TWI394945B - 圖案瑕疵檢查方法、圖案瑕疵檢查用測試圖案基板及圖案瑕疵檢查裝置、以及光罩之製造方法、顯示裝置用基板之製造方法 - Google Patents
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Description
本發明係關於用於檢查產生於周期性排列有單位圖案之重複圖案上的瑕疵之圖案瑕疵檢查方法、圖案瑕疵檢查用測試圖案基板及圖案瑕疵檢查裝置，與實施圖案瑕疵檢查方法，以製造光罩之光罩的製造方法及顯示裝置用基板之製造方法。
有一種在裝置用基板或是用於製造裝置用基板之光罩的表面，形成以周期性排列有單位圖案之重複圖案者。此單位圖案原本須規則性排列，但是，有時規則性排列之圖案上含有誤差，此誤差具有不預期而發生之不同規則性。此誤差亦稱為不均瑕疵，係在製造步驟中，由於某種原因而發生。
如在顯示裝置用基板中產生前述瑕疵時，會有發生顯示不均等之問題。此外，製造顯示裝置時使用之光罩中產生前述瑕疵時，其瑕疵會被轉印在形成於顯示用裝置基板之圖案上，問題造成之影響變大。因而，前述之裝置用基板及光罩等，需要作為被檢查體，以檢查有無產生於重複圖案上之瑕疵。
就前述之瑕疵，通常由於微細之瑕疵被規則性排列，在各個圖案之形狀檢查中檢測困難，而作為整個區域來觀察時，可能成為與其他部分不同之狀態。此外，即使可微觀地檢查各個單位圖案之形狀，從成本上及時間上之觀點
而言仍困難。反而，宏觀地觀察包含數個單位圖案之寬廣區域時，往往檢測較容易。因而，先前係藉由以目視實施斜光檢查，來檢查有無瑕疵。但是，以目視實施斜光檢查，會有依作業者而發生檢查結果不一等的問題，因此，以目視實施斜光檢查宜採自動化。
在日本特開平9-329555號公報(以下，稱「專利文獻1」)中揭示有一種從半導體晶圓製造之半導體裝置用基板的宏觀檢查裝置，其為將目視之斜光檢查予以自動化的先前技術。此裝置係將晶圓全面縮聚成單一視野，來檢查由於焦點偏差、晶圓之下面存在塵埃(粒子)導致晶圓上下位置變動而造成散焦，及因晶圓之顯像/蝕刻/剝離步驟而導致半導體晶圓表面之周期性構造中的表面瑕疵者。
揭示於專利文獻1之裝置具有：光源，其係在形成於半導體晶圓表面之重複圖案上照射希望波長之光；相機，其係接收來自基板表面之繞射光；及檢測手段，其係用於藉由比較以此相機拍攝之圖像資料與無瑕疵之基準資料，以檢測瑕疵。而後，觀察來自重複圖案之繞射光，藉由檢測其凌亂，以檢測發生於該重複圖案上之瑕疵。
上述專利文獻1之裝置，於重複圖案之周期在某種程度以下，如50μm以下等之情況可適用。如可檢測周期為2μm程度以下之半導體裝置的重複圖案上產生之上述瑕疵，或是如周期為15μm程度以下之半導體裝置製造用光
罩的重複圖案上產生之上述瑕疵。
但是，專利文獻1之裝置，如液晶顯示面板等顯示裝置用基板及製造顯示裝置用基板用之光罩，於重複圖案中之單位圖案的排列周期大，如為100~1000μm程度時，即使觀察來自重複圖案之繞射光，仍不易檢測瑕疵。
本發明之目的為提供一種可以短時間檢查有無產生於重複圖案之微細瑕疵之圖案瑕疵檢查方法、圖案瑕疵檢查用測試圖案基板及圖案瑕疵檢查裝置，以及光罩之製造方法及顯示裝置用基板之製造方法。
解決前述課題之第1發明的圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其具備以下步驟：藉由將以不同於前述重複圖案之周期而周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案與前述重複圖案重疊，而形成重疊圖案之步驟；以指定之入射角對前述重疊圖案照射光之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
另外，解決前述課題之第1發明，宜為形成前述重疊圖案之步驟，係藉由使前述測試圖案之形成面與前述重複圖案之形成面相對，以保持形成於透明支撐體之一主面的前述測試圖案與形成於其他透明支撐體之一主面的前述重複圖案，而形成重疊圖案，此時，宜使前述測試圖案之形成面與前述重複圖案之形成面隔開指定之間隔，而實質性
平行地相對，再者，前述指定之間隔宜為0.1μm以上，30μm以下。
解決前述課題之第2發明的圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其具備以下步驟：以指定之入射角，對周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案照射光之步驟；藉由使通過前述測試圖案之透過光成像於前述重複圖案上，而形成重疊圖案之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
解決前述課題之第3發明的圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其具備以下步驟：以指定之入射角，對前述重複圖案照射光之步驟；藉由使通過前述重複圖案之透過光成像於以周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案上，而形成重疊圖案之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵。
另外，解決前述課題之第1至第3發明，宜為前述單位圖案之排列周期係比前述測試用單位圖案之排列周期大。
特別是，宜為前述單位圖案之排列周期係前述測試用單位圖案之排列周期的整數倍。
更宜為前述單位圖案之排列周期係80μm以上，2000
μm以下，前述測試用單位圖案之排列周期係0.1μm以上，50μm以下之情況。
此外，解決前述課題之第1至第3發明，在形成前述重疊圖案之步驟，可以使前述單位圖案之排列方向與前述測試用單位圖案之排列方向彼此平行的方式，而形成前述重疊圖案。此時，因為係在單位圖案與測試用單位圖案之排列方向一致之狀態下形成重疊圖案，所以在一定檢查視野內，容易觀察繞射光之凌亂而較佳。
