TWI405217B - 用於樣本薄片之內表面及外表面正面認證之方法 - Google Patents
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Description
本發明係關於樣本薄片之一內表面及一外表面之認證。更特定言之,本發明係關於在歸因於薄片樣本收集(亦即,自該薄片內表面或外表面之較大遺漏部分)而不能應用正常視覺認證之狀況下對置放於一核反應器中之核燃料棒及裝置上之喬克裏弗(Chalk River)未認證沈積物(CRUD)薄片的一內表面及一外表面之認證。
核能電廠操作者需要沈積於核燃料棒之外部上之材料的樣本以便執行材料特性分析。此材料特性分析允許電廠操作者藉由查看影響燃料整件之降級的類型及機制來瞭解置放於核反應器中之燃料整件的整體狀況。材料特性分析認證可能將損壞或需要注意之反應器冷卻劑系統內的組件。
沈積或電鍍於核系統上之材料(諸如,燃料棒上之CRUD)可影響組件的熱傳遞特性。在CRUD之狀況下,較厚的CRUD層為棒提供絕緣效應。因此,降低了燃料棒及相關聯之整件的熱傳遞能力。CRUD的量可顯著地變化,藉此在可能需要替換或自服務移除此等燃料整件的程度上影響燃料整件之整體效能。
CRUD層本身並非為沿其厚度而為均質的。CRUD之材料組份可自直接沈積於特定熱表面(例如,鋯燃料棒)上之內層(內表面)至仍與反應器冷卻水接觸之外層(外表面)而大大改變。因此,為執行對CRUD薄片之精確分析,電子顯微鏡操作者必須判定正被分析之材料的表面為內表面(亦即,面向燃料棒之中心軸之表面)還是外表面(亦即,面向冷卻劑/緩和劑之表面)。
需要判定樣本薄片之外表面及內表面以使得可執行適當的材料分析。
因此,本發明之一目的在於判定一樣本薄片之一內表面及一外表面。如所說明及描述而達成本發明之該目的。本發明提供用以當正常視覺認證不可能時認證一樣本薄片之一內表面及一外表面的方法。該方法包含下列步驟:獲取樣本薄片;獲取該樣本薄片之一第一面之一數位影像;及獲取該樣本薄片之一第二面之一數位影像。該方法亦包含下列步驟:以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片內表面之一數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片外表面之一數位影像;及以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像。該方法進一步需要藉由判定該樣本薄片之該第一面表面及該第二面表面中之一者與該內表面及該外表面中之一者的一較大相似性而自該等以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像及以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟判定該樣本薄片之內表面及外表面。
該方法亦可包括以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像的步驟,該步驟包含:選擇該樣本薄片之該第一面之該數位影像的一模板區,及自該參考薄片表面選擇數位影像之一目標區。該方法亦可包括下列步驟:將該樣本薄片之該第一面之該模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;對應於該樣本薄片之該第一面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一陣列;及計算該陣列中之相應像素之間的相關係數。
該以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像的步驟可包含下列步驟:選擇該樣本薄片之該第二面之該數位影像的一第二模板區;自該參考薄片表面選擇數位影像之一第二目標區;將該樣本薄片之該第二面之該第二模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;及對應於該樣本薄片之該第二面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一第二陣列。該以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟包含下列步驟:選擇該樣本薄片之該第一面之該數位影像的一第三模板區;自該參考薄片表面選擇數位影像之一第三目標區;將該樣本薄片之該第一面之該第三模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;及對應於該樣本薄片之該第一面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一第三陣列。該以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟包含:選擇該樣本薄片之該第二面之該數位影像的一第四模板區;自該參考薄片表面選擇數位影像之一第四目標區;將該樣本薄片之該第二面之該第四模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;及對應於該樣本薄片之該第二面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一第四陣列。
