TWI409269B - 近紅外線發射有機化合物及使用其之有機裝置 - Google Patents

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Description

近紅外線發射有機化合物及使用其之有機裝置
本發明係關於有機發光裝置(OLED)，且更特定言之係關於用於此等裝置中之有機材料。
使用有機材料之光電子裝置由於多種原因而變得日益理想。多種用於製造此等裝置之材料相對價格低廉，所以有機光電子裝置具有在成本上優於無機裝置之潛能。另外，有機材料之固有性質(諸如其可撓性)可使其良好地適於特殊應用，諸如可撓性基板之製造。有機光電子裝置之實例包括有機發光裝置(OLED)、有機光電晶體、有機光電電池及有機光偵測器。對於OLED而言，有機材料可具有優於習知材料之效能優勢。舉例而言，通常可易於以適當摻雜劑來調諧有機發射層發射光線之波長。
如本文所用，術語"有機"包括聚合材料及可用於製造有機光電子裝置之小分子有機材料。"小分子"係指不為聚合物之任何有機材料，且"小分子"實際上可為相當大的。在一些情況下，小分子可包括重複單元。舉例而言，使用長鏈烷基作為取代基並未將分子自"小分子"類移除。小分子亦可併入聚合物中，例如作為聚合物主鏈上之側基或作為主鏈之部分。小分子亦可用作樹枝狀聚合物之核心部分，其中樹枝狀聚合物由在核心部分上堆積之一系列化學殼組成。樹枝狀聚合物之核心部分可為螢光或磷光小分子發射體。樹枝狀聚合物可為"小分子"，且咸信在OLED領域中目前所用之所有樹枝狀聚合物皆為小分子。大體上，小分子具有具單一分子量之定義明確的化學式，而聚合物具有可在分子間改變的化學式及分子量。如本文所用，"有機"包括烴基及經雜原子取代之烴基配位基之金屬錯合物。
OLED使用在將電壓施加於裝置上時發射光線之薄有機膜。OLED正變為用於諸如平板顯示器、照明及背光之應用的日益引人關注之技術。在以全文引用的方式併入本文中之美國專利第5,844,363號、第6,303,238號及第5,707,745號中描述了若干種OLED材料及組態。
OLED裝置通常(但並不總是)意欲經由至少一電極來發射光線，且一或多個透明電極可用於有機光電子裝置中。舉例而言，可將諸如氧化銦錫(ITO)之透明電極材料用作底部電極。亦可使用透明頂部電極，諸如揭示於以全文引用的方式併入之美國專利第5,703,436號及第5,707,745號中之電極。對於意欲僅經由底部電極來發射光線之裝置而言，頂部電極無需為透明的且可包含具有高電導率之反射性厚金屬層。同樣，對於意欲僅經由頂部電極來發射光線之裝置而言，底部電極可為不透明的及/或反射性的。在無需透明電極之情形下，使用較厚層可提供較佳導電性，且使用反射性電極可藉由使光朝著透明電極反射回來而增加經由另一電極發射之光線的量。亦可製造完全透明之裝置，其中電極均為透明的。亦可製造側射OLED，且在此等裝置中一或兩個電極可為不透明或反射性的。
如本文所用，"頂部"意謂距基板最遠，而"底部"意謂最接近基板。舉例而言，對於具有兩個電極之裝置而言，底部電極為最接近基板之電極且通常為所製造之第一個電極。底部電極具有兩個表面，一最接近基板之底面及一距基板較遠之頂面。在將第一層描述為"安置於第二層上方"時，距基板更遠地來安置第一層。除非指定第一層與第二層"實體接觸"，否則第一層與第二層之間可存在其他層。舉例而言，可將陰極描述為"安置於陽極上方"，即使其間存在各種有機層。
如本文所用，"溶液可處理性"意謂能夠以溶液或懸浮液形式在液體介質中溶解、分散或傳輸及/或自液體介質沈積。
如本文所用，且熟習此項技術者通常應瞭解，若第一"最高佔據分子軌道"(HOMO)或"最低未佔據分子軌道"(LUMO)能階更接近真空能階，則第一能階"大於"或"高於"第二HOMO或LUMO能階。由於遊離電位(IP)經量測相對於真空能階為負能量，所以較高HOMO能階對應於具有較小絕對值之IP(負值較小之IP)。同樣，較高LUMO能階對應於具有較小絕對值之電子親和性(EA)(負值較小之EA)。在習知能階圖上，真空能階在頂部，材料之LUMO能階高於同一材料之HOMO能階。"較高"HOMO或LUMO能階看起來比"較低"HOMO或LUMO能階更接近此圖之頂部。
在一態樣中，本發明提供一種具有下列化學式之銥化合物：
其中G2 為氫、苯基、經取代之苯基或烷基；其中G1 為在相鄰吡咯環之任何位置上的氫、芳基部分或雜芳基部分；其中G3 為在相鄰吡咯環之任何位置上的氫、芳基部分或雜芳基部分；其中X為氮原子或碳原子；且其中配位基含有苯基吡唑部分、苯基吡啶部分或苯基噁唑部分。
在另一態樣中，本發明提供包含銥化合物之有機裝置。
在另一態樣中，本發明提供包含金屬卟啉化合物之有機裝置，其中該化合物包含複數個吡咯環且具有下列化學式：
其中M為金屬；其中R1 至R4 各自獨立地選自由脂族部分、芳基部分、雜芳基部分及巨環部分組成之群；其中R1 '至R4 '各自獨立地選自由氫、苯基、均三甲基苯基及甲基組成之群；且其中該化合物具有在近紅外線範圍內之初級磷光光致發光發射峰值波長。
通常，OLED包含安置於陽極與陰極之間且電連接至陽極及陰極之至少一有機層。在施加電流時，陽極將電洞注入有機層中，且陰極將電子注入有機層中。所注入之電洞及電子各自朝著具有相反電荷之電子遷移。在電子及電洞侷限於同一分子上時，形成"激子"，其為具有激發能態之定域電子－電洞對。在激子經由光電發射機制而釋放時，發射光線。在一些情況下，激子可侷限於準分子或激發複合物體上。非輻射機制(諸如，熱馳豫)亦可存在，但通常認為不合需要。