此外，解決前述課題之第1至第3發明，在形成前述重疊圖案之步驟，亦可以使前述單位圖案之排列方向與前述測試用單位圖案之排列方向彼此不平行且彼此不正交的方式，而形成前述重疊圖案。如此，可減輕為了使單位圖案與測試用單位圖案之排列方向平行而相對位置對準的困難而較佳。
另外，此時宜使前述單位圖案之排列方向與前述測試圖案之排列方向，以0.01度以上，2度以下之角度彼此相交的方式，而形成前述重疊圖案，以易於找出瑕疵。
解決前述課題之第4發明的圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其具備以下步驟：藉由使前述單位圖案之排列方向與前述測試用單位圖案之排列方向彼此不平行且彼此不正交的方式，將以周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案與前述重複圖案重疊，而形成重疊圖案之步驟；以指定之入射角，對前述重疊圖
案照射光之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
解決前述課題之第4發明，宜使前述測試圖案之形成面與前述重複圖案之形成面隔開指定之間隔，而實質性平行地相對，再者，前述指定之間隔宜為0.1μm以上，30μm以下。
解決前述課題之第5發明的圖案瑕疵檢查用測試圖案基板具備：透明基板，及在前述透明基板之主表面上以周期性排列有測試用單位圖案所形成之測試圖案，前述測試用單位圖案之排列周期為0.1μm以上，50μm以下，前述測試用單位圖案之線寬的變動及線位置之變動均為30nm以下。
解決前述課題之第6發明的圖案瑕疵檢查裝置，係用於檢查具備圖案之被檢查體之產生於前述圖案上的瑕疵，其具備：保持手段，其係用於將具備測試圖案之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板與前述被檢查體，隔開指定之間隔重疊而予以保持，以形成重疊圖案；照射手段，其係用於以指定之入射角對前述重疊圖案照射光；及攝像手段，其係用於觀察來自前述重疊圖案之繞射光。
解決前述課題之第7發明的圖案瑕疵檢查裝置，係用於檢查具備圖案之被檢查體之產生於前述圖案上的瑕疵，其具備：保持手段，其係用於保持前述被檢查體；投影手段，其係用於以指定之入射角對測試圖案照射光，使通過前述測試圖案之透過光在前述圖案上成像，藉此而形成重
疊圖案；及攝像手段，其係用於藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述圖案上之瑕疵。
解決前述課題之第8發明的圖案瑕疵檢查裝置，係用於檢查具備圖案之被檢查體之產生於前述圖案上的瑕疵，其具備：保持手段，其係用於保持測試圖案；投影手段，其係用於以指定之入射角對前述圖案照射光，使通過前述圖案之透過光在前述測試圖案上成像，藉此而形成重疊圖案；及攝像手段，藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵。
解決前述課題之第9發明的光罩之製造方法，係具有使用第1至第8發明之圖案瑕疵檢查方法、圖案瑕疵檢查用測試圖案基板或圖案瑕疵檢查裝置，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵的步驟。
解決前述課題之第10發明的顯示裝置用基板之製造方法，係使用由第9發明之光罩的製造方法所製造之光罩，形成像素圖案，以製造顯示裝置用基板。
本發明可提供一種可以短時間檢查有無產生於重複圖案之微細瑕疵之圖案瑕疵檢查方法、圖案瑕疵檢查用測試圖案基板及圖案瑕疵檢查裝置，以及光罩之製造方法及顯示裝置用基板之製造方法。
以下，參照圖式說明實施本發明之最佳形態。
參照之圖式中，第1圖係說明本發明之圖案瑕疵檢查
方法中的第1實施形態之圖，(a)顯示用於實施第1實施形態之圖案瑕疵檢查裝置10的概略側面圖，(b)顯示圖案瑕疵檢查用測試圖案基板具備之測試圖案的部分放大圖，(c)顯示被檢查體具備之重複圖案的部分放大圖。
此外，第5圖係重疊重複圖案與測試圖案之重疊圖案、來自重疊圖案之繞射光及瑕疵之檢測結果的說明圖，(a)顯示測試圖案與正常重複圖案之重疊圖案的部分放大圖，(b)顯示測試圖案與包含瑕疵之重複圖案之重疊圖案的部分放大圖，(c)顯示自重疊圖案獲得之繞射光的攝影結果，(d)顯示使用繞射光之攝影結果的瑕疵檢測結果。
而第9圖顯示產生於被檢查體具備之重複圖案上的瑕疵，(a)及(b)顯示座標位置變動系之瑕疵(位置偏差瑕疵)，(c)及(d)顯示尺寸變動系之瑕疵(線寬瑕疵)。
另外，第2圖至第4圖分別顯示用於實施本發明之圖案瑕疵檢查方法中的第2至第4實施形態之圖案瑕疵檢查裝置20、30、40的概略側面圖。
以下，說明(1)第1實施形態之圖案瑕疵檢查方法中，成為檢查對象之被檢查體的構造，及(2)圖案瑕疵檢查方法使用之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板的構造。其次，說明(3)圖案瑕疵檢查裝置之構造，最後，說明(4)使用圖案瑕疵檢查裝置之圖案瑕疵檢查方法。
首先，使用第1圖(c)、第9圖及第10圖說明被檢查體
之構造。
第1實施形態之圖案瑕疵檢查方法，係將如第10圖所示之光罩50作為被檢查體。光罩50如用作製造液晶顯示裝置(特別是平面板顯示器(Flat Panel Display)：FPD)、電漿顯示裝置、EL顯示裝置、LED顯示裝置、DMD顯示裝置等顯示裝置用基板時的曝光用遮罩。此等顯示裝置用之光罩50，如可作為邊L1或L2超過1m之大型基板。
作為被檢查體之光罩50，在作為透明支撐體之透明基板57的主表面上，具備由薄膜(遮光膜)所構成之重複圖案56。
透明基板57之材料如使用合成石英玻璃基板等。此外，構成重複圖案56之薄膜材料，如使用鉻等具有遮光性之材料或半透光性材料。另外，薄膜並不限定於單層，亦可疊層構成，此時，除遮光膜之外，亦可伴隨半透光性之膜，此外，亦可伴隨蝕刻中止層等功能性之膜。另外，上述薄膜上亦可伴隨抗蝕膜。
重複圖案56如第1圖(c)所示，具有以周期性排列成格柵狀之單位圖案53的形狀。單位圖案53之排列周期D1，亦即單位圖案53之排列方向上之排列的周期，如設定成80~2000μm。
