TWI391760B - Laser repair method and its structure - Google Patents
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本發明係一種雷射成型模具,其係特別關於一種利用光間隔物充當薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板之間的絕緣的雷射修補方法及其結構。
先前技術在製作薄膜電晶體基板時,可能產生斷路缺陷,如點缺陷或線缺陷,多半以雷射修補處理。會產生斷路缺陷的區域係為掃描線(GE)或資料線(SD)的位置,先前技術在雷射修補時的缺陷區域包括:
1.請參照第一圖,第一玻璃基板58上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)60、一絕緣層(GI)62、一介電層64(BP)、一第一導電薄膜66及一第一配向膜68。
2.請參照第二圖,第一玻璃基板58上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)60、一絕緣層(GI)62、一訊號線(SD)82、一介電層(BP)64、一第一導電薄膜66及一第一配向膜68。
3.請參照第三圖,第一玻璃基板58上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)60、一絕緣層(GI)62、一訊號線(SD)82、一介電層(BP)64及一第一配向膜68。
4.請參照第四圖,第一玻璃基板上表面由下至上依序設有一絕緣層(GI)62、一訊號線(SD)82、一介電層(BP)64、一第一導電薄膜66及一第一配向膜68。
上述4種結構在實施雷射修補時,常導致薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板兩者的共同電極(Vcom)短路,並缺陷區域呈現亮點或亮線,造成產品可靠度不佳及良率下降。
為此,本發明提出一種雷射修補方法及其結構,以改善上述缺陷。
本發明之主要目的在提供一種雷射修補方法及其結構,其係以複
數光間隔物使薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板絕緣,降低雷射修補時的失敗率。
本發明之另一目的在提供一種雷射修補方法及其結構,其係在需要雷射修補區域範圍,製作出不導電的光間隔物,利用光間隔物充當薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板之間的絕緣物質,即能避免因掃描線或資料線等金屬層發生融熔、飛濺導致的薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板的Vcom短路的狀況產生。
本發明係提供一種雷射修補方法及其結構,其係提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板,於第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間設有複數個第一光間隔物,且於至少一特定區域佈置複數個第二光間隔物,在第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間夾住一層液晶以成為一液晶顯示面板。當檢測該液晶顯示面板具有至少一缺陷時,根據缺陷的位置,將一雷射光束由第一玻璃基板的正面打入,藉由該等第二光間隔物將雷射光束與該第二玻璃基板隔絕,便於進行雷射修補的動作,在經過上述修補後的液晶顯示面板中,於第一玻璃基板上對應於雷射修補的位置會形成有已修補畫素單元。其中,該等第二光間隔物所在之特定區域係位於畫素單元與畫素單元間的區域。本發明係在需要雷射修補區域範圍,製作出不導電的光間隔物,利用光間隔物充當薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板之間的絕緣物質,即能避免因掃描線或資料線等金屬層發生融熔、飛濺導致的薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板的Vcom短路的狀況產生,降低雷射修補時的失敗率。
底下藉由具體實施例配合所附的圖式詳加說明,當更容易了解本發明之目的、技術內容、特點及其所達成之功效。
本發明係提供一種雷射修補方法及其結構。本發明之雷射修補結構包括一第一玻璃基板及一第二玻璃基板,在第一玻璃基板及第二玻璃基板之間設有一層液晶、複數個第一光間隔物及複數個第二光間隔物,第一光間隔物及第二光間隔物將第一玻璃基板及第二玻璃基板間的距離固定以便液晶設於第一玻璃基板與第二玻璃基板之間。在本實施施例中,第一玻璃基板上係有薄膜電晶體,第二玻璃基板上具有彩色濾光片,另外,第一光間隔物與第二光間隔物的材料相同或不同皆可,第一光間隔物與第二光間隔物皆具有不導電的特性。
