TWI462685B - 電子裝置殼體 - Google Patents

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TWI462685B TW099101418A TW99101418A TWI462685B TW I462685 B TWI462685 B TW I462685B TW 099101418 A TW099101418 A TW 099101418A TW 99101418 A TW99101418 A TW 99101418A TW I462685 B TWI462685 B TW I462685B
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Chwan Hwa Chiang
Qi-Jian Du
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Fih Hong Kong Ltd
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電子裝置殼體
本發明係關於一種電子裝置殼體，尤其係關於一種既具有金屬質感又具有高光澤度的電子裝置殼體。
習知電子產品(如手機、PDA等)的殼體常被鍍覆一金屬層或金屬氧化物層而使產品具有金屬質感，從而吸引消費者眼球。該金屬層通常以不導電電鍍的方式形成，因該金屬層不導電，從而可避免其對電子產品信號接收的干擾。該不導電的金屬層或金屬氧化物層通常為透明狀，其形成於殼體上之後，與殼體的基材及形成於殼體上的其他油漆層共同使得殼體呈現出多彩的具金屬質感的外觀。然而，上述在殼體表面形成的金屬層或金屬氧化物層的結構單一，光澤度低，難以使產品呈現出高光澤度、高雅的外觀。
鑒於此，有必要提供一種既具有金屬質感又具有高光澤度的電子裝置殼體。
一種電子裝置殼體，其包括一基體及形成於基體表面的金屬氧化物膜，所述基體表面的粗糙度值在60nm以下，該金屬氧化物膜包括有具不同折射率的相互交替排列的氧化物層，該不同折射率的氧化物層選自為五氧化二鉭氧化物層與二氧化矽氧化物層的組 合或五氧化二鈮氧化物層與氧化鋯氧化物層的組合，所述五氧化二鉭氧化物層為3-4層，二氧化矽氧化物層為3-4層，所述殼體的表面光澤度值為100-200光澤單位。
相較於習知技術，本發明電子裝置殼體通過控制基體的表面粗糙度值以及於基體表面上設置特定結構的金屬氧化物膜，使得該電子裝置殼體既具有金屬質感又具有高光澤度，外觀更加高雅、更具有吸引力，大大提升了產品的使用價值和附加價值。
10‧‧‧電子裝置殼體
11‧‧‧基體
13‧‧‧底漆層
15‧‧‧金屬氧化物膜
17‧‧‧面漆層
圖1為本發明一較佳實施方式電子裝置殼體的剖視示意圖。
請參閱圖1所示，本發明一較佳實施方式的電子裝置殼體10包括一基體11、形成於基體11上的底漆層13、結合於底漆層13上的金屬氧化物膜15以及結合於金屬氧化物膜15上的面漆層17。
基體11可為不透明的塑膠基體，其可以注塑成型的方式製成。注塑該基體11的塑膠可選自為聚丙烯(PP)、聚醯胺(PA)、聚碳酸酯(PC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)及聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中的任一種。該基體11亦可為陶瓷基體。所述基體11的表面粗糙度值在60nm以下。該基體11可為白色、黑色或其他多彩的顏色，優選為白色。
底漆層13可由白色、彩色或無色透明的丙烯酸樹脂漆噴塗形成於基體11的表面。該底漆層13可增強金屬氧化物膜15與基體11間的結合力，其厚度可在1-30μm之間。
金屬氧化物膜15可以真空濺鍍的方式形成於底漆層13的表面。該 金屬氧化物膜15可包括有相互交替排列的五氧化二鉭(Ta2O5)氧化物層及二氧化矽(SiO2)氧化物層。該五氧化二鉭氧化物層可為3-4層，與其交替排列的二氧化矽氧化物層亦可為3-4層。與底漆層13表面直接相結合的可以為某一五氧化二鉭氧化物層或二氧化矽氧化物層。該金屬氧化物膜15也可包括有相互交替排列的五氧化二鈮(Nb2O5)氧化物層及氧化鋯(ZrO2)氧化物層。該五氧化二鈮氧化物層可為3-4層，與其交替排列的氧化鋯氧化物層亦可為3-4層。與底漆層13表面直接相結合的可以為某一五氧化二鈮氧化物層或氧化鋯氧化物層。該金屬氧化物膜15的厚度可為10-1000nm，在該厚度範圍內，該金屬氧化物膜15可使所述電子裝置殼體10的光澤度值達到100-200光澤單位(測試光線入射角度為60度)。
本較佳實施方式中採用真空濺鍍的方式形成金屬氧化物膜15，相較於真空蒸鍍，可較精確的控制金屬氧化物膜15的微觀結構，以使該金屬氧化物膜15產生高光澤度效果。濺鍍時，以鉭、鈮、鋯或矽作為靶材，並通入一定量高純度的氧氣(約99.99%)。
所述金屬氧化物膜15的厚度可通過光學膜系的數值計算軟體計算出光譜曲線後而確定。
面漆層17為透明的保護漆，其厚度可為10-50μm。用以形成面漆層17的油漆可為紫外光固化漆，其具有較高的硬度，從而可起到較好的表面保護作用。所述面漆層17中亦可添加彩色顏料，以使所述電子裝置殼體10的外觀更美觀。
可以理解的，所述底漆層13可以省略，即金屬氧化物膜15直接形成於基體11上。
可以理解的，所述面漆層17亦可以省略。
本發明較佳實施方式的電子裝置殼體10通過控制基體11的表面粗糙度值以及於基體11表面上設置特定結構的金屬氧化物膜15，使得該電子裝置殼體10既具有金屬質感又具有高光澤度，外觀更加高雅、更具有吸引力，大大提升了產品的使用價值和附加價值。
10‧‧‧電子裝置殼體
11‧‧‧基體
13‧‧‧底漆層
15‧‧‧金屬氧化物膜
17‧‧‧面漆層

