TWI455878B - 石墨烯的製備方法 - Google Patents

Claims (17)

1. 一種石墨烯的製備方法，至少包含下列步驟：將一第一電極與一第二電極不接觸地置於一電解液中，且該第一電極為一石墨複層材料，且該第二電極為石墨電極片、鉑電極片或不鑄鋼電極片，該電解液包含至少一離子溶液；使該第一電極與該第二電極間產生一電勢差；該離子溶液藉由該電勢差進入該第一電極之每一層中以生成複數個石墨烯；其中該電解液更包含一輔助溶液，且該輔助溶液包含一第一溶劑與一第二溶劑。
2. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，更包含下列步驟：氮化該些石墨烯；其中所述之壓力條件的範圍為1至100atm，溫度條件的範圍為攝氏300至400度，環境氣體包含氮氣、氧氣、氫氣、週期表惰性氣體的至少一種以上或其混合物，以及不同溶劑包含水、甲醇、乙醇或其他可以溶解離子液體但不溶解石墨烯的溶劑。
3. 如申請專利範圍第2項所述之製備方法，其中該些石墨烯於該氮化步驟後所含之氮原子數目為該些石墨烯總原子數目的0.01%至0.99%。
4. 如申請專利範圍第2項所述之製備方法，其中在氮化該些石墨烯的步驟之前，更包含下列步驟：將該些石墨烯插置於該些石墨烯間以及覆蓋於該些石墨烯表面之該離子溶液自該電解液中分離出來。
5. 如申請專利範圍第4項所述之製備方法，其中該將該些石墨烯、插置於該些 石墨烯間以及覆蓋於該些石墨烯表面之該離子溶液自該電解液中分離出來的步驟係透過離心、過濾、管柱層析、溫度差、密度差、超臨界流體萃取、靜置或添加與該電解液不相容之一溶劑來完成。
6. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該離子溶液包含一陽離子與一陰離子，且該陽離子係可選擇自由銨、咪唑鎓、噁唑鎓、派啶翁、吡嗪翁、吡唑鎓、噠嗪翁、吡啶鎓、嘧啶鎓、吡咯烷鎓、吡咯啉鎓、噻唑鎓、三唑鎓及胍鹽陽離子所構成之群組，該陰離子係可選擇自由鹵素、硫酸根、磺酸根、醯胺、醯亞胺、硼酸根、磷酸根、銻酸根、癸酸根及四羰合鈷陰離子所構成之群組。
7. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第一溶劑係可選擇自由溴酸、氨水、苯胺、吡咯、塞吩、乙炔、二甲基亞碸、乙醇、對苯、對苯撐乙烯及其組合所構成之群組，而該第二溶劑可選擇自由酯、醚、酮及其組合所構成之群組。
8. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第二溶劑為一碳酸酯，且該碳酸酯可選擇自由碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸二丙酯、碳酸甲丙酯、碳酸乙丙酯、碳酸甲乙酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、碳酸亞丁酯、碳酸亞戊酯及其組合所構成之群組。
9. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第二溶劑可選擇自由乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸二甲酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、γ-丁內酯、癸內酯、戊內酯、甲瓦龍酸內酯、己內酯及其組合所構成之群組。
10. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第二溶劑係可選擇自由二丁醚、四乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、二甲氧基乙烷、2一甲基四氮呋喃、四氫呋喃及其組合所構成之群組。
11. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第二溶劑係可選擇自環己酮、聚甲基乙烯基酮及其組合所構成之群組。
12. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中使該第一電極與該第二電極間產生該電勢差之步驟係透過於該第一電極與該第二電極之間施加恒流，且其電流條件的範圍為10毫安培/克至20安培/克，恒流時間為0.5小時至24小時。
13. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中使該第一電極與該第二電極間 產生該電勢差之步驟係透過於該第一電極與該第二電極之間施加恒壓，且其電壓條件的範圍為0.5伏特至20伏特，恒壓時間為0.5小時至24小時。
14. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中使該第一電極與該第二電極間產生該電勢差之步驟係透過於該第一電極與該第二電極之間施加掃描電勢，且其電勢範圍為-0.2伏特至20伏特，掃描時間為0.5小時至24小時或掃描次數為10至10000次。
15. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該離子溶液的濃度範圍為0.0001%至100%。
16. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第一電極與該第二電極具有一間距，該間距為20奈米至20公分。
17. 如申請專利範圍第1項所述之製備方法，其中該第一電極與該第二電極夾有一角度，該角度為0度至180度。