TWI419220B - 具有移動式洩液槽之清洗蝕刻機台 - Google Patents
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Claims (3)
- 一種具有移動式洩液槽之清洗蝕刻機台，使轉盤保持在固定水平上，而洩液槽可視蝕刻液之種類或純水而升降至轉盤處以排出酸液及酸性氣體，至少包含：一組轉盤，保持在固定水平上，有一個圓形表面以固定一片晶圓，該轉盤可旋轉以蝕刻或清洗該晶圓；一組固定風箱，具有數個抽風口，一個主抽風排氣管，一個次抽風排氣管；一個洩液槽，位於靠近轉盤外之同心圓上，該洩液槽至少有兩組圓形液槽，用以視蝕刻液之種類或純水而將適當之一組圓形液槽升降至轉盤處對準，以將該轉盤排出之酸液分別排放，其中每一組圓形液槽有一組圓形抽氣口連接至該固定風箱之一個抽風口以將酸性氣體排出；以及一個使該洩液槽升降至該轉盤處之升降裝置，使其中該圓形液槽之一組與該轉盤在同一水平上，以承接該轉盤排出之酸液；其中，相對較強之酸性氣體經由該主抽風排氣管排出，其它酸性氣體經由該次抽風排氣管排出，以防止該洩液槽之至少兩組圓形液槽相互污染。
- 如申請專利範圍第1項之清洗蝕刻機台，其中該升降裝置為旋轉馬達帶動之升降齒輪。
- 如申請專利範圍第1項之清洗蝕刻機台，其中該升降裝置為一組氣動工具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW97148510A TWI419220B (zh) | 2008-12-12 | 2008-12-12 | 具有移動式洩液槽之清洗蝕刻機台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| TW97148510A TWI419220B (zh) | 2008-12-12 | 2008-12-12 | 具有移動式洩液槽之清洗蝕刻機台 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201023256A TW201023256A (en) | 2010-06-16 |
| TWI419220B true TWI419220B (zh) | 2013-12-11 |
Family
ID=44833317
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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| TW (1) | TWI419220B (zh) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI257881B (en) * | 2003-03-20 | 2006-07-11 | Sez Ag | Device and method for wet treating disc-shaped articles |
-
2008
- 2008-12-12 TW TW97148510A patent/TWI419220B/zh active
Patent Citations (1)
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201023256A (en) | 2010-06-16 |
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