初始OLED使用自單重態發射光線("螢光")之發射分子，如(例如)以全文引用的方式併入之美國專利第4,769,292號中所揭示。螢光發射通常發生於小於10毫微秒之時段內。
新近，已證實具有自三重態發射光線("磷光")之發射材料之OLED。Baldo等人，"Highly Efficient Phosphorescent Emission from Organic Electroluminescent Devices",Nature，第395卷，151－154,1998；("Baldo－I")及Baldo等人，"Very high－efficiency green organic light－emitting devices based on electrophosphorescence",Appl.Phys.Lett.，第75卷，第1，4－6期(1999)("Baldo－II")，其均以全文引用的方式併入。磷光可稱為"禁戒"躍遷，因為躍遷需要自旋態之改變，且量子力學指示此躍遷並非為有利的。結果，磷光通常發生於超過至少10毫微秒且通常大於100毫微秒之時段內。若磷光之自然輻射壽命過長，則可藉由非輻射機制來使三重態衰變，使得不發射光線。亦通常在非常低之溫度下於含有具有非共用電子對之雜原子的分子中觀測到有機磷光。2,2'－聯吡啶為此種分子。非輻射衰變機制通常為隨溫度而變的，使得展示磷光W液態氮溫度之有機材料通常在室溫下不展示磷光。然而，如Baldo所證實，此問題可藉由選擇在室溫下確實發出磷光之磷光化合物而得以解決。代表性發射層包括摻雜或非摻雜磷光有機金屬材料，諸如揭示於美國專利第6,303,238號及第6,310,360號、美國專利申請公開案第2002－0034656號、第2002－0182441號、第2003－0072964號及WO－02/074015中者。
通常，認為OLED中之激子係以約3：1之比率產生，亦即，約75%之三重態及25%之單重態。見，Adachi等人，"Nearly 100% Internal Phosphorescent Efficiency In An Organic Light Emitting Device",J.Appl.Phys.,90,5048(2001)，其以全文引用的方式併入。在多種情況下，單重態激子可經由"系統間穿越"而容易地將其能量轉移至三重激發態，而三重態激子不可容易地將其能量轉移至單重激發態。結果，對於磷光OLED而言，100%之內部量子效率在理論上為可能的。在螢光裝置中，三重態激子之能量通常損失給加熱裝置之無輻射衰變過程，導致低得多之內部量子效率。使用自三重激發態發射之磷光材料的OLED揭示於(例如)以全文引用的方式併入之美國專利第6,303,238號中。
在磷光之前可由三重激發態躍遷至出現發射衰變之中間非三重態。舉例而言，與鑭系元素配位元之有機分子通常自侷限於鑭系金屬上之激發態發出磷光。然而，此等材料並不直接自三重激發態發出磷光，而是自集中於鑭系金屬離子上之原子激發態發射。二酮酸銪(europium diketonate)錯合物說明一組此等類型之物質。
來自三重態之磷光可藉由限制(較佳經由鍵結)接近高原子序數之原子的有機分子而得以強於螢光。此稱為重原子效應之現象係由稱為自旋軌道耦合之機制引起的。此磷光躍遷可自諸如參(2－苯基吡啶)銥(III)之有機金屬分子之激發金屬－配位基電荷轉移(MLCT)狀態觀測到。
如本文所用，術語"三重態能量"係指對應於給定材料之磷光光譜中可辨別的最高能量特徵之能量。最高能量特徵並不必為磷光光譜中具有最大強度之峰值，且可(例如)為在此峰之高能量側一明顯肩峰之局部最大值。
圖1展示有機發光裝置100。各圖不必按比例繪製。裝置100可包括一基板110、一陽極115、一電洞注入層120、一電洞傳輸層125、一電子阻擋層130、一發射層135、一電洞阻擋層140、一電子傳輸層145、一電子注入層150、一保護層155及一陰極160。陰極160為具有第一傳導層162及第二傳導層164之複合陰極。可藉由依序沈積各層來製造裝置100。
基板110可為提供所要結構性質之任何適合基板。基板110可為可撓性或剛性。基板110可為透明、半透明或不透明。塑膠及玻璃為較佳剛性基板材料之實例。塑膠及金屬箔為較佳可撓性基板材料之實例。基板110可為半導體材料以便促進電路之製造。舉例而言，基板110可為能夠控制隨後沈積於基板上之OLED之矽晶圓，其上可製造電路。亦可使用其他基板。可選擇基板110之材料及厚度以獲得所要結構性質及光學性質。
陽極115可為其傳導性足以將電洞傳輸至有機層之任何適合陽極。陽極115之材料較佳具有高於約4 eV之功函數("高功函數材料")。較佳陽極材料包括傳導性金屬氧化物，諸如氧化銦錫(ITO)及氧化銦鋅(IZO)、氧化鋁鋅(AlZnO)；及金屬。陽極115(及基板110)可足夠透明以製造底部發射裝置。較佳之透明基板及陽極組合為沈積於玻璃或塑膠(基板)上之市售ITO(陽極)。一可撓性及透明基板－陽極組合揭示於以全文引用的方式併入之美國專利第5,844,363號及第6,602,540 B2號中。陽極115可為不透明及/或反射性。反射性陽極115對於一些頂部發射裝置而言可能為較佳，以增加自裝置頂部發射之光線量。可選擇陽極115之材料及厚度以獲得所要傳導性質及光學性質。在陽極115為透明時，特定材料可具有一厚度範圍，具足夠厚以提供所要傳導性，且足夠薄以提供所要透明度。可使用其他陽極材料及結構。