Claims (9)

  1. 一種電子裝置殼體，其包括一基體及形成於基體表面的金屬氧化物膜，其改良在於：所述基體表面的粗糙度值在60nm以下，該金屬氧化物膜包括有具不同折射率的相互交替排列的氧化物層，該不同折射率的氧化物層選自為五氧化二鉭氧化物層與二氧化矽氧化物層的組合或五氧化二鈮氧化物層與氧化鋯氧化物層的組合，所述五氧化二鉭氧化物層為3-4層，二氧化矽氧化物層為3-4層，所述殼體的表面光澤度值為100-200光澤單位。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的電子裝置殼體，其中所述基體由塑膠或陶瓷製成。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的電子裝置殼體，其中所述金屬氧化物膜的厚度為10-1000nm。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的電子裝置殼體，其中所述金屬氧化物膜以真空濺鍍的方式形成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的電子裝置殼體，其中所述五氧化二鈮氧化物層為3-4層，氧化鋯氧化物層為3-4層。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的電子裝置殼體，其中所述殼體還包括一形成於基體與金屬氧化物膜之間的底漆層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的電子裝置殼體，其中所述底漆層為丙烯酸樹脂漆層，其厚度在1-30μm之間。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的電子裝置殼體，其中所述殼體還包括一形成於金屬氧化物膜表面的面漆層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的電子裝置殼體，其中所述面漆層為紫外光固 化漆層。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWI225850B (en) * 1999-12-22 2005-01-01 Schott Spezialglas Gmbh UV-reflective interference layer system
TWI284746B (en) * 2000-12-07 2007-08-01 Furuya Metal Co Ltd High heat resistant reflective coating, and laminated body using the reflective coating
TW200810587A (en) * 2006-06-19 2008-02-16 3M Innovative Properties Co Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices
TWI317384B (en) * 2002-12-04 2009-11-21 Leybold Optics Gmbh Process for the fabrication of a multiplayer and device to practising this process

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Non-Patent Citations (1)

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Title
陳信瑋碩士論文，"射出成型參數對光學鏡片表面粗糙度的影響"，國立高雄應用科技大學，2007年7月 *

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