TWI385024B - An on - line detection and analysis device for film filtration - Google Patents
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Description
本案係為一種針對過濾系統中所生成之濾餅(cake)成長之濾餅厚度量測裝置,尤指一種利用光感測裝置配合驅動裝置應用於過濾系統中以達到可即時原位(in situ)量測濾餅成長厚度之裝置。
在過濾程序中,當泥漿(slurry)中之固體成分直徑較濾材(filter medium)之孔洞直徑為大時,則過濾循環數次後,在濾材表面即有一層濾餅(cake)逐漸生成,其厚度會隨著時間而增加。濾餅越厚,泥漿過濾的阻礙越大而使濾速越慢。故需將濾材上的濾餅移除,然而通常難以完全移除所有濾餅,仍有一部份殘留在濾材上。倘若繼續使用前述之濾材再進行過濾程序,所生成之濾餅厚度分佈差異將會持續增大,這將使得泥漿的流動狀態變得不穩定,而黏度、孔隙度等濾餅之物性也變得更不均勻,因此,如果能夠量測此時濾材表面的濾餅厚度分布以了解其物性,即可在量測至一定濾餅厚度時即進行逆洗程序,以增進過濾之效率。而在廢氣過濾、泥漿過濾或是精密陶瓷工業等領域上,如此針對濾餅厚度分佈之量測方法更顯得重要。
目前已知測量濾餅厚度技術大致上可分為兩類:(1)破壞
性測量方法:從濾材上取出濾餅,加工之使易於測量,亦即破壞濾餅原先結構、無法立即測得過濾程序進行當時濾餅厚度的方法;(2)非破壞性測量方法:直接量測在過濾程序中形成的濾餅厚度,不干擾濾餅的形成,不破壞濾餅的結構,亦即表示過濾程序進行當時濾餅的真實厚度。
破壞性測量包括烘乾秤重、冷凍切片和濾餅重建等方式。有文獻揭露在濾餅上選取數點,分析由細胞形成的濾餅內蛋白質成分,以估計每單位濾餅體積的細胞數,事先設定細胞之形狀與孔隙度值以計算濾餅厚度,再以顯微鏡微觀掃描Yeast和細胞來證實這個測量方法,但並未報告其比較結果,此法相當複雜且易產生誤差(Riesmeier,B.,K.H.Kroner,and M.R.Kula,Studies on secondarylayer formation and its characterization duringcross-flow filtration of microbial cells,J.Membr.Sci.,Vol.34,pp.245,1987)。也有冷凍切片法的研究文獻則將濾餅冷凍後用顯微鏡觀察濾餅的厚度及孔隙度(Schmidt,E.and F.Loffeler,Preparation ofdust cakes for microscopic examination,PowderTechnol.,Vol.60,pp.173,1990)。此外,還有文獻提出一種測量濾餅厚度、孔隙度的破壞性量測方法,取出在管狀濾材上形成的濾餅固體成分,以表面過濾方式(恆壓過濾)在同樣操作條件下重製濾餅,測量其厚度以作為管狀濾材內的濾餅厚度(Vyas,H.K.,A.J.Mawson,R.J.Bennett,
A.D.Marshall,A new method forestimating cake height and porosity duringcrossflow filtration of particulate suspensions,J.Membr.Sci.Vol.176,pp.113-119,2000)。
而非破壞性測量方法目前也已發展出許多種,多為利用發射光波、音波等,藉由反射波的強弱定義濾餅的物理性質。西元1973年美國專利第3,748,263號揭露出一種沉降槽內濾器(即過濾室)的濾餅厚度測量方法,係為將過濾板垂直重疊放置,流入的泥漿分為濾餅及濾液,濾餅在過濾板表面形成,濾液則由支流流至收集槽,當濾餅厚度達到預定的最大限制時,它會使流經濾器的水道阻塞,而由濾器支流流出的濾液透過玻璃觀察為澄清的,這表示沉降槽內濾器的濾餅厚度已達已知的、設定的最大厚度。而西元1974年美國專利第3,815,745號則為描述一種測量濾器內濾餅的厚度、洗滌程度和乾燥程度的儀器,係將濾液、洗滌液和乾燥氣體由歧管導入濾器,其中包含一個探測元件置於歧管與濾器入口之間,而另一個探測元件放置在濾器中,藉由兩個探測元件訊號的差異來測量濾餅厚度,而洗滌程度和乾燥程度亦以相似的方法測量,用以控制濾餅的厚度、洗滌程度和乾燥程度。另外,在西元1985年美國專利4,548,080號則顯示出一種用來模擬掘井時流體動態的儀器,提供一探測元件包含有超音波裝置,可發送和接收超音波,該探測元件呈長桿狀,隔一段距離包圍著多孔性圓柱形套子,由污泥構成的濾餅在多孔性圓柱套子內側形成,該探測元