繼續，就產生於重複圖案56之瑕疵，配合光罩50之製造方法作說明。
光罩50之製造通常係經過以下之(1)至(5)的步驟來進行。(1)首先，在透明基板57上形成薄膜(遮光膜)，並在
此薄膜上形成抗蝕膜。(2)其次，使用繪圖機，在前述抗蝕膜上照射雷射等之光，如使用光柵繪圖方式等任意之繪圖方式實施繪圖，將指定之圖案予以曝光。(3)其次，進行顯像，選擇性除去繪圖部或非繪圖部，而形成抗蝕圖案。(4)其後，遮罩抗蝕圖案來蝕刻上述薄膜，而在此薄膜上形成重複圖案56。(5)最後，除去殘留抗蝕層，而完成第10圖所示之光罩50的製造。另外，為多層膜之情況下，可設置依據膜之材料的追加步驟。
此處，如上述之(2)的步驟中，可能有因雷射光之掃描精度突然惡化，或光束徑突然變動，或環境因素的變動等，而在重複圖案56上發生瑕疵之情形。此外，因各種原因，會產生具規則性之圖案瑕疵。
此瑕疵之一個例子顯示於第9圖。此第9圖係以符號54顯示瑕疵區域。
第9圖(a)顯示由於在光束繪圖之連接處上發生位置偏差，而單位圖案53之排列周期D1’局部擴大的瑕疵。第9圖(b)顯示同樣由於在光束繪圖之連接處上發生位置偏差，單位圖案53’之位置對其他單位圖案53相對地偏差的瑕疵。將此等顯示於第9圖(a)及第9圖(b)之瑕疵，稱為座標位置變動系之瑕疵。
此外，第9圖(c)及第9圖(d)顯示由於繪圖機之光束強度不均等，單位圖案53’之大小，亦即格柵框53a’之寬度變動的瑕疵。將此等顯示於第9圖(c)及第9圖(d)之瑕疵，稱為尺寸變動系之瑕疵。
繼續，使用第1圖(b)說明第1實施形態使用之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板的構造。
第1實施形態中之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60，係與上述光罩50同樣地，在作為透明支撐體之透明基板67的主表面上，具備由薄膜(遮光膜)所構成之測試圖案66。
透明基板67之材料，係與第1實施形態同樣地，使用合成石英玻璃基板等。此外，構成測試圖案66之薄膜材料，亦與第1實施形態同樣地，使用鉻等具有遮光性之材料等。
測試圖案66如第1圖(b)所示，具有正方形等之以周期性排列有測試用單位圖案63的形狀。另外，測試用單位圖案63之形狀並不限定於正方形，亦可為長方形或線狀。
測試用單位圖案63之排列周期D2，亦即單位圖案53之排列方向上之周期，宜比重複圖案之排列周期D1小。測試用單位圖案63之排列周期D2宜為單位圖案53之排列周期D1的1/3以下，更宜為1/5以下。此因，測試用單位圖案與單位圖案之周期近似時，需要增大觀察後述之重疊圖案之繞射光的凌亂之視野，而產生裝置之限制，及單位圖案不易形成測試用單位圖案的整數倍。特別是，單位圖案53之排列周期D1為80μm以上，2000μm以下時，測試用單位圖案之排列周期D2更宜為0.1μm以上，50μm以下。此測試用單位圖案之周期範圍係容易觀察繞射光凌亂造成之瑕疵的區域。
另外，單位圖案53之排列周期D1宜為測試用單位圖
案63之排列周期D2的整數倍。如後述，重疊重複圖案56與測試圖案66而形成重疊圖案70時，由於正常之各單位圖案53的框內之測試用單位圖案63的排列，係與其他正常之單位圖案53中的排列相同，因此，容易檢測以產生瑕疵之部位的單位圖案產生之繞射光的凌亂。
此外，測試用單位圖案63之線寬(如正方形之一邊的長度)的不均及線位置(正方形之位置)之不均，均宜限制在指定值以下。此處，所謂指定值，宜為30nm以下，更宜為20nm以下。
繼續，說明用於實施第1實施形態之圖案瑕疵檢查裝置10的構造。
如第1圖(a)所示，圖案瑕疵檢查裝置10具有：作為保持手段之載台11、設於載台11斜下方而作為照射手段之光源裝置12及設於載台11上方而作為攝像手段之觀察裝置15。另外，光源裝置12具備照射光學系統13，觀察裝置15具備受光光學系統14。
作為保持手段之載台11，將測試圖案66之形成面與重複圖案56之形成面相對，以保持圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60與光罩50。藉此，形成測試圖案66與重複圖案56之重疊圖案70。另外，第1圖(a)係將光罩50保持於下面側，不過，亦可將圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60保持於下面側。
在重疊圖案70上，需要可照射來自配置於載台11之斜下方的光源裝置12之照射光。因而，載台11構成例如僅支撐光罩50之外周部的框狀形狀。此外，如亦可由對照射光透明之板材而構成。
載台11構成例如可在X方向及Y方向上移動之X-Y載台。而後，藉由使形成於載台11上之重疊圖案70對觀察裝置15相對地移動，可使檢查視野移動。另外，不使載台11自由移動時，亦可使光源裝置12及觀察裝置15對載台11自由移動。
作為照射手段之光源裝置12宜使用具有充分之亮度(如照度為1萬~60萬Lx，並宜為30萬Lx以上)，且平行性高(平行度為2°以內)之光源。可滿足此種條件之光源如為超高壓水銀燈、氙燈、金屬鹵化物燈。
光源裝置12具備包含透鏡之照射光學系統13。照射光學系統13配置於載台11之支撐面與光源裝置12之間，將來自光源裝置12之光線予以平行化，並且對重疊圖案70之被檢查部位(亦即觀察裝置15之檢查視野)，自其斜下方以入射角θ i照射光。
另外，第1圖(a)係將光源裝置12與照射光學系統13，對載台11之支撐面配置於斜下方，此外，亦可對載台11之支撐面配置於斜上方。
作為攝像手段之觀察裝置15，如可使用CCD相機等相
機。CCD相機係攝影二維圖像之面積相機，其視野即是檢查視野。CCD相機之受光面配置成與被載台11支撐之重疊圖案70相對。
觀察裝置15具備受光光學系統14，其具有對物透鏡。受光光學系統14收集來自形成於載台11上之重疊圖案70的繞射光，使其成像於觀察裝置15之受光面。觀察裝置15經由受光光學系統14之檢查視野，設定成一次檢查如為一邊為10~50mm之矩形狀。
