazolidinone)類;乙腈、丙腈、丁腈、丙烯腈、甲基丙烯腈、苯甲腈等之腈(nitrile)類;碳酸鹽類;(碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯等);丙酮、二乙酮、苯乙酮、甲乙酮、環己酮、環戊酮、二丙酮醇等之酮類;四氫呋喃、四氫吡喃等之環醚類等。上述之有機溶劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
上述消泡劑之具體例如:聚矽氧系、高級醇系、聚醚系、脂肪酸酯系、聚乙二醇系、礦物油系及包含下述結構式(III)所表示之化合物:
在式(III)中,z表示1或2之整數,R表示下述式(IV)所表示之官能基:
在式(IV)中,w表示3至7之整數。
上述之結構式(III)所表示之化合物之具體例如:商品名Surfynol MD-20、Surfynol MD-30(Air Products and Chemicals公司製)。
上述之消泡劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
上述抗氧化劑之具體例如:2,6-二-第三丁基苯酚、2-第三丁基-4-甲氧基苯酚、2,4-二甲基-6-第三丁基苯酚等之苯酚系;單辛基二苯胺、單壬基二苯胺、4,4’-二丁基二苯胺、4,4’-二戊基二苯胺、四丁基二苯胺、四己基二苯胺、α-萘胺、苯基-α-萘胺等之胺系;吩噻嗪(phenothiazine)、季戊四醇四(3-月桂基硫代丙酸酯)、雙(3,5-第三丁基-4-羥基芐基)硫醚(bis(3,5-t-butyl-4-hydroxybenzyl)sulfide)等之硫系;二亞磷酸雙(2,4-二-第三丁基苯基)季戊四醇酯、亞磷酸一苯二異葵酯、亞磷酸二苯二異辛酯、亞磷酸三苯酯等之磷系等。上述之抗氧化劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
上述防腐劑之具體例如:六氫-1,3,5-三(羥乙基)-s-三嗪等之三嗪(triazine)衍生物;1,2-苯並異噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮、5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮等之異噻唑啉(isothiazolin)衍生物;4-(2-硝基丁基)嗎啉、4,4-(2-乙基-2-硝基三亞甲基)二嗎啉等之嗎啉衍生物;2-(4-噻唑基)苯並咪唑等之苯並咪唑(benzimidazole)衍生物等。上述之防腐劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
本發明之洗淨液組成物中,基於鹼性化合物(A)100重量份,添加劑(F)之使用量視種類而異;消泡劑之使用量通常為1重量份至10重量份,較佳為2重量份至9重量份,更佳為3重量份至8重量份;抗氧化劑、及防腐劑之使用量通常為10重量份以下,較佳為8重量份以下,更佳為5重量份以下;pH調整劑之使用量通常為90重量份以下,較佳為85重量份以下,更佳為80重量份以下;有機溶劑之使用量通常為500重量份以下,較佳為400重量份以下,更佳為300重量份以下。
本發明之洗淨液組成物在25℃時之表面張力通常為25 dyne/cm至60 dyne/cm,較佳為25 dyne/cm至50 dyne/cm,更佳為25 dyne/cm至40 dyne/cm。當洗淨液組成物在25℃時之表面張力為25 dyne/cm至60 dyne/cm時,則有濕潤性佳、洗淨力強之優點。
本發明之洗淨液組成物的製備,一般係將上述鹼性化合物(A)、非離子型界面活性劑(B)、多羥基羧酸化合物(C)以及水(D),並可視需要添加pH調整劑、有機溶劑、消泡劑、抗氧化劑、防腐劑等添加劑(E),於攪拌器中攪拌,使其均勻混合成溶液狀態,即可獲得洗淨液組成物。
本發明進一步提供一種基板之洗淨方法,該洗淨方法係使用前述所得之洗淨液組成物清洗基板;具體的洗淨手段包括但不限於浸泡法、沖淋法、刷洗法、超音波洗淨法及泡沫洗淨法等方法。其中,浸泡法係於浸泡槽內填滿洗淨液組成物,再將基板浸入洗淨液組成物內;沖淋法係將洗淨液組成物以沖淋、噴霧、噴射等方式清洗基板;刷洗法係將洗淨液組成物利用海綿、刷子等工具對基板進行清洗。
本發明之洗淨液組成物,可應用於鈉鈣玻璃、硼矽玻璃、二氧化矽玻璃及無鹼玻璃等玻璃基板的洗淨。
以下利用數個實施方式以說明本發明之應用,然其並非用以限定本發明,本發明技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾。
以下係根據第1表製備實施例1至9以及比較例1至4之洗淨液組成物。
將100重量份的氫氧化鉀(potassium hydroxide,以下簡稱A-1)、80重量份的聚乙氧基-3,5-雙(1-苯乙基)苯醚(EO個數為19;以下簡稱B-1)、150重量份的酒石酸(以下簡稱C-1)以及3000重量份之水。上述各成份以搖動式攪拌器混合均勻,即可獲得洗淨液組成物。所得之洗淨液組成物以下列各評價方式進行評價,其結果如第1表所述,其中表面張力、洗淨力以及消泡性的檢測方法容後再述。
實施例2至9
同實施例1之洗淨液組成物的製作方法,不同處在於實施例2至9係改變洗淨液組成物中原料的種類及使用量,其配方以及檢測結果如第1表所示,此處不另贅述。
比較例1至4
同實施例1洗淨液組成物的製作方法,不同處在於比較例1至4所製得之洗淨液組成物並未同時使用非離子型界面活性劑(B)及多羥基羧酸化合物(C),其配方及檢測結果亦如第1表所示。
1.表面張力:
以恆溫水槽控制洗淨液組成物在25℃,並使用表面張力儀(Tensiometer Model CBVP-A2,協和界面科學製)量測表面張力。(單位:dyne/cm)。測量所得之表面張力如第1表之所述。
2.洗淨力
將鈉鈣玻璃(Soda Lime Glass)粉碎,並將碎粉(粒徑介於10μm至100μm)均勻分散於水中後,塗佈於一玻璃基板上(20mm×100mm)。接著,於110℃下乾燥30分鐘後,浸泡在洗淨液組成物中,並以恆溫水槽控制在25℃。於浸泡3分鐘後,以500mL純水洗淨,然後以高壓空氣吹乾。之後,利用以顯微鏡(放大倍率為50倍)觀察玻璃基板之表面狀態,並根據以下基準進行評價:
○:無切削粉殘留。
╳:有明顯的切削粉殘留。
3.消泡性
取50mL之實施例1至9以及比較例1至4所製得之各種洗淨液組成物,倒入100mL量筒,上下震盪20回後,量測泡沫高度(T1),靜置30秒後,再次量測泡沫高度(T2),並根據下式(III)進行評價:
消泡率(%)=[(T1-T2)/(T1)]×100 (V)
◎:90%≦消泡率。
○:80%≦消泡率<90%。
