TWI403947B - A wiring structure and manufacturing method capacitive touch screen - Google Patents

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電容式觸控螢幕的佈線結構及其製造方法
本發明涉及一種觸控螢幕佈線結構,還涉及該觸控螢幕佈線結構的製造方法,尤其係為一種電容式觸控螢幕的佈線結構及其製造方法。
觸控螢幕的佈線結構包括沿X方向和Y方向縱橫交叉的兩組導線,先前之觸控螢幕佈線結構存在如下缺陷:
1、X方向和Y方向兩組導線空間交叉,在製造工藝中,需要先製作底層一組導線導電膜,然後製作絕緣膜,再製作上層一組導線導電膜。由於兩組導線的透明導電膜必須分別製作,會引起兩層導電膜的顏色差異,降低觸控螢幕的產品品質;
2、由於導線導電膜材料採用透明材料,膜層較薄,在兩組導線相交叉點處位於上方的隧道膜層容易出現斷線現象,導致導線局部斷線,降低產品良品率;
3、導線導電膜線電阻較高,降低觸控螢幕性能。
本發明要解決之技術問題之一在於,提供一種電容式觸控螢幕的佈線結構,克服先前電容式觸控螢幕佈線結構存在色差、導線局部斷線、導線導電膜的線電阻高的缺陷。
本發明要解決之技術問題之二在於,提供一種電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法,克服先前技術存在的色差、導線局部斷線、導線導電膜的線電阻高的缺陷。
本發明解決其技術問題之一所採用的技術方案為:構造一種電容式觸控螢幕的佈線結構,包括在基板上沿X、Y方向佈置的兩組導線的透明導電膜和絕緣膜,X方向的透明導電膜在與Y方向的透明導電膜交叉處的結構包括連續連接結構和隧道連接結構,Y方向的透明導電膜在與X方向的透明導電膜交叉處的結構包括連續連接結構和隧道連接結構;連續連接結構為:位於X、Y方向的交叉點兩側的透明導電膜材料連續實現導線的連接;隧道連接結構為:在所述X、Y方向的交叉點處,X、Y方向中一個方向的透明導電膜連續連接,X、Y方向中交叉點處間斷的透明導電膜附著在基板上分段設置的面電阻低於透明導電膜的連接膜,絕緣膜覆蓋在該連接膜中部,在交叉點處間斷的透明導電膜覆蓋在連接膜端部和基板上構成連續的導線,在交叉點處連續連接的透明導電膜橫跨連接膜覆蓋在絕緣膜和基板上。
在本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構中,絕緣膜的邊緣位於其覆蓋的連接膜鄰近的基板上。
在本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構中,連接膜為金屬膜或低電阻導電膜。
在本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構中,金屬膜為一層或一層以上的金屬層或金屬合金層,低電阻導電膜為一層或一層以上。
在本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構中,X方向的透明導電膜在與Y方向的透明導電膜交叉處的連續連接和隧道連接交替相間。
在本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構中,Y方向的透明導電膜在與X方向的透明導電膜交叉處的連續連接和隧道連接交替相間。
在本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構中,絕緣膜形狀為長方形、正方形或橢圓形之一。
本發明解決其技術問題之二所採用的技術方案為:提供一種電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法,包括如下步驟:S1、製作連接膜,連接膜對應於X、Y方向交叉點處間斷設置的透明導電膜分段覆蓋在基板上;S2、製作絕緣膜,絕緣膜覆蓋在所述連接膜中部;以及S3、同時或分別在基板上製作X、Y方向的透明導電膜,所述X方向的透明導電膜在與所述Y方向的透明導電膜交叉處連續或間斷,所述Y方向的透明導電膜在與所述X方向的透明導電膜交叉處連續或間斷,交叉處連續的X方向的透明導電膜對應的Y方向的透明導電膜間斷,交叉處連續的Y方向的透明導電膜對應的X方向的透明導電膜間斷;間斷的X、Y方向的透明導電膜覆蓋在所述連接膜端部和所述基板上構成連續的導線,在所述交叉點處連續連接的透明導電膜橫跨所述連接膜覆蓋在所述絕緣膜和所述基板上。