電洞傳輸層125可包括能夠傳輸電洞之材料。電洞傳輸層130可為固有的(非摻雜)或摻雜的。摻雜可用於增強傳導性。α－NPD及TPD為固有電洞傳輸層之實例。p－摻雜電洞傳輸層之實例為以50：1之莫耳比摻雜有F4 －TCNQ的m－MTDATA，如以全文引用的方式併入之Forrest等人的美國專利申請公開案第2003－0230980號中所揭示。可使用其他電洞傳輸層。
發射層135可包括在電流經過陽極115與陰極160之間時能夠發射光線之有機材料。較佳地，發射層135含有磷光發射材料，儘管亦可使用螢光發射材料。磷光材料由於與此等材料相關聯之較高發光效率而為較佳。發射層135亦可包含能夠傳輸電子及/或電洞之主體材料，其摻雜有可截獲電子、電洞及/或激子之發射材料，使得激子經由光電發射機制自發射材料釋放。發射層135可包含結合透明及發射性質之單一材料。無論發射材料為摻雜劑或為主要組份，發射層135均可包含其他材料，諸如調諧發射材料發射的摻雜劑。發射層135可包括組合起來能夠發射所要光譜之複數種發射材料。磷光發射材料之實例包括Ir(ppy)3 。螢光發射材料之實例包括DCM及DMQA。主體材料之實例包括Alq3 、CBP及mCP。發射材料及主體材料之實例揭示於以全文引用的方式併入之Thompson等人的美國專利第6,303,238號中。發射材料可以多種方式包括於發射層135中。舉例而言，可將發射小分子併入聚合物中。此可藉由以下若干種方式來達成：將小分子作為獨立且不同分子物質摻雜於聚合物中；或將小分子併入聚合物之主鏈中，以形成共聚物；或將小分子作為側基鍵結於聚合物上。可使用其他發射層材料及結構。舉例而言，小分子發射材料可作為樹枝狀聚合物之核心而存在。
多種可用發射材料包括鍵結至金屬中心之一或多個配位基。若配位基直接有助於有機金屬發射材料之光敏性質，則可將其稱為"光敏性的"。"光敏性"配位基在結合金屬時可提供某些能階，在發射光子時，電子自該等能階移動及移動至該等能階。可將其他配位基稱為"輔助的"。舉例而言，輔助配位基可藉由偏移光敏性配位基之能階而修改分子之光敏性質，但輔助配位基並不直接提供光發射中所涉及之能階。在一分子中為光敏性之配位基在另一分子中可為輔助的。此等光敏性及輔助性定義意欲為非限制性理論。
電子傳輸層145可包括能夠傳輸電子之材料。電子傳輸層145可為固有的(非摻雜)或摻雜的。摻雜可用於增強傳導性。Alq3 為固有電子傳輸層之一實例。n－摻雜電子傳輸層之一實例為以1：1之莫耳比摻雜有Li的BPhen，如以全文引用的方式併入之Forrest等人的美國專利申請公開案第2003－0230980號中所揭示。可使用其他電子傳輸層。
可選擇電子傳輸層之電荷載運組份，使得可自陰極將電子有效地注入電子傳輸層之LUMO(最低未佔據分子軌道)能階中。"電荷載運組份"為實際上傳輸電子之負責LUMO能階的材料。此組份可為基底材料，或其可為摻雜劑。有機材料之LUMO能階通常可由彼材料之電子親和性來表徵，且陰極之相對電子注入效率通常可根據陰極材料之功函數來表徵。此意謂電子傳輸層及相鄰陰極之較佳性質可根據ETL之電荷載運組份的電子親和性及陰極材料之功函數來指定。詳言之，為了達成高電子注入效率，陰極材料之功函數較佳地不應比電子傳輸層之電荷載運組份的電子親和性大超過約0.75 eV，更佳地不超過約0.5 eV。類似考慮適用於將注入有電子之任何層。
陰極160可為此項技術中已知之任何適合材料或材料之組合，使得陰極160能夠傳導電子且將其注入裝置100之有機層中。陰極160可為透明或不透明的，且可為反射性的。金屬及金屬氧化物為適合陰極材料之實例。陰極160可為單層或可具有複合結構。圖1展示具有一薄金屬層162及一較厚傳導性金屬氧化層164之複合陰極160。在複合陰極中，較厚層164之較佳材料包括ITO、IZO及此項技術中已知之其他材料。以全文引用的方式併入之美國專利第5,703,436號、第5,707,745號、第6,548,956 B2號及第6,576,134 B2號揭示陰極之實例，包括上覆有透明、導電、濺鍍沈積之ITO層的具有諸如Mg：Ag之金屬薄層之複合陰極。陰極160與下伏有機層接觸之部分(無論其為單層陰極160、複合陰極之薄金屬層162，或一些其他部分)較佳由具有低於約4 eV之功函數的材料("低功函數材料")製成。可使用其他陰極材料及結構。
阻擋層可用於減少離開發射層之電荷載流子(電子或電洞)及/或激子的數目。電子阻擋層130可安置於發射層135與電洞傳輸層125之間，以在電洞傳輸層125之方向上阻擋電子離開發射層135。同樣，電洞阻擋層140可安置於發射層135與電子傳輸層145之間，以在電子傳輸層145之方向上阻擋電洞離開發射層135。阻擋層亦可用於阻擋激子擴散出發射層外部。阻擋層之理論及用途更詳細地描述於以全文引用的方式併入之美國專利第6,097,147號及Forrest等人之美國專利申請公開案第2003－0230980號中。
如本文所用，且熟習此項技術者應瞭解，術語"阻擋層"意謂該層提供顯著抑制電荷載流子及/或激子經由裝置傳輸之障壁，但未建議該層必需完全阻擋載流子及/或激子。與缺少阻擋層之類似裝置相比，此阻擋層在裝置中的存在可導致大體上較高之效率。又，阻擋層可用於將發射限制於OLED之所要區域。