該方法亦可經執行使得自該等以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像;及以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟而判定該樣本薄片之內表面及外表面之步驟藉由計算一相關係數並接著比較該相關係數與一參考相關係數而被執行。
亦可完成該方法,其中該以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片的步驟包含:選擇該樣本薄片之該第一面之該數位影像的一模板區;自該參考薄片表面選擇該數位影像之一目標區;將該樣本薄片之該第一面之該模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;對應於該樣本薄片之該第一面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一陣列;計算該陣列中之相應像素之間的一相關係數;及將該樣本薄片之該第一面之該模板區移動至該目標區上之一第二位置。該方法亦可經完成使得該方法提供下列步驟:對應於該樣本薄片之該第一面上之該模板區於來自該參考薄片第二位置之該目標區上的置放而建立像素對之一第二陣列;計算該目標區上之該第二位置中的該陣列中之相應像素之間的一第二相關係數;自該相關係數及該第二相關係數計算一平均相關係數;及自該相關係數及該第二相關係數計算一最大相關係數。
該方法可經完成使得該樣本薄片自一沸水反應器或一加壓水反應器之一加熱組件獲取。該方法可經完成使得該樣本薄片自一燃料針獲取。該方法可經完成使得該樣本薄片自初級電路之蒸汽產生器管或其他組件獲取。該方法亦可經完成使得該參考薄片自與該樣本薄片相同之燃料整件針批料獲取。該方法亦可經完成使得該樣本薄片之內表面藉由一較之於參考薄片外表面與該參考薄片內表面相比較高的相關係數來判定。
本發明提供以數學方法比較測試薄片表面之數位影像與一或多個已知樣本之數位影像以認證測試案例(亦即,所討論之樣本薄片)之內表面及外表面的方法。
CRUD薄片用以分析"原位"CRUD(燃料沈積物)組合物。此等CRUD薄片之性質及用以獲取此等薄片之習知方法導致一些材料自薄片表面的損失。本發明提供用以藉由允許分析如自現場樣本獲取之薄片來補償此等問題的方法。本發明可結合用以認證樣本薄片之材料組份的已知掃描電子顯微鏡痕量鋯元素分析方法而使用。根據本發明之方法提供對自燃料沈積物獲取之樣本薄片之內表面及外表面的正面認證作為例示性實施例。本發明之方法包括對燃料沈積物之已知外表面及內表面之掃描電子顯微鏡影像(或其他高品質視覺影像)的數位分析以量化未知的薄片之認證資訊。自已知參考薄片獲取之資訊包括表面曲率、表面平滑度及表面上之坑洞量。參考薄片可自與待測材料相同之燃料針批料獲取。
亦獲取未知薄片樣本之數位影像。接著比較已知與未知樣本之數位影像。在發明之方法中,藉由光柵掃描數位影像並藉由數位地比較樣本薄片之未知影像與自屬於同一燃料針批料之其他參考薄片獲取的已知內表面及外表面影像來"讀取"掃描電子顯微鏡影像以允許對內表面及外表面進行正面認證。對具有相同標度之影像執行該比較。本發明截取一影像之較小區段(模板)並逐點比較此影像與目標影像。在本發明中,可將參考薄片或樣本薄片中之任一者用作模板或目標影像。在所獲取之影像的每一點處,判定模板中之每一點與目標影像中之相應點之間的相關係數。若目標影像內之所有位置具有與模板相同之相對點幅度,則相關係數將為較高值(接近於1)。匹配樣本薄片表面與正與之比較之已知表面的可能性因此而增加。本方法亦可在不考慮任何絕對偏差或定標差異之情況下起作用。選擇相關係數之給定最小臨限值作為成功之標準。
為達成本發明之目的並執行比較,自諸如核燃料棒之組件的表面移除諸如CRUD薄片之薄片。薄片之移除可藉由任何方法,諸如藉由刮削、切割或磨耗。接著,藉由視覺資料與數值分析之組合來比較樣本薄片以允許對樣本薄片之內表面及外表面之認證。
作為非限制實例,自取樣點獲得樣本薄片並藉由使用掃描電子顯微鏡獲取薄片之影像。可使用提供數位照片之其他技術。使用樣本薄片之不同區域以允許評估若干不同位置。此外,使用樣本薄片之兩面來獲取照片。接著使用藉由掃描電子顯微鏡獲取之影像來與參考標準薄片(亦即,具有已知內表面及外表面之薄片)比較。如以上所提供之參考標準薄片先前已經認證具有已知內表面及外表面。
接著以統計方法比較已知與未知影像之影像區。若未知測試表面影像來自薄片內表面,則演算法將展示與已知薄片內表面影像之較與已知薄片外表面影像更高之相關。
儘管亦可發生對每一CRUD薄片之認證,但最初將未知表面影像提供為盲檢測試。
