TWI411759B - 射擊遊戲機標靶結構 - Google Patents

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TWI411759B
TWI411759B TW99107270A TW99107270A TWI411759B TW I411759 B TWI411759 B TW I411759B TW 99107270 A TW99107270 A TW 99107270A TW 99107270 A TW99107270 A TW 99107270A TW I411759 B TWI411759 B TW I411759B
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Yi Chiang Yang
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Feiloli Electronic Co Ltd
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射擊遊戲機標靶結構
本發明係有關於一種射擊遊戲機標靶結構,尤指一種標靶於擊倒後可自動立起復位之標靶結構。
按,於市面上常見之射擊遊戲機大致可分為實彈射擊以及虛擬射擊兩類,前者係透過射擊器以實體之子彈(例如BB彈或者是漆彈)向標靶射擊,後者之射擊器則透過光學原理對螢幕內之虛擬實物射擊,以此達到射擊之樂趣。
一般以實彈射擊之遊戲機,其標靶的類型又可分為拋棄式以及復位式,前者例如夜市最常見的氣球,而後者常見的有直立式的立牌,在射擊器射擊後倒下,再透過人力將倒下的立牌立起始能繼續進行射擊,並無法使立牌自動立起復位。
有鑑於此,本發明人乃針對上述射擊遊戲機標靶結構上之問題所產生之不便,本著鍥而不捨的精神與精益求精之目的,積極不斷的加以研究改良,並經長期之努力與試驗,終於開發設計出本發明。
本發明之主要目的,在於解決上述的問題而提供一種射擊遊戲機標靶結構,透過此標靶結構令標靶受射擊器射擊而倒下時,可自動立起復位。
本發明之射擊遊戲機係於一機體上設有一射擊器以及數個活動式之標靶模組,為達上述目的,本發明之標靶模組包括:
一底座,其於兩端分別固定於機體之兩側,且為橫向設置。
一滑台,其透過一第一馬達驅動而於底座上橫向滑移,且滑台上設有至少一框架,且各框架上設有一第二馬達。
至少一標靶,其分別於底端樞設於該滑台之框架上,於框架上設有一感應標靶立起狀態之第一感應器以及感應標靶倒下狀態之第二感應器。
一轉盤,其係連接於該第二馬達之軸心,且相對於滑台直立設置,此轉盤於環周均勻分佈多數個磁性件。
一轉板,其於一端樞設於該第二馬達之軸心,另一端則以一連桿與該標靶連結,此轉板係貼設於該轉盤之外側,且可被該轉盤之磁性件以磁力吸住。
本發明藉由前述之結構及組合,令標靶具有自動復位之機構,因此,標靶受射擊器射擊而倒下後,可藉由標靶模組的操作而自動地立起復位。
本發明之上述及其他目的與優點,不難從下述所選用實施例之詳細說明與附圖中,獲得深入了解。
當然,本發明在某些另件上,或另件之安排上容許有所不同,但所選用之實施例,則於本說明書中,予以詳細說明,並於附圖中展示其構造。
本發明係有關於一種射擊遊戲機標靶結構,請參閱第1圖至第6圖所示,此述之射擊遊戲機係於一機體(1)上設有一射擊器(2)以及數個活動式之標靶模組(3),其中各標靶模組(3)包括:
一底座(31),其於兩端分別固定於機體(1)之兩側,且為橫向設置。如第2圖中所示,此底座(31)具有二平行設置之導軌(311),且於二導軌(311)之兩端分別以一固定部(312)定位,而底座(31)於本實施例則以兩端之固定部(312)與機體(1)兩側固定。