在本發明的電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法中,在步驟S1中,所述連接膜為金屬膜或低電阻導電膜。
在本發明的電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法中,在步驟S2中,所述絕緣膜的邊緣位於其覆蓋的所述連接膜鄰近的所述基板上。
實施本發明的電容式觸控螢幕的佈線結構及其製造方法,與先前技術比較,其至少具有以下優點之一:
1、X、Y方向的透明導電膜層可以同時製作,避免了分別製作造成的色差,提高了觸控螢幕的產品品質;
2、連接膜層採用金屬膜或低阻抗導電膜,由於金屬膜或低阻抗導電膜膜層厚度較厚,不易出現斷線現象,提高了導線的連續性;
3、連接膜層的面電阻遠小於透明導線膜層的面電阻,降低了X、Y方向導線的線電阻,提高了觸控螢幕的性能;
4、當絕緣膜的邊緣位於其覆蓋的透明導電膜鄰近處的基板表面上時,絕緣膜邊緣不會出現翹起,因此透明導電膜在絕緣膜的邊緣不會斷線,提高了產品的良品率;
5、X、Y方向導線的透明導電膜均採用連續連接和隧道膜的結構,兩個方向導線的線電阻值一致性較好,提高了觸控螢幕的靈敏度。
請參閱第1圖、第2圖、第3圖,本發明電容式觸控螢幕的佈線結構包括在基板10上沿X、Y方向佈置的兩組導線的透明導電膜1、6、絕緣膜3、5和面電阻低於透明導電膜1、6的連接膜2、4。
X方向的透明導電膜1在與Y方向的透明導電膜6交叉處的結構包括連續連接結構和隧道連接結構,連續連接結構和隧道連接結構可以採用相間交替佈置、按照設計所需要的規律佈置(如按照“連續連接結構、連續連接結構、隧道連接結構、連續連接結構、連續連接結構、隧道連接結構”或“連續連接結構、隧道連接結構、隧道連接結構、連續連接結構、隧道連接結構、隧道連接結構”等規律進行佈置等)、或無規律佈置,均能夠實現本發明目的。
Y方向的透明導電膜6在與X方向的透明導電膜1交叉處的結構包括連續連接結構和隧道連接結構,連續連接結構和隧道連接結構也可以採用相間交替佈置、按照設計所需要的規律佈置(如按照“連續連接結構、連續連接結構、隧道連接結構、連續連接結構、連續連接結構、隧道連接結構”或“連續連接結構、隧道連接結構、隧道連接結構、連續連接結構、隧道連接結構、隧道連接結構”等規律進行佈置等)、或無規律佈置,均能夠實現本發明目的。
上述連續連接結構為:位於X、Y方向的交叉點兩側的透明導電膜材料連續實現導線的連接。
隧道連接結構如下:在X、Y方向的交叉點處,X、Y方向中一個方向的透明導電膜連續連接,X、Y方向中另一個方向的透明導電膜在交叉點處間斷;包括對應於交叉點處間斷的透明導電膜6(或1)附著在基板10上分段設置的連接膜2(或4),絕緣膜3(或5)覆蓋在該連接膜2(或4)中部,絕緣膜3(或5)的邊緣位於其覆蓋的連接膜2(或4)鄰近的基板10上。在交叉點處間斷的透明導電膜6(或1)覆蓋在連接膜2(或4)的端部和基板10上構成連續的導線,在交叉點處連續連接的透明導電膜1(或6)橫跨連接膜2(或4)覆蓋在絕緣膜3(或5)和基板10上。
上述連接膜可以採用金屬膜或低電阻導電膜,金屬膜可以是金屬材料製成的膜層或金屬合金材料製成的膜層,低電阻導電膜可以採用包括但不限於透明導電膜材料、不透明導電膜材料或半透明導電膜材料。
金屬膜可以根據需要採用一層或一層以上,低電阻導電膜也可以根據需要採用一層或一層以上。
基板10可以採用玻璃基板或其他替代玻璃的透明板材。
上述絕緣膜3、5的形狀可以採用包括但不限於長方形、正方形或橢圓形。
由於連接膜層比透明導電膜層的面電阻小、電導率高,其寬度通常小於第二組導線的透明導電膜的寬度。
請參閱第4圖,本發明的電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法如下:
第一步(S1),製作連接膜,連接膜對應於X、Y方向交叉點處間斷設置的透明導電膜分段覆蓋在基板上。
第二步(S2),製作絕緣膜,絕緣膜覆蓋在所述連接膜中部。
第三步(S3),同時或分別在基板上製作X、Y方向的透明導電膜,所述X方向的透明導電膜在與所述Y方向的透明導電膜交叉處連續或間斷,所述Y方向的透明導電膜在與所述X方向的透明導電膜交叉處連續或間斷,交叉處連續的X方向的透明導電膜對應的Y方向的透明導電膜間斷,交叉處連續的Y方向的透明導電膜對應的X方向的透明導電膜間斷;間斷的X、Y方向的透明導電膜覆蓋在所述連接膜端部和所述基板上構成連續的導線,在所述交叉點處連續連接的透明導電膜橫跨所述連接膜覆蓋在所述絕緣膜和所述基板上。