其中,第二光間隔物設於至少一特定區域,此特定區域係參照第五圖中的斜線部分。第五圖中的S1~S3代表的是資料線,G1~G3代表的是掃描線。斜線部分50(特定區域)主要是ARRAY第一玻璃基板上具有掃瞄線(GE)、資料線(SD),或者GE及SD都有的區域,斜線部分即為係畫素單元與畫素單元間的區域。
本發明利用該等第二光間隔物,根據缺陷的位置,將一雷射光束由第一玻璃基板的正面打入,藉由該等第二光間隔物將該雷射光束與該第二玻璃基板隔絕,便於進行雷射修補的動作,在經過上述修補後的液晶顯示面板中,於該第一玻璃基板上對應於雷射修補的位置會形成有已修補畫素單元。其中,雷射光束係由一雷射頭(包括一雷射系統及一光學系統)提供一特定波長雷射光束。
關於第一基板結構可能出現的缺陷,係為一種斷路缺陷,如點缺陷或線缺陷,這些缺陷係出現於GE層或SD層。本發明可應用的範圍包括第一玻璃基板上具有GE、SD,或者GE及SD都有的區域。
因此本發明進行雷射修補時,修補區的第一基板結構可大致分為四種:
1.請參照第六圖,第一玻璃基板58上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)60、一絕緣層(GI)62、一介電層64(BP)、一第一導電薄膜66及一第一配向膜68。
當雷射光束70由第一玻璃基板58的正面打入,藉由該等第二光間隔物72將雷射光束70與第二玻璃基板74隔絕,便於進行雷射修補的動作。在經過上述修補後的液晶顯示面板中,於第一玻璃基板58上對應於雷射修補的位置會形成有已修補畫素單元。其中,第二玻璃基板74具有複數個黑色矩陣76,利用一第二導電薄膜78將該等黑色矩陣76包覆於第二玻璃基板74後,於該第一導電薄膜78塗佈一第二配向膜80。雷射光束70係由一雷射頭(包括一雷射系統及一光學系統)提供一特定波長雷射光束。
請參閱第十圖以便說明本發明之雷射修補方法。實施本發明之雷射修補方法時,首先進行步驟S12,提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板,於該第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間設有複數個第一光間隔物,且於至少一特定區域佈置複數個第二光間隔物,在該第一玻璃基板及第二玻璃基板之間夾住一層液晶以成為一液晶顯示面板。該第一玻璃基板上係設有薄膜電晶體,且該第二玻璃基板上具有彩色濾光片。其中,該等第一光間隔物與該等第二光間隔物的材料,可以相同或不同。
進行步驟S14,對步驟S12中的液晶顯示面板進行檢測。如果步驟S12中的液晶顯示面板具有至少一缺陷時,則進行步驟S16,進行雷射修補;如果步驟S12中的液晶顯示面板無缺陷時,則進行步驟S18,結束。其中發生這些缺陷的位置,大多位於GE層或SD層,這些缺陷係為一種斷路缺陷,如點缺陷或線缺陷。
進行步驟S16時(雷射修補),根據缺陷的位置,將一雷射光束由第一玻璃基板的正面打入,藉由該等第二光間隔物將雷射光束與第二玻璃基板隔絕,便於進行雷射修補的動作,在經過上述修補後的液晶顯示面板中,於第一玻璃基板上對應於雷射修補的位置會形成有已修補畫素單元。其中,該等第二光間隔物所在之特定區域係位於畫素單元與畫素單元間的區域。本實施例之雷射光束係由一雷射頭(包括雷射
系統及光學系統)提供一特定波長雷射光束。本發明係在需要雷射修補區域範圍,製作出不導電的光間隔物,利用光間隔物充當薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板之間的絕緣物質,即能避免因掃描線或資料線等金屬層發生融熔、飛濺導致的薄膜電晶體基板與彩色濾光片基板的Vcom短路的狀況產生,降低雷射修補時的失敗率。
唯以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,並非用來限定本發明實施之範圍。故即凡依本發明申請範圍所述之形狀、構造、特徵
及精神所為之均等變化或修飾,均應包括於本發明之申請專利範圍內。
G1 G3‧‧‧掃瞄線
S1 S3‧‧‧資料線
50‧‧‧斜線部分
58‧‧‧第一玻璃基板
60‧‧‧掃描線
62‧‧‧絕緣層
64‧‧‧介電層
66‧‧‧第一導電薄膜
68‧‧‧第一配向膜
70‧‧‧雷射光束
72‧‧‧第二光間隔物
74‧‧‧第二玻璃基板
76‧‧‧黑色矩陣
78‧‧‧第二導電薄膜
80‧‧‧第二配向膜
82‧‧‧訊號線
第一圖係先前技術之一實施例之雷射修補結構示意圖。
第二圖係先前技術之另一實施例之雷射修補結構示意圖。
第三圖係先前技術之又一實施例之雷射修補結構示意圖。
第四圖係先前技術之再一實施例之雷射修補結構示意圖。