藉由觀察裝置15攝影之繞射光的圖像宜可顯示於顯示畫面(圖上未顯示)，此外，宜可作為圖像資料輸出至分析裝置(圖上未顯示)。
觀察裝置15及受光光學系統14對載台11之支撐面配置於上方。另外，將觀察裝置15及受光光學系統14對載台11之支撐面配置於垂直方向時，與對載台11之支撐面配置於斜方向時比較，受光光學系統14之對物透鏡與重疊圖案70之距離均一。此時，在同一個檢查視野中，容易獲得均一之圖像，並可防止散焦，故較佳。
繼續，說明藉由前述之圖案瑕疵檢查裝置10實施之圖案瑕疵檢查方法。圖案瑕疵檢查方法具備以下步驟：(a)藉由重疊測試圖案66與周期不同之重複圖案56，而形成重疊圖案70之步驟；(b)以指定之入射角對重疊圖案70照射光之步驟；(c)藉由觀察來自重疊圖案70之繞射光，檢查有無產生於重複圖案56之瑕疵之步驟。以下，就各步驟依序說
明。
首先，以圖案瑕疵檢查裝置10之載台11保持前述之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60與光罩50。此時，使測試圖案66之形成面與重複圖案56之形成面相對地保持。藉此，形成測試圖案66與重複圖案56之重疊圖案70。
此處，單位圖案53之排列周期D1為測試用單位圖案63之排列周期D2的整數倍，且重複圖案56及測試圖案66上無瑕疵時，在各單位圖案53之框內的測試用單位圖案63之排列係與其他單位圖案53中之排列相同。
第5圖(a)係平行地保持單位圖案53之排列方向與測試用單位圖案63之排列方向時的重疊圖案70之部分放大圖。如此，在格柵狀之單位圖案53的框內，係以排列周期D2重複排列正方形之測試用單位圖案63。此外，各單位圖案53之格柵框53a與鄰接於其格柵框53a之測試用單位圖案63的間隔d，係與其他各單位圖案53相同。
另外，上述中，重複圖案56有瑕疵時，各單位圖案53之框內的測試用單位圖案63之排列，係與其他單位圖案53中之排列不同。亦即，單位圖案53之排列周期D1上產生變動(座標位置變動系之瑕疵)，並在構成單位圖案53之格柵框53a的寬度上產生變動(尺寸變動系之瑕疵)時，產生瑕疵之單位圖案53’圖中的格柵框53a’與鄰接於其格柵框53a’之測試用單位圖案63的間隔d’，係與無瑕疵之前述的間隔d不同。
第5圖(b)顯示格柵框53a’向上方偏差時(座標位置變動系之瑕疵)重疊圖案70之部分放大圖。如此，格柵框53a’與鄰接於其之測試用單位圖案63的間隔d’係比正常情況之間隔d窄。
繼續，使用前述之光源裝置12，自重疊圖案70之斜下方照射光。如此，以遮光性薄膜所形成之重疊圖案70，對於來自光源裝置12之入射光，作用為繞射格柵，而產生繞射光。
亦即，重疊圖案70中之圖案間隔(縫隙寬)為d，入射光之波長為λ，入射角為θ i時，在滿足d(sin θ n±sin θ i)=n λ之關係的繞射角θ n之方向上，觀察出n次繞射光。
如上述，無瑕疵之重疊圖案70，在各單位圖案53中之前述間隔d係均一。因此，按照上述關係式，只要波長λ、入射角θ i、繞射角θ n相同，來自各單位圖案53之繞射光的觀察結果係均一。
另外，產生瑕疵之部分的重疊圖案70，係產生瑕疵之單位圖案53’中的前述間隔d’與無瑕疵之前述間隔d不同。
因此，來自產生瑕疵之單位圖案53’的繞射光之觀察結果，係與來自其他正常之單位圖案53的繞射光之觀察結果不同。亦即，來自正常之單位圖案53的繞射光以規則性產生，而來自有瑕疵之單位圖案的繞射光產生與上述規則性不一致之繞射光(光強度，或是產生某種強度之位置)。
其後，使用觀察裝置15，攝影來自前述之重疊圖案70的繞射光，並自觀察裝置15輸出攝影結果作為圖像資料。
第5圖(c)顯示來自重疊圖案70之繞射光的攝影結果一個例子。黑色格柵狀之線係觀察出正常之各單位圖案53引起的繞射光者。此處，穿過第5圖(c)之中央附近，而觀察出與其他部分強度不同之繞射光(白色線)。觀察白色線之位置，因為單位圖案53’之格柵框53a’與鄰接於此格柵框53a’之測試用單位圖案63的間隔d’，係與其他位置之間隔d不同，所以顯示在其部位產生與正常部位不同之繞射光，而在繞射光之觀察結果上產生差異。亦即，表示在觀察白色線之位置，單位圖案53上產生瑕疵。
另外，觀察次數高之繞射光比觀察0次繞射光(直接光)更容易檢測微細之瑕疵。因而，宜調整繞射角θ n(觀察裝置15之設置方向)、入射光之波長λ及入射角θ i(光源裝置12之設置方向)，使觀察裝置15可接收次數高之n次繞射光(n≠0)。另外，第1圖(a)係顯示觀察裝置15接收-n次繞射光的情況。
此外，宜使用圖像分析裝置(圖上未顯示)，將輸出之圖像資料的亮度資訊予以數值化後，如藉由與臨限值(如正常之數值資料)比較各數值，來自動檢測瑕疵。
另外，除上述方法之外，亦可藉由將亮度資訊藉由圖像分析裝置予以數值化後之圖像資料，與將該圖像資料在單位圖案53之排列方向錯開排列周期D1部分之圖像資料相減，強調發生瑕疵部分之圖像變化，來進行瑕疵之檢測。
第5圖(d)顯示其一個例子。如此，發生瑕疵處藉由上述處理，而形成一對正與負之峰值，則容易檢測瑕疵。
其後，保持相同之入射光的波長λ、光之入射角θ i及繞射角θ n，使重疊圖案70在載台11上於X-Y方向移動，檢查重疊圖案70之整個區域，而結束第1實施形態之圖案瑕疵檢查方法。
藉由上述實施形態，達到其次之效果(1)~(3)。
(1)藉由上述實施形態，因為可利用繞射光實施重複圖案56之瑕疵的宏觀檢查，所以可以短時間實施檢查，而可提高生產性。
如高清晰度TV用之顯示裝置用基板，上述顯示裝置用基板具有1920(垂直)×1080(水平)=2,073,600個單位圖案53。此處，假設使用雷射測長機或顯微鏡微觀檢查全部之單位圖案53時，若每1個單位圖案之測定所需時間約為10秒，則測定全部之單位圖案53需要約240日。特別是FPD製造用之光罩50，由於一片基板上有時2~4面附有單一之光罩50的重複圖案56，因此，此時單位圖案53中之上述瑕疵檢查需要更長時間。
相對於此，本實施形態，如以前述高清晰度TV用基板之42V型(面積約0.5m2