件可向外放射出超音波,當超音波打到濾餅表面會再反射至探測元件,這間隔的時間由接收器紀錄下來,藉此測量出污泥的濾餅厚度,再藉以維持流經濾餅的流速。另外有文獻提出一種方法,利用流蘇狀光束投射器在濾餅上移動其光束,配合CCD數位攝影機紀錄在投射點垂直軸與濾材、濾餅表面的交點對光束投射器的角度差,以此計算濾餅的表面高度分布,再由電腦計算後顯示其立體影像(Dittler,A.,B.Gutmann,R.Lichtenberger,H.Weber and G.Kasper,Opticalinsitu measurment of dust cake thicknessdistributions on rigid filter media forgascleaning,Powder Technology,Vol,99,pp,177-184,1998)。再則,亦有文獻揭露一種量測方法,藉超音波的發散及反射原理量測其中間隔的時間再經由換算後得到精密陶瓷製程中濾餅的厚度,然此法會干擾濾餅的形成或破壞濾餅的結構(Hutchins,D.A.and H.D.Mair,Ultrasonic monitoring of slip-cast ceramics,J.Materials science Letters,Vol.8,pp.1185,1989)。
以破壞性測量法量測濾餅厚度無法得知過濾程序進行當時的濾餅厚度,所以不能即時對濾器做調整,而且在烘乾、冷凍和重建濾餅時會改變濾餅原有之結構。另一方面,使用前述之非破壞性濾餅厚度測量方法又有儀器昂貴、測量後換算複雜、耗時又易產生實驗或計算誤差、發射至濾餅的波長會破壞
濾餅形成過程或形成結構等問題。
鑒於上述之發明背景中,為了符合產業上之要求,本發明提供一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置。
本發明之一目的在於揭露一可即時量測濾餅形成厚度,且不會造成破壞濾餅結構之偵測與分析裝置。
本發明之另一目的在於提供一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,使用原位(in situ)測量之光學技術,其價格便宜,易於安裝且準確度高。
據此,本發明揭露一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,使用於一過濾系統中,過濾系統具有一過濾裝置、一濾材以及一被濾物,過濾裝置執行一過濾程序而於濾材上具有一濾餅之沈積厚度變化,其中偵測與分析裝置包含:一光感測裝置,光感測裝置包含複數個感測元件線型排列成一第一序列,光感測裝置係用以測量濾材於一線型位置上濾餅厚度變化之一訊號資訊;一驅動裝置,用以驅動光感測裝置於濾餅上方進行與濾材平行之相對移動,以便於光感測裝置測量濾材於至少一局部平面上濾餅厚度變化;以及一資訊處理裝置,連接於光感測裝置,用以連續地處理分析光感測裝置所感測到之訊號資訊,進而即時推估出在過濾程序中,濾材於至少一局部平面上濾餅厚度之變化。
本發明揭露一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,
使用於一薄膜生物反應器中,薄膜生物反應器具有複數個相互平行之過濾板以及一被濾物,每一個過濾板係藉由至少一過濾薄膜包覆,薄膜生物反應器執行一過濾程序而於每一過濾薄膜上具有一濾餅之沈積厚度變化,其中偵測與分析裝置包含:一光感測裝置,光感測裝置包含複數個感測元件線型排列成一第一序列,光感測裝置係用以測量過濾薄膜上濾餅厚度變化之一訊號資訊;一驅動裝置,用以驅動光感測裝置於濾餅上方進行與過濾薄膜平行之相對移動,且驅動裝置驅動光感測裝置於複數個相互平行之過濾板之間移動;以及一資訊處理裝置,連接於光感測裝置,用以連續地處理分析光感測裝置所感測到之訊號資訊,進而即時推估出在過濾程序中,至少1個過濾板之過濾薄膜上全部平面濾餅厚度之變化。
本發明在此揭示一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置。為了能徹底地瞭解本發明,將在下列的描述中提出詳盡的步驟及其組成。顯然地,本發明的施行並未限定於該領域之技藝者所熟習的特殊細節。另一方面,眾所周知的組成或步驟並未描述於細節中,以避免造成本發明不必要之限制。本發明的較佳實施例會詳細描述如下,然而除了這些詳細描述之外,本發明還可以廣泛地施行在其他的實施例中,且本發明的範圍不受限定,其以之後的專利範圍為準。
