TWI415027B - 二維和三維組合式呈像 - Google Patents

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Description

二維和三維組合式呈像
本發明係有關於一種以顯現形狀的方式將二維及三維模型化步驟予以組合的系統。
現今存在有許多工具可讓使用者建立專業的商業繪圖，例如簡報。加入光澤到形狀及影像的方法為應用三維技術。其通常有兩種方式達成：一種係在二維位元映圖上使用模擬的三維效果，其會造成三維外觀的形狀或影像，而不是一真實的三維模型。所得到的模擬三維繪圖對於某些用途而言可能不足。其它的方式係使用一完整的三維模型。在此使用者建構出要顯示的項目之三維模型。此方式基本上需要使用者具備三維模型化的技巧，以及能夠使用三維模型化工具。此背景資訊並非要辨識出必須由所主張之主題內容要處理的問題。
此發明內容係用於以簡化的型式介紹選出的觀念，其將在以下的詳細說明段落中做另外說明。此發明內容並非要確認所主張的主題之關鍵特徵或基本特徵，也並非要做為一種輔助以界定所主張的主題之範圍。
根據多種描述的具體實施例之態樣，提供了組合顯現形狀之二維與三維模型化之系統。在一態樣中，該系統包 括：三維模型化工廠，其產生所選出的形狀參數或特徵之三維模型；一前端面工廠，其產生二維文字及文字效果，及一些二維形狀效果(例如填充效果)；一地平面工廠，其產生顯現在一形狀的地平面上之效果；以及，一光柵器/合成引擎，其組合由前端面工廠、地平面工廠及三維模型化工廠所產生的二維與三維效果。當該系統接收具有三維效果之形狀時，該前端面工廠分解該形狀成為以下的部份：在該形狀中包括的文字(如果有的話)；前端面的二維表面(即該形狀的前端面之表面效果)；應用到該文字之三維效果(如果有的話)；任何地平面效果(例如陰影、發亮、反射效果，其皆顯現到該形狀之地平面中)；以及該形狀的幾何外型(例如圓、長方形、箭頭等)。
該前端面工廠顯現任何的二維文字效果(例如陰影、發亮、反射)；任何二維形狀效果；該形狀的任何二維表面效果(例如填滿、傾斜填滿、影像等)及二維幾何外型；以及使用該形狀之前端表面的顯現二維文字效果與二維表面效果之一紋理圖。該地平面工廠產生該二維形狀效果(如果有的話)之一地平面。此外，如果該文字有應用三維效果，該地平面工廠產生該二維文字效果之一地平面。該三維模型化工廠藉由定義該形狀的擠壓(extrusion)及斜面(beveling)性質而由該二維形狀幾何外型產生三維模型。然後該三維模型化工廠產生座標以對映該紋理到三維模型之前端面。然後該光柵器/合成引擎組合來自該三維模型化工廠之結果形狀(即使用三維幾何外型與二維紋理圖)與來自該地平 面工廠之地平面。該光柵器/合成引擎使用該等紋理座標將該紋理對映到該三維模型上。
具體實施例可實施成一電腦處理程序、一電腦系統(包括行動掌上型運算裝置)、或是一製品，例如一電腦程式產品。該電腦程式產品可為由一電腦系統可讀取的一電腦儲存媒體，並將一電腦程式的指令編碼以用於執行一電腦處理。該電腦程式產品亦可為在可由一運算系統讀取的一載波上的一傳遞信號，並將一電腦程式的指令編碼以用於執行一電腦處理。
多個具體實施例將在以下參考所附圖式更為完整說明，這些圖式形成本文之一部份，且其顯示實施不同具體實施例之特定示例性具體實施例。但是，其它具體實施例可用許多不同型式實施，且不應視為對於在此揭示之具體實施例的限制；而是，這些具體實施例係用於使得本說明書更為詳盡與完整。具體實施例可實施成為方法、系統或裝置。因此，具體實施例的型式可為一硬體實施、一完全軟體實施、或是組合軟體與硬體態樣之實施。因此以下的詳細說明不應視為限制的意義。
不同具體實施例之邏輯作業係實施成(1)做為在一運算系統上執行的電腦實施步驟之程序，及/或(2)做為在該運算系統內互連的機器模組。該實施為根據實施了本具體實施例之運算系統的效能需求的選擇結果。因此，構成在 此處說明之具體實施例的邏輯作業另可稱為作業、步驟或模組。
示例性二維/三維組合的顯現系統
具有前述模擬的二維及三維模型化方法之問題為它們對於典型的商業用途而言不夠完整。例如，使用者可具有二維效果(如漸層)之形狀，它們想要為了效果置入三維透視，或是一複雜的三維模型，其中它們想要使用一圖像紋理圖、一漸層效果或一簡單陰影。該模擬的三維方法及三維模型化方法僅分別地提供上述範例方案的解決方案之一部份。