)為例，使用一邊為25mm(其中，預估與鄰接視野之重複為1成)之正方形的檢查視野，藉由繞射光進行上述檢查時，由於一次之檢查時間為2.5秒程度，因此可以40多分鐘的檢查時間來完成檢查，其生產性高。
(2)此外，藉由本實施形態，即使重複圖案56中之單位圖案53的排列周期D1比使用繞射光之瑕疵檢查時適合的周期大，藉由在重複圖案56上重疊測試圖案66而形成重疊圖案70，觀察來自此重疊圖案70之繞射光的凌亂，仍可檢測產生於重複圖案56之微細瑕疵。
如在光罩50中，重複圖案56中之單位圖案53的排列周期D1大，如為100~1000μm程度。此時，即使觀察重複圖案56之繞射光，仍不易檢測產生於重複圖案上之瑕疵。
其原因之一，係因重複圖案56中之單位圖案53的排列周期D1大時，來自此重複圖案56之n次繞射光的n次繞射角，與(n+1)次繞射光之(n+1)次繞射角之差非常窄，表示存在產生於重複圖案56上之瑕疵的繞射光之凌亂被掩蓋。
此外，其他原因為與重複圖案56中之單位圖案的排列周期D1比較，產生於重複圖案56之瑕疵的大小過小。如在光罩50中，單位圖案53之排列周期D1係100~1000μm程度，但是，因瑕疵之大小通常為100nm程度，所以其比率非常小而為0.01~0.1%。因而，在重複圖案之繞射光中，自重複圖案56之繞射光檢測表示存在瑕疵之凌亂係困難。
相對於此，本實施形態即使單位圖案53之排列周期D1大時，藉由形成前述之重疊圖案70，來觀察來自重疊圖案70之繞射光的凌亂，仍可檢測產生於重複圖案56上之微細瑕疵。亦即，可藉由將產生於重複圖案56上之線寬或位置瑕疵替換成重疊圖案70之線寬(間隙)的異常來檢測。
第2及第3實施形態中之圖案瑕疵檢查方法，與前述第1實施形態不同之處為重疊圖案之形成步驟。
第2實施形態中之重疊圖案的形成步驟，如第2圖所示，係在圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60與光罩50之間，經由對照射光透明之樹脂膜80保持，而形成重疊圖案70。
此外，第3實施形態中之重疊圖案形成步驟，如第3圖所示，係在圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60與光罩50之間，經由間隔物81保持，而形成重疊圖案70。
另外，測試圖案66之形成面與重複圖案56之形成面的距離過大時，重疊圖案70不易解像，過小時，可能因圖案接觸而造成損傷。因而，為了獲得來自重疊圖案70之繞射光，測試圖案66之形成面與重複圖案56之形成面的距離宜為0.2μm以上，15μm以下。此範圍可用作上述樹脂膜之厚度及間隔物之高度的基準。
藉由第2及第3實施形態，可防止因測試圖案66與重複圖案56直接接觸而造成圖案形成面之損傷。
第4實施形態中之圖案瑕疵檢查方法，與前述第1實施形態不同之處為圖案瑕疵檢查裝置之構造及重疊圖案之形成步驟。以下，首先說明第4實施形態中之圖案瑕疵檢查裝置40的構造。其後，說明第4實施形態中之圖案瑕疵檢查方法的重疊圖案形成步驟。
如第4圖所示，第4實施形態之圖案瑕疵檢查裝置40具有：作為保持手段之載台21、設於載台21下方作為投影手段之光源裝置22及投影光學系統23、及設於載台21上方作為攝像手段之觀察裝置25。另外，觀察裝置25具備受光光學系統24。
作為保持手段之載台21使重複圖案56之形成面在下面，來保持作為被檢查基板之光罩50。另外，重複圖案56形成於透明基板上時，亦可使重複圖案56之形成面在上面而保持。
載台21如構成框狀之形狀，而僅支撐光罩50之外周部。另外，亦可使來自配置於下方之光源裝置22的投影光照射於重複圖案56上，而為例如由對照射光透明之材料所構成的板材。
就載台21作為X-Y載台而構成方面，係與第1實施形態相同。
構成投影手段之光源裝置22，對被保持構件23a保持之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60照射光。光源裝置22使用具有充分之亮度(如照度為1萬~60萬Lx，並宜為30萬Lx以上)，且平行性高(平行度為2°以內)之超高壓水銀燈、氙燈、金屬鹵化物燈方面，係與第1實施形態相同。
構成投影手段之投影光學系統23，係被設置於光源裝置22與載台21之支撐面之間，並自光源裝置22起依序具備：用於保持圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60之保持構件23a；用於自通過測試圖案66之透過光遮住不需要部分之
光的孔徑23b；及用於接收通過孔徑23b之透過光，而使測試圖案66之圖像成像於重複圖案56上的成像透鏡群23c。
藉由使測試圖案66之圖像成像於重複圖案56上，與第1實施形態同樣地形成重疊圖案70，而自重疊圖案70發生繞射光。
光源裝置22及投影光學系統23對載台21之支撐面配置於下方。另外，光源裝置22及投影光學系統23對載台21之支撐面配置於垂直方向時，投影光學系統23與重複圖案56之距離均等。此時之優點為，容易使投影於重複圖案56上之測試圖案66的圖像均一化，並可防止散焦。
作為攝像手段之觀察裝置25及受光光學系統24，係與第1實施形態同樣地構成。不過，如第1實施形態中所述，觀察裝置25宜接收繞射光中絕對值比0次繞射光大之次數的繞射光(n次繞射光)。因而，光源裝置22及投影光學系統23對載台21之支撐面配置於垂直方向時，觀察裝置25及受光光學系統24宜對載台21之支撐面配置於斜上方。
繼續，說明使用前述之圖案瑕疵檢查裝置40的圖案瑕疵檢查方法。第4實施形態之圖案瑕疵檢查方法具備以下步驟：(a)在周期性排列測試用單位圖案63所形成之測試圖案66上，以指定之入射角照射光之步驟；(b)藉由使通過測試圖案66之透過光成像於重複圖案56上，而形成重疊圖案70之步驟；(c)藉由觀察來自重疊圖案70之繞射光，以檢查有無產生於重複圖案56上之瑕疵之步驟。以下，就各
步驟依序作說明。
首先，在保持構件23a上保持圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60。其後，使用光源裝置22，對圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60照射光。