參閱第一圖所示,本發明之第一實施例揭露一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置100,用於過濾系統200,上述過濾系統200可以為掃流過濾系統或沉浸式薄膜生物反應器(submerged membrane bioreactor,SMBR),具有一過濾裝置210、一濾材220以及一被濾物230,且過濾裝置200執行一過濾程序而於濾材220上具有一濾餅240之沈積厚度變化。
上述之偵測與分析裝置100包含:一光感測裝置110、一驅動裝置120以及一資訊處理裝置130。上述光感測裝置110包含複數個感測元件112線型排列成一第一序列,光感測裝置110係用以測量濾材220於一線型位置上濾餅240厚度變化之一訊號資訊,並且光感測裝置110距離濾材220之測量距離小於或等於5mm。上述驅動裝置120用以驅動光感測裝置110於濾餅240上方進行與濾材220平行之相對移動,以便於光感測裝置110測量濾材220於至少一局部平面上濾餅240厚度變化,且驅動裝置120更可包含一步進馬達。上述資訊處理裝置130連接於光感測裝置110,用以連續地處理分析光感測裝置110所感測到之訊號資訊,進而即時推估出在過濾程序中,濾材220於至少一局部平面或濾材220全部平面上濾餅厚度之變化。上述之被濾物230選自下列之一者:烯酸甲酯(PMMA)、碳酸鈣(CaCO3
)以及酵母菌(Saccharomyces cerevisiae)。上述之光感測裝置110可藉由一類比數位轉換器(AD/DA converter)
將訊號資訊轉化成可供資訊處理系統分析之數值。
參閱第二圖所示,於本實施例中之一範例,上述之光感測裝置110更包含至少一第二序列2,第二序列係由複數個感測元件112線型排列而成,且光感測裝置110中各個感測元件112彼此間的距離大於或等於30mm。較佳者,第一序列1與第二序列2間相互平行,且第一序列1中複數個感測元件112與第二序列複數個感測元件112交錯排列,且光感測裝置中各個感測元件112彼此間的距離大於或等於30mm。
參閱第三圖所示,偵測與分析裝置100更包含一透光之壓克力保護裝置140包覆光感測裝置110,藉以防止感測元件112與被濾物230直接接觸而遭腐蝕。上述之感測元件112包含一光發射單元1122及一光接受單元1124,光發射單元1122發射一光波,光波接觸濾餅240反射產生一反射光波,光接受單元1124接受反射光波。於一範例中,上述之光發射單元1122為發光二極體(LED),上述之光接受單元1124為光電晶體。上述光波係為紅外光。
參閱第四圖所示,本發明之第二實施例揭露一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置300,使用於薄膜生物反應器400,上述薄膜生物反應器400具有複數個相互平行之過濾板410以及一被濾物430,每一個過濾板410係藉由至少一過濾薄膜420包覆,薄膜生物反應器400執行一過濾程序而於每一
過濾薄膜420上具有一濾餅440之沈積厚度變化。另外,偵測與分析裝置300包含:一光感測裝置310、一驅動裝置320以及一資訊處理裝置330。參考第五圖所示,上述光感測裝置310包含複數個感測元件312線型排列成一第一序列,光感測裝置310係用以測量過濾薄膜420上濾餅440厚度變化之一訊號資訊,並且光感測裝置310距離過濾薄膜420之測量距離小於或等於5mm。上述驅動裝置320用以驅動光感測裝置310於濾餅440上方進行與過濾薄膜420平行之相對移動,且驅動裝置320驅動光感測裝置310於複數個相互平行之過濾板410之間移動,且驅動裝置320更可包含一步進馬達。
上述資訊處理裝置330連接於光感測裝置310,用以連續地處理分析光感測裝置310所感測到之訊號資訊,進而即時推估出在過濾程序中,至少1個過濾板410一側之過濾薄膜420上全部平面濾餅440厚度之變化。上述被濾物430選自下列之一者:烯酸甲酯(PMMA)、碳酸鈣(CaCO3
)以及酵母菌(Saccharomyces cerevisiae)。上述之光感測裝置310可藉由一類比數位轉換器(AD/DA converter)將訊號資訊轉化成可供資訊處理系統分析之數值。
參考第六圖所示,上述之光感測裝置310更包含至少一第二序列2,第二序列2係由複數個感測元件312線型排列而成,且光感測裝置310中各個感測元件312彼此間的距離大於