通常，注入層包含可改良將電荷載流子自一層(諸如電子或有機層)注入至相鄰有機層之材料。注入層亦可執行電荷傳輸功能。在裝置100中，電洞注入層120可為改良將電洞自陽極115注入至電洞傳輸層125中之任何層。CuPc為可用作來自ITO陽極115及其他陽極之電洞注入層之材料實例。在裝置100中，電子注入層150可為改良將電子注入至電子傳輸層145中之任何層。LiF/Al為可用作自相鄰層至電子傳輸層中之電子注入層之材料實例。其他材料或材料之組合可用於注入層。視特定裝置之組態而定，可將注入層安置於不同於裝置100中所示之彼等位置的位置處。注入層之更多實例提供於以全文引用的方式併入之Lu等人的美國專利申請案第09/931,948號中。電洞注入層可包含溶液沈積材料，諸如旋塗聚合物，例如PEDOT：PSS；或其可為氣相沈積小分子材料，例如CuPc或MTDATA。
電洞注入層(HIL)可使陽極表面平坦化或濕潤以提供自陽極至電洞注入材料中之有效電洞注入。電洞注入層亦可具有電荷載運組份，該組份具有如本文描述之相對遊離電位(IP)能量所定義與HIL一側之相鄰陽極層及HIL另一側之電洞傳輸層有利地匹配的HOMO(最高佔據分子軌道)能階。"電荷載運組份"為實際上傳輸電洞之負責HOMO能階的材料。此組份可為HIL之基底材料，或其可為摻雜劑。使用摻雜HIL允許為了其電學性質來選擇摻雜劑，且為了諸如濕潤、可撓性、韌性等之形態性質來選擇主體。HIL材料之較佳性質使得電洞可自陽極有效地注入HIL材料中。詳言之，HIL之電荷載運組份較佳具有比陽極材料之IP大不超過約0.7 eV之IP。更佳地，該電荷載運組份具有比陽極材料大不超過約0.5 eV之IP。類似考慮適用於將注入有電洞之任何層。HIL材料進一步不同於通常用於OLED之電洞傳輸層中之習知電洞傳輸材料之處在於：此等HIL材料可具有大體上小於習知電洞傳輸材料之電洞傳導性的電洞傳導性。本發明之HIL厚度可足夠厚以有助於使陽極層之表面平坦化或濕潤。舉例而言，僅10 nm之HIL厚度可為一非常光滑之陽極表面所接受。然而，由於陽極表面傾向於非常粗糙，所以高達50 nm之HIL厚度在一些情況下可為吾人所要的。
保護層可用於在後續製造過程期間保護下伏層。舉例而言，用於製造金屬或金屬氧化物頂部電極之過程可損害有機層，且保護層可用於減少或消除此損害。在裝置100中，保護層155可在陰極160之製造期間減少對下伏有機層之損害。較佳地，保護層對於其傳輸之載流子類型(裝置100中之電子)而言具有高載流子遷移率，使得未顯著增加裝置100之操作電壓。CuPc、BCP及各種金屬酞菁為可用於保護層之材料的實例。可使用其他材料或材料組合。保護層155之厚度較佳應足夠厚，使得下伏層歸因於在沈積有機保護層160後出現之製造過程而受到很少損害或不受到損害，但又未過厚以致顯著增加裝置100之操作電壓。保護層155可經摻雜以增加其傳導性。舉例而言，CuPc或BCP保護層160可摻雜有Li。對保護層之更詳細描述可見於以全文引用的方式併入之Lu等人的美國專利申請案第09/931,948號中。
圖2展示一倒置之OLED 200。該裝置包括一基板210、一陰極215、一發射層220、一電洞傳輸層225及一陽極230。可藉由依序沈積各層來製造裝置200。因為常見OLED組態具有安置於陽極上方之陰極，且裝置200具有安置於陽極230下方之陰極215，所以可將裝置200稱為"倒置"OLED。類似於關於裝置100所描述之彼等材料的材料可用於裝置200之相應層中。圖2提供可如何自裝置100之結構省略一些層之一實例。
圖1及圖2中說明之簡單分層結構係以非限制性實例之方式來提供，且應理解本發明之實施例可與各種其他結構結合使用。所述之特定材料及結構在本質上為示範性的，且亦可使用其他材料及結構。功能性OLED可藉由以不同方式組合所述之各種層而達成，或可基於設計、效能及成本因素而將層完全省略。亦可包括未經特定描述之其他層。可使用不同於經特定描述之彼等材料的材料。雖然本文提供之實例中的多數將各種層描述為包含單一材料，但應理解亦可使用材料之組合，諸如主體與摻雜劑之混合物，或更特定言之可使用混合物。又，層可具有各種子層。本文中給予各種層之名稱不意欲受到嚴格限制。舉例而言，在裝置200中，電洞傳輸層225傳輸電洞且將電洞注入發射層220中，且可經描述為電洞傳輸層或電洞注入層。在一實施例中，可將OLED描述為具有安置於陰極與陽極之間的"有機層"。此有機層可包含單層，或可進一步包含如(例如)關於圖1及圖2所描述之不同有機材料的多個層。
亦可使用未具體描述之結構及材料，諸如包含聚合材料之OLED(PLED)，如以全文引用的方式併入之Friend等人的美國專利第5,247,190號中所揭示。進一步以實例說明，可使用具有單個有機層之OLED。舉例而言，如以全文引用的方式併入之Forrest等人的美國專利第5,707,745號中所描述，OLED可經堆疊。OLED結構可偏離圖1及圖2中說明之簡單分層結構。舉例而言，基板可包括改良外部耦合之成角度的反射性表面，諸如Forrest等人的美國專利第6,091,195號中所述之臺式結構，及/或Bulovic等人的美國專利第5,834,893號中所述之坑形結構，各專利均以全文引用的方式併入。
