TWI464462B - 導光板及導光板之製造方法 - Google Patents

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Description

導光板及導光板之製造方法
本發明係關於自液晶顯示面板或看板等背面照射光的面光源裝置，即所謂的背光裝置用導光板及導光板之製造方法，尤其是關於在導光板之至少表面或內面形成擴散部的導光板及導光板之製造方法。
已知自液晶顯示面板或看板等背面照射光的背光裝置，係藉由使光源配置成面狀，以擴散板等形成面均一發光的正下型，與使線光源配置於導光板端面的稱為邊緣發光(edge light)或側發光(side light)的導光板方式。
近年來，更薄型且輕量、節能型之產品為所期望。此種背光裝置以導光板方式受到矚目。尤其是，替代作為光源之習知螢光燈或冷陰極管，則由高亮度且長壽命、節能之觀點觀之，則LED(發光二極體，Light Emitting Diode)廣受矚目。
背光裝置用之導光板，係使擴散材分散於導光板內部，或在表面或內面之至少一方設置光擴散層或者擴散圖型。該導光板，係自設置於端面的冷陰極管或LED陣列光源使光入光於該導光板內，並對發射側發射光而形成面光源裝置者。
作為此種透過型液晶顯示面板或看板等所使用導光板方式之背光裝置，周知為設置級度分布(gradation distribution)的技術(參照專利文獻1)。該級度分布係將越遠離光源的擴散層之光擴散能力變大，以使背光裝置之發射面之明亮度成為均一。
藉由擴散層或擴散圖型而設置級度分布的方法，周知為藉由使用到鑄模的射出成型或壓製成型，而轉印凹凸圖型的方法。在該鑄模上，預先形成有所期望之級度圖型。又，周知亦有以網版印刷法使光擴散性之油墨進行點印刷之方法(參照專利文獻2)等。
先行技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開昭57-128383號公報
專利文獻2：日本專利第3734547號公報
形成於導光板基材的擴散層，有必要進行各自擴散部的微細化、小點距化，以使該擴散層之圖型不致太明顯。然而，近年來，對顯示裝置則要求薄型化。但是，若使導光板變薄，則該擴散層之圖型容易變的顯著。因此，有必要使該擴散層之圖型進一步微細化、小點距化。
但是，在使用到版或鑄模的射出成型或壓製成型，及網版印刷法，則要使擴散層之圖型充分微細化有所困難。又，在設計圖型有不完備的情形，再設計一開始就會有鉅額的版或鑄模，及網版的修改費用，而與成本增加相關聯。
本發明之目的在於提供一種導光板及導光板之製造方法，其可使擴散層之微細圖型簡易且廉價地形成。
本發明之導光板之製造方法，係為了構成面光源裝置，使光源配置於端面的導光板之製造方法，藉由使含有光擴散微粒及透光性黏合劑的塗布液在微細液滴狀態下塗布於導光板基材(1)內面或者表面，或兩面，而使擴散層塗膜，光擴散微粒成為凝聚體，在導光板基材之塗膜面中凝聚體所佔之平面面積與塗布液之塗布面積之比率成為0.1%以上、70%以下。藉此，可如習知般，即使不製成版或鑄模，若將塗布液塗布於導光板基材時，則可簡單且廉價的形成微細圖型之光擴散能力優異的擴散層。
在使該擴散層予以塗膜時，宜為接近該光源之部分，係使該光擴散微粒之塗布密度降低，遠離該光源的部分，則提高該光擴散微粒之塗布密度。藉此，即使如以往般，不製成版或鑄模，在使塗布液塗布於導光板基材時，可簡單且廉價的形成微細圖型之光擴散能力優異的擴散層。
該塗布液，宜為藉由自噴嘴噴霧該塗布液的噴灑塗膜法，而塗布於該導光板基材內面或者表面，或兩面。噴灑塗膜法，由於輕量且僅使小型噴嘴朝向X-Y方向掃掠，故可以廉價設備達成目的。亦即，噴灑塗膜法，可以廉價設備而適用於大型導光板。
藉由並聯配置複數個噴嘴，使該複數個噴嘴大致平行地掃瞄，而使該光擴散微粒之塗布密度變成一維或二維。
自該噴嘴至該導光板基材中的塗膜面為止之間隔宜為70mm以上、300mm以下。
該噴灑塗膜法宜為一面自噴嘴噴出該塗布液，一面在該導光板基材之塗膜面上，移動該噴嘴於與該導光板基材之第一邊大致平行方向，使該噴嘴之掃掠以預定之饋送點距，在與該第一邊正交方向重複進行，並塗布該塗布液於該塗膜面之全面或一部分。
宜為移動該噴嘴於與該導光板基材之第一邊大致平行方向，使該噴嘴之掃掠以預定之饋送點距在與該第一邊正交之方向重複進行之步驟，係在該導光板基材之塗膜面上部分地重複進行，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
宜為藉由改變該噴嘴的饋送點距，塗布該塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
宜為藉由使該噴嘴之掃掠速度依該噴嘴之每次掃掠改變，並塗布塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
宜為藉由使來自該噴嘴之塗布液每單位時間之塗布量，依該噴嘴之每次掃掠改變，並塗布該塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
本發明之導光板係為了構成面光源裝置，使光源配置於端面的導光板，藉由塗布含有光擴散微粒及透光性黏合劑的塗布液於導光板基材內面或者表面，或兩面，而使擴散層塗膜，該光擴散微粒製成凝聚體，在該導光板基材之塗膜面中該凝聚體所佔之平面面積與該塗布液之塗布面積之比率為0.1%以上、70%以下。藉此，可如習知般，即使不製成版或鑄模，若將塗布液塗布於導光板基材時，可簡單且廉價的形成微細圖型之光擴散能力優異的擴散層。
該塗布液，宜為藉由使該塗布液自噴嘴噴霧的噴灑塗膜法，而在該導光板基材之內面或者表面，或兩面塗布。噴灑塗膜法由於輕量且僅使小型噴嘴朝向X-Y方向掃掠，故可以廉價設備達成目的。亦即，噴灑塗膜法，亦可以廉價設備適用於大型導光板。
1個該凝聚體所含光擴散微粒之個數宜為10個以上、10000個以下。
隨著自該光源遠離，在該導光板基材之塗膜面中的該凝聚體所佔之平面面積與該塗布液之塗布面積之比率，或該塗布液之塗布面積與該導光板基材之塗膜面面積之塗膜面積比率變高則佳。
根據本發明，可提供一種導光板及導光板之製造方法，其可使擴散層之微細圖型簡易，且廉價地形成。
首先就思及本發明技術思想的原委加以說明，其後說明各實施形態之詳細內容。
在使擴散層形成於導光板基材的技術上，可例舉網版印刷法或套版(off-set)印刷法等。任一方法均必需在最初製成成為印刷版或鑄模等的主版的圖型。例如，在網版印刷版，係繪製雷射繪圖或以噴墨印表機進行精密光學設計的圖型。接著，使在塗布了感光乳劑的絲綢(silk)上形成的圖案影像(pattern image)予以選擇感光、洗淨。藉此，在該導光板形成擴散層。
在該等步驟中，各自微細化有其界線。例如必須釐清雷射繪圖之線寬或乳劑之感光感度所致限制、或洗淨時緊黏等問題。又即使假設該版已製成，亦會引發伴隨微細化的印刷不良或轉印率變動所致製品之性能變動等的印刷步驟或性能之問題。因此，印刷技術之提高同時亦為必要。再者在設計圖型或經製成的版為不良之情形，因而要修改高價的主版。而為了迴避該等問題，不需主版的擴散層形成方法在本質上尚稱允當。
一方面，在大尺寸導光板中，由欲使光發射面之亮度設為均一之觀點觀之，則有在擴散層形成級度圖型之情況。亦即，在光源附近成為低度光擴散能力之圖型，伴隨著遠離光源，而形成高度光擴散能力之圖型的方法。要使光擴散能力變小，可例舉使例如圖型之點距或面積減小等的以幾何學圖型化進行之方法；與降低擴散材或反射材之濃度等之使擴散層之光擴散能力本身物理性降低的方法。但是，擴散材或反射材之濃度變更會顯著降低生產性。因此，一般是以塗布部之面積密度或點距、高度進行調整。但是因前述理由，精密圖型化印刷會造成障礙，使得導光板之大型化變得困難。
因此，本發明係鑑於該等問題，其係提供一種導光板及導光板之製造方法，不必製成版或鑄模，即可簡易且廉價的形成微細圖型之擴散層。
亦即，本發明之導光板及導光板之製造方法，為如下般之構成及步驟。
<實施形態1>
茲說明本發明之實施形態1如下。本發明的導光板，係自液晶顯示面板或看板等背面照射光的背光裝置之構成構件中之一，光源係配置於導光板之端面。