或等於30mm。較佳者,第一序列與第二序列間相互平行,且第一序列中複數個感測元件312與第二序列複數個感測元件312交錯排列,且光感測裝置310中各個感測元件312彼此間的距離大於或等於30mm。參考第七圖所示,於一範例中,光感測裝置310所含感測元件312係為雙面排列,用以同時量測相鄰過濾板410上之濾餅440厚度。因此,光感測裝置310於複數個相互平行之過濾板之間移動方式係為連續S形。
參考第八圖所示,上述之偵測與分析裝置300更包含一透光之壓克力保護裝置340包覆光感測裝置310,藉以防止感測元件312與被濾物430直接接觸而遭腐蝕。上述之感測元件312包含一光發射單元3122及一光接受單元3124,光發射單元3122發射一光波,光波接觸濾餅440反射產生一反射光波,光接受單元3124接受反射光波。於另一範例中,上述之光發射單元3122為發光二極體(LED),上述之光接受單元3124為光電晶體。上述光波係為紅外光。
將八顆探針(實施例所稱光感測裝置)依序編號為1到8,並利用游標尺移動來模擬濾餅層生長情形,分別於空氣中以游標尺調整探針高度,並記錄不同高度下電壓變化之結果,測試完畢後將探針取下重新組裝,以此方式對每顆探針重複進行四次測試,參閱第九圖所示,此圖為編號1探針(其餘7個探針
結果與編號1探針結果類似)測試結果圖,由結果顯示誤差多介於5%至10%,當距離介於5 mm以內時,探針反應曲線斜率較大,當距離在5 mm以上時,由於斜率過小已不適合做為結垢厚度量測,因此探針與過濾膜材表面較佳量測距離為5 mm以下。
實驗中使用的光反射元件(實施例所稱感測元件)其原理是藉由發光二極體(LED)發射出的紅外光經由物體反射,再由另一端光電晶體(photransistor)接收反射光,依接收的強度不同,光電晶體兩極所形成的光電流(photocurrent)亦有不同強度,經由測量此電流強度,可以知道發出和吸收的光強度比例,藉此判斷待測物距離之遠近。但在實驗過程中發現,當多個光反射元件彼此緊密排列時,接收反射光的光電晶體容易接收到鄰近元件所發出的反射光造成訊號干擾的情形,因而無法準確測出實際電壓值。為了測試探針反射光相互干擾的情形,實驗中使用8顆探針彼此間以0.5 cm的間距排列,測試探針位置與電壓干擾變化情形,結果如第十圖所示,由圖中電壓變化可以發現左右兩側探針之電壓值較低,而中間部分的電壓值較高,這是由於在中間位置的光反射元件會同時接收到左右兩側反射光的干擾造成電壓值偏高的情形。
為了進一步測試探針彼此間的距離對電壓量測值的影
響,在實驗中移動相鄰兩顆探針並觀察電壓隨距離變化情形,結果如第十一圖所示,在實驗中單顆探針之初始電壓值為1.01 v,當相鄰兩顆探針間距為5 mm時電壓值升高到1.54 v,這結果顯示探針確實會受到鄰近探針反射光之干擾,隨著相鄰兩顆探針間的距離漸漸拉開後電壓值隨之下降,當兩顆探針分開至30 mm時電壓值已恢復為1.01 v,由以上實驗結果得知,若同時使用多顆探針進行測量時應保持探針間距為30 mm以上,減少探針因反射光相互干擾而產生誤差。
單顆探針觀察過濾過程中濾餅層堆積的情形,實驗中每隔10分鐘控制步進馬達移動單顆探針,由上而下掃過膜材表面,利用此方式線上即時偵測沉浸式薄膜生物反應器中濾餅層生成的情形,由第十二圖的電壓反應曲線可以觀察出在距離為0 cm至2 cm處所測得之電壓值較高,這是由於板框上方抽氣口附近吸力較強,因此粒子大量堆積於吸氣口週圍,隨著探針往下移動吸力減弱,因此測得之電壓也漸漸降低,但是當距離接近16 cm處時,由於重力沉降的影響,導致部份粒子沉降堆積於下側邊框,因此造成電壓值再度略微增加。在由圖中不同時間下所測得之的電壓變化,可觀察出濾餅層隨著時間逐漸堆積之情形。
將探針數目擴增到八顆,以八顆探針同時進行膜表面濾餅層厚度量測,在抽氣過濾30分鐘後,控制步進馬達移動探針由上而下掃過膜材表面,以探針排列位置作為X軸、移動距離作為Y軸、電壓值作為Z軸,將測得數據轉換為3D立體分佈圖,其結果如第十三圖所示。由圖中可以觀察出在板框上方吸氣口周圍電壓值較高,這代表著該區域所形成之濾餅層厚度較高,隨著越往下吸力逐漸減弱,因此電壓也隨之減少,在接近17 cm處,由於重力沉降的影響,因此部份粒子堆積於下側邊框,故電壓值再度略微增加。由本實驗結果顯示將多顆探針掃過膜材表面所擷取之數據轉化為立體分佈圖,能夠更廣泛且清晰的觀察濾餅層分佈情形。
顯然地,依照上面實施例中的描述,本創作可能有許多的修正與差異。因此需要在其附加的權利要求項之範圍內加以理解,除了上述詳細的描述外,本創作還可以廣泛地在其他的實施例中施行。上述僅為本創作之較佳實施例而已,並非用以限定本創作之申請專利範圍;凡其它未脫離本創作所揭示之精神下所完成的等效改變或修飾,均應包含在下述申請專利範圍內。