以下揭示的具體實施例允許使用同時組合三維及二維效果成為一管線，其可產生專業的外觀商業繪圖。使用者不需要具有對於三維模型化之詳細瞭解(其對於典型的商業使用者而言很有可能性)，而可使用本系統之具體實施例。
第1圖所示為組合二維與三維模型化在顯現形狀時的一示例性系統100。在此具體實施例中，系統100包括二維/三維引擎102，而一或多個應用程式代表第1圖中應用程式104-1到104-N。應用程式104-1到104-N使用二維/三維引擎來提供三維效果給由應用程式104-1到104-N之使用者所輸入的二維形狀及形狀效果。此外，二維/三維引擎102亦可提供三維效果給關於該等形狀的文字。根據一具體實施例，二維/三維引擎102接收二維形狀輸入，並產生該二維形狀之某些部份的三維模型，所以該顯現輸出包 含由二維形狀與效果(及二維文字與效果，如果有的話)所產生的部份，以及由該三維模型所產生的部份。此組合的方法不像是前述的模擬三維方法(其中不包括三維模型)，以及單純的三維模型化方法。二維/三維引擎102之範例實施在以下配合第2圖做說明。
雖然一「共享」的二維/三維引擎具體實施例已在以上說明，在其它具體實施例中，可以產生三維形狀之每個應用程式相對於獨立的二維/三維引擎102，可具有一嵌入式二維/三維引擎。
二維/三維引擎之示例性組件
第2圖所示為根據一具體實施例之二維/三維引擎102(第1圖)之示例性組件。在此具體實施例中，二維/三維引擎102包括三維模型化工廠202、一前端面工廠204、一地平面工廠206，以及一光柵器/合成引擎208。三維模型化工廠202產生選出的形狀參數或特徵之三維模型。前端面工廠204產生二維文字與文字效果，以及一些二維形狀效果(例如填滿效果)。地平面工廠206產生顯現在一形狀的地平面上之效果。光柵器/合成引擎208組合了由前端面工廠204、地平面工廠206、及三維模型化工廠202所產生的二維與三維效果。
在作業中，當二維/三維引擎102接收一具有三維效果之形狀時(例如由一使用者使用如第1圖之應用程式104-1的一應用程式所提供的使用者介面所選出)，前端面工廠204分解該形狀成為以下的部份：在該形狀中包括的文字 (如果有的話)；前端面的二維表面(即該形狀的前端面之表面效果)；應用到該文字之三維效果(如果有的話)；任何地平面效果(例如陰影、發亮、反射效果，其皆顯現到該形狀之地平面中)；以及該形狀的幾何外型(例如圓、長方形、箭頭等)。
在此具體實施例中，前端面工廠204顯現：任何的二維文字效果(例如陰影、發亮、反射)；任何二維形狀效果；該形狀的任何二維表面效果(例如填滿、傾斜填滿、影像等)及二維幾何外型；以及使用該形狀之前端表面的顯現二維文字效果與二維表面效果產生一紋理圖。根據此具體實施例，前端面工廠204產生該紋理圖，所以該形狀的前端表面保持其在任何模擬的照明條件之下該形狀的所有方向上其二維表面效果(如填滿顏色)。對於典型的商業使用者，此二維表面效果保持特徵是有需要的(即使其好像較不實際)，因為該輸入的二維表面效果(如顏色)為使用者實際上想要做為結果的效果(相對於當具有此表面效果之形狀重新導向時如何呈現表面效果)。
另外，在一具體實施例中，前端面工廠204藉由單一像素來擴大紋理(如包含該填滿效果或影像)，以確定該三維模型的前端面中所有部份皆由該影像填滿覆蓋。
在此具體實施例中，地平面工廠206產生該二維形狀效果(如果有的話)之一地平面。此外，如果該文字有應用三維效果，地平面工廠206產生該二維文字效果之一地平面。地平面產生器206採用二維效果，例如陰影、模糊、 及反射，並將它們繪製到一背景平面中。當由三維模型化工廠加入三維效果到該形狀時(如以下所述)，一地平面即被產生，並顯現像是陰影、模糊及反射的二維形狀效果在該地平面上。該地平面將會顯現在該形狀之後。
在此具體實施例中，三維模型化工廠202藉由定義該形狀的擠壓及斜面性質而由該二維形狀幾何外型產生三維模型。然後該三維模型化工廠產生座標以對映該紋理到三維模型之前端面。例如，該三維模型化工廠將該二維表面效果(例如一圖像或顏色)「環繞」在該斜面周圍。