其後，使用成像透鏡群23c，接收通過孔徑23b之透過光，而使測試圖案66之圖像66’成像於重複圖案56上。
藉由以上步驟，形成重疊重複圖案56與測試圖案66之圖像66’的重疊圖案70。另外，與第1實施形態同樣地，自重疊圖案70發生繞射光。
其後，與第1實施形態同樣地，使用觀察裝置25攝影來自重疊圖案70之繞射光，輸出其結果作為圖像資料，檢查有無產生於重複圖案56上之瑕疵。
藉由第4實施形態，測試圖案66之形成面與重複圖案56之形成面不直接接觸而可相對，可防止因測試圖案66與重複圖案56接觸而造成圖案形成面之損傷。
第5實施形態中之圖案瑕疵檢查方法與前述第4實施形態不同之處為，在載台21上保持圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60，並在投影光學系統23之保持構件23a上保持光罩50。亦即光罩50及圖案瑕疵檢查用測試圖案基板60之保持位置與第4實施形態中之圖案瑕疵檢查方法相反。
藉由第5實施形態，測試圖案66之形成面與重複圖案56之形成面不直接接觸而可相對，可防止因測試圖案66與重複圖案56接觸而造成圖案形成面之損傷。
藉由第5實施形態，由於單位圖案53之排列周期D1係比測試用單位圖案63之排列周期D2大，因此可較容易地使重複圖案56之圖像成像於測試圖案66上。亦即，可降低對投影光學系統23要求之光學性能，藉此，可降低圖案瑕疵檢查裝置之成本。
第6實施形態中之圖案瑕疵檢查方法與前述第1至第4實施形態不同之處為，單位圖案53之排列方向與測試用單位圖案63之排列方向彼此不平行，且彼此不正交地形成重疊圖案70。亦即，在該情況下，單位圖案53之格柵框53a與測試用單位圖案63之排列方向係傾斜地交叉。
第7圖顯示重疊圖案70之部分放大圖。此時，格柵框53a與鄰接於此格柵框53a之測試用單位圖案63的間隔d，係並非一定，而依重疊圖案70上之位置而變化。如第7圖中之區域A1，因為格柵框53a向右下方傾斜，所以，隨著自格柵框53a與測試用單位圖案63之交叉點向右行進，間隔d之大小擴大。
在藉由第6實施形態所形成之重疊圖案70上照射光時，如前述，於入射光之波長為λ，入射角為θ i時，在滿足d(sin θ n±sin θ i)=n λ之關係的繞射角θ n之方向上，觀察出n次繞射光。
亦即，如藉由第6實施形態所形成之重疊圖案70，間隔d之大小依位置而變化時，依據上述之關係式，只要波長λ、入射角θ i、繞射角θ n保持一定，觀察之繞射光係依重疊圖案70上之檢查位置而不同。
此處，構成重複圖案56之單位圖案53係正常時，重疊圖案中之間隔d的大小變化係以一定周期重複。此時，產生於重複圖案56之各部分的繞射光亦觀察出以一定周期而重複。
但是，在構成重複圖案56之單位圖案53上產生瑕疵時，瑕疵部之區域A2中之上述間隔d的變化，係與上述之正常部不同。亦即，與正常部不同之圖案產生繞射光。如第7圖中以實線表示之格柵框53a’原本係應配置於以虛線表示之位置者，結果偏差至以實線表示之位置(座標位置變動系之瑕疵)。此時，以虛線表示之區域A2的原本位置向右側移動至以實線表示之區域A2’。因此，此瑕疵部觀察出與正常之重複圖案56不同的繞射光(不同之強度，或是成為某個強度之部分不同的位置)。
如上述，藉由觀察產生從一定之規則性脫離之繞射光的區域A2’之位置，可檢測與區域A2之位置的偏差，並可檢查有無產生於重複圖案56上之瑕疵。
第8圖顯示來自第6實施形態之重疊圖案70的繞射光之拍攝結果一個例子。第8圖中，左半部之黑色格柵狀線條，係因構成正常之各單位圖案53的格柵框53a造成之繞射光圖案。在第8圖之右半部周期性觀察出與其他部分強
度不同之繞射光(白色線條)。亦即，白色線條之觀察位置，係表示繞射光之強度依上述間隔d之變化而變化的區域A1。而在第8圖右半部之中央附近，上述白色線條之觀察位置移動至比其他白色線條更右側。亦即，表示在移動之位置上產生瑕疵。
單位圖案53之格柵框53a與測試用單位圖案63之排列方向交叉的角度δ，於角度δ過大時，即使在狹窄之視野內仍可確實檢測出繞射光之凌亂(上述之移動)，另外，上述之移動量小，則檢測困難。相反的，角度過小時，即使上述之移動量大，但在狹窄之視野內確實檢測仍困難。
因此，單位圖案53之格柵框53a與測試用單位圖案63之排列方向交叉的角度δ，係宜為0.01度至2度之範圍。
此外，重複圖案56與測試圖案66可為相同之圖案，亦可為不同之圖案。此外，為不同之圖案時，單位圖案53之排列周期D1與測試用單位圖案63之排列周期D2亦是可相同亦可不同。此時，即使排列周期D1比排列周期D2小亦無妨。不過，與上述之情況相同，排列周期D1宜為排列周期D2之整數倍。
以上，第6實施形態中，使單位圖案53之排列方向與測試用單位圖案63之排列方向傾斜地交叉。藉此，即使測試用單位圖案63之排列周期D2比單位圖案53之排列周期D1大時，仍可在重疊圖案70上周期地製作出間隔d之大小在一定範圍內變化之區域A2。因而，可檢查有無產生於重複圖案56之瑕疵。
特別是將第6實施形態適用於前述第5實施形態時，因為可增大測試用單位圖案63之排列周期D2，所以可較容易地將測試圖案66之圖像成像。亦即，因為可降低對投影光學系統23要求之光學性能，所以可降低圖案瑕疵檢查裝置之成本。
此外，形成重疊圖案70時，因為無須將單位圖案53之排列方向與測試用單位圖案63之排列方向保持完全地平行，所以可提高檢查作業之效率。
另外，第6圖係將單位圖案53之排列方向與測試用單位圖案63之排列方向保持平行而形成之重疊圖案70的部分放大圖。
此時，因為單位圖案53之排列周期D1比測試用單位圖案63之排列周期D2大，以致測試用單位圖案63與單位圖案53重疊。因而不存在可觀察繞射光之凌亂的區域，此外，即使重複圖案56上產生瑕疵，繞射光仍不凌亂，瑕疵檢測困難。因此，以單位圖案53之排列方向與測試用單位圖案63之排列方向彼此不平行且彼此不正交地形成重疊圖案70為有利。
繼續，說明具有使用本發明第1至第6實施形態所示之圖案瑕疵檢查方法，檢查有無產生於重複圖案56之瑕疵的步驟之光罩50的製造方法。