第五圖係本發明之雷射修補結構示意圖。
第六圖係本發明之一實施例之雷射修補結構示意圖。
第七圖係本發明之另一實施例之雷射修補結構示意圖。
第八圖係本發明之又一實施例之雷射修補結構示意圖。
第九圖係本發明之再一實施例之雷射修補結構示意圖。
第十圖係本發明之雷射修補方法之實施步驟示意圖。
G1~G3...掃瞄線
S1~S3...資料線
50...斜線部分
Claims (16)
- 一種雷射修補方法,包括下列步驟:(A)提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板,於該第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間設有複數個第一光間隔物,在該第一基板上設有複數條掃描線和複數條資料線,在該掃描線和資料線上的雷射修補區分別設置複數個特定區域,且於至少一該特定區域佈置複數個第二光間隔物,在該第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間夾住一層液晶以成為一液晶顯示面板;以及(B)當檢測該液晶顯示面板具有至少一缺陷時,進行雷射修補,根據該缺陷的位置,將一雷射光束由該第一玻璃基板的正面打入,藉由該等第二光間隔物將該雷射光束與該第二玻璃基板隔絕,便於進行雷射修補的動作;(C)雷射修補後於該第一玻璃基板上對應於雷射修補的位置會形成有已修補畫素單元。
- 如申請專利範圍第1項所述之雷射修補方法,其中該第一玻璃基板及該第二玻璃基板上分別具有薄膜電晶體及彩色濾光片。
- 如申請專利範圍第1項所述之雷射修補方法,其中該缺陷係為一斷路缺陷。
- 如申請專利範圍第3項所述之雷射修補方法,其中該斷路缺陷係點缺陷或線缺陷。
- 如申請專利範圍第1項所述之雷射修補方法,其中該等第一光間隔物與該等第二光間隔物係相同或不同。
- 如申請專利範圍第1項所述之雷射修補方法,其中該特定區域係畫素單元與畫素單元間的區域。
- 一種雷射修補結構,包括:一第一玻璃基板及一第二玻璃基板,在該第一玻璃基板設有複數條掃描線和複數條資料線,在該掃描線和資料線上的雷射修補區分別設置複數個特定區域; 一層液晶,位於該第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間;複數個第一光間隔物及複數個第二光間隔物,位於該第一玻璃基板及該第二玻璃基板之間,且該等第二光間隔物設於至少一特定區域;以及檔檢測到該第一玻璃基板具有至少一缺陷時,將一雷射光束由該第一玻璃基板的正面打入,籍由該等第二光間隔將雷射光束與該第二玻璃基板隔絕以完成雷射修補,雷射修補後於該第一玻璃基板上對應於雷射修補的位置會形成有已修補畫素單元。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中該第一玻璃基板及該第二玻璃基板上分別具有薄膜電晶體及彩色濾光片。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中於該第一玻璃基板上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)、一絕緣層(GI)、一介電層(BP)、一第一導電薄膜及一第一配向膜。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中於該第一玻璃基板上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)、一絕緣層(GI)、一訊號線(SD)、一介電層(BP)、一第一導電薄膜及一第一配向膜。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中於該第一玻璃基板上表面由下至上依序設有一掃描線(GE)、一絕緣層(GI)、一訊號線(SD)、一介電層(BP)及一第一配向膜。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中於該第一玻璃基板上表面由下至上依序設有一絕緣層(GI)、一訊號線(SD)、一介電層(BP)、一第一導電薄膜及一第一配向膜。
- 如申請專利範圍第9項或第10項或第11項所述之雷射修補結構,其中該缺陷的位置係位於該GE層。
- 如申請專利範圍第10項或第11項或第12項所述之雷射修補結構,其中該缺陷的位置係位於該SD層。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中該等第一光間隔物與該等第二光間隔物係相同或不同。
- 如申請專利範圍第7項所述之雷射修補結構,其中該特定區域係畫素單元與畫素單元間的區域。
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