本發明尋找目標與模板之表面特徵的統計學相似性而非嚴格匹配。當應用於未知及已知案例時,該方法提供影像組之間的相關。為驗證新演算法之準確性,將痕量鋯之掃描電子顯微鏡量測應用於薄片以確認藉由影像相關性執行之匹配。接下來將藉由例示性實施例來描述本發明。
1.自薄片(具有已知內表面及外表面之薄片,及具有未知內表面及外表面之薄片)選擇兩個影像用於比較
2.為描述過程,將影像命名為A及B。
3.將不為評估中之實際表面之部分的文字或其他區域自評估中之影像剪裁掉。
4.參看圖1,在影像A中選擇模板區。模板應足夠大以含有薄片之基本結構影像但應足夠小以使得模板之多個複本將配合於B影像(目標)之區域內。
5.參看圖2,以對準於目標影像B之左上角處的模板影像開始,自模板及目標影像建立相應像素對之陣列。若模板影像具有100個像素,則陣列將含有100對。
為說明起見,將1用作每一影像之開始列及行,並假定模板影像大小為4 * 4像素,陣列之基本形式將如下:模板像素(列1,行1),目標B像素(列1,行1)模板像素(列1,行2),目標B像素(列1,行2)模板像素(列1,行3),目標B像素(列1,行3)模板像素(列1,行4),目標B像素(列1,行4)模板像素(列2,行1),目標B像素(列2,行1)模板像素(列2,行2),目標B像素(列2,行2)模板像素(列2,行3),目標B像素(列2,行3)模板像素(列2,行4),目標B像素(列2,行4)模板像素(列3,行1),目標B像素(列3,行1)模板像素(列3,行2),目標B像素(列3,行2)模板像素(列3,行3),目標B像素(列3,行3)模板像素(列3,行4),目標B像素(列3,行4)模板像素(列4,行1),目標B像素(列4,行1)模板像素(列4,行2),目標B像素(列4,行2)模板像素(列4,行3),目標B像素(列4,行3)模板像素(列4,行4),目標B像素(列4,行4)
使用縮短標記TEM(1,1)及TAR(1,1)用於模板像素1,1及目標影像像素1,1,可將陣列列為:TEM(1,1),TAR(1,1) TEM(1,2),TAR(1,2) TEM(1,3),TAR(1,3) TEM(1,4),TAR(1,4) TEM(2,1),TAR(2,1) TEM(2,2),TAR(2,2) TEM(2,3),TAR(2,3) TEM(2,4),TAR(2,4) TEM(3,1),TAR(3,1) TEM(3,2),TAR(3,2) TEM(3,3),TAR(3,3) TFM(3,4),TAR(3,4) TEM(4,1),TAR(4,1) TEM(4,2),TAR(4,2) TEM(4,3),TAR(4,3) TEM(4,4),TAR(4,4)
6.接下來,計算陣列中之相應像素之間的相關係數。
7.針對第一模板位置(與TAR(1,1)對準之TEM(1,1))計算相關係數。
8.一次一個像素地移動模板影像而重複步驟5至7。在每一位置處,模板影像必須位於目標影像B之邊界內。應在模板可覆蓋目標影像像素之每一位置處計算相關係數。
使用步驟5中之短標記,第二目標位置之陣列將為:TEM(1,1),TAR(1,2) TEM(1,2),TAR(1,3) TEM(1,3),TAR(1,4) TEM(1,4),TAR(1,5) TEM(2,1),TAR(2,2) TEM(2,2),TAR(2,3) TEM(2,3),TAR(2,4) TEM(2,4),TAR(2,5) TEM(3,1),TAR(3,2) TEM(3,2),TAR(3,3) TEM(3,3),TAR(3,4) TEM(3,4),TAR(3,5) TEM(4,1),TAR(4,2) TEM(4,2),TAR(4,3) TEM(4,3),TAR(4,4) TEM(4,4),TAR(4,5)
且使用影像B大小100 * 100,最末陣列將為:TEM(1,1),TAR(97,97) TEM(1,2),TAR(97,98) TEM(1,3),TAR(97,99) TEM(1,4),TAR(97,100) TEM(2,1),TAR(98,97) TEM(2,2),TAR(98,98) TEM(2,3),TAR(98,99) TEM(2,4),TAR(98,100) TEM(3,1),TAR(99,97) TEM(3,2),TAR(99,98) TEM(3,3),TAR(99,99) TEM(3,4),TAR(99,100) TEM(4,1),TAR(100,97) TEM(4,2),TAR(100,98) TEM(4,3),TAR(100,99) TEM(4,4),TAR(100,100)
9.可自目標影像B及模板之像素尺寸計算相關結果之數量。對於4 * 4模板及100 * 100目標影像B之先前實例,將存在模板將覆蓋目標影像B之97 * 97個位置。
10.接著計算最大及平均相關值。
11.在目標影像A內選擇用於比較的來自影像B之相同大小的模板。使用來自影像B之模板及目標影像A而重複相關係數陣列(步驟4至10)。
12.最大及平均相關值成為影像A與影像B之間的匹配之特徵。
13.接著使用相關值來比較不同影像組。