該導光板係如第1圖及第2圖所示，藉由在微細液滴狀態下塗布含有光擴散微粒21及透光性黏合劑22的塗布液2於導光板基材1之內面或者表面，或兩面，而使擴散層3塗膜。該光擴散微粒21成為凝聚體210。
具體言之，首先準備導光板基材1。導光板基材1方面，可恰當使用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂等一般透明樹脂基板。尤其是，在大型導光板基板方面，更適當是透明性最優異的聚甲基丙烯酸甲酯樹脂基板。又導光板基材1之彎度宜為以曲率(最彎曲部分之曲率)為±1.61x10-4 (1/mm)以內。
接著，在導光板基材1內面或者表面，或兩面(但，在本實施形態中僅為表面，稱為塗膜面)，塗布含有光擴散微粒21及透光性黏合劑22的塗布液2。附帶說明，本實施形態之擴散層3係如第2A圖、第2B圖所示，塗布塗布液2，以使塗布部與未塗布部進行隨機配置。但，在第2A圖、第2B圖之圖示例，雖係島狀塗布部呈隨機配置，不過亦可如第3A圖、第3B圖所示，為島狀之未塗布部呈隨機配置。
在此，面光源裝置所使用之導光板係指利用在臨界角以下之角度使入光的光在氣相與固相界面(以下稱為氣固界面)重複進行全反射的同時，在該導光板內進行，使光傳導至遠離光源為止。藉此，在阻礙欲取出光的界面之全反射下，則使光取出。因此，當然是在欲發光之部分形成擴散層，不過必要的技術是在不欲使之發光的部分，使界面照樣殘留。亦即，當然是形成擴散層，不過必須有意圖上殘留氣固界面的技術。在對應於此等要求的擴散層形成方法方面，宜為在使塗布液進行氣體噴出的同時，進行噴霧的噴灑塗佈法。
一般而言，不使用版的塗膜裝置，其目的在於全面均一地塗覆。因此，在意圖上製作未塗布部則有困難。即使因塗布液不足所致刮痕(scratch)亦可製出未塗布部，不過該刮痕之控制極為不穩定。又偶而，雖會有發生針孔等未塗布部的不可測事態，不過這原來就不能控制。一方面，噴灑塗佈法因係進行微細液滴狀態之塗布液的噴霧，故有使極小單位之塗布部與未塗布部在本質上予以內包的優異特徵。
因此，在本實施形態中，係藉由噴灑塗佈法使塗布液2塗布於導光板基材1。亦即，在塗膜裝置方面，適當的是流量穩定性優異，不會擔心噴嘴之阻塞等者。又，在塗膜裝置方面，可使塗布液2在均一的微細液滴狀態噴霧，並幾乎不會在導光板基材1之平面區域外使塗布液2飛散，以塗布效率高者為恰當。因此，在塗膜裝置方面係使用噴塗器4。但，擴散層形成方法，並不限於噴灑塗佈法，總之只要是在微細液滴狀態下可使塗布液2塗布於導光板基材1的噴灑塗膜法則佳。
噴塗器4係使氣體壓送至噴嘴5而噴出。接著，噴塗器4係對該噴出氣體，伴同自儲存槽6以泵等壓送至噴嘴5的塗布液2，並對導光板基材1進行噴霧。被壓送至噴嘴5的氣體及塗布液2之流量，各自被流量控制部7、8控制。
期望噴嘴5為旋流(Spiral flow)型之物。旋流噴嘴係噴霧流體成為螺旋狀，使噴霧角變窄。因此，光擴散微粒21易於凝聚。又，由於光擴散微粒21到達導光板基材1時法線方向之流速減低，故不致破壞光擴散微粒21之凝聚，而可附著於導光板基材1。
噴嘴5被認為係可在X方向及Y方向移動的構成。噴嘴5係在導光板基材1之平面全區域(但亦可為一部分)，成為可噴霧塗布液2的構成。噴嘴5進一步可成為可在上下方向移動的構成。如此一來，噴嘴5之構成宜為可使噴嘴5與導光板基材1之間隔變化者。附帶說明，噴嘴5朝向X‧Y方向之驅動機構，及朝向上下方向之驅動機構並無特別限定。但，在本實施形態中，係構成為使噴嘴5朝向X‧Y方向及上下方向移動，不過亦可構成為使支持導光板基材1的台(圖示省略)朝向X‧Y方向及上下方向移動。
氣體方面，可使用例如乾燥空氣、乾燥氮等。在使用可燃性之溶劑之情形，為了防止靜電等所致著火，宜為使用乾燥氮。此外，如後述，為了促進光擴散微粒21之凝聚，在噴霧前可使成為載體的氣體加熱至例如30℃以上、120℃以下。
塗布液2係如上述之含有光擴散微粒21及透光性黏合劑22的混合物。光擴散微粒21係使光透過擴散的構件。在光擴散微粒21方面，可使用二氧化矽、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦、氧化鋁等無機系微粒，或聚矽氧珠、PMMA珠、MS珠、苯乙烯珠等有機系微粒。
在導光板基材1之表面(光發射面)塗布塗布液2之情形，作為光擴散微粒21，宜為使用進行透過散射的透明玻璃微粒、透明樹脂微粒。在導光板基材1內面(光反射面)塗布塗布液2之情形，光擴散微粒21宜為使用進行反射散射的白色粒子、顏料。
光擴散微粒21之形狀可為正球狀、球狀、鱗片狀、不定形狀等，並無特別限定。
光擴散微粒21之平均粒徑，宜為1μm以上、50μm以下。該平均粒徑若小於前述的下限值時，會有光擴散之能力不足，或擴散光著色之虞。該平均粒徑大於前述的上限值時，在使用到噴嘴時，則易於阻塞，在塗布密度小的部分，該光擴散微粒21所致擴散光成為亮點而有過於顯著之虞。特宜為該平均粒徑在1μm以上、20μm以下。
相對於塗布液2，光擴散微粒21所佔之比率方面，宜為1wt%以上、20wt%以下。該比率超乎前述範圍時，會有難以引起光擴散微粒21凝聚體生成的情形。該比率若低於前述下限值時，則難以獲得高的縱橫比，會有光擴散能力不足的情形。
透光性黏合劑22係使光擴散微粒21接著於導光板基材1的構件。在透光性黏合劑22方面，可使用例如溶劑型接著劑、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等。又透光性黏合劑22方面，係如後述，在溶劑稀釋中並無密接，而是在溶劑乾燥後顯現密接力的樹脂成分，例如亦可使用丙烯酸系黏著劑。但，藉由將非反應性之聚合物溶解於溶劑，進行噴灑塗布，在導光板基材上使溶劑乾燥，而使光擴散微粒作為接著劑作用者亦屬於本發明之範疇。
導光板之導光方向的長度在600mm以下之情形，宜為使透光性黏合劑22之折射率與光擴散微粒21之折射率之差在-0.1以下或0.1以上。光擴散效果可藉由表面之凹凸及折射率差兩者而發揮出來，因而可在比較短的導光距離於面方向有效率地使光取出。導光板之導光方向之長度為300mm以上時，透光性黏合劑22之折射率與光擴散微粒21之折射率之差在-0.1以上、0.1以下為佳。光之擴散效果主要係僅以表面凹凸而發揮，可緩緩地取出光，而朝向比較長的導光距離。在光源附近，主要係使用折射率差小的光擴散微粒21，在遠離光源之位置，亦可主要使用折射率差大的光擴散微粒21。在導光方向可使光之擴散效果更為強有力地變化，使長的導光距離且高度光之取出效率並存。
透光性黏合劑22之黏度宜為1mPa‧s以上、100mPa‧s以下。該黏度小於前述下限值時，在導光板基材1易於產生均平(leveling)，而使光擴散能力降低。該黏度大於前述上限值時，則易於產生塗覆不勻。特佳為1mPa‧s以上、20mPa‧s以下。
透光性黏合劑22之折射率與導光板基材1之折射率之差宜為±0.1以內。宜為不考慮在透光性黏合劑22與導光板基材1之界面中的折射反射，故光學設計極為簡單。
然而，在使用噴塗器而僅塗布透光性黏合劑之情形，在塗布於導光板基材的透光性黏合劑產生均平現象。用來藉由該均平現象而產生光擴散而為充分的，亦即用來阻礙全反射而為充分的表面凹凸，尤其是凹凸高度÷凹凸之平均點距(以下，稱為縱橫比)難以形成，則有造成平坦化的可能性。又，即使幾次重複塗覆透光性黏合劑，則來自該表面張力之微細液滴狀態的塗布液彼此間互為密接，而仍然有造成平坦化的可能性。
為改善該等，考量塗布高黏度之透光性黏合劑的方法，或將光擴散微粒添加(混合)於透光性黏合劑，以形成凹凸的方法。但是，透光性黏合劑之高黏度化在噴霧時易於產生塗覆不勻。又，在塗布使大直徑之光擴散微粒添加於透光性黏合劑的塗布液時，會有噴塗器之噴嘴阻塞，或在透光性黏合劑中產生光擴散微粒沈降的可能性。
因此，在本實施形態中係以溶劑將透光性黏合劑稀釋至1.1至10倍左右。例如在稀釋至1mPa‧s以上、20mPa‧s以下的低黏度之透光性黏合劑中，添加1μm以上、20μm以下小粒徑之光擴散微粒，藉由在自噴嘴至導光板基材為止間噴霧的塗布液2之光擴散微粒21予以再凝聚，則可獲得光擴散能力高的擴散層3(參照第2A圖、第2B圖及第3A圖、第3B圖)。
