TWI396761B - 光學鍍膜裝置 - Google Patents
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Description
本發明涉及一種用於鍍膜之光學鍍膜裝置。
目前，光學薄膜廣泛應用於光學儀器，如感測器、半導體雷射、干涉儀、眼鏡以及光纖通訊元件等很多領域。光學薄膜通常係通過干涉作用而達到其預期效果，即在光學元件或獨立基板上鍍上一層或多層介電質膜或金屬膜來改變光波傳輸特性。
目前，光學薄膜製作通常以物理蒸鍍法為主，該方法為將鍍材由固態轉化為氣態或離子態，氣態或離子態之鍍材由蒸鍍源穿越空間，抵達基板表面，材料抵達基板表面後，將沉積而逐漸形成薄膜，從而完成基板上鏡片之鍍膜。
在先前的光學鍍膜設備中，通常會使用如圖1中的真空鍍膜裝置1，該真空鍍膜裝置1包括真空鍍膜室2、轉動軸3、基板承載架4及蒸鍍源5。基板承載架4及蒸鍍源5均在所述真空鍍膜室2內。所述轉動軸3安裝於所述真空鍍膜室2頂部，所述基板承載架4用螺絲固定於轉動軸3上，所述基板承載架4上裝有複數塊基板6，所述基板6載有鏡片7。所述蒸鍍源5固定於所述真空鍍膜室2底部，當給鏡片7鍍膜時，所述蒸鍍源5將鍍材M向所述基板承載架4上之鏡片7進行蒸鍍。
然而蒸鍍時，由於所述基板承載架4及所述真空鍍膜室2內壁之間存在間隙H，蒸發之鍍材M會通過該間隙H
進入到所述基板承載架4之背面4a所在空間，污染位於所述基板承載架4背面4a上鏡片7之表面，影響鏡片7鍍膜品質。
有鑒於此，有必要提供一種防止污染，提高鍍膜品質之光學鍍膜裝置。
一種光學鍍膜裝置，其包括真空鍍膜室、轉動軸、基板承載架及蒸鍍源，所述基板承載架與所述轉動軸連接並設置於所述真空鍍膜室頂部，所述蒸鍍源設置於所述真空鍍膜室底部，一個滑槽環繞所述真空鍍膜室內壁設置，基板承載架外邊緣延伸一環形凸緣，該環形凸緣伸入所述滑槽內。
本發明所提供之光學鍍膜裝置，由於基板承載架外邊緣延伸出一環形凸緣，並伸入真空鍍膜室內壁上凹槽內，隔離了基板承載架正反面之空間，所以有效防止鍍膜過程中，鍍材污染基板承載架背面鏡片表面之情況發生，從而改善鏡片鍍膜品質。
下面將結合附圖對本發明實施方式作進一步之詳細描述。
請參閱圖2，本發明第一實施方式提供了一種光學鍍膜裝置100。該光學鍍膜裝置100包括真空鍍膜室10、轉動軸20、基板承載架30及蒸鍍源40。
所述真空鍍膜室10內壁13上設置有環繞所述內壁13
之滑槽14。本實施方式係在所述內壁13上直接加工出一個凹槽。
所述蒸鍍源40固定於所述真空鍍膜室10底部12。所述轉動軸20安裝於所述真空鍍膜室10頂部11，所述基板承載架30與所述轉動軸20固定連接。本實施方式中採用螺絲將所述基板承載架30連接於所述轉動軸20上。所述基板承載架30上裝有複數塊基板60，所述基板60載有鏡片70。所述基板承載架30具有第一表面31及環形凸緣33。所述第一表面31與所述蒸鍍源40相對。所述環形凸緣33由所述基板承載架30外緣延伸形成。所述環形凸緣33上安裝有滑動件50。所述滑動件50可以係滾輪、滾珠或滾動軸承，本實施方式中，採用八個滾輪對稱安裝於所述環形凸緣33上。所述滑動件50可以在所述滑槽14內滑動。本實施方式中，所述環形凸緣33及所述滑動件50均伸入所述滑槽14內。所述滑動件50不但避免了所述環形凸緣33與所述滑槽14之間之直接摩擦，而且使得基板承載架30轉動時更加平穩。可以理解，所述環形凸緣33上也可以不安裝滑動件50，而是與所述滑槽14之間採用不直接接觸方式，留有一間隙。
請參閱圖3，本發明第二實施方式提供之光學鍍膜裝置200與第一實施方式提供之光學鍍膜裝置100基本相同，其不同之處在於：一個環形滑軌160固定於真空鍍膜室110內壁113上，所述環形滑軌160環繞所述真空鍍膜室110內壁113。所述環形滑軌160可以與所述內壁113一體成
型，也可以採用與所述內壁113分離之結構，然後利用機械或化學方式安裝到所述內壁113上。本實施方式中，所述環形滑軌160與所述內壁113採用一體成型製成。滑槽114形成於環形滑軌160上。本實施方式中，在所述環形滑軌160上加工出滑槽114。環形凸緣133及滑動件150均伸入所述滑槽114內。
本發明所提供之光學鍍膜裝置，由於基板承載架外邊緣延伸出一環形凸緣，並伸入真空鍍膜室內壁上凹槽內，隔離了基板承載架正反面之空間，所以有效防止鍍膜過程中，鍍材污染基板承載架背面鏡片表面之情況發生，從而改善鏡片鍍膜品質。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
光學鍍膜裝置‧‧‧1、100、200
真空鍍膜室‧‧‧2、10、110
頂部‧‧‧11
底部‧‧‧12
內壁‧‧‧13、113
滑槽‧‧‧14、114
形滑軌‧‧‧160
轉動軸‧‧‧3、20
基板承載架‧‧‧4、30
第一表面‧‧‧31
環形凸緣‧‧‧33、133
背面‧‧‧4a
蒸鍍源‧‧‧5、40
滑動件‧‧‧50、150
基板‧‧‧6、60
鏡片‧‧‧7、70
圖1為先前技術提供之光學鍍膜裝置示意圖；圖2為本發明第一實施方式提供之光學鍍膜裝置示意圖；圖3為本發明第二實施方式提供之光學鍍膜裝置示意圖。