以上提供該方法之例示性結果,其中展示用於比較之每一影像對的最大相關。每一影像交替用作模板或目標而量測相關。舉例而言,可藉由自C截取模板並與影像D比較或自D截取模板並與影像C比較來比較影像C與影像D。在所提供之例示性實施例中,在10微米標度中截取影像C、D、E、F及L且在200微米標度中截取影像B、G及H。又,舉例而言,影像G、H及L屬於已知內表面及外表面。影像B、D及F屬於研究薄片之未認證之面B,且影像C及E屬於同一研究薄片之未認證之面A。
在表1中給出自給定比較組獲取之相關。表1指示較之於面A影像與同其他表面相比,面A影像相互比較更有利。面B影像與同其他表面比較相比亦更有利地與自身比較。相對於自身及其他表面來評估面影像之此檢查可經執行以驗證比較技術為精確的。200微米標度的面B影像具有與相同標度之已知參考薄片之外表面影像的較佳相關(亦即,較高相關因數)。如自以上資訊顯而易見的,較詳細之標度因數允許較精確之比較及相應的較高相關值。此外,10微米標度的面B影像較之於與相同標度之面A影像更好地與已知參考薄片之外部10微米影像相關。如表1中所提供的,較大標度(具有較小解析度之標度)導致相關上的較小準確性,此進而減小相關值比較。
在所提供之例示性實施例中,結果說明不同影像組之間的最大相關值。將(未知薄片表面(ID或OD)之)影像B與相同標度之影像G(已知ID表面)及H(已知OD表面)進行比較。影像B與G之數值相關經計算達到0.334之平均值而影像B與H之數值相關平均為0.418之較高值。此等結果揭示,影像B具有與為已知OD影像之影像H的較高相關。
將(未知薄片表面面A(ID或OD)之)影像C及E與相同標度之影像L(已知OD表面)進行比較。相應地,數值相關為0.551及0.622,因此,後面的相關優於.551相關值。最終,將相反未知薄片表面面B之影像D及F與相同標度之影像L進行比較。數值相關為0.661及0.761。資料指示,影像D及F(較影像C及E)更緊密地與為已知OD影像之影像H相關。
以下為自以上測試實例獲得之每一影像之最佳相關。
用於測試之用於例示性實施例中的影像不包括與影像C、D、E及F處於相同標度的已知ID影像。相關性展示,未知薄片面B具有與已知OD影像的較高數值相關。因此,藉由消除處理,當每一薄片含有單一ID表面且其餘表面為OD表面時,面A影像與薄片ID一致。
使用此處理,相關係數提供對模板與目標之影像之相似性的統計量測。相關係數對像素偏移及增益不敏感,且因此不會自此視覺偏差而併入有誤差。若在影像比較中認為偏差及增益較為重要,則可用F測試統計函數替代相關係數。某些應用可根據使用者需要而使用該等兩個函數之平均值或乘積。其他應用可要求不同比較函數。
可視需要修改模板影像之大小及幾何形狀以提供所要影像結構比較。模板可在其起源影像上進行測試以證實效能。儘管在模板來自目標影像時相關函數或F測試函數將總提供1.0之最大值,但完全目標影像上之相關或F測試量測之平均值將展示模板區在何種程度上代表整個影像。
圖1為自置放於影像A上之薄片獲取之模板的視圖。
圖2為自置放於目標影像B上之薄片獲取之模板的視圖。
Claims (10)
- 一種用以認證一樣本薄片之一內表面及一外表面之方法,其包含:獲取該樣本薄片;獲取該樣本薄片之一第一面之一數位影像;獲取該樣本薄片之一第二面之一數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片內表面之一數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片外表面之一數位影像;以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像;及藉由判定該樣本薄片之該第一面表面及該第二面表面中之一者與該內表面及該外表面中之一者的一較大相似性而自該等以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟判定該樣本薄片之一內表面及一外表面。
- 如請求項1之方法,其中該以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像的步驟包含:選擇該樣本薄片之該第一面之該數位影像的一模板區;自該參考薄片表面選擇該數位影像之一目標區;將該樣本薄片之該第一面之該模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;對應於該樣本薄片之該第一面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一陣列;及計算該陣列中之相應像素之間的一相關係數,其中該以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像的步驟包含下列步驟:選擇該樣本薄片之該第二面之該數位影像的一第二模板區;自該參考薄片表面選擇該數位影像之一第二目標區;將該樣本薄片之該第二面之該第二模