亦即，自噴嘴5所噴霧的塗布液2，在溶劑之含量多時呈分散的狀態。溶劑乾燥時，則以表面張力使一個光擴散微粒21作為核，進行再凝聚。此時，光擴散微粒21成為葡萄串狀之凝聚體210。凝聚體210附著於導光板基材1。附帶說明，當溶劑有多量殘留時，在附著後由於會產生均平故不佳。因此，亦可使用熱空氣來促進凝聚。
在達到導光板基材1時之速度快時，如第4A圖、第4B圖所示，葡萄串被壓壞而使得光擴散微粒21成個別地並列，招致光擴散能力之降低。該等問題可藉由調整自噴嘴5至導光板基材1止之間隔T(第1圖)來解決。例如，在自噴嘴5至導光板基材1為止之間隔T方面，宜為70mm以上、300mm以下。若該間隔T小於前述的下限值時，則溶劑之乾燥並不充分。因此，難以生成光擴散微粒21之凝聚體，各光擴散微粒21在透光性黏合劑22中沈降，而有光擴散能力顯著降低之情形。又，由於導光板基材1之對塗膜面之塗著速度快，故凝聚體容易被破壞。該間隔T較前述的上限值更長時，則在塗布液2達到導光板基材1之塗膜面為止之間使得流速顯著降低。因此，塗布液2並不塗著於該導光板基材1之塗膜面，而是朝向外方飛散之量變多。
溶劑方面，有酮系、醇系、酯系等並無限制。但，溶劑在為了穩定化光擴散微粒21之再凝聚，則宜為沸點60℃以上、200℃以下之物。再者溶劑，由防止沈降之點觀之，宜為比重0.8以上、1.3以下之物。該沸點或比重較前述的上限值更高時，則造成溶劑之乾燥不充分。因此，會有光擴散微粒21凝聚體難以生成的情形。該沸點或比重較前述下限值更低時，黏度較低之物多。因此，會有易於引起光擴散微粒21之沈降等問題的情形。該沸點宜為120℃以上、170℃以下。再者，該沸點更宜為130℃以上、160℃以下。
相對於溶劑的光擴散微粒21及透光性黏合劑22之混合體的混合比率，宜為2wt%以上、50wt%以下。當該混合比率多於前述的上限值時，則會有難以產生光擴散微粒21之凝聚體210之生成之情形，或塗膜性劣化之情形。該混合比率即使少於前述的下限值，則光擴散微粒21之凝聚體生成並非特別顯著，而有溶劑之使用量增大所致成本增加的問題。該混合比率特宜為3wt%以上、30wt%以下。
接著，經噴灑塗布塗布液2的導光板基材1，係使該溶劑藉由自然風乾或熱風等而乾燥。透光性黏合劑22在由紫外線硬化樹脂所構成之情形，於其後之步驟中照射紫外線，使該透光性黏合劑22硬化。結果，如第2A圖、第2B圖及第3A圖、第3B圖所示，以一個光擴散微粒21作為核而使複數個光擴散微粒21成為葡萄串狀之凝聚體210。該凝聚體210係附著於導光板基材1之塗膜面。該凝聚體210具有高的縱橫比，成為微細圖型之擴散層3。因此，如以往般，即使不製成版或鑄模，在使塗布液2塗布於導光板基材1時，可簡單且廉價地形成微細圖型之光擴散能力優異的擴散層3。而且，即使藉由噴灑塗膜法使塗布液2重複塗覆於導光板基材1，因光擴散微粒21在凝聚狀態下密接，故難以平坦化。因此，可藉由良好地噴灑塗膜法而使塗布液2重複塗覆於導光板基材1。
在此，導光板基材1之塗膜面中的凝聚體所佔之平面面積與塗布液2之塗布面積之比率R成為0.1%以上、70%以下。該比率R少於前述的下限值時，會有導光板100之光擴散能力不足的情形。該比率R大於前述的上限值時，導光板100之光擴散能力變的過大，在導光長L(第5圖)為長的情形，會有在遠離光源之位置的發射光量不足的情形。
如上述所製造的導光板100，係藉由在導光板基材1表面塗布含有光擴散微粒21及透光性黏合劑22的塗布液2，而使擴散層3塗膜。光擴散微粒21則成為凝聚體210。導光板基材1之塗膜面中的凝聚體210所佔之平面面積與塗布液2之塗布面積之比率R則為0.1%以上、70%以下。該導光板100，例如如第5圖所示，係以：設置於一端部的LED陣列等之線光源9；設置於內面側的擴散反射薄膜10；設置於表面側的擴散薄膜11，而構成面光源裝置。複數個光擴散微粒21之凝聚體210，具有高的縱橫比，成為微細圖型之擴散層3。因此，即使不如習知般製成版或鑄模，若將塗布液2塗布於導光板基材1時，則可簡單且廉價的形成微細圖型之光擴散能力優異的擴散層3。亦即，在導光板基材1與擴散層3之間，亦可使不含光擴散微粒21的透光性黏合劑以均一的厚度塗布於導光板基材1之上面全區域。該透光性黏合劑係作用為抗靜電層、硬塗層等。
塗布液2之塗布面積(擴散層之平面面積)與導光板基材1之塗膜面之面積之塗膜面積比率S宜為5%以上、95%以下。該塗膜面積比率S小於前述的下限值時，會有導光板100之光擴散能力不足的情形。該塗膜面積比率S大於前述的上限值時，則無法忽視透光性黏合劑22所致光之吸收，會有明亮度不足的情形。
1個凝聚體210所含之光擴散微粒21之個數宜為10個以上、10000個以下。該個數小於前述的下限值時，會有導光板100之光擴散能力不足的情形。該個數大於前述的上限值時，則易於產生不勻或粗糙感、亮點等的外觀不良。
但，在導光板基材1之塗膜面，除了光擴散微粒21之個數為10個以上、10000個以下之凝聚體以外，亦可存在由經單分散的光擴散微粒21或小於10個之光擴散微粒21所構成之凝聚體210。在此情形，由經單分散的光擴散微粒21或小於10個之光擴散微粒21所構成之凝聚體210，宜為光擴散微粒之總數小於20%。
附帶說明，凝聚體210所含之光擴散微粒21之個數可藉由300至1000倍左右之光學顯微鏡或雷射顯微鏡等觀察，而予以計數。又，在採取凝聚體210並除去透光性黏合劑22後，可藉由光學顯微鏡等之觀察而計數。
以一次之塗布而光擴散能力為不足之情形，可進行重複塗覆。進行重複塗覆，即使使光擴散微粒21之凝聚體彼此間予以密接‧一體化，亦可保持該凝聚體210之高度縱橫比。因此，會有光擴散能力變高，不容易以產生外觀不良的優點。
凝聚體之折射率與透光性黏合劑之折射率之差宜為0.001以上、0.5以下。光擴散能力因實質上透明的材料與折射率不同物質之折射率差、物質之體積、物質之體積濃度、物質之形狀(正球等之定形‧不定形)，或表面之微細凹凸等而變化。該折射率差若較前述下限值更小時，則折射散射性少，難以獲得照度均一化效果。該折射率差大於前述上限值時，在界面(氣固界面)中的反射變多，例如在300mm以上的導光長比較長的情形，則難以獲得照度均一化效果。
凝聚體210中的微細凹凸之算術平均表面粗度宜為0.01μm以上、10μm以下。該算術平均表面粗度小於前述下限值時，反射散射性減少，全體易於變暗。該算術平均表面粗度大於前述上限值時，則反射散射要素物理上變大，在光源附近局部明亮等，則難以獲得照度均一化效果。
<實施形態2>
茲說明本發明之實施形態2如下。本實施形態之導光板及導光板之製造方法，雖與實施形態1之導光板及導光板之製造方法大致相同，不過為使導光板亮度成為大致均一，則伴隨者遠離光源，在導光板基材之塗膜面中凝聚體所佔之平面面積與塗布液之塗布面積之比率R，或塗布液之塗布面積與導光板基材之塗膜面之面積之塗膜面積比率S則提高。亦即，隨著遠離光源，則光擴散微粒之塗布密度變高。
近年來伴隨顯示裝置之大型化，背光亦被要求大型化。亦即，有必要使導光長L(第5圖)變長。為了使導光板之光發射面之亮度均一化，尤其是使導光板中的光源附近的擴散層之光擴散能力減小，一方面在導光板中越遠離光源，則越有必要加大光擴散能力。因此，在導光板中在最遠離光源之位置，則有必要顯著地加大擴散層之光擴散能力。在擴散層之圖型化為不適切的情形，又，即使完成圖型設計，而印刷精度劣化之情形，則會有導光板中僅光源附近之端部為明亮而中央部變暗，亦即有無法滿足作為導光板之本質上的性能之問題，或有產生光發射面之亮度不勻的問題。由該等觀點觀之，有必要正確地形成：擴散層圖型之微細化；與使該擴散部越接近光源則越粗，越遠離光源則越密的圖型配置。此外，「光源附近」係指在導光板之有效光發射部中最靠近光源位置的部位。亦即，「光源附近」係指設置有光源之側的端部。「離光源最遠的位置」係指，在導光板之有效光發射部中離光源最遠的部位。亦即，「離光源最遠的位置」係指，在第5圖所示導光板之情形，與設置有光源9之側的端部相對向之側的端部之意。
在本實施形態，係與實施形態1大致相同，藉由噴灑塗膜法，將塗布液2塗布於導光板基材1。此時，以一個光擴散微粒21作為核，使複數個光擴散微粒21凝聚成葡萄串狀。如此一來，已凝聚的凝聚體210越遠離光源則成為越密的級度分布之圖型配置。