光學鍍膜裝置‧‧‧100
真空鍍膜室‧‧‧10
頂部‧‧‧11
底部‧‧‧12
內壁‧‧‧13
滑槽‧‧‧14
轉動軸‧‧‧20
基板承載架‧‧‧30
第一表面‧‧‧31
環形凸緣‧‧‧33
蒸鍍源‧‧‧40
滑動件‧‧‧50
基板‧‧‧60
鏡片‧‧‧70
Claims (8)
- 一種光學鍍膜裝置，其包括真空鍍膜室、轉動軸、基板承載架及蒸鍍源，所述基板承載架與所述轉動軸連接並設置於所述真空鍍膜室頂部，所述蒸鍍源設置於所述真空鍍膜室底部，其中，一個滑槽環繞所述真空鍍膜室內壁設置，基板承載架外邊緣延伸一環形凸緣，該環形凸緣伸入所述滑槽內。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述滑槽形成於所述真空鍍膜室內壁內。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述光學鍍膜裝置包括環形滑軌，所述環形滑軌環繞所述真空鍍膜室內壁設置，所述滑槽形成於所述環形滑軌上。
- 如申請專利範圍第3項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述環形滑軌與所述真空鍍膜室內壁為一體結構。
- 如申請專利範圍第3項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述環形滑軌利用機械或化學的方式固定於所述真空鍍膜室內壁上。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述基板承載架的環形凸緣設置有滑動件，所述滑動件與所述滑槽滑動接觸。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述滑動件係滾輪、滾珠或滾動軸承的一種。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學鍍膜裝置，其中，所述環形凸緣與所述滑槽之間留有間隙。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW97125427A TWI396761B (zh) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | 光學鍍膜裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW97125427A TWI396761B (zh) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | 光學鍍膜裝置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201002837A TW201002837A (en) | 2010-01-16 |
| TWI396761B true TWI396761B (zh) | 2013-05-21 |
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ID=44825305
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| TW97125427A TWI396761B (zh) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | 光學鍍膜裝置 |
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|---|---|
| TW (1) | TWI396761B (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1459517A (zh) * | 2002-05-17 | 2003-12-03 | 精碟科技股份有限公司 | 镀膜装置及镀膜方法 |
| TW200637926A (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | An optics deposition apparatus |
-
2008
- 2008-07-04 TW TW97125427A patent/TWI396761B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN1459517A (zh) * | 2002-05-17 | 2003-12-03 | 精碟科技股份有限公司 | 镀膜装置及镀膜方法 |
| TW200637926A (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | An optics deposition apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201002837A (en) | 2010-01-16 |
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