另外，在一具體實施例中，三維模型化工廠202根據它們底層的二維幾何外型產生三維形狀的輪廓。一輪廓的範例係示於第3圖。在此範例中，當一使用者賦予一形狀的輪廓特徵時，該形狀的「外形」將變得較寬。該輪廓的顏色為使用者可定義者。例如，白色輪廓可用於在一暗背景上顯現暗形狀。除了在三維模型化期間產生該等輪廓，該等輪廓由底層二維形狀(顯示為形狀302)所產生，並應用到該擠壓及斜面。其結果顯示為形狀304。
在此具體實施例中，然後光柵器/合成引擎208將來自三維模型化工廠202的結果形狀(即具有三維形狀與二維紋理圖)與來自地平面工廠206之地平面予以組合。該光柵器/合成引擎208使用該紋理座標來對映該紋理到三維模型之上。
顯現三維文字之示例性組件
在一具體實施例中(未示出)，對於三維文字有一獨立 的前端面工廠、一地平面工廠及一三維模型化工廠。該前端面工廠顯現該文字的二維效果。該三維模型化工廠藉由定義該文字的擠壓及斜面性質，以及對映該二維文字效果在該文字的三維模型上而產生該文字的三維模型。該地平面工廠產生該三維文字之一獨立的地平面，然後像是陰影、模糊及反射的二維效果被顯現在此地平面上。此地平面將會位在該形狀的上方，所以該等文字效果將可看到。三維文字的範例即示於第4圖。
作業系統/驅動器安裝之示例性來源作業流程 。
第5圖為根據一具體實施例中由二維形狀輸入產生三維圖形的一作業流程500之流程圖。作業流程500可在任何適當的運算環境中執行。例如，作業流程400可由像是二維/三維引擎102(第2圖)之系統所執行。因此，作業流程500之說明可做為第2圖之組件中至少一項。但是，任何參照到第2圖之組件係僅做為說明的目的，且其可瞭解到第2圖之實施為作業流程500之非限制性環境。在此範例作業流程中，使用像是應用程式104-1(第1圖)之應用程式的一使用者已經產生了要被顯現的一形狀。
在區塊502中，如果該形狀具有文字，二維顯現引擎可以顯現要被應用到該文字之任何二維文字效果(例如可由一使用者透過該應用程式產生)。在一具體實施例中，該二維顯現引擎為一標準的二維顯現引擎，且為一前端面工廠的一部份，例如前端面工廠204(第2圖)。
於區塊504中，如果應用三維文字效果(例如由使用者 所使用)，一地平面工廠(例如類似於地平面工廠206，但係用於文字而非形狀上)產生該文字的三維地平面。此地平面係獨立於該形狀的地平面。
在此範例中，區塊502與504僅在當要應用三維效果到該形狀的文字時被執行。
於區塊506中，應用二維形狀效果到該形狀。在一具體實施例中，前述的二維顯現引擎應用該二維形狀效果(例如陰影效果、發亮效果、反射效果)到該形狀。
於區塊508中，一形狀地平面被產生，且該等二維形狀效果係相關於該形狀地平面。在一具體實施例中，一地平面工廠(例如地平面工廠206)產生該地平面，並相關該二維形狀效果(如陰影效果、發亮效果、反射效果)到該形狀地平面。
於區塊510中，其相同於區塊502，但係在方案中執行，其中未應用三維效果到該形狀的文字。
於區塊512中，應用二維表面效果到該形狀。在一具體實施例中，該前端面工廠之二維顯現引擎應用該表面效果(例如填滿、漸層填滿、影像等)到該形狀。
於區塊514中，使用來自區塊510與512之二維文字效果與二維表面效果產生的一紋理圖。在一具體實施例中，該前端面工廠產生該紋理圖。
於區塊516中，二維幾何外型可由該形狀取得。在一具體實施例中，三維模型化工廠(例如第2圖之三維模型化工廠202)由該形狀取得該二維幾何外型。
於區塊518中，三維模型由在區塊516中取得的二維幾何外型所產生。在一具體實施例中，前述的三維模型化工廠藉由定義該形狀的擠壓與斜面參數產生該三維模型。
於區塊520中，來自區塊514之紋理圖即對射到來自區塊518之三維模型。在一具體實施例中，該三維模型化工廠對映該紋理圖到該三維模型上，所以該形狀的前端面具有來自區塊510與512之二維文字、文字效果與表面效果。此外，該三維模型化工廠亦可應用該紋理圖到三維特徵，例如該擠壓與斜面(例如「圍繞」該填滿到該斜面與擠壓周圍)。
於區塊522中，由區塊520之三維形狀產生一位元映圖而組合於來自區塊508之地平面，在一具體實施例中，一光柵器/合成引擎(例如第2圖之光柵器/合成引擎208)產生該位元映圖。此外，在應用三維效果到該形狀的文字之方案中，該光柵器/合成引擎亦使用來自區塊504之地平面以產生該位元映圖。