除非另有說明，否則各種實施例之任一層均可藉由任何適當方法來沈積。對於有機層而言，較佳方法包括熱蒸鍍、噴墨(諸如以全文引用的方式併入之美國專利第6,013,982號及第6,087,196號中所述)、有機氣相沈積(OVPD)(諸如以全文引用的方式併入之Forrest等人的美國專利第6,337,102號中所述)及藉由有機蒸氣噴印(OVJP)進行之沈積(諸如以全文引用的方式併入之美國專利申請案第10/233,470號中所述)。其他適合沈積方法包括旋塗及其他基於溶液之方法。基於溶液之方法較佳係在氮氣或惰性氣氛下進行。對於其他層而言，較佳方法包括熱蒸鍍。較佳圖案化方法包括經由光罩進行沈積、冷焊(諸如以全文引用的方式併入之美國專利第6,294,398號及第6,468,819號中所述)及與一些沈積方法(諸如噴墨及OVJP)聯合之圖案化。亦可使用其他方法。待沈積之材料可經改質以使其與特定沈積方法相容。舉例而言，可將取代基(諸如分枝或未分枝且較佳含有至少3個碳之烷基及芳基)用於小分子中以增強其經受溶液處理之能力。可使用具有20個碳或更多碳之取代基，且3－20個碳為較佳範圍。具有不對稱結構之材料可具有優於具有對稱結構之彼等材料的溶液可處理性，因為不對稱材料可具有較低的再結晶趨勢。樹枝狀聚合物取代基可用於增強小分子經受溶液處理之能力。
本文所揭示之分子可以多種不同方式經取代，而未脫離本發明之範疇。舉例而言，可將取代基添加至具有三個二齒配位基之化合物，使得在添加取代基後，該等二齒配位基中之一或多者鍵聯在一起以形成(例如)四齒或六齒配位基。可形成其他此等鍵聯。鹹信此類型之鍵聯相對於無鍵聯之類似化合物可增加穩定性，此歸因於此項技術中通常理解之"螯合效應"。
根據本發明實施例製造之裝置可併入於各種消費型產品中，該等產品包括平板顯示器、電腦監控器、電視、廣告牌、用於內部或外部照明及/或發送信號之燈、擡頭顯示器、全透明顯示器、可撓性顯示器、雷射印表機、電話、蜂巢式電話、個人數位助理(PDA)、膝上型電腦、數位相機、可攜式攝像機、尋視器、微顯示器、車輛、大面積牆壁、劇場或露天螢幕或標誌。各種控制機制可用於控制根據本發明製造之裝置，包括被動型矩陣及主動型矩陣。多種裝置意欲在使人類感到舒適之溫度範圍內使用，諸如18℃至30℃，且更佳為室溫(20℃至25℃)。
本文所描述之材料及結構可應用於除OLED以外之裝置中。舉例而言，諸如有機太陽電池及有機光偵測器之其他光電子裝置可使用該等材料及結構。更一般而言，有機裝置(諸如有機電晶體)可使用該等材料及結構。
在一態樣中，提供某些銥化合物。該等銥化合物包含具有以下通式之銥(III)－配位基錯合物：(C^N)2 －Ir－(N^N)。(C^N)及(N^N)可各自表示與銥原子配位之配位基。
在某些情況下，銥化合物可由下列化學式表示：
在此等情況下，(N^N)配位基由包含兩個吡咯環之二吡咯甲川(dipyrrin)部分表示。在二吡咯甲川部分中之每一吡咯環均可在任何位置經取代基G1 及G3 取代。
在某些情況下，G1 及G3 可為氫、芳基部分或雜芳基部分。如本文所用之術語"芳基部分"係指含有至少一芳環之結構，包括單環基團及多環系統。多環可具有兩個或兩個以上環，其中兩個原子由兩個相鄰環共有(該等環經"稠合")，其中至少一環為芳族。適用作取代基G1 或G3 之芳基部分包括以下實例(其本身亦可經取代)：
如本文所用之術語"雜芳基部分"涵蓋可包括一至四個雜原子之單環雜芳族基團。雜芳基部分之實例包括吡咯、呋喃、噻吩、咪唑、噁唑、噻唑、三唑、四唑、吡唑、吡啶、吡嗪及嘧啶及其類似物。術語"雜芳基部分"亦包括具有兩個或兩個以上環之多環雜芳族系統，其中兩個原子為兩個相鄰環共有(該等環經"稠合")，其中至少一環為雜芳基。其他環可為環烷基、環烯基、芳基、雜環及/或雜芳基。可適用作取代基G1 或G3 之雜芳基部分包括以下實例(其本身亦可經取代)： 其中Z可為S、O、NH或NRA ，且其中RA 可為任何烷基部分。
如本文所用之術語"烷基部分"涵蓋直鏈烷基鏈及分枝烷基鏈。較佳烷基部分為含有一至十五個碳原子之烷基部分且包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基及其類似基團。另外，烷基部分本身可由一或多個取代基取代。
取代基G2 可為氫、苯基、經取代之苯基，或烷基。經取代之苯基可具有各種取代基中之任一者，包括鹵素(例如，F或I)、CHO、CN、COORB 、ORB 、第三丁基、含硼基團(諸如4,4,5,5－四甲基－1,3,2－二氧硼戊烷)或RB ，其中RB 為烷基。舉例而言，經取代之苯基可為均三甲基苯基。X可為氮原子或碳原子。在某些情況下，G1 、G2 或G3 中之任一者可稠合至二吡咯甲川部分上之吡咯環。所得稠環系統可具有交替或非交替共軛。
適用作(N^N)配位元基之各種部分包括以下各物： 其中Z可為S、O、NH或NRA ，且其中RA 可為任何烷基部分。
表示為之(C^N)配位基可含有苯基吡唑部分、苯基吡啶部分或苯基噁唑部分。
(C^N)配位基之構成環可具有環之任何位置處的各種取代中之一或多者。舉例而言，合適之(C^N)配位基包括以下各物：
在某些情況下，銥化合物可具有在近紅外線(IR)範圍內之初級磷光光致發光峰值波長。較佳地，光致發光峰值波長大於680 nm。
不意欲受理論限制，在此等情況下，鹹信(C^N)可為輔助環金屬化配位基，且(N^N)可為光敏性配位基。因此，(N^N)配位基可直接影響銥化合物之發射光譜，而(C^N)配位基之變化可具有最小效應。因此，在某些情況下，可選擇取代基G1 、G2 及G3 以及X，使得銥化合物具有在近紅外線(IR)光譜中之初級磷光光致發光峰值波長。