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;及對應於該樣本薄片之該第二面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一第二陣列,其中該以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟包含下列步驟:選擇該樣本薄片之該第一面之該數位影像的一第三模板區;自該參考薄片表面選擇該數位影像之一第三目標區;將該樣本薄片之該第一面之該第三模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;及對應於該樣本薄片之該第一面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一第三陣列,其中該以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟包含:選擇該樣本薄片之該第二面之該數位影像的一第四模板區;自該參考薄片表面選擇該數位影像之一第四目標區;將該樣本薄片之該第二面之該第四模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;及對應於該樣本薄片之該第二面之該第四模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一第四陣列。
- 如請求項2之方法,其中藉由計算一相關係數並接著比較該相關係數與一參考相關係數而執行自該等以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片內表面之一數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片外表面之一數位影像,及以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟來判定該樣本薄片之該內表面及該外表面的該步驟。
- 如請求項1之方法,其中該以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片的步驟包含:選擇該樣本薄片之該第一面之該數位影像的一模板區;自該參考薄片表面選擇該數位影像之一目標區;將該樣本薄片之該第一面之該模板區置放於來自該參考薄片之該目標區上;對應於該樣本薄片之該第一面之該模板區於來自該參考薄片之該目標區上的該置放而建立像素對之一陣列;計算該陣列中之該等相應像素之間的一相關係數;將該樣本薄片之該第一面之該模板區移動至該目標區上之一第二位置;對應於該樣本薄片之該第一面上之該模板區於來自該參考薄片第二位置之該目標區上的該置放而建立像素對之一第二陣列;計算該目標區上之該第二位置中的該陣列中之相應像素之間的一第二相關係數;自該相關係數及該第二相關係數計算一平均相關係數;及自該相關係數及該第二相關係數計算一最大相關係數。
- 如請求項4之方法,其中藉由計算一相關係數並接著比較該相關係數與一參考相關係數來執行自該等以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片內表面之一數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片內表面之該數位影像、以數學方法比較該樣本薄片之該第一面之該數位影像與一參考薄片外表面之一數位影像,及以數學方法比較該樣本薄片之該第二面之該數位影像與該參考薄片外表面之該數位影像的步驟來判定該樣本薄片之該內表面及該外表面的該步驟。
- 如請求項1之方法,其中自一沸水反應器中之一加熱表面及一受熱表面中之至少一者上的一沈積物來獲取該樣本薄片。
- 如請求項1之方法,其中自一加壓水反應器中之一加熱表面及一受熱表面中之至少一者上的一沈積物來獲取該樣本薄片。
- 如請求項6之方法,其中自一與該樣本薄片相同之燃料整件針批料來獲取該參考薄片。
- 如請求項7之方法,其中自一與該樣本薄片相同之燃料整件針批料來獲取該參考薄片。
- 如請求項1之方法,其中該樣本薄片之該內表面及該外表面各自藉由一與該參考薄片表面之該外表面及該內表面中之一者的比較而得以判定,其中在該樣本薄片之該外表面及該內表面中之每一者與該參考薄片之該外表面及該內表面中之該一者之間的該比較之間所判定之一較高相關係數判定該樣本薄片之該內表面及該外表面命名中之一者。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5890808A (en) * | 1996-01-05 | 1999-04-06 | Mcdonnell Douglas Corporation | Image processing method and apparatus for correlating a test image with a template |