△:50%≦消泡率<80%。
╳:消泡率<50%。
前述實施例所得之洗淨液組成物,其表面張力、洗淨力以及消泡性之評估結果如第1表所示。
由第1表之結果可知,當同時使用非離子型界面活性劑(B)及多羥基羧酸化合物(C),所製得的洗淨液組成物具有較佳的洗淨力與較佳的消泡性。其次,當同時使用非離子型界面活性劑(B)及含有3個羥基之多羥基羧酸化合物(C)時,可獲致更佳的消泡性,故確實可達到本發明之目的。
比較例5
此外,取100重量份的氫氧化鉀、83重量份的非離子型界面活性劑(商品名EMALGEN LS-110;花王製)、83重量份的對甲苯磺酸鈉(sodium p-toluenesulfonic acid)以及3900重量份之水。上述各成份以搖動式攪拌器混合均勻,即可獲得洗淨液組成物,所得之洗淨液組成物亦以上列各評價方式進行評價。以上述各評價方式進行效能評估後,所得之洗淨力以及消泡性皆為╳。
需補充的是,本發明雖以特定的化合物、組成、反應條件、製程、分析方法或特定儀器作為例示,說明本發明之洗淨液組成物及基板之洗淨方法,惟本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者可知,本發明並不限於此,在不脫離本發明之精神和範圍內,本發明之洗淨液組成物及基板之洗淨方法亦可使用其他的化合物、組成、反應條件、製程、分析方法或儀器進行。
雖然本發明已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本發明,在本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
Claims (7)
- 一種洗淨液組成物,包含:鹼性化合物(A);如式(I)或式(II)所示之非離子型界面活性劑(B);
- 如申請專利範圍第1項所述之洗淨液組成物,其中該非離子型界面活性劑(B)之該EO與該AO為嵌段排列或隨機排列。
- 如申請專利範圍第1項所述之洗淨液組成物,其中該非離子型界面活性劑(B)之該AO中,該PO與該BO為嵌段排列或隨機排列。
- 如申請專利範圍第1項所述之洗淨液組成物,其中該多羥基羧酸化合物(C)含有4個或4個以上羥基。
- 如申請專利範圍第1項所述之洗淨液組成物,其中基於該鹼性化合物(A)為100重量份,該非離子型界面活性劑(B)的使用量為10重量份至300重量份,該多羥基羧酸化合物(C)的使用量為10重量份至300重量份,且該水(D)的使用量為500重量份至30,000重量份。
- 如申請專利範圍第1項所述之洗淨液組成物,其中該洗淨液組成物之表面張力為25dyne/cm至60dyne/cm。
- 一種清洗基板之方法,其係使用如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之洗淨液組成物清洗一基板。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0397407B1 (en) * | 1989-05-12 | 1993-04-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic plate finisher |
CN1225529C (zh) * | 1999-04-20 | 2005-11-02 | 关东化学株式会社 | 电子材料用基板洗净液 |
US20090197786A1 (en) * | 2006-07-31 | 2009-08-06 | Reckitt Benckiser (Uk) Limited | Hard Surface Cleaning Compositions |
US7888300B2 (en) * | 2008-03-19 | 2011-02-15 | Fujifilm Corporation | Cleaning liquid for semiconductor device and cleaning method |
US20110039748A1 (en) * | 2007-12-10 | 2011-02-17 | Reckitt Benckiser Inc. | Hob Cleaning Composition |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MY156416A (en) * | 2007-09-14 | 2016-02-26 | Kao Corp | Alkali-type nonionic surfactant composition |
CN102134529B (zh) * | 2010-01-21 | 2012-11-28 | 奇美实业股份有限公司 | 用于清洗太阳能电池基板的洗净液组成物 |
-
2012
- 2012-03-29 TW TW101111136A patent/TWI465562B/zh not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-03-15 CN CN201310082587.0A patent/CN103361206B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0397407B1 (en) * | 1989-05-12 | 1993-04-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic plate finisher |
CN1225529C (zh) * | 1999-04-20 | 2005-11-02 | 关东化学株式会社 | 电子材料用基板洗净液 |
US20090197786A1 (en) * | 2006-07-31 | 2009-08-06 | Reckitt Benckiser (Uk) Limited | Hard Surface Cleaning Compositions |
US20110039748A1 (en) * | 2007-12-10 | 2011-02-17 | Reckitt Benckiser Inc. | Hob Cleaning Composition |
US7888300B2 (en) * | 2008-03-19 | 2011-02-15 | Fujifilm Corporation | Cleaning liquid for semiconductor device and cleaning method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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