不意欲受理論限制，(C^N)配位基可對銥化合物之氧化－還原性質具有影響。因此，在某些情況下，可選擇(C^N)配位基以獲得銥化合物之所要氧化－還原性質，諸如可逆氧化。舉例而言，(C^N)配位基可具有含有諸如氧或氮之推電子原子之取代基團。
熟習此項技術者將能夠使用各種合成技術中之任一者來製成本文所揭示之任何銥化合物。
本文所揭示之銥化合物應用於有機電子裝置中。因此，在另一態樣中，提供使用某些銥化合物之有機裝置。有機裝置可包含一有機層，且該有機層可包含本文所揭示之任何銥化合物。有機裝置可為電子裝置，諸如發光二極體、場效電晶體、光電裝置及其類似物。在有機發光二極體中，有機層可為發射層，其中銥化合物用作摻雜劑。
在另一態樣中，提供使用某些金屬卟啉化合物之有機裝置。有機裝置可包含一有機層，且該有機層可包含本文所揭示之任何金屬卟啉化合物。有機裝置可為電子裝置，諸如發光二極體、場效電晶體、光電裝置及其類似物。在有機發光二極體中，有機層可為發射層，其中金屬卟啉化合物用作摻雜劑。
在某些情況下，金屬卟啉化合物具有下列化學式：
在此等情況下，金屬卟啉化合物包含具有四個吡咯環之核心卟啉結構。金屬M與核心卟啉結構在其中央腔中形成配位結構。金屬M可為能夠與核心卟啉結構結合之任何金屬，包括鉑、鈀、銥、鐵、鋅及銅。
核心卟啉結構之每一吡咯環均可在任何位置經取代基R1 －R4 取代。在某些情況下，R1 －R4 各自可為脂族部分、芳基部分、雜芳基部分或巨環部分。如本文所用之術語"脂族部分"係指碳原子之任何非芳族鏈排列，無論其為直鏈、分枝鏈或環狀。脂族部分可包括烷烴、烯烴或炔烴。較佳脂族部分為含有1至15個碳原子之脂族部分。如本文所用之術語"巨環"係指在至少九個原子之環中具有三個或三個以上潛在供體原子之雜環巨分子。巨環中之環可為芳族或非芳族的。
舉例而言，各R1 －R4 可為以下芳基或雜芳基部分中之一者：
芳基部分或雜芳基部分可稠合至相鄰吡咯環。R1 '－R4 '各自可為氫、苯基、均三甲基苯基或甲基。
金屬卟啉化合物之實例包括以下各物：
不意欲受理論限制，鹹信擴大核心卟啉結構上之環系統或增加吡咯環之共軛π－電子系統可影響金屬卟啉化合物之光致發光發射光譜。因此，在某些情況下，可選擇取代基R1 －R4 及R1 '－R4 '以及金屬M中之每一者，使得金屬卟啉化合物具有在近紅外線範圍內之初級磷光光致發光峰值波長。較佳地，光致發光峰值波長大於680 nm。
在某些情況下，金屬卟啉化合物之初級磷光光致發光發射峰值具有狹窄帶寬。在一些情況下，帶寬(所量測之半高全寬)可小於60 nm，且較佳小於35 nm。不意欲受理論限制，鹹信可藉由增加金屬卟啉化合物之分子對稱性來使帶寬變窄。因此，在某些情況下，可選擇取代基R1 －R4 及R1 '－R4 '中之每一者，使得金屬卟啉化合物具有至少一分子對稱軸。分子對稱軸可為旋轉軸或鏡像軸。舉例而言，可獲得此種對稱，其中R1 與R3 相同，或其中R2 與R4 相同，或其中R1 －R4 皆相同。
不意欲受理論限制，咸信金屬卟啉化合物之量子效率可藉由增加核心卟啉結構之剛性及/或減少諸如C－H鍵振動之非輻射抑制(quenching)機制的可能性而增加。因此，在某些實施例中，可選擇取代基R1 －R4 及R1 '－R4 '中之每一者，使得金屬卟啉化合物展示增加之量子效率。
不意欲受理論限制，咸信使用某些金屬卟啉化合物作為摻雜劑之發射層可藉由自主體材料收穫能量及藉助於自基於配位基之三重態交換能量轉移而變為經敏化的，從而具有改良之發光能力。因此，在某些情況下，在將金屬卟啉化合物用作發射層中之摻雜劑時，金屬卟啉化合物之吸收光譜與主體材料之發射光譜重疊。此重疊可最大化Forster能量轉移之可能性。舉例而言，金屬卟啉化合物可抑制Alq3 主體材料之發射。在一些情況下，金屬卟啉化合物可完全抑制Alq3 主體材料之發射。
熟習此項技術者將能夠使用各種合成技術中之任一者來製成本文所揭示之任何金屬卟啉化合物。
實例
現將描述作為本發明之代表性實施例的各種可能銥化合物。應理解，特定方法、材料、條件、過程參數、設備及其類似物未必限制本發明之範疇。
藉由合成而獲得之實例合成以下化合物：
圖3展示化合物實例A之吸收及77 K發射光譜。實例A之77 K磷光發射為666 nm，壽命為25.5 μs。室溫磷光發射(未圖示)紅移至672 nm，壽命為13.6 μs。圖4至7展示各種銥化合物實例之吸收及77 K發射光譜。
檢測所有上述銥化合物之電化學性質。圖8展示化合物實例A及C之循環伏安法跡線。除化合物實例C外，所有分子均展示在幾乎相同電位時發生之可逆還原及不可逆氧化過程。化合物實例C具有一類似還原電位，但在0.39 V之電位時展示可逆氧化，該電位比實例A低130 mV。鹹信此歸因於在(C^N)配位基中之苯基環上之4'及5'位置上的推電子原子。因此，在實例C中，氧化過程可涉及金屬及(C^N)配位基，且不涉及二吡咯甲川部分。
圖9展示化合物實例I之吸收及發射光譜。實例I之77 K磷光發射為822 nm。在室溫下(未圖示)，發射紅移至838 nm。
鹹信，DFT(密度函數理論)計算可提供對雙環狀金屬化銥(III)二吡咯甲川錯合物之光譜特徵的準確預測。為了驗證DFT計算對本文所揭示之銥化合物的準確度，使用Titan軟體套件(Wavefunction,Inc.)在B3LYP/LACVP＊＊ 等級下對實例A及I進行DFT計算。對於實例A而言，所計算之672 nm發射峰值與藉由實驗量測獲得之發射峰值相同。在實例I中，所計算之820發射峰值與藉由實驗量測獲得之838 nm相當一致。此等結果概述於下表1中，證實DFT計算可以高準確度來預測本文所揭示之銥化合物的光譜特徵。