上述步驟一(S1)中,連接膜為金屬膜或低電阻導電膜。
上述步驟二(S2)中,該絕緣膜的邊緣位於其覆蓋的連接膜鄰近的基板上。
1...透明導電膜
2...連接膜
3...絕緣膜
4...連接膜
5...絕緣膜
6...透明導電膜
10...基板
第1圖 係為本發明電容式觸控螢幕的佈線結構之一種實施例的結構平面示意圖。
第2圖 係為第1圖中A-A剖面圖。
第3圖 係為第1圖中旋轉的B-B剖面圖。
第4圖 係為本發明電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法一種實施例的流程圖。
1...透明導電膜
2...連接膜
3...絕緣膜
4...連接膜
5...絕緣膜
6...透明導電膜
10...基板

Claims (10)

  1. 一種電容式觸控螢幕的佈線結構,包括在一基板上沿X、Y方向佈置的兩組導線對應的透明導電膜和絕緣膜,其中:該X方向的該透明導電膜在與該Y方向的該透明導電膜交叉處的結構包括一連續連接結構和一隧道連接結構,該Y方向的該透明導電膜在與該X方向的該透明導電膜交叉處的結構包括該連續連接結構和該隧道連接結構;該連續連接結構為:位於該X、Y方向的一交叉點兩側的該透明導電膜材料連續實現導線的連接;該隧道連接結構為:在該X、Y方向的該交叉點處,該X、Y方向中一個方向的該透明導電膜連續連接,該X、Y方向中另一個方向的該透明導電膜在該交叉點處間斷;包括對應於該交叉點處間斷的該透明導電膜附著在該基板上分段設置的面電阻低於該透明導電膜的一連接膜,該絕緣膜覆蓋在該連接膜中部,在該交叉點處間斷的該透明導電膜覆蓋在該連接膜端部和該基板上構成連續的導線,在該交叉點處連續連接的該透明導電膜橫跨該連接膜覆蓋在該絕緣膜和該基板上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之電容式觸控螢幕的佈線結構,其中,該絕緣膜的邊緣位於其覆蓋的該連接膜鄰近的該基板上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之電容式觸控螢幕的佈線結構,其中,該連接膜係為一金屬膜或一低電阻導電膜。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之電容式觸控螢幕的佈線結構,其中,該金屬膜為一層或一層以上的金屬層或金屬合金層,該低電阻導電膜為一層或一層以上。
  5. 如申請專利範圍第1至4項任一項所述之電容式觸控螢幕的佈線結構,其中,該X方向的該透明導電膜與該Y方向的該透明導電膜交叉處的該連續連接結構和該隧道連接結構係交替相間。
  6. 如申請專利範圍第1至4項任一項所述之電容式觸控螢幕的佈線結構,其中,該Y方向的該透明導電膜與該X方向的該透明導電膜交叉處的該連續連接結構和該隧道連接結構係交替相間。
  7. 如申請專利範圍第1至4項任一項所述之電容式觸控螢幕的佈線結構,其中,該絕緣膜形狀為長方形、正方形或橢圓形。
  8. 一種電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法,包括如下步驟:S1、製作一連接膜,該連接膜對應於一X、Y方向交叉點處間斷設置的一透明導電膜分段覆蓋在一基板上;S2、製作一絕緣膜,該絕緣膜覆蓋在該連接膜中部;以及S3、同時或分別在該基板上製作該X、Y方向的該透明導電膜,該X方向的該透明導電膜在與該Y方向的該透明導電膜交叉處連續或間斷,該Y方向的該透明導電膜在與該X方向的該透明導電膜交叉處連續或間斷,交叉處連續的該X方向的該透明導電膜對應的該Y方向的該透明導電膜間斷,交叉處連續的該Y方向的該透明導電膜對應的該X方向的該透明導電膜間斷;間斷的該X、Y方向的該透明導電膜覆蓋在該連接膜端部和該基板上構成連續的導線,在該交叉點處連續連接的透明導電膜橫跨該連接膜覆蓋在該絕緣膜和該基板上。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法,其中,該步驟S1中,該連接膜為金屬膜或低電阻導電膜。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之電容式觸控螢幕佈線結構的製造方法,其中,該步驟S2中,該絕緣膜的邊緣位於其覆蓋的該連接膜鄰近該基板上。
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