TW364120B (en) * | 1995-09-27 | 1999-07-11 | Franco Belge Combustibles | Method and device for checking the characteristics of a surface layer of a zirconium-alloy element and use for the checking of fuel rods for a nuclear reactor |
TW200411676A (en) * | 2002-07-31 | 2004-07-01 | Gen Electric | Systems and methods for computing helium production in stainless steel components of nuclear reactors |
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---|---|---|---|---|
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DE19834718C2 (de) * | 1998-07-31 | 2003-06-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Digitale Bildverarbeitung für ein Qualitätskontrollsystem |
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US6600736B1 (en) * | 1999-03-31 | 2003-07-29 | Lucent Technologies Inc. | Method of providing transfer capability on web-based interactive voice response services |
DE19924066A1 (de) * | 1999-05-26 | 2000-04-20 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Prüfen von Kernreaktor-Brennelementen |
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ATE447827T1 (de) * | 2000-05-02 | 2009-11-15 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Bilddatenerzeugungseinrichtung und bildanzeige |
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JP2004328565A (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-18 | Meidensha Corp | 画像監視システム |
US7132651B2 (en) * | 2004-04-23 | 2006-11-07 | Framatome Anp, Inc. | In-situ BWR and PWR CRUD flake analysis method and tool |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW364120B (en) * | 1995-09-27 | 1999-07-11 | Franco Belge Combustibles | Method and device for checking the characteristics of a surface layer of a zirconium-alloy element and use for the checking of fuel rods for a nuclear reactor |
US5890808A (en) * | 1996-01-05 | 1999-04-06 | Mcdonnell Douglas Corporation | Image processing method and apparatus for correlating a test image with a template |
TW200411676A (en) * | 2002-07-31 | 2004-07-01 | Gen Electric | Systems and methods for computing helium production in stainless steel components of nuclear reactors |
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