藉由DFT計算獲得之導出實例因此，關於其他可能銥化合物執行簡單DFT計算，該等銥化合物表示本發明之其他實施例：
關於實例J－O之DFT計算展示於下表2中。此等結果證實實例J－O可具有在近IR範圍內之室溫磷光發射。鹹信，藉由DFT計算預測之光譜特徵將與可藉由實驗量測獲得之彼等光譜特徵相同或大體上類似。因此，實例J－O可用作近IR磷光發射化合物。
裝置實例現將描述作為本發明之代表性實施例的各種可能有機發光裝置。應理解，特定方法、材料、條件、過程參數、設備及其類似物未必限制本發明之範疇。
使用化合物實例A及C來製造有機發光裝置。該等裝置在ITO基板上構造如下(依序)：NPD，作為厚度為400之電洞傳輸層；Alq3 中之10%摻雜劑，作為厚度為300之發射層；及BCP，作為厚度為400之電子傳輸層。陰極由10LiF及其後1,200Al組成。
裝置實例1使用化合物實例A且裝置實例2使用化合物實例C作為發射層中之摻雜劑。裝置實例1及2之電致發光光譜展示於圖10中。命名為"(ppz)2 Ir(5phdpym)"之線表示裝置實例1，且命名為"(45ooppz)2 Ir(5phdpym)"之線表示裝置實例2。兩個裝置均產生具有682 nm之λ(max)及約35 nm之帶寬(所量測之半高全寬)的磷光發射。下表3概述了裝置實例1及2之特徵。
合成以下示範性金屬卟啉化合物：
化合物實例P之各種光譜特徵展示於圖11至13中。圖11展示在2－MeTHF溶液中藉由溶液光譜法獲得之化合物實例P的吸收光譜。圖12展示在2－MeTHF溶液中藉由溶液光譜法獲得之化合物實例P的室溫光致發光及激發光譜(具有在760 nm處監控之發射)。圖13展示在Alq3 主體中化合物實例P之5%膜的光致發光及激發光譜(具有在765 nm及525 nm處監控之發射)。未偵測到主體發射(期望其為525 nm)，指示化合物實例P可完全抑制Alq3 發射。在用作發射層中之摻雜劑時，化合物實例P可藉由其主體發射抑制效應而改良發射效率。
使用化合物實例P來製造有機裝置。該等裝置係在預塗佈有氧化銦錫(ITO)之作為陽極的玻璃基板上製造。以溶劑來清潔基板且使基板經受UV處理歷經10分鐘，接著隨即將其負載至高真空(約3×10－6 托)腔室中。在使用之前，藉由昇華來純化有機材料Alq3 、NPD及金屬卟啉化合物。金屬陰極材料Al及LiF(均購自Aldrich)按原樣使用。對於裝置實例3而言，藉由真空熱蒸鍍使各層沈積如下(依序)：藉由以2－2.5/sec使NPD沈積至400厚度來形成電洞傳輸層。以0.2/sec沈積四苯基－Pt(II)－四苯幷卟啉(摻雜劑)，繼而以3.8/sec沈積Alq3 ，藉由使二者共沈積至400厚度來形成發射層。藉由以2－2.5/sec使Alq3 沈積至400厚度來形成激子阻擋層。藉由以0.2/sec使LiF沈積至10厚度，繼而以3.5－4/sec使Al沈積至1100厚度來形成陰極層。使陰極層經由具有2 mm狹縫之光罩蒸鍍，從而使總裝置面積為4 mm2 。
以與裝置實例3相同之方式構造裝置實例4，但缺乏阻擋層。以與裝置實例3相同之方式構造裝置實例5，但在阻擋層中使用BCP來替代Alq3 。裝置實例3、4及5之構造概述於表4中。
以耦接至裝備有UV－818 Si光偵測器之Newport 1835－C光學儀錶的Keithly 2400電源/電錶/2000萬用表來量測裝置之電學特徵及電致發光特徵。圖14展示5 V下由裝置實例3產生之電致發光光譜。圖15至19展示裝置實例3、4及5之各種光電特徵。此等結果證實，與藉由無阻擋層之裝置實例4獲得之2%相比，激子阻擋層之使用造成6%(關於裝置實例3)或8.5%(關於裝置實例5)的較高外部量子效率(EQE，在10－2 mA/cm2 下量測)。不意欲受理論限制，鹹信在發射層與金屬陰極之間的激子阻擋層可用於減少金屬介面處激子抑制的量。
應理解，本文所描述之各種實施例僅以實例說明且不意欲限制本發明之範疇。舉例而言，本文所描述之多種材料及結構可由其他材料及結構替代，而未偏離本發明之精神。應理解，關於為何本發明起作用之各種理論不意欲為限制性的。舉例而言，與電荷轉移有關之理論不意欲為限制性的。
材料定義： 如本文所用，縮寫係指材料如下：CBP：4,4'－N,N－二哢唑－聯苯m－MTDATA：4,4',4"－參(3－甲基苯基苯胺基)三苯胺Alq3 ：8－參－羥基喹啉鋁Bphen：4,7－二苯基－1,10－啡啉n－BPhen：n－摻雜BPhen(摻雜有鋰)F4 －TCNQ：四氟－四氰基－對醌二甲烷p－MTDATA：p－摻雜m－MTDATA(摻雜有F4 －TCNQ)Ir(ppy)3 ：參(2－苯基吡啶)－銥Ir(ppz)3 ：參(1－苯基吡唑,N,C(2'))銥(III)BCP：2,9－二甲基－4,7－二苯基－1,10－菲啉TAZ：3－苯基－4－(1'－萘基)－5－苯基－1,2,4－三唑CuPc：銅酞菁ITO：氧化銦錫NPD：N,N'－二苯基－N－N'－二(1－萘基)－聯苯胺TPD：N,N'－二苯基－N－N'－二(3－甲苯基)－聯苯胺BAlq：鋁(III)雙(2－甲基－8－羥基喹啉根基)4－苯酚鹽mCP：1,3－N,N－二哢唑－苯DCM：4－(二氰基伸乙基)－6－(4－二甲基胺基苯乙烯基－2－甲基)－4H－呱喃DMQA：N,N'－二甲基喹吖啶酮PEDOT：PSS：聚(3,4－伸乙二氧基噻吩)與聚苯乙烯磺酸鹽(PSS)之水性分散液。