一滑台(32),其透過一第一馬達(321)驅動而於底座(31)上橫向滑移,且滑台(32)上設有二框架(33),且於二框架(33)之間設有一第二馬達(331)。如第3圖所示,本實施例之滑台(32)於底部兩側之間連接三組心軸(322、323、324),該心軸(322)設於滑台(32)之前方位置,該心軸(323)設於滑台(32)之中間位置,而該心軸(324)設於滑台(32)之後方位置,各心軸(322、323、324)分別於兩端樞設有一滾輪(325),滑台(32) 則以滾輪(325)跨設於該底座(31)之導軌(311)上。本實施例中,設於滑台(32)中間位置之心軸(323),其於兩端滾輪(325)之間具有一蝸輪(326),且如第3圖所示,該第一馬達(321)亦相對設於該蝸輪(326)上方,且第一馬達(321)之軸心為一蝸桿(327)而與該蝸輪(326)嚙合傳動,因此當第一馬達(321)驅動時,透過該蝸桿(327)與蝸輪(326)的配合轉動,使設置蝸桿(327)的心軸(323)轉動,並帶動心軸(323)兩端之滾輪(325),便使滑台(32)於底座(31)上橫向滑動,且滑台(32)於底部設有一朝底座(31)底部延伸之限位塊(328),可防止滑台(32)不慎由底座(31)上脫離。
一轉盤(34)連接於該第二馬達(331)之軸心,此轉盤(34)係相對於滑台(32)直立設置,且轉盤(34)於環周均勻分佈多數個磁性件(341)。該轉盤(34)係於環周分佈有多數個穿孔(342),並將該多數個磁性件(341)一一穿設於對應之穿孔(342)內,而使轉盤(34)環周具有磁吸的效果。為避免磁性件(341)由轉盤(34)之穿孔(342)滑出,故於該轉盤(34)內側設有一擋板(343),藉此擋板(343)阻擋磁性件(341)並限制於轉盤之穿孔(342)中。
一轉板(35),其係貼設於該轉盤(34)之外側,且可被該轉盤(34)之磁性件(341)以磁力吸住,此轉板(35)於一端樞設於該第二馬達(331)之軸心。此轉板(35)於本實施例中略呈扇型結構,且於轉板(35)之外端設有一第一連結部(351),此第一連結部(351)可依第一馬達(321)之軸心為中心而隨著轉板(35)於該轉盤(34)內轉動。
至少一標靶(36),各標靶(36)分別於底端樞設於該滑台(32)之框架(33)上,且標靶(36)鄰近頂端位置設有一第二連結部(361),此第二連結部(361)與該第一連結部(351)之間連接有一連桿(37)。
此外,於框架(33)上設有一第一感應器(38)以及一第二感應器(39),藉由該第一感應器(38)可偵測標靶(36)是否立起於打靶位置,而藉由該第二感應器(39)偵測標靶是否位於倒下位置。該第一感應器(38)之測頭係朝向標靶(36)樞接處之下方,故當標靶(36)立起時,標靶(36)底部可供該第一感應器(38)偵測到標靶(36)立起之訊號,而當標靶(36)倒下時,該第一感應器(38)則失去訊號源。此外,該第二感應器(39)之測頭係朝上,故當標靶(36)倒下時則會靠近第二感應器(39),此時第二感應器(39)則產生一標靶(36)倒下之訊號,驅使該第二馬達(331)開始運轉;反之,當標靶(36)立起時,其偵測點遠離第二感應器(39),因此第二感應器(39)則失去訊號源,使該第二馬達(331)停止運轉。
此外,該底座(31)於兩端分別設有一極限開關(313),如第4圖所示,當滑台(32)滑移至底座(31)之兩端時感應並停止滑移。於本實施例之中,各該極限開關(313)為光匣式,且該滑台(32)於兩端分別對應各該極限開關(313)而具有一感應件(329)。
該底座(31)於前側設有一護板(314)。以防止射擊器(2)射擊時不慎射中標靶(36)以外之標靶模組(3)構件。
由上述之結構可見,本發明之標靶(36)可透過底部之滑台(32)在底座(31)上橫向位移,俾供射擊者持射擊遊戲機之射擊器(2)瞄準射擊,此時如第1圖所示,所有的標靶(36)應為立起預備狀態,係因該轉板(35)磁吸於轉盤(34)之磁性件(341)上而透過該連桿(37)支撐標靶(36)。當射擊者擊中標靶(36)後,由於標靶(36)擊中之力量大於轉板(35)吸附於轉盤(34)上磁吸件(341)之力量,故如第6圖所示,該轉板(35)將受連桿(37)的施力而向下擺動,因此標靶(36)將隨著倒下。由於連桿(37)隨標靶(36)倒下之施力消失,故如第6圖所示,該轉板(35)向下擺動至轉盤(34)下方時,再度受轉盤(34)上之磁吸件(341)所吸附定位,且該第二感應器(39)此時接受到訊號而使該第二馬達(331)轉動,使轉盤(34)帶動該轉板(35)朝上轉動,而標靶(36)則因轉板(35)的轉動而隨連桿(37)支撐立起,此時第一感應器(33)再度接收到訊號而使該第二馬達(331)停止轉動。