在此，在厚度5mm、導光長600mm之PMMA基板上，朝向Y方向之噴嘴的掃掠，以一定饋送點距朝向X方向試行重複的均一塗膜。接著，以第6圖所示條件，在改變饋送點距而塗布了塗布液2的導光板100之左端設置LED陣列光源9。將導光板基材1之塗膜面作為發射面側。在塗膜面之背面設置擴散反射薄膜10。在塗膜面之前面設置擴散薄膜11。如此來製作側光式背光。自該側光式背光之上方，如第5圖所示，使用面亮度測定器12來測定。在此情形，使導光板基材1中的配置於Y方向的邊，成為本發明所謂的第一邊。
朝向Y方向之一次噴嘴5之掃掠所致的塗膜寬約50mm。中心部係光擴散微粒21之塗布密度高，而隨著朝向外方進行而逐漸降低，而成為類似於高斯分布(Gaussian distribution)的分布。在朝向X方向之饋送點距超過10mm般之粗略的點距之情形，在光擴散微粒21之塗布密度產生不勻，而如第6圖所示，在亮度分布產生明暗的不勻。藉由使饋送點距成為10mm，則可進行無饋送點距所致不勻的塗膜。
又，如第6圖所示，若離光源9越遠，則相對亮度越低。塗布了塗布液2的導光板100之光擴散性能，係與導光板基材1表面上之光擴散微粒21之塗布密度呈比例。因此，只要噴灑塗布該塗布液2，使得在光源側使光擴散微粒21之塗布密度降低，在光源遠方側則變高即可。其方法說明如下。
第7A圖、第7B圖，係表示級度分布之樣態，其係將噴嘴5朝向Y方向移動的掃掠，以預定之饋送點距在X方向重複進行，在一維地導光板基材1之塗膜面中的中央部周邊係使光擴散微粒21之塗布密度變高，而在該中央部之兩側(亦即端面A、B側)使光擴散微粒21之塗布密度減低。
該導光板基材1，係假定在兩端面A、B設置LED陣列等之線光源的導光板基材。在第7A圖、第7B圖之例中，係使塗布液2之塗布量先成定值，使噴嘴5以一定速度朝向Y方向掃掠。自10mm開始，以使自端面A側朝向噴嘴5之X方向的饋送點距無不勻。在導光板基材1中央部周邊中，塗布塗布液2，以使饋送點距依順序變狹窄。藉此，可實現無不連續的完全的級度分布。
在實現級度分布上，以噴灑塗膜法自由度極高。第8A圖、第8B圖，係整理出塗布塗布液2時各參數及各種塗膜法。在此係考慮到製造兩端光源型式之導光板之情形，其係在導光板基材1之左右兩端面A、B設置LED陣列等之線光源。
在兩端光源型式之情形，為使面內亮度分布固定，則隨著自光源遠離，提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，使導光板基材1兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度降低，在中央部周邊，使光擴散微粒21之塗布密度提高。在其它條件，係設定使光擴散微粒21成為良好的凝聚體210而附著於導光板基材1。此外，在本實施形態中，係使X方向成為導光板基材1之長度方向，亦即成為導光方向，使Y方向成為導光板基材1之寬尺寸方向。
在第8B圖之表中，考慮在各參數方面，噴嘴5之掃掠方向、噴嘴5之掃掠速度、噴嘴5之饋送點距、塗布液2每單位時間之塗布量等。控制該等之任一種或複數之參數，使其它之參數成為定值。
具體言之，在第8B圖所示塗膜法(1)，係以以下方式來塗布塗布液2。在該塗膜法(1)，在配置於導光板基材1中的Y方向的邊，則成為本發明所謂的第一邊。
首先，使全部參數成為定值，在透明的導光板基材1之全體或一部分，均一地塗布塗布液2(第9A圖)。接著，在中央部周邊，則同樣地均一地重複塗覆塗布液2。亦即，使全部的參數為定值，重複在中央部周邊的塗布液2之塗布。
藉此，隨著遠離光源，則提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，將接近導光板基材1光源的兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度降低，提高遠離光源的中央部周邊的光擴散微粒21之塗布密度。該狀況雖如第9圖所示，不過在重複塗覆之境界則未必能夠避免有限之高低差之產生。因此，宜為盡量使塗布液2之塗布量減少，並儘量使噴嘴5之掃掠速度提高。亦即，期望塗布塗布液2，以儘可能以1次均一塗膜使光擴散微粒21之塗布密度減小，使重複塗覆次數變多。
此外，關於此種多層重複塗覆，可一面改變塗布液2之塗布量、噴嘴5之掃掠速度、噴嘴5之饋送點距等而予適宜調整，一面實施重複塗覆。
第8B圖所示塗膜法(2)，係僅使朝向X方向之饋送點距進行連續地變化，使其它參數成定值的塗膜法。該塗膜法(2)亦然，配置於導光板基材1中的Y方向之邊成為本發明所謂的第一邊。
所塗布之光擴散微粒21之塗布密度，係與噴嘴5之饋送點距呈反比例而增減。因此，連續地增減饋送點距(第9B圖)，以成為所期望之級度分布函數之反比例關係。亦即，在導光板基材1之兩端部中，係使噴嘴5之饋送點距變寬，而在中央部周邊中則使噴嘴5之饋送點距變窄。
藉此，隨著遠離光源，可提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，使接近導光板基材1之光源的兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度降低，遠離光源的中央部周邊之光擴散微粒21之塗布密度變高。該塗膜法(2)，即使不進行塗布液2之重複塗覆，亦可獲得所期望之級度分布使生產性提高。而且因係不產生不連續點的完全級度分布，故可獲得無亮度不勻的高品位方面光源裝置。
第8B圖所示塗膜法(3)係僅改變噴嘴5每次掃掠的掃掠速度，且其它參數為定值的塗膜法。該塗膜法(3)亦係導光板基材1中的配置於Y方向的邊，成為本發明所謂的第一邊。
光擴散微粒21之塗布密度與噴嘴5之掃掠速度成反比例。因此，如第9C圖所示，連續改變噴嘴5每次掃掠的掃掠速度，以成為所期望級度分布之反比例關係。亦即，導光板基材1之兩端部，噴嘴5之掃掠速度快，而在中央部周邊則變慢。
藉此，隨著遠離光源，則提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，在接近導光板基材1之光源的兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度低，遠離光源的中央部周邊之光擴散微粒21之塗布密度則提高。此種塗膜法(3)在生產性與亮度不勻品位之兩方面均佳。
如第8B圖所示塗膜法(4)，係僅使噴嘴5每次掃掠的塗布液2之塗布流量變化，使其它參數為定值的塗膜法。該塗膜法(4)亦係導光板基材1中的配置於Y方向的邊，成為本發明所謂的第一邊。
亦即，將噴嘴5以預定之點距，隨著自端面A側饋送至中央部，而使塗布液2之塗布量變多，隨著自中央部饋送至設置光源的端面B側，而使塗布液2之塗布量減少(第9D圖)。
藉此，隨著遠離光源，可提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，在接近導光板基材1光源的兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度減低，而遠離光源的中央部周邊之光擴散微粒21之塗布密度提高。在塗膜中，於可迅速、簡便地進行塗布液2之塗布量設定，而且可進行高精度且再現性良好的設定的噴灑塗膜法中，該塗膜法(4)在生產性與亮度不勻品位之兩方面均佳。
但，在端面A側，係使塗布液2之塗布量過剩，而使光擴散微粒21之凝聚體210沈降於透光性黏合劑22。隨著使噴嘴5饋送至中央部，而使該塗布液2之塗布量成為適量。再者，隨著使噴嘴5自中央部饋送至端面B側，再次使塗布液2之塗布量過剩，而使光擴散微粒21之凝聚體210沈降於透光性黏合劑22。如此一來藉由塗膜，可獲得相同效果。
第8B圖所示塗膜法(5)，係使噴嘴5朝向X方向移動的掃掠，以預定之饋送點距朝向Y方向重複進行的塗膜法。具體言之，係在噴嘴5的掃掠中連續地變化掃掠速度，並使其它參數成為定值。該塗膜法(5)，係使導光板基材1中配置於X方向的邊，成為本發明所謂的第一邊。
詳言之，係使噴嘴5之朝向X方向之掃掠速度連續地變化，以成為所期望級度分布函數之逆函數關係。亦即，在朝向噴嘴5之X方向之掃掠中，在導光板基材1之兩端部使噴嘴5之掃掠速度加快，而在中央部周邊變慢(第9E圖)。