雖然作業流程500係以一特定順序依序例示及說明，在其它具體實施例中，在該等區塊中說明的作業可用不同順序、多次及/或平行地方式執行。另外，在一些具體實施例中，於該等區塊中說明的一或多個作業可被分成另一被省略或結合之區塊。
整個說明書中所提到的「一具體實施例」或「一範例具體實施例」代表在至少一具體實施例中所包括的一特別描述的特徵、結構或特性。因此，這些片語的使用可參照 到不只一具體實施例。再者，所述的特徵、結構或特性在一或多個具體實施例中可用任何適當的方法組合。
然而相關技藝的專業人士可以瞭解到具體實施例可在無須一或更多特定細節或是使用其它方法、資源、材料等的情況下而實施。在其它實例中，並未詳細顯示或說明熟知的結構、資源或作業，係僅要避免混淆該等具體實施例之態樣。
當此處已經例示與說明範例具體實施例與應用之後，其可瞭解到本發明並未限於上述特定的組態與資源。本技藝專業人士可瞭解到在不背離所主張之發明的範圍之情況下，可對此處揭示的方法及系統進行其配置、作業及細節的多種修正、改變及變化。
100‧‧‧系統
102‧‧‧二維/三維引擎
104-1‧‧‧應用程式
104-2‧‧‧應用程式
104-N‧‧‧應用程式
200‧‧‧形狀加使用者輸入
202‧‧‧三維模型化工廠
204‧‧‧前端面工廠
206‧‧‧地平面工廠
208‧‧‧光柵器/合成引擎
302‧‧‧形狀
304‧‧‧形狀
500‧‧‧操作流程
此處參考以下的圖式說明非限制性與非窮盡性具體實施例，其中類似的參考編號係指稱不同圖式中類似的零件，除非另有指明。
第1圖為根據一具體實施例之具有多重應用程式與二維/三維引擎之示例性系統的區塊圖。
第2圖為根據一具體實施例之第1圖中二維/三維引擎之示例性組件的區塊圖。
第3圖為根據一具體實施例之具有依據該形狀的二維幾何外型之輪廓的三維形狀之圖式。
第4圖為根據一具體實施例中應用到一形狀的文字之 三維文字與文字效果之圖式。
第5圖為根據一具體實施例，由二維形狀輸入產生三維圖形的作業流程之流程圖。
102‧‧‧二維/三維引擎
200‧‧‧形狀加使用者輸入
202‧‧‧三維模型化工廠
204‧‧‧前端面工廠
206‧‧‧地平面工廠
208‧‧‧光柵器/合成引擎

Claims (20)

  1. 一種在使用一處理器之一電腦裝置上顯現形狀的方法，該方法包含以下步驟：在一二維/三維引擎處接收具有三維效果之一二維形狀，其中該二維/三維引擎包含一三維模型化工廠、一前端面工廠、一地平面工廠及一合成引擎；其中接收之該形狀包括一二維表面與直接位於該二維表面之文字；其中該等文字之尺寸包括在該形狀中，並獨立於該二維表面之尺寸而定義；其中位於該二維表面之該等文字之每一特徵係為不同於該二維形狀之一形狀，該等文字係位於該二維形狀；以及其中該等文字之一區域小於該二維形狀之一區域；使用該二維/三維引擎之該前端面工廠以分解(disassembling)接收之該二維形狀成為下列部分，該等部分包含：包括在該形狀中之文字、該前端面之一二維表面、應用至該等文字之三維效果、顯現至該形狀之一地平面之地平面效果及該形狀的一幾何外型；使用該前端面工廠以顯現二維形狀效果至該地平面，其中該等二維形狀效果包含一陰影效果、一發亮效果及一反射效果中之至少一者；使用該地平面工廠以建立一文字地平面，該文字地平面獨立於該形狀之一地平面；使用該前端面工廠以顯現二維文字效果、二維形狀效果、二維表面效果及該二維形狀之該幾何外型； 使用該前端面工廠以從該等二維文字效果、該等二維形狀效果、該等二維表面效果及該二維形狀之該幾何外型中之每一者之顯現來建立一位元映圖，其中選擇性地將三維效果應用至該等文字與該二維表面，以使得該位元映圖包括具有一可見表面處理之一三維背景物件與一三維文字物件，該三維背景物件定義於回應該二維表面，而該三維文字物件定義於回應該等文字；顯現應用該等三維效果之該二維形狀；使用該二維/三維引擎之該三維模型化工廠以藉由定義該二維形狀的擠壓(extrusion)及斜面(beveling)性質並建立一斜面而從該二維形狀產生一三維模型；使用該二維/三維引擎之該三維模型化工廠以產生對映該位元映圖至該三維模型之一前端面的座標；以及使用該三維模型化工廠在該斜面周圍應用該等二維表面效果。