此光罩50之製造步驟，係依序實施：遮罩素板製造步驟、抗蝕圖案形成步驟、遮罩圖案形成步驟及瑕疵檢查步
驟者。
遮罩素板製造步驟係在透明基板57之表面形成遮光膜等之薄膜，並在此薄膜上塗布抗蝕層，而形成抗蝕膜。藉此，製造疊層構造之遮罩素板。
抗蝕圖案形成步驟係藉由繪圖機在遮罩素板之抗蝕膜上，如照射雷射光束，使用光柵繪圖方式等任意之方式繪圖，在該抗蝕膜上將指定之圖案曝光並予以顯像而形成抗蝕圖案。此抗蝕圖案上設有用於形成重複圖案56之圖案。
遮罩圖案形成步驟係將抗蝕圖案作為遮罩，來蝕刻上述薄膜，而在此薄膜上形成重複圖案56。此時，重複圖案56中之單位圖案53的周期，按照欲使用該光罩製造之裝置的用途而適當地設定，如在液晶顯示面板等之顯示裝置用基板上設定成80~2000μm。此外，亦可為在1片基板上，於2~4面形成單一之光罩50的重複圖案56者。在薄膜上形成圖案後，藉由蝕刻除去抗蝕層。
瑕疵檢查步驟係將本發明之第1至第4實施形態所示之圖案瑕疵檢查方法，作為光罩50之製造步驟的一環來實施，而完成光罩50之製造。此處，本發明之瑕疵檢查步驟亦可使用抗蝕圖案來進行，亦可除去抗蝕層後，使用薄膜圖案來進行。於使用抗蝕圖案進行時，因抑止薄膜圖案之損傷，故較佳。
其後，使用此光罩50進行曝光，而在顯示裝置用基板上的抗蝕膜上轉印光罩50之遮罩圖案。其後，依據此轉印圖案，將像素圖案形成於顯示裝置用基板之表面，而完成
顯示裝置用基板之製造。另外，上述所謂像素圖案，如係液晶顯示面板之薄膜電晶體、相對基板、濾色器等之重複圖案。
藉由上述實施形態，可達到其次之效果(1)~(3)。
(1)藉由上述實施形態，因為可利用繞射光實施重複圖案56之瑕疵的宏觀檢查，所以可以短時間實施檢查，而可提高光罩50之生產性。
(2)此外，藉由實施形態，在光罩50中，即使重複圖案56中之單位圖案53的排列周期D1比容易進行繞射光之瑕疵檢查的周期大時，藉由在重複圖案56上重疊測試圖案66而形成重疊圖案70，觀察來自重疊圖案70之繞射光的凌亂，仍可檢測產生於重複圖案56之微細瑕疵。
(3)由於使用藉由上述光罩之製造方法所製造的光罩50，形成像素圖案，來製造顯示裝置用基板(如液晶顯示面板)，因此可形成像素圖案中無瑕疵之顯示裝置用基板。
10‧‧‧圖案瑕疵檢查裝置
11‧‧‧載台
12‧‧‧光源裝置
13‧‧‧照射光學系統
14‧‧‧受光光學系統
15‧‧‧觀察裝置
20‧‧‧圖案瑕疵檢查裝置
21‧‧‧載台
22‧‧‧光源裝置
23‧‧‧投影光學系統
23a‧‧‧保持構件
23b‧‧‧孔徑
23c‧‧‧成像透鏡群
24‧‧‧受光光學系統
25‧‧‧觀察裝置
30‧‧‧圖案瑕疵檢查裝置
40‧‧‧圖案瑕疵檢查裝置
50‧‧‧光罩
53‧‧‧單位圖案
53’‧‧‧單位圖案
53a‧‧‧格柵框
53a’‧‧‧格柵框
54‧‧‧符號
56‧‧‧重複圖案
57‧‧‧透明基板
60‧‧‧圖案瑕疵檢查用測試圖案基板
63‧‧‧測試用單位圖案
66‧‧‧測試圖案
66’‧‧‧圖像
67‧‧‧透明基板
70‧‧‧重疊圖案
80‧‧‧樹脂膜
81‧‧‧間隔物
A1‧‧‧區域
A1’‧‧‧區域
A2‧‧‧區域
A2’‧‧‧區域
d‧‧‧間隔
d’‧‧‧間隔
D1‧‧‧排列周期
D1’‧‧‧排列周期
D2‧‧‧排列周期
λ‧‧‧波長
θ i‧‧‧入射角
θ n‧‧‧繞射角
L1‧‧‧邊
L2‧‧‧邊
第1圖係說明本發明之圖案瑕疵檢查方法中的第1實施形態之圖，(a)顯示用於實施第1實施形態之圖案瑕疵檢查裝置的概略側面圖，(b)顯示圖案瑕疵檢查用測試圖案基板具備之測試圖案的部分放大圖，(c)顯示被檢查體具備之重複圖案的部分放大圖。
第2圖顯示用於實施本發明之圖案瑕疵檢查方法中的第2實施形態之圖案瑕疵檢查裝置的概略側面圖。
第3圖顯示用於實施本發明之圖案瑕疵檢查方法中的
第3實施形態之圖案瑕疵檢查裝置的概略側面圖。
第4圖顯示用於實施本發明之圖案瑕疵檢查方法中的第4實施形態之圖案瑕疵檢查裝置的概略側面圖。
第5圖係重疊重複圖案與測試圖案之重疊圖案、來自重疊圖案之繞射光及瑕疵之檢測結果的說明圖，(a)顯示測試圖案與正常重複圖案之重疊圖案的部分放大圖，(b)顯示測試圖案與包含瑕疵之重複圖案之重疊圖案的部分放大圖，(c)顯示自重疊圖案獲得之繞射光的攝影結果，(d)顯示使用繞射光之攝影結果的瑕疵檢測結果。
第6圖顯示重複圖案具有之單位圖案的排列方向，與測試圖案具有之測試用單位圖案的排列方向彼此平行所形成之重疊圖案的部分放大圖。
第7圖顯示重複圖案具有之單位圖案的排列方向，與測試圖案具有之測試用單位圖案的排列方向彼此不平行，且不正交所形成之重疊圖案的部分放大圖。
第8圖顯示自第7圖所示之重疊圖案獲得之繞射光的攝影結果。
第9圖顯示產生於被檢查體具備之重複圖案上的瑕疵，(a)及(b)顯示座標位置變動系之瑕疵，(c)及(d)顯示尺寸變動系之瑕疵。
第10圖係顯示作為被檢查體之光罩的平面圖。
10‧‧‧圖案瑕疵檢查裝置
11‧‧‧載台
12‧‧‧光源裝置
13‧‧‧照射光學系統
14‧‧‧受光光學系統
15‧‧‧觀察裝置
50‧‧‧光罩
56‧‧‧重複圖案
57‧‧‧透明基板
60‧‧‧圖案瑕疵檢查用測試圖案基板
66‧‧‧測試圖案
67‧‧‧透明基板
70‧‧‧重疊圖案
D1‧‧‧排列周期
D2‧‧‧排列周期
Claims (22)
- 一種圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其特徵為具備以下步驟：藉由將以不同於前述重複圖案之周期而周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案與前述重複圖案重疊，而形成重疊圖案之步驟；以指定之入射角對前述重疊圖案照射光之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
- 如申請專利範圍第1項之圖案瑕疵檢查方法，其中形成前述重疊圖案之步驟，係藉由使前述測試圖案之形成面與前述重複圖案之形成面相對，以保持形成於透明支撐體之一主面的前述測試圖案，與形成於其他透明支撐體之一主面的前述重複圖案，而形成重疊圖案。