藉此，隨著遠離光源，則提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，在接近導光板基材1之光源的兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度減低，遠離光源的中央部周邊之光擴散微粒21之塗布密度提高。該塗膜法(5)，在生產性與亮度不勻品位之兩方面均佳。
在第8B圖所示塗膜法(6)，係使噴嘴5移動至X方向的掃掠，以預定之饋送點距在Y方向重複進行之塗膜法。具體言之，在噴嘴5之掃掠中連續地改變塗布液2之塗布量，而其它參數則為定值。該塗膜法(6)係在導光板基材1中配置於X方向的邊，成為本發明所謂的第一邊。
詳言之，在噴嘴5之朝X方向的掃掠中，在導光板基材1之兩端部使塗布液2之塗布量減少，而在中央部周邊有多量噴出(第9F圖)。
藉此，隨著遠離光源，而提高該比率R或塗膜面積比率S。亦即，使接近於導光板基材1之光源的兩端部中的光擴散微粒21之塗布密度降低，而使遠離光源的中央部周邊之光擴散微粒21之塗布密度變高。該塗膜法(6)在生產性與亮度不勻品位兩方面均佳。又，在可高速改變塗布液塗布量之情形，可藉由該塗膜法(6)，而簡便的實現所期望之級度分布。
但，在導光板基材1之兩端部係使塗布液2之塗布量過剩，使光擴散微粒21之凝聚體210在透光性黏合劑22中沈降，在中央部即使使該塗布液2之塗布量成為適量，亦可獲得相同之效果。
茲以定量方式更詳細說明。首先，將光擴散微粒21與透光性黏合劑22，再者，可因應需要的含有溶劑的塗布液2，以不發生亮度不勻的饋送點距，例如以10mm之饋送點距，於導光板基材1上均一塗膜。如此一來，將均一塗膜的導光板，改變塗布液2之塗布量或噴嘴5的掃掠速度等，來製造數種(在圖示例中係α至γ三種)。第10A圖，係表示已製造的導光板α至γ之光擴散微粒21之塗布密度。關於各導光板α至γ，在左端係設置LED陣列等線光源，而如第5圖所示，在測定亮度分布時，則成為第10B圖所示。以此為基礎，在賦予面內均一亮度之光擴散微粒21之塗布密度，在左右兩端光源之導光板之情形，則成為如第10C圖所示。又，在左端光源之導光板之情形，則成為如第10D圖所示。
為了實現此種光擴散微粒21之塗布密度，可各自適當的使用第8B圖所示6種塗膜法(1)至(6)。成為塗布液2之塗布量F(X,Y)、噴嘴5之朝向Y方向之掃掠速度VY (X)、噴嘴5朝向X方向之掃掠速度Vx (X)、噴嘴5朝向X方向之饋送點距△X(X)、噴嘴5朝向Y方向之饋送點距△Y(X)。較佳為如第8B圖所示塗膜法(1)至(6)係以以下方式塗膜。但，以在第8A圖左端之X座標為X0 ；左端之塗布液2之塗布量等各為F0 、VY0 、△X0 ；左端之光擴散微粒21之目標塗布密度為C0 時，在第10C圖或第10D圖中位置X的光擴散微粒21之目標塗布密度C(X)，則如以下，可一面決定參數，一面塗膜。此時，為了防止塗布不勻，則在全部之情形中，最長噴嘴之饋送點距有必要設定成為前述之10mm。
塗膜法(1)：適宜選擇F、VY 、△X及重複塗覆段數等實施
塗膜法(2)：△X(X)=△X0 ×C0 /C(X0 +Σ△X)，F及VY 為定值
塗膜法(3)：VY (X)=VY0 ×C0 /C(X0 +Σ△X)，F及△X為定值
塗膜法(4)：F(X)=F0 ×C(X0 +Σ△X)/C0 ，VY 及△X為定值
塗膜法(5)：Vx (X)=VX0 ×C0 /C(X)，F及△Y為定值
塗膜法(6)：F(X)=F0 ×C(X)/C0 ，VX 及△Y為定值
此外，亦可因應需要倂用塗膜法(1)至(6)。
藉由使用此種塗膜法(1)至(6)，在導光板基材1之表面塗布含有光擴散微粒及透光性黏合劑的塗布液，而使擴散層塗膜。光擴散微粒成為凝聚體。導光板基材1之塗膜面中的凝聚體所佔之平面面積與塗布液之塗布面積之比率成為0.1%以上、70%以下。因此，即使在本實施形態，複數個光擴散微粒之凝聚體，具有高的縱橫比，成為微細圖型之擴散層。因此，即使不製成如習知般的版或鑄模，若將塗布液塗布於導光板基材1時，可簡單且廉價地形成微細圖型之光擴散能力優異的擴散層。
而且，噴灑塗膜法係在導光板基材1之表面或內面，進而在兩面中亦可毫無問題的適用。例如，關於表面，藉由該塗膜法(1)至(6)，而實現朝向X方向之一維級度分布，而關於內面，則藉由該塗膜法(1)至(6)，而可實現朝向Y方向之一維級度分布，可製造3邊光源型式及4邊光源型式之導光板。
一般，要實現高發光效率之級度分布，就需廣的擴散反射能力範圍，亦即，光擴散微粒21之塗布密度範圍。增減光擴散微粒21之塗布密度，並達成5倍至10倍以上之光擴散性能，一般而言有困難。在此種情形，在內面係使光擴散微粒21之塗布密度均一地噴灑塗布，為了在表面補足不足部分之光擴散性能，則藉由該塗膜法(1)至(6)，而實現級度分布。藉此，亦有容易製造高發光效率之亮度均一的級度導光板之情形。本發明即使在此種情形亦可有效地適用。
又，噴灑塗膜法亦可容易地適用於例如大小為50英吋以上的大型導光板。射出成型或壓製成型、點印刷等均有必要為大型的精密鑄模或網版，除此以外，必須有大型設備，且投資成本高。又，即使在噴墨印刷法中，欲對應大型尺寸就需要巨額投資。只要是噴灑塗膜法，則輕量且小型噴嘴僅能朝向X-Y方向掃掠。因此，可用廉價設備達到目的。亦即，本發明之噴灑塗膜法，即使大型導光板亦可適用廉價的設備。特宜為導光長L為900mm以上之導光板。在此情形，較佳是在光源附近的照度與離光源最遠位置的照度之比為0.8以上、1.2以下。
再者，在使用導光板基材本身含有擴散材之物時，可將塗布於表面之光擴散微粒之塗布密度全體予以降低而塗布。因此，依情形而為有益。例如，如前述，在僅表面塗膜會有光擴散性能不足之情形。又例如在厚而短的導光板之情形，自光源所入射的導光光在擴散反射面不致充分衝突之限度內而達到了相反端面，而有無法充分進行面發光之情形。在此情形，若僅藉由先行分散擴散部於導光板內，則變得能夠有效地發光。本發明在此種用途上亦可恰當使用。
附帶說明，在光源附近中的塗膜面積比率S1為5%以上、50%以下，在離光源最遠位置中的塗膜面積比率S2為20%以上、95%以下，宜為S2＞S1。
又，光源附近中的導光板基材之塗膜面之(2π/360)×60雷得(rad)光澤值GS1為40以上、90以下，離光源最遠位置中的導光板基材1之塗膜面之(2π/360)x60雷得光澤值GS2為10以上、60以下，亦可為GS2>GS1。
再者，在光源附近中面方向之霧值H1為5%以上、30%以下，離光源最遠位置中霧值H2為10%以上、40%以下，亦可為H2>H1。
<實施形態3>
本發明之實施形態3說明如下。本實施形態之導光板及導光板之製造方法，雖與實施形態2之導光板及導光板之製造方法大致相同，不過就使光擴散微粒呈二維級度分布這點則不同。因此，僅就不同部分加以詳細說明。
第11圖係表示假定在導光板100之四邊設置線光源的二維級度分布之模式圖。亦即，在第11圖中之M表示光擴散微粒之塗布密度大致相等的部分係以線連結。第11圖中之N表示光擴散微粒塗布密度X方向之分布。第11圖中之P表示光擴散微粒塗布密度Y方向之分布。作為該目標的級度分布若以C(X,Y)表示時，則藉由單獨使用或倂用塗膜法(1)至(6)，可進行製造。
在塗膜法(1)之應用方面，藉由沿著第11圖中之(a)之線，依順序實施重複塗覆則為可行。為了防止重複塗覆之境界中的亮度不勻或亮度高低差，則需要充分多的重複塗覆次數。
在塗膜法(3)之應用方面，藉由朝Y方向之噴嘴的一次掃掠中，連續地變化掃掠速度，則為可行。亦即，朝向Y方向之噴嘴的掃掠速度依照以下之式掃掠時則佳。
VY (X,Y)=VY0 ×C0 /C(X0 +Σ△X,Y)，F及△X為定值
在塗膜法(4)之應用方面，藉由使朝向Y方向之噴嘴的一次掃掠中，連續地變化塗布液之塗布量，則為可行。亦即，在對Y方向之噴嘴的掃掠中，使塗布液之塗布量依照以下之式噴出時則佳。
F(X,Y)=F0 xC(X0 +Σ△X,Y)/C0 ，VY 及△X為定值
亦可組合塗膜法(5)與(6)，來實現二維級度分布。亦即，亦可依照以下之式使噴嘴朝向X方向掃掠。
Vx (X,Y)=VX0 ×C0 /C(X,Y)，F及△Y為定值