因此,由上述之說明可見,本發明之射擊遊戲機藉由其標靶模組(3),在射擊者持射擊器(2)瞄準標靶(36)並將其射擊倒下之後,透過第二感應器(39)的偵測而驅使第二馬達(331)運轉,經由轉盤(34)的轉動而連動該轉板(35)擺動,並驅動該連桿(37)而支撐起標靶(36)回復位立起位置,因此不需再透過人力即可將標靶(36)自動立起復位,射擊者即可再次瞄準射擊,故遊戲進行可更為順暢,亦可節省射擊遊戲機於遊戲進行時之人力操作成本。
以上所述實施例之揭示係用以說明本發明,並非用以限制本發明,故舉凡數值之變更或等效元件之置換仍應隸屬本發明之範疇。
由以上詳細說明,可使熟知本項技藝者明瞭本發明的 確可達成前述目的,並且在同類製程或產品中均未見有類似之發表,實已符合專利法之規定,爰依法俱文提出專利申請。
(1)‧‧‧機體
(2)‧‧‧射擊器
(3)‧‧‧標靶模組
(31)‧‧‧底座
(311)‧‧‧導軌
(312)‧‧‧固定部
(313)‧‧‧極限開關
(314)‧‧‧護板
(32)‧‧‧滑台
(321)‧‧‧第一馬達
(322)‧‧‧心軸
(323)‧‧‧心軸
(324)‧‧‧心軸
(325)‧‧‧滾輪
(326)‧‧‧蝸輪
(327)‧‧‧蝸桿
(328)‧‧‧限位塊
(329)‧‧‧感應件
(33)‧‧‧框架
(331)‧‧‧第二馬達
(34)‧‧‧轉盤
(341)‧‧‧磁性件
(342)...穿孔
(343)...擋板
(35)...轉板
(351)...第一連結部
(36)...標靶
(361)...第二連結部
(37)...連桿
(38)...第一感應器
(39)...第二感應器
第1圖係本發明之射擊遊戲機立體外觀暨內部結構圖。
第2圖係本發明之標靶模組立體外觀圖。
第3圖係本發明之標靶模組細部組件示意圖。
第4圖係本發明之滑台於底座端部定位示意圖。
第5圖係本發明之標靶被擊中之受力示意圖
第6圖係本發明之標靶倒下後復位動作示意圖
(31)‧‧‧底座
(311)‧‧‧導軌
(312)‧‧‧固定部
(313)‧‧‧極限開關
(314)‧‧‧護板
(32)‧‧‧滑台
(321)‧‧‧第一馬達
(322)‧‧‧心軸
(323)‧‧‧心軸
(324)‧‧‧心軸
(325)‧‧‧滾輪
(328)‧‧‧限位塊
(329)‧‧‧感應件
(33)‧‧‧框架
(331)‧‧‧第二馬達
(34)‧‧‧轉盤
(341)‧‧‧磁性件
(343)‧‧‧擋板
(35)‧‧‧轉板
(351)‧‧‧第一連結部
(36)‧‧‧標靶
(361)‧‧‧第二連結部
(37)‧‧‧連桿
(38)‧‧‧第一感應器
(39)‧‧‧第二感應器

Claims (12)

  1. 一種射擊遊戲機標靶結構,前述之射擊遊戲機係於一機體上設有一射擊器以及數個活動式之標靶模組,其中各標靶模組包括:一底座,其於兩端分別固定於機體之兩側,且為橫向設置;一滑台,其透過一第一馬達驅動而於底座上橫向滑移,且滑台上設有至少一框架,且各框架上設有一第二馬達;至少一標靶,其分別於底端樞設於該滑台之框架上,於框架上設有一感應標靶立起狀態之第一感應器以及感應標靶倒下狀態之第二感應器;一轉盤,其係連接於該第二馬達之軸心,且相對於滑台直立設置,此轉盤於環周均勻分佈多數個磁性件;一轉板,其於一端樞設於該第二馬達之軸心,另一端則以一連桿與該標靶連結,此轉板係貼設於該轉盤之外側,且可被該轉盤之磁性件以磁力吸住。
  2. 依申請專利範圍第1項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中,該滑台之底部於兩側間連接數個心軸,且於各心軸兩端樞設滾輪,滑台以此滾輪跨設於該底座上,且其一心軸於滾輪之間具有一蝸輪,該第一馬達之軸心則為蝸桿而與該蝸輪嚙合傳動。