1‧‧‧第一序列
2‧‧‧第二序列
100‧‧‧薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置
110‧‧‧光感測裝置
112‧‧‧感測元件
1122‧‧‧光發射單元
1124‧‧‧光接受單元
120‧‧‧驅動裝置
130‧‧‧資訊處理裝置
140‧‧‧壓克力保護裝置
200‧‧‧過濾系統
210‧‧‧過濾裝置
220‧‧‧濾材
230‧‧‧被濾物
240‧‧‧濾餅
300‧‧‧薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置
310‧‧‧光感測裝置
312‧‧‧感測元件
3122‧‧‧光發射單元
3124‧‧‧光接受單元
320‧‧‧驅動裝置
330‧‧‧資訊處理裝置
340‧‧‧壓克力保護裝置
400‧‧‧薄膜生物反應器
410‧‧‧過濾板
420‧‧‧過濾薄膜
430‧‧‧被濾物
440‧‧‧濾餅
第一圖係根據本發明第一實施例,一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置的示意圖;第二圖係根據本發明第一實施例,一種光感測裝置的示意圖;第三圖係根據本發明第一實施例,一種具保護裝置之光感測裝置的示意圖;第四圖係根據本發明第二實施例,顯示一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,使用於一薄膜生物反應器;第五圖係根據本發明第二實施例,一種光感測裝置的示意圖;第六圖係根據本發明第二實施例,另一種光感測裝置的示意圖;第七圖係根據本發明第二實施例,另一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置的示意圖;第八圖係為根據本發明第二實施例,一種具保護裝置之光感測裝置的示意圖;第九圖係根據本發明範例一之探針誤差校正圖;第十圖係根據本發明範例二,鄰近探針彼此間以0.5 cm
的間距排列之探針訊號干擾測試圖;第十一圖係根據本發明範例二,調整鄰近探針彼此間距之探針訊號干擾測試圖;第十二圖係根據本發明範例三之單顆探針進行膜表面濾餅層分析圖;以及第十三圖係根據本發明範例四之多顆探針進行膜表面濾餅層結構分析。
100‧‧‧薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置
110‧‧‧光感測裝置
112‧‧‧感測元件
120‧‧‧驅動裝置
130‧‧‧資訊處理裝置
140‧‧‧壓克力保護裝置
200‧‧‧過濾系統
210‧‧‧過濾裝置
220‧‧‧濾材
230‧‧‧被濾物
240‧‧‧濾餅
Claims (20)
- 一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,使用於一過濾系統中,該過濾系統具有一過濾裝置、一濾材以及一被濾物,該過濾裝置執行一過濾程序而於該濾材上具有一濾餅之沈積厚度變化,其中該偵測與分析裝置包含:一光感測裝置,該光感測裝置包含複數個感測元件線型排列成一第一序列,該光感測裝置係用以測量該濾材於一線型位置上濾餅厚度變化之一訊號資訊;一驅動裝置,用以驅動該光感測裝置於該濾餅上方進行與該濾材平行之相對移動,以便於該光感測裝置測量該濾材於至少一局部平面上濾餅厚度變化;以及一資訊處理裝置,連接於該光感測裝置,用以連續地處理分析該光感測裝置所感測到之該訊號資訊,進而即時推估出在該過濾程序中,該濾材於至少一局部平面上濾餅厚度之變化。
- 如申請專利範圍第1項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置更包含至少一第二序列,該第二序列係由複數個感測元件線型排列而成該第一序列與該第二序列間相互平行,且該第一序列中複數個感測元件與該第二序列複數個感測元件交錯排列。
- 如申請專利範圍第1項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝 置,其中上述之光感測裝置中各個感測元件彼此間的距離大於或等於30mm。
- 如申請專利範圍第1項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述光感測裝置距離該濾材之測量距離小於或等於5mm。