F(X,Y)=F0 ×C(X,Y)/C0 ，Vx及△Y為定值
又，應用塗膜法(2)，藉由在朝向Y方向之一次噴嘴之掃掠中，改變噴嘴之掃掠速度或塗布液之塗布量，則亦可實現二維級度分布。
在此所謂二維級度分布並無限於4邊光源之物，亦可為正交2光源或3邊光源，亦包含於在端面周邊部中，微調整光擴散微粒之塗布密度之情形等。在此，亦與上述的一維級度分布中相同。
在上述實施形態1、2中的導光板之製造方法，在考慮生產性之情形，僅以1個噴嘴在廣面積之導光板基材的塗膜面上進行塗膜則需要時間。因此，此未必為良策。第12圖係例如在Y方向，亦即在與掃掠方向大致正交方向，等間隔地並聯配置複數個噴嘴5。將該複數個噴嘴5朝向X方向掃掠。但，亦可在X方向等間隔地並聯配置複數個噴嘴5，使該複數個噴嘴5朝向Y方向掃掠之構成。如此一來，藉由成為多噴嘴，則可使塗布時間大幅縮短。考慮到鄰接之噴嘴5與5之間隔在塗布時並不互相干涉，而必須有充分寬的間隔，或根據情形，將鄰接之噴嘴朝向X方向偏移而互為相反地配置。
該等複數個噴嘴5，可個別地或共通地控制，並將塗布液噴灑塗布於導光板基材1。
在一維級度分布之情形，例如應用塗膜法(5)或(6)並聯地配置的噴嘴5朝向X方向進行1次掃掠。此時，各噴嘴5成為相同流量。接著，不使亮度不勻產生的充分小的Y方向饋送點距，例如向Y方向偏移約10mm，而藉由塗膜法(5)或(6)在X方向進行掃掠。藉由使其噴嘴間隔部分掃掠，則可全面性均一地塗布。
在二維級度分布之情形，獨立地依每次掃掠控制來自各噴嘴5之塗布液2之塗布量，以對應於朝向Y方向之光擴散微粒之塗布密度分布，則為可行。
第13圖，係表示透光性黏合劑以紫外線硬化型，使用亦有倂用溶劑的光擴散微粒之塗布液，進行噴灑塗布情形之試作‧製造製程。首先，在將塗布液2噴灑塗布於導光板基材1後，藉由溫風等，而使溶劑乾燥。接著，照射紫外線使透光性黏合劑硬化，將光擴散微粒永久接著於導光板基材之表面。
在為數極多之情形，少有欲以1次之級度分布設計，獲得所期望亮度均一的導光板。但是，根據本發明第13圖所示，立刻測定評價亮度分布，而無法獲得所期望之均一度之情形，則對各參數加諸微調整，並再度塗膜。可因應需要重複此步驟，則可在短時間而且容易地實現光擴散微粒之級度分布。
如上述，根據本發明，不論光擴散微粒之一維級度分布，或是二維級度分布均不需鑄模或印刷版等，自設計開始可立刻進行試作‧生產。尤其是，光源之光效率良好，而且可均一地朝向前方發射般的亮度均一之最適光擴散微粒之級度分布，會因導光板基材之尺寸、形狀、板厚、光源位置等，而完全不同，不過本發明之方法卻可恰當的適用於此等多種類且多品牌之生產。
在上述實施形態1係使光擴散微粒21之凝聚體210隨機地附著於導光板基材1上。在上述實施形態2中，隨著遠離光源9，在導光板基材1之塗膜面中的凝聚體210所佔之平面面積與塗布液2之塗布面積之比率R或塗布液2之塗布面積與導光板基材1之塗膜面之面積之塗膜面積比率S予以提高。但是，若滿足導光板基材塗膜面中的凝聚體210所佔之平面面積與塗布液2塗布面積之比率為0.1%以上、70%以下之要件，則亦可使光擴散微粒21之凝聚體210大致均一地附著於導光板基材1。亦即，其係構成為在光源9附近中的塗膜面積比率S1，與離光源9最遠位置中的塗膜面積比率S2之比S2/S1之值為80%以上、120%以下。
在上述實施形態2中，在導光板基材1塗膜面中的凝聚體210所佔之平面面積與塗布液2塗布面積之比率為0.1%以上、70%以下，不過並非限定於此。總之，只要在接近光源之部分，使光擴散微粒之塗布密度降低，遠離光源之部分，則提高光擴散微粒之塗布密度即可。
在上述實施形態1至3中，雖係使光擴散微粒21成為凝聚體，不過並非限於此。亦即，光擴散微粒21亦可不被凝聚。此時，為了獲得所期望的光擴散性能，則可適宜控制‧選擇光擴散微粒、透光性黏合劑、溶劑、導光板基材與噴嘴之間隔等的噴灑塗布條件。此時，例如亦可塗布塗布液2成為水滴狀(第14圖)。又，為了加大光擴散性能，則亦可將全面以塗布液2覆蓋(第15圖)。附帶說明，第16A圖、第16B圖，係將MS微粒與紫外線硬化型之透光性黏合劑與溶劑之塗布液噴灑塗布於PMMA基材上，予以硬化狀態之顯微鏡照片。在第16A圖、第16B圖中，以氣泡方式呈現的部分，則為光擴散微粒。附著於導光板基材1之塗膜面的光擴散微粒，因各自成為擴散部，故可簡單地形成微細的擴散部。又，光擴散微粒由於必定為隨機塗布，故可抑制波紋(moir)之發生。
實施例
<實施例1>
在平台(stage)上放置長度(導光方向之長度)1200mm，寬度1000mm，厚度8mm之丙烯酸樹脂薄片作為導光板基材，自該丙烯酸樹脂薄片之上方，藉由噴塗器之噴嘴，而噴霧塗布液。塗布液係以：光擴散微粒的樹脂微粒(折射率1.56，平均粒徑3μmΦ)；透光性黏合劑的丙烯酸系紫外線硬化樹脂：稀釋溶劑的酮系溶劑，稀釋成為固體成分5wt%的混合溶液。在該塗布液伴同氮氣而噴出。
在此時，為了在全面塗布塗布液，則一邊將噴嘴朝向導光板基材之平面方向(亦即X、Y方向)移動，一面噴霧。詳言之，藉由在導光板基材之長度方向(亦即X方向)改變塗布量，以在X方向中於中央部塗布最多，而依場所，以噴嘴之饋送點距10至40mm進行1次至8次之重複塗覆。附帶說明，係使導光板基材1與噴嘴5之距離成為100至200mm，塗布液2之塗布量以0.5至4.0gr/分，噴嘴5之掃掠速度為200至400mm/sec。
結果，在塗膜所致表面狀態，在光源附近，於光澤85，長度方向600mm位置，成為光澤15。
接著在導光板基材之兩端部設置將白色LED配置成線狀的光源，在該導光板基材內面側積層白色擴散反射薄片，在成為表面側之塗膜面積層光擴散薄膜，來製作側光式背光。
自遠離正面2m之位置，以目視觀察該側光式背光，則全面呈均一的亮度，亮點等亮度不勻亦不顯著。
<實施例2>
在平台(stage)上，放置與實施例1相同尺寸之透明PMMA導光板基材，如第7圖般，以噴嘴自上方塗布塗布液。此時，藉由如第8B圖所示的塗膜法(1)，首先實施均一塗布，使掃掠方向為Y方向，X方向饋送點距為10mm點距。塗布液係以：光擴散微粒的MS樹脂之交聯粒子(平均粒徑3μm，除了溶劑的換算固體成分濃度10wt%)；透光性黏合劑的胺基甲酸酯系紫外線硬化樹脂；稀釋溶劑的PGMAC(丙二醇單甲醚乙酸酯)稀釋成為固體成分20wt%的混合溶液。在該塗布液伴同氮氣而噴出。
使導光板基材與噴嘴之距離為150mm，塗布液之塗布量，以溶液換算為1mL/min，使噴嘴之掃掠速度成為150mm/min。在此情形，塗布寬約50mm。
依照該條件，使噴嘴之朝向Y方向之掃掠，在X方向以10mm間隔一邊饋送，一邊使塗布液塗布於導光板基材之表面全面。但，在配置於X方向的一端面(在第5圖圖面中下側之端面)側之塗膜開始係自導光板基材之20mm跟前開始進行空掃掠。又，在配置於X方向的另一端面(第5圖圖面中上側之端面)側之塗覆完成亦是掃掠導光板基材至超過20mm為止。在配置於Y方向的一端面(在第5圖圖面中左側之端面)側係自導光板基材之跟前20mm進行塗膜。又，在配置於Y方向的另一端面(第5圖圖面中的右側之端面)側係使導光板基材塗膜超過20mm，並實施使在噴嘴方向轉換部之塗覆不勻無法進入基材本體內。
為了製造兩端光源型式之導光板，係如第9A圖所示，進行8段之重複塗覆使該導光板之塗膜面作為發射側，與實施例1同樣地製作側光式背光。在測定該側光式背光之外觀檢査及亮度分布，雖可見8段之亮度高低差，不過卻可獲得可充分被承認的均一導光板。
<實施例3>
雖以實施例2相同條件開始塗膜，不過該塗膜法(3)係使用Y方向之掃掠速度藉由X方向饋送點距，而半連續地變化之方法。以實施例2之塗膜條件，使X方向饋送點距為10mm之均一塗布之導光板基材1上的光擴散微粒之塗布分布為C0 、噴嘴5之朝向Y方向之掃掠速度150mm/min為VY0 、噴嘴5之朝向X方向之饋送點距△X=10mm成為定值，如以下方式依順序改變導光板基材1上第n次掃掠速度VY (X)。其他變數則完全為定值，並進行塗膜。
VY (X)=VY0 ×C0 /C(X0 +Σ△X)
將經塗膜的製品，兩端光源係進行外觀檢査與亮度分布測定，則完全無見到亮度不勻或亮度高低差，亮度均一精度亦極高，可獲得高品質之導光板。