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，進一步包含選擇性地應用(506)一或更多二維形狀效果到該二維形狀上之步驟。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之方法，進一步包含以下步驟：選擇性地建立該二維形狀之一地平面(508)；以及 選擇性地將一或更多二維形狀效果相關到該二維形狀的地平面。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該組合進一步包含：包括在該二維形狀中的文字，以及要被應用到該等文字之三維效果。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之方法，進一步包含(502、510)若該二維形狀包括文字則選擇性地應用文字效果到該等文字之步驟。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之方法，進一步包含(504)若該二維形狀包括具有要被應用之三維效果的文字，則選擇性地建立一文字地平面，並將一或更多三維文字效果與該文字地平面相關聯之步驟。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之方法，進一步包含(512)選擇性地應用表面效果到該二維形狀之步驟。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之方法，進一步包含(514)選擇性地建立一紋理圖(texture map)之步驟，該步驟係使用該等二維表面效果，或是應用到包括在該二維形狀中文字之二維文字效果，或是兩者皆是。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之方法，進一步包含(516)從該二維形狀取得一二維幾何外型之步驟。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之方法，進一步包含(518)從該二維幾何外型產生一三維模型之步驟。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之方法，進一步包含(520)對映一紋理圖到該三維模型上之步驟，其中該紋理圖 之建立係使用應用到該二維形狀之二維表面效果、或是應用到包括在該二維形狀中的文字之二維文字效果，或是兩者皆是。
  12. 一種儲存指令的電腦可讀取儲存媒體，當該等指令由一電腦所執行時，可實施如申請專利範圍第1項所述之方法。
  13. 一種顯現形狀之系統，該系統包含：一接收構件，用於在一二維/三維引擎處接收具有三維效果之一二維形狀，其中該二維/三維引擎包含一三維模型化工廠、一前端面工廠、一地平面工廠及一合成引擎；其中接收之該形狀包括一二維表面與直接位於該二維表面之文字；其中該等文字之尺寸包括在該形狀中，並獨立於該二維表面之尺寸而定義；其中位於該二維表面之該等文字之每一特徵係為不同於該二維形狀之一形狀，該等文字係位於該二維形狀；以及其中該等文字之一區域小於該二維形狀之一區域；一分解構件，用於使用該二維/三維引擎之該前端面工廠以分解該二維形狀成為下列部分，該等部份包含：包括在該形狀中之文字、該前端面之一二維表面、應用至該等文字之三維效果、顯現至該形狀之一地平面之地平面效果及該形狀的一幾何外型；一顯現二維形狀效果之構件，用於使用該前端面工廠以顯現二維形狀效果至該地平面，其中該等二維形狀效果包含一陰影效果、一發亮效果及一反射效果 中之至少一者；一建立文字地平面之構件，用於使用該地平面工廠以建立一文字地平面，該文字地平面獨立於該形狀之一地平面；一顯現二維文字效果之構件，用於使用該前端面工廠以顯現二維文字效果、二維形狀效果、二維表面效果及該二維形狀之該幾何外型；一建立位元映圖之構件，用於使用該前端面工廠以從該等二維文字效果、該等二維形狀效果、該等二維表面效果及該二維形狀之該幾何外型中之每一者之顯現來建立一位元映圖，其中選擇性地將三維效果應用至該等文字與該二維表面，以使得該位元映圖包括具有一可見表面處理之一三維背景物件與一三維文字物件，該三維背景物件定義於回應該二維表面，而該三維文字物件定義於回應該等文字；一顯現二維形狀之構件，用於顯現應用該等三維效果之該二維形狀；一產生三維模型之構件，用於使用該二維/三維引擎之該三維模型化工廠以藉由定義該二維形狀的擠壓及斜面性質並建立一斜面而從該二維形狀產生一三維模型；一產生座標之構件，用於使用該二維/三維引擎之該三維模型化工廠以產生對映該位元映圖至該三維模型之一前端面的座標；以及 一應用二維表面效果之構件，用於使用該三維模型化工廠在該斜面周圍應用該等二維表面效果。