- 如申請專利範圍第1項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之驅動裝置更可包含一步進馬達。
- 如申請專利範圍第1項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之感測元件包含一光發射單元及一光接受單元,該光發射單元發射一光波,該光波接觸該濾餅反射產生一反射光波,該光接受單元接受該反射光波。
- 如申請專利範圍第1項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光發射單元為發光二極體(LED),該光接受單元為光電晶體。
- 如申請專利範圍第1項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光波係為紅外光。
- 如申請專利範圍第1項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置可藉由一類比數位轉換器(AD/DA converter)將該訊號資訊轉化成可供該資訊處理系統分析之數值。
- 一種薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,使用於一薄膜生物反應器中,該薄膜生物反應器具有複數個相互平行之過濾板以及一被濾物,每一個過濾板係藉由至少一過濾薄膜包覆,該薄膜生物反應器執行一過濾程序而於每一該過濾薄膜上具有一濾餅之沈積厚度變化,其中該偵測與分析裝置包含:一光感測裝置,該光感測裝置包含複數個感測元件線型排列成一第一序列,該光感測裝置係用以測量該過濾薄膜上濾餅厚度變化之一訊號資訊;一驅動裝置,用以驅動該光感測裝置於該濾餅上方進行與該過濾薄膜平行之相對移動,且該驅動裝置驅動該光感測裝置於複數個相互平行之該過濾板之間移動;以及一資訊處理裝置,連接於該光感測裝置,用以連續地處理分析該光感測裝置所感測到之該訊號資訊,進而即時推估出在該過濾程序中,至少1個過濾板之該過濾薄膜上全部平面濾餅厚度之變化。
- 如申請專利範圍第10項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置更包含至少一第二序列,該第二序列係由複數個感測元件線型排列而成,該第一序列與該第二序列間相互平行,且該第一序列中複數個感測元件與該第二序列複數個感測元件交錯排列。
- 如申請專利範圍第10項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置中各個感測元件彼此間的距離大於或等於30mm。
- 如申請專利範圍第10項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置所含感測元件係為雙面排列,用以同時量測相鄰過濾板上之濾餅厚度。
- 如申請專利範圍第10項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置於複數個相互平行之該過濾板之間移動方式係為連續S形。
- 如申請專利範圍第10項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述光感測裝置距離該過濾薄膜之測量距離小於或等於5mm。
- 如申請專利範圍第10項所述薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之驅動裝置更可包含一步進馬達。
- 如申請專利範圍第10項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之感測元件包含一光發射單元及一光接受單元,該光發射單元發射一光波,該光波接觸該濾餅反射產生一反射光波,該光接受單元接受該反射光波。
- 如申請專利範圍第10項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光發射單元為發光二極體(LED),該光接受 單元為光電晶體。
- 如申請專利範圍第10項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光波係為紅外光。
- 如申請專利範圍第10項所述之薄膜過濾程序之線上偵測與分析裝置,其中上述之光感測裝置可藉由一類比數位轉換器(AD/DA converter)將該訊號資訊轉化成可供該資訊處理系統分析之數值。
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