100．．．有機發光裝置
110．．．基板
115．．．陽極
120．．．電洞注入層
125．．．電洞傳輸層
130．．．電子阻擋層
135．．．發射層
140．．．電洞阻擋層
145．．．電子傳輸層
150．．．電子注入層
155．．．保護層
160．．．陰極
162．．．第一傳導層
164．．．第二傳導層
200．．．倒置之OLED
210．．．基板
215．．．陰極
220．．．發射層
225．．．電洞傳輸層
230．．．陽極
圖1展示具有獨立電子傳輸層、電洞傳輸層及發射層以及其他層之有機發光裝置。
圖2展示不具有獨立電子傳輸層之倒置有機發光裝置。
圖3展示化合物實例A之吸收及77 K發射光譜。
圖4展示各種實例銥化合物之吸收光譜。
圖5展示各種實例銥化合物之光致發光光譜。
圖6展示各種實例銥化合物之吸收光譜。
圖7展示各種實例銥化合物之光致發光光譜。
圖8展示化合物實例A及C之循環伏安法跡線。
圖9展示化合物實例I之吸收及77 K發射光譜。
圖10展示裝置實例1及2之電致發光光譜。
圖11展示呈溶解狀態之化合物實例P之吸收光譜。
圖12展示呈溶解狀態之化合物實例P之光致發光及激發光譜。
圖13展示在5%膜中之化合物實例P之光致發光及激發光譜。
圖14展示由裝置實例3產生之電致發光光譜。
圖15展示裝置實例3及4之電壓－電流密度圖。
圖16展示裝置實例3及4之電壓－功率效率圖。
圖17展示裝置實例3及4之電流密度－量子效率圖。
圖18展示裝置實例3、4及5之電流密度－量子效率圖。
圖19展示裝置實例3、4及5之電壓－電流密度圖。
(無元件符號說明)

Claims (22)

  1. 一種具有下列化學式之銥化合物， 其中G2 為氫、苯基、經取代之苯基或C1-15 烷基，其中該經取代之苯基係經鹵素、CHO、CN、COORB 、ORB 、第三丁基、含硼基團或RB ，其中RB 為C1-15 烷基；其中G1 為在相鄰吡咯環之任何位置上的氫、芳基部分或雜芳基部分；其中G3 為在相鄰吡咯環之任何位置上的氫、芳基部分或雜芳基部分；其中X為氮原子或碳原子；且其中配位基含有苯基吡唑部分、苯基吡啶部分或苯基噁唑部分。
  2. 如請求項1之銥化合物，其中該化合物具有一在近紅外線範圍內之初級磷光光致發光峰值波長。
  3. 如請求項2之銥化合物，其中該化合物具有一大於約680 nm之初級磷光光致發光峰值波長。
  4. 如請求項1之銥化合物，其中該化合物具有一帶寬小於 約60 nm之初級磷光光致發光峰值。
  5. 如請求項1之銥化合物，其中G1 及G3 各自獨立地選自由下列各基團組成之群： 其中Z係選自由S、O、NH及NRA 組成之群；且其中RA 為任何C1-15 烷基。
  6. 如請求項1之銥化合物，其中該配位基係選自由下列各基團組成之群：
  7. 如請求項1之銥化合物，其中該配位基中之任一環均在該環之一或多個位置處經含氧基團取代。
  8. 如請求項1之銥化合物，其中該化合物具有一選自由下列組成之群的化學式：
  9. 如請求項1之銥化合物，其中該化合物具有一選自由下列組成之群的化學式：
  10. 一種包含銥化合物之有機裝置，其中該銥化合物具有下列化學式： 其中G2 為氫、苯基、經取代之苯基或C1-15 烷基，其中該經取代之苯基係經鹵素、CHO、CN、COORB 、ORB 、第三 丁基、含硼基團或RB ，其中RB 為C1-15 烷基；其中G1 為在相鄰吡咯環之任何位置上的氫、芳基部分或雜芳基部分；其中G3 為在相鄰吡咯環之任何位置上的氫、芳基部分或雜芳基部分；其中X為氮原子或碳原子；且其中配位基含有苯基吡唑部分、苯基吡啶部分或苯基噁唑部分。
  11. 如請求項10之有機裝置，其中該化合物具有一在近紅外線範圍內之初級磷光光致發光峰值波長。
  12. 如請求項11之有機裝置，其中該化合物具有一大於約680 nm之初級磷光光致發光峰值波長。
  13. 如請求項10之有機裝置，其中該化合物具有一帶寬小於約60 nm之初級磷光光致發光峰值。
  14. 如請求項10之有機裝置，其中G1 及G3 各自獨立地選自由下列各基團組成之群： 其中Z係選自由S、O、NH及NRA 組成之群；且其中RA 為任何C1-15 烷基。
  15. 如請求項10之有機裝置，其中該配位基係選自由下列各基團組成之群：
  16. 如請求項10之有機裝置，其中該配位基中之任一環均在該環之一或多個位置處經含氧基團取代。
  17. 如請求項10之有機裝置，其中該銥化合物具有一選自由下列組成之群的化學式：
  18. 如請求項10之有機裝置，其中該銥化合物具有一選自由下列組成之群的化學式：
  19. 如請求項10之有機裝置，其進一步包含： 一陽極；一陰極；一安置於該陽極與該陰極之間的有機層，其中該有機層包含該銥化合物。
  20. 如請求項19之有機裝置，其中該裝置為一發光二極體，且其中該有機層為一發射層。
  21. 如請求項20之有機裝置，其中該有機層進一步包含一主體材料，且其中該銥化合物之吸收光譜與該主體材料之電致發光發射光譜重疊。
  22. 如請求項21之有機裝置，其中該銥化合物實質上抑制(quench)該主體材料之電致發光發射光譜。
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