此外，本發明並非限定於上述實施形態及實施例，在不脫離本發明宗旨的範圍內可做適宜變更。
產業上可利用性
本發明之導光板及導光板之製造方法係自液晶顯示面板或看板等背面照射光的面光源裝置，作為所謂背光裝置用之導光板及導光板之製造方法使用。
1．．．導光板基材
2．．．塗布液
3．．．擴散層
4．．．噴塗器
5．．．噴嘴
6．．．儲存槽
7、8．．．流量控制部
9．．．光源
10．．．擴散反射薄膜
11．．．擴散薄膜
12．．．面亮度測定器
21．．．光擴散微粒
22．．．透光性黏合劑
100．．．導光板
210．．．凝聚體
第1圖係表示本發明導光板之製造方法中，在導光板基材之塗膜面噴灑塗膜塗布液之樣態的概略圖。
第2A圖係表示以噴灑塗膜法，塗布塗布液於導光板基材的狀態之側面圖。
第2B圖係表示以噴灑塗膜法塗布塗布液於導光板基材的狀態之平面圖。
第3A圖係表示以噴灑塗膜法塗布塗布液於導光板基材的狀態之側面圖。
第3B圖係以噴灑塗膜法塗布塗布液於導光板基材的狀態之平面圖。
第4A圖表示光擴散微粒個別地並列狀態的側面圖。
第4B圖表示光擴散微粒個別地並列狀態的平面圖。
第5圖表示測定面光源裝置之亮度分布樣態的概略圖。
第6圖表示改變饋送點距，使塗布液均一地塗布的導光板之相對亮度X方向分布圖。
第7A圖表示將塗布液以噴灑塗膜法塗布時，噴嘴軌跡的概略圖。
第7B圖表示依照第7A圖所示噴嘴軌跡，而塗布之光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第8A圖規定以噴灑塗膜法塗布塗布液時，噴嘴之掃掠方向及饋送方向的圖。
第8B圖詳細表示使用於本發明導光板之製造方法的塗膜法之條件圖。
第9A圖表示因第8B圖所示塗膜法所致噴嘴軌跡，及光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第9B圖表示在第8B圖所示塗膜法所致噴嘴軌跡，及光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第9C圖表示依第8B圖所示塗膜法所致噴嘴軌跡，及光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第9D圖表示依第8B圖所示塗膜法所致噴嘴軌跡，及光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第9E圖表示依第8B圖所示塗膜法所致噴嘴軌跡，及光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第9F圖表示依第8B圖所示塗膜法所致噴嘴之軌跡，及光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第10A圖表示將塗布液均一塗布於導光板基材時，光擴散微粒之塗布密度的X方向分布圖。
第10B圖表示在第10A圖之導光板基材之左端設置光源，經測定的亮度的X方向分布圖。
第10C圖表示光擴散微粒之目標塗布密度的X方向分布圖。
第10D圖表示不同光擴散微粒之目標塗布密度的X方向分布圖。
第11圖表示假定在導光板四邊設置線光源的二維級度分布的模式圖。
第12圖表示藉由複數個噴嘴，在導光板基材之塗膜面使塗布液噴灑塗膜樣態的概略圖。
第13圖表示本發明導光板製造方法之各步驟順序的概略圖。
第14A圖表示塗布塗布液成水滴狀的導光板之概略側面圖。
第14B圖表示塗布塗布液成水滴狀的導光板之概略平面圖。
第15A圖表示塗布塗布液於塗膜面全面的導光板之概略側面圖。
第15B圖係表示塗布塗布液於塗膜面全面的導光板之概略平面圖。
第16A圖係導光板基材之塗膜面之顯微鏡照片。
第16B圖係導光板基材之塗膜面之顯微鏡照片。
1．．．導光板基材
2．．．塗布液
4．．．噴塗器
5．．．噴嘴
6．．．儲存槽
7、8．．．流量控制部

Claims (22)

  1. 一種導光板之製造方法，其係為了構成面光源裝置，而配置光源於端面的導光板之製造方法，藉由使含有光擴散微粒及透光性黏合劑的塗布液在微細液滴狀態下塗布在導光板基材內面或者表面、或兩面，而使擴散層塗膜，該光擴散微粒製成凝聚體，使該導光板基材之塗膜面中該凝聚體所佔之平面面積與該塗布液之塗布面積之比率為0.1%以上、70%以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之導光板之製造方法，其中在使該擴散層塗膜時，接近該光源之部分係使該光擴散微粒之塗布密度低，而遠離該光源之部分係使該光擴散微粒之塗布密度高。
  3. 如申請專利範圍第1項之導光板之製造方法，其中該塗布液係藉由自噴嘴使該塗布液噴霧之噴灑塗膜法，而塗布於該導光板基材內面或者表面、或兩面。
  4. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中藉由並聯配置複數個噴嘴，且使該複數個噴嘴大致平行地掃掠，而使該光擴散微粒之塗布密度一維或二維地變化。
  5. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中自該噴嘴至該導光板基材中塗膜面為止的間隔為70mm以上、300mm以下。
  6. 如申請專利範圍第4項之導光板之製造方法，其中自該噴嘴至該導光板基材中塗膜面為止的間隔為70mm以上、300mm以下。
  7. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中該噴灑塗膜法係一面自噴嘴噴出該塗布液，一面在該導光板基材之塗膜面上，移動該噴嘴於與該導光板基材之第一邊大致平行方向，使該噴嘴之掃瞄以預定之饋送點距在與該第一邊正交之方向重複進行，並塗布該塗布液於該塗膜面之全面或一部分。
  8. 如申請專利範圍第4項之導光板之製造方法，其中該噴灑塗膜法係一面自噴嘴噴出該塗布液，一面在該導光板基材之塗膜面上，移動該噴嘴於與該導光板基材之第一邊大致平行方向，使該噴嘴的掃瞄以預定饋送點距在與該第一邊正交之方向重複進行，並塗布該塗布液於該塗膜面之全面或一部分。
  9. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中移動該噴嘴於與該導光板基材之第一邊大致平行方向，使該噴嘴之掃掠以預定之饋送點距在與該第一邊正交之方向重複進行之步驟，係在該導光板基材之塗膜面上部分地重複進行，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  10. 如申請專利範圍第4項之導光板之製造方法，其中移動該噴嘴於與該導光板基材之第一邊呈大致平行方向，使該噴嘴之掃瞄以預定之饋送點距於與該第一邊正交之方向重複進行的步驟，係在該導光板基材之塗膜面上部分地重複進行，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  11. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中藉由改變該噴嘴的饋送點距，並塗布該塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  12. 如申請專利範圍第4項之導光板之製造方法，其中藉由改變該噴嘴的饋送點距，並塗布塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  13. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中藉由使該噴嘴之掃瞄速度依該噴嘴之每次掃掠改變，並塗布塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  14. 如申請專利範圍第4項之導光板之製造方法，其中藉由使該噴嘴之掃瞄速度依該噴嘴之每次掃掠改變，並塗布該塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  15. 如申請專利範圍第3項之導光板之製造方法，其中藉由使來自該噴嘴之塗布液每單位時間的塗布量依該噴嘴之每次掃掠改變，並塗布該塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  16. 如申請專利範圍第4項之導光板之製造方法，其中藉由使來自該噴嘴之塗布液每單位時間的塗布量依該噴嘴之每次掃掠改變，並塗布塗布液於該導光板基材之塗膜面之全面或一部分，而使該光擴散微粒之塗布密度一維地變化。