  3. 依據申請專利範圍第1項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中該滑台於底部設有一朝底座底部延伸之限位塊,防止滑台不慎由底座上脫離。
  4. 依據申請專利範圍第1項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中該底座於兩端分別設有一極限開關,俾供該滑台滑移至底座之兩端時感應並停止滑移。
  5. 依據申請專利範圍第4項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中各該極限開關為光匣式,且該滑台於兩端分別對應各該極限開關而具有一感應件。
  6. 依據申請專利範圍第1項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中該底座於前側設有一護板,以防止射擊器射擊時不慎射中標靶以外之標靶模組構件。
  7. 一種射擊遊戲機標靶結構,前述之射擊遊戲機係於一機體上設有一射擊器以及數個活動式之標靶模組,其特徵在於:各標靶模組係於一底座上設有一滑台,此滑台透過一第一馬達驅動而於底座上橫向滑移,且滑台上設有至少一框架,各框架設有一第二馬達,且框架上設有至少一標靶,標靶於底端樞設於該框架上,於框架上並設有一感應標靶立起狀態之第一感應器以及感應標靶倒下狀態之第二感應器,一轉盤於框架中連接於該第二馬達之軸心,且相對於滑台直立設置,此轉盤於環周均勻分佈多數個磁性件,另以一轉板貼設於該轉盤之外側,此轉板於一端樞設於該第二馬達之軸心,另一端則以一連桿與該標靶連結,此轉板可被該轉盤之磁性件以磁力吸住。
  8. 依申請專利範圍第7項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中,該滑台之底部於兩側間連接數個心軸,且於各心軸兩端樞設滾輪,滑台以此滾輪跨設於該底座上,且其一心軸於滾輪之間具有一蝸輪,該第一馬達之軸心則為蝸桿而與該蝸輪嚙合傳動。
  9. 依據申請專利範圍第8項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中該滑台於底部設有一朝底座底部延伸之限位塊,防止滑台不慎由底座上脫離。
  10. 依據申請專利範圍第7項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中該底座於兩端分別設有一極限開關,俾供該滑台滑移至底座之兩端時感應並停止滑移。
  11. 依據申請專利範圍第10項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中各該極限開關為光匣式,且該滑台於兩端分別對應各該極限開關而具有一感應件。
  12. 依據申請專利範圍第7項所述之射擊遊戲機標靶結構,其中該底座於前側設有一護板,以防止射擊器射擊時不慎射中標靶以外之標靶模組構件。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5403017A (en) * 1993-09-16 1995-04-04 Unisys Corporation Target lifter with impact sensing
JPH09318299A (ja) * 1996-05-30 1997-12-12 Babcock Hitachi Kk 射撃訓練装置
JP2005207711A (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Stasis:Kk 標的装置

Patent Citations (3)

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