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之系統，進一步包含：一應用二維形狀效果至二維形狀之構件，用於選擇性地應用(506)一或更多二維形狀效果到該二維形狀；一建立地平面之構件，用於選擇性地建立該二維形狀的一地平面(508)；以及一相關構件，用於選擇性地將一或更多二維形狀效果相關到該二維形狀的地平面。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之系統，進一步包含一建立文字地平面之構件，用於(504)選擇性地建立一文字地平面，並將一或更多三維文字效果與該文字地平面相關聯。
  16. 如申請專利範圍第13項所述之系統，進一步包含：一應用表面效果到二維形狀之構件，用於(512)選擇性地應用表面效果到該二維形狀；一建立紋理圖之構件，用於(514)選擇性地產生一紋理圖，該建立紋理圖之構件係使用該等二維表面效果、或應用到包括在該二維形狀中文字之二維文字效果，或是兩者皆是。
  17. 如申請專利範圍第13項所述之系統，進一步包含：一取得二維幾何外型之構件，用於(516)從該二維形狀取得一二維幾何外型； 一產生三維模型之構件，用於(518)從該二維幾何外型產生一三維模型；以及一對映構件，用於(520)對映一紋理圖到該三維模型上，其中該紋理圖之建立係使用應用到該二維形狀之二維表面效果、或是應用到包括在該二維形狀中文字的二維文字效果、或兩者皆是。
  18. 一種顯現形狀之系統，該系統包含：一引擎，該引擎接收一指示而應用三維效果到一二維形狀，該引擎進一步包含：一三維模型化組件，該三維模型化組件產生選出的形狀參數之一三維模型；一前端面組件，該前端面組件產生二維文字、文字效果，及應用到包括在一二維表面與文字中之一二維形狀的二維形狀效果；其中該等文字之尺寸獨立於該二維表面之尺寸而定義；其中位於該二維表面之該等文字之每一特徵係為不同於該二維形狀之一形狀，該等文字係位於該二維形狀；以及其中該等文字之一區域小於該二維形狀之一區域；一地平面組件，該地平面組件產生要顯現在一形狀的一地平面上之效果；其中該等二維形狀效果包含一陰影效果、一發亮效果及一反射效果中之至少一者；其中從該等二維文字效果、該等二維形狀效果、該等二維表面效果及該二維形狀之該幾何外型 中之顯現來建立一位元映圖；一三維模型化工廠，該三維模型化工廠藉由定義該二維形狀的擠壓及斜面性質並建立一斜面而從該二維形狀產生一三維模型，而該三維模型化工廠產生對映該位元映圖至該三維模型之一前端面的座標；以及一光柵器/合成引擎，該光柵器/合成引擎組合由該前端面組件、地平面組件及該三維模型化組件所產生的二維及三維效果到一映像中；其中選擇性地將三維效果應用至包括在該形狀中之該等文字與該形狀之該幾何外型，以使得該映像包括具有一可見表面處理之一三維背景物件與一三維文字物件，該三維背景物件定義於回應該二維表面，而該三維文字物件定義於回應該等文字；其中該三維背景物件包括非零之一高度、非零之一寬度及非零之一深度之外觀。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之系統，其中該前端面組件進一步選擇性地顯現二維文字效果、二維形狀效果、二維表面效果、以及該二維形狀的該二維幾何外型，並進一步選擇性地使用顯現的該等二維文字效果與該二維形狀之該前端面的二維表面效果以建立一紋理圖。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之系統，其中該三維模型化組件進一步產生用於對映該紋理到該三維模型之該 前端面上之座標。
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