- 如申請專利範圍第2項之圖案瑕疵檢查方法，其中使前述測試圖案之形成面與前述重複圖案之形成面隔開指定之間隔，而實質性平行地相對。
- 如申請專利範圍第3項之圖案瑕疵檢查方法，其中前述指定之間隔係0.1μm以上，30μm以下。
- 一種圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其特徵為具備以下步驟：以指定之入射角，對以周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案照射光之步驟；藉由使通過前述測試圖案之透過光成像於前述重複圖案上，而形成重疊圖案之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
- 一種圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其特徵為具備以下步驟：以指定之入射角，對前述重複圖案照射光之步驟；藉由使通過前述重複圖案之透過光成像於以周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案上，而形成重疊圖案之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
- 如申請專利範圍第1至第6項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，其中前述單位圖案之排列周期係比前述測試用單位圖案之排列周期大。
- 如申請專利範圍第1至第6項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，其中前述單位圖案之排列周期係前述測試用單位 圖案之排列周期的整數倍。
- 如申請專利範圍第1至第6項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，其中前述單位圖案之排列周期係80μm以上，2000μm以下，前述測試用單位圖案之排列周期係0.1μm以上，50μm以下。
- 如申請專利範圍第1至第6項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，其中形成前述重疊圖案之步驟，係以使前述單位圖案之排列方向與前述測試用單位圖案之排列方向彼此平行的方式，而形成前述重疊圖案。
- 如申請專利範圍第1至第6項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，其中形成前述重疊圖案之步驟，係以使前述單位圖案之排列方向與前述測試用單位圖案之排列方向彼此不平行且彼此不正交的方式，而形成前述重疊圖案。
- 如申請專利範圍第11項之圖案瑕疵檢查方法，其中形成前述重疊圖案之步驟，係使前述單位圖案之排列方向與前述測試圖案之排列方向，以0.01度以上，2度以下之角度彼此相交的方式，而形成前述重疊圖案。
- 一種圖案瑕疵檢查方法，係用於檢查具備以周期性排列有單位圖案之重複圖案的被檢查體之產生於前述重複圖案上的瑕疵，其特徵為具備以下步驟：藉由使前述單位圖案之排列方向與前述測試用單位圖案之排列方向彼此不平行且彼此不正交的方式，將以周期性排列測試用單位圖案所形成之測試圖案與前述重 複圖案重疊，而形成重疊圖案之步驟；以指定之入射角，對前述重疊圖案照射光之步驟；及藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵之步驟。
- 如申請專利範圍第13項之圖案瑕疵檢查方法，其中使前述測試圖案之形成面與前述重複圖案之形成面隔開指定之間隔，而實質性平行地相對。
- 如申請專利範圍第14項之圖案瑕疵檢查方法，其中前述指定之間隔係0.1μm以上，30μm以下。
- 一種圖案瑕疵檢查裝置，係用於檢查具備圖案之被檢查體之產生於前述圖案上的瑕疵，其特徵為具備：保持手段，其係用於將具備測試圖案之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板與前述被檢查體，隔開指定之間隔重疊而予以保持，以形成重疊圖案；照射手段，其係用於以指定之入射角對前述重疊圖案照射光；及攝像手段，其係用於觀察來自前述重疊圖案之繞射光。
- 一種圖案瑕疵檢查裝置，係用於檢查具備圖案之被檢查體之產生於前述圖案上的瑕疵，其特徵為具備：保持手段，其係用於保持前述被檢查體；投影手段，其係用於以指定之入射角對測試圖案照 射光，使通過前述測試圖案之透過光在前述圖案上成像，藉此而形成重疊圖案；及攝像手段，其係用於藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述圖案上之瑕疵。
- 一種圖案瑕疵檢查裝置，係用於檢查具備圖案之被檢查體之產生於前述圖案上的瑕疵，其特徵為具備：保持手段，其係用於保持具備測試圖案之圖案瑕疵檢查用測試圖案基板；投影手段，其係用於以指定之入射角對前述圖案照射光，使通過前述圖案之透過光在前述測試圖案上成像，藉此而形成重疊圖案；及攝像手段，藉由觀察來自前述重疊圖案之繞射光，以檢查有無產生於前述圖案上之瑕疵。
- 一種光罩之製造方法，其特徵為：具有使用如申請專利範圍第1至第6項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵的步驟。
- 一種顯示裝置用基板之製造方法，其特徵為：使用由申請專利範圍第19項之光罩的製造方法所製造之光罩，形成像素圖案，以製造顯示裝置用基板。
- 一種光罩之製造方法，其特徵為：具有使用如申請專利範圍第13至第15項中任一項之圖案瑕疵檢查方法，以檢查有無產生於前述重複圖案上之瑕疵的步驟。
- 一種顯示裝置用基板之製造方法，其特徵為：使用由如 申請專利範圍第21項之光罩之製造方法所製造之光罩，形成像素圖案，以製造顯示裝置用基板。
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