  17. 一種導光板，其特徵係為了構成面光源裝置，而配置光源於端面，藉由塗布含有光擴散微粒及透光性黏合劑的塗布液於導光板基材內面或者表面，或兩面，而使擴散層塗膜，該光擴散微粒製成凝聚體，在該導光板基材之塗膜面中該凝聚體所佔之平面面積與該塗布液之塗布面積之比率為0.1%以上、70%以下。
  18. 如申請專利範圍第17項之導光板，其中該塗布液係藉由自噴嘴使該塗布液噴霧之噴灑塗膜法，而塗布於該導光板基材內面或者表面、或兩面。
  19. 如申請專利範圍第17項之導光板，其中含於一個該凝聚體的光擴散微粒之個數為10個以上、10000個以下。
  20. 如申請專利範圍第18項之導光板，其中1個該凝聚體中所含的光擴散微粒之個數為10個以上、10000個以下。
  21. 如申請專利範圍第17項之導光板，其中隨著自該光源遠離，該導光板基材之塗膜面中該凝聚體所佔之平面面積與該塗布液之塗布面積之比率，或該塗布液之塗布面積與該導光板基材之塗膜面之面積的塗膜面積比率變高。
  22. 如申請專利範圍第18項之導光板，其中隨著自該光源遠離，在該導光板基材之塗膜面中該凝聚體所佔之平面面積與該塗布液之塗布面積之比率，或該塗布液之塗布面積與該導光板基材之塗膜面之面積之塗膜面積比率變高。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013152785A (ja) * 2012-01-24 2013-08-08 Mutoh Industries Ltd 導光板作成方法及び装置
JP2013167780A (ja) * 2012-02-16 2013-08-29 Muto Kogyo Kk 液晶ｔｖ用導光板作成方法及び装置
JP5909399B2 (ja) * 2012-03-30 2016-04-26 武藤工業株式会社 導光板作成方法及び装置
US20160070052A1 (en) * 2013-06-10 2016-03-10 Sharp Kabushiki Kaisha Light guide body and planar light-emission device provided with same
CN104459868A (zh) * 2013-09-24 2015-03-25 陈蕾 导光板及其制备方法、背光源led模组、显示器和面板灯
CN106405720A (zh) * 2016-06-21 2017-02-15 合肥惠科金扬科技有限公司 导光板、导光板制作方法及背光模组、显示装置
CN106249481B (zh) * 2016-09-18 2020-05-05 青岛海信电器股份有限公司 一种背光模组及导光板的制备方法
JP7459884B2 (ja) 2020-01-31 2024-04-02 Ａｇｃ株式会社 光源付き照明体
RS20220432A1 (sr) * 2022-05-10 2023-11-30 Mandic Zeljko Svetlosno emitujući polimerni film i postupak njegovog formiranja
CN115895007B (zh) * 2022-12-17 2023-08-08 常熟卓辉光电科技股份有限公司 一种导光板及其制造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0780956A (ja) * 1993-09-16 1995-03-28 Nissha Printing Co Ltd 光散乱材の製造方法
US20050208225A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-22 Konica Minolta Photo Imaging, Inc. Coating apparatus and coating method
TW200717035A (en) * 2005-06-28 2007-05-01 Seiko Epson Corp Method of manufacturing optical sheet, optical sheet, backlight unit, display device, and electronic apparatus
CN101128697A (zh) * 2005-02-25 2008-02-20 三菱丽阳株式会社 面光源装置、面光源装置用导光体及其制造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57128383A (en) * 1981-02-02 1982-08-09 Mitsubishi Electric Corp Surface lighting apparatus
JPH03265889A (ja) * 1990-03-16 1991-11-26 Asahi Chem Ind Co Ltd 表示体用光源装置
JP2001141932A (ja) * 1999-11-15 2001-05-25 Nitto Denko Corp 偏光導光板及び偏光面光源
JP2005044744A (ja) * 2003-07-25 2005-02-17 Clariant Internatl Ltd 面光源装置
JP2006251589A (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Nitto Denko Corp 光学素子及びこれを用いた偏光面光源並びにこれを用いた表示装置
JP2007304219A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Keiwa Inc 光学シート用基材フィルム、光学シート及び液晶表示モジュール
JP4996154B2 (ja) * 2006-07-18 2012-08-08 アバゴ・テクノロジーズ・イーシービーユー・アイピー（シンガポール）プライベート・リミテッド 面発光体
JP2009031570A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Tamura Seisakusho Co Ltd 発光標示装置
WO2009028439A1 (ja) * 2007-08-28 2009-03-05 Dic Corporation プリズムシート、それを用いたバックライトユニットおよび液晶表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0780956A (ja) * 1993-09-16 1995-03-28 Nissha Printing Co Ltd 光散乱材の製造方法
US20050208225A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-22 Konica Minolta Photo Imaging, Inc. Coating apparatus and coating method
CN101128697A (zh) * 2005-02-25 2008-02-20 三菱丽阳株式会社 面光源装置、面光源装置用导光体及其制造方法
TW200717035A (en) * 2005-06-28 2007-05-01 Seiko Epson Corp Method of manufacturing optical sheet, optical sheet, backlight unit, display device, and electronic apparatus

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