TWI344395B - - Google Patents

Description

1344395 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係與凡立水含浸裝置有關，特別是指一種透過控制 真=度而可以自動注液、自動回流，能有效達成全自動控制、 有高品質效能之一種凡立水含浸裝置。 【先前技術】 習用所知，凡立水之含浸作業，係一般之電子業以保護線 修路和零件用（特別是馬達線圈、變壓器等）的，當然也有運用於 “ j業還有些包括木製品、藤製品以及鋼鐵構造物等之亮 光漆等’可以提供接著、密封、固定、保護還有美觀、防潮' 絕緣等等功能，而提供凡立水含浸作業之裝置，在專利公報上 已有多種，本發明提供另一凡立水含浸裝置，能有效達成全自 動控制、自動注液、自動回流、有高品質效能以及高安全度功 效者。 ® 【發明内容】 本發明一種凡立水含浸裝置，其具有： 儲液谷器，係為一可供凡立水容裝儲放之密閉槽體，其 -有叹於槽體上方之_液量補充孔以及—設於槽體下方之液流 孔，作為供凡立水輸入與輸出槽體之孔口； 一真空容器’係為一可抽真空、密閉之腔體，其同樣於其 下方》又有一液流孔’藉由管路連接而與該儲液容器之液流孔相 通，可適時將儲液容器内之凡立水抽吸進入容器内， 而能供放 置於容器内之待加 一真空幫浦， 來源； 工物進行含浸作業者； 係提供將該真空容㈣取成真空狀態之動力 、據由以上所述，首先利㈣真空幫浦運作而將該真空容器 抽成真空狀態’接著關閉該真空幫浦與該真空容器間之通路， 隨後打開該儲液容器與該真Μ器之液流孔’使凡立水由儲液 谷器進入真空容11内至適當高度後，即得進行含浸作業。 【實施方式】 凊參閱圖一與圖二所示 其主要具有：一儲液容器1、 其中： 本發明一種凡立水含浸裝置10， 真空谷器3以及一真空幫浦5; 該儲液容器1係為-具適當大小之槽體，蓋上其蓋板u 後可成為密閉狀’於槽體上方設有—液量補充孔i2，於該液量 補充孔12出σ側並設有—閘閥13，用以控制該液量補充孔 之開啟與關’並且令含浸用之液體—凡立水可以由此液量補 充孔12注入於槽體内容裝儲放；另，於槽體之下方一側設有一 液流孔14，作為供凡立水輸進入於該真空容器3内之孔口，而 一排液孔15係設於槽體下方另一侧，其係藉由一閘閥16控制 其啟、閉，而作為將使用過後之凡立水排出儲液容器丨之孔口； 又，於該儲液容器1之外側設有一與槽體内部連通之液面檢視 管17’利用虹吸管原理由該液面檢視管17視得之液面高度，即 等同於健液容器 視之功效； 内所儲存之凡立水液面之高度，提供方便檢 該真空容器3係為-密閉之腔體，蓋上其蓋板31後當該 j空幫浦5運作，即可將真空容器3内部抽取成真空狀態，而 Λ壓孔32以及-除氣孔33係分設於該真空容器3上方二側， /刀別提供Α除容H内過多壓力以及排除容器内因反應所產生之 氣體的用it ;另’該真空容器3同樣於其下方設有—液流孔. 藉由管路連接而與該儲液容器i之液流孔14相通，於管路中並 加設有-閘閥35與-真空閥36，用以控管該真空容器3以及該 儲液容器1二者間是否連通；而，—真空計37接設於真空容器 3外，用以設定並控制真空容器3内真空度之作用； 該真空幫浦5藉由管路連接該真空容器3，管路中另加設 有二真空閥51、52 ; 本發明一種凡立水含浸裝置10的含浸方法，其操作步驟如 下： 步驟一.先在該真空容器3内部完全淨空的狀態之下，將 欲進行含浸加工的待加X物2Q置人於容器内，蓋上其蓋板31 後使真空容器3變成完全密封的腔體； 步驟二：接著，關閉該真空閥36與該閘閥35阻斷該真空 容器3與該儲液容器丨間之通路後，再將該儲液容器丨之閘閥 13打開，以開啟該液量補充孔12,則含浸用之液體―凡立水可 以由此注入儲液容器1内至適當液位後，即關閉該閘閥13與該 液量補充孔12者； 步驟二♦將二真空閥51與52打開，並啟動該真空幫浦5 運作’而進行將該真空容器3抽成真空狀態之動作者； 步驟四·透過該真空計37控制該真空容器3内真空度，待 到達一定設定值後，再關閉該二真空閥51與52，並令該真空幫 浦5停止運轉； 步驟五：接著，依序打開該閘閥35與該真空閥36，亦即 打開該真3與該誠容m通路，使於韻液容器i 内含浸用之液體--凡立水可以由該液流孔14通過該閘閥35與 該真空閥36後由該液流孔34進人該真空容器3内，進行對該 真空容器3之注液作業； 步驟六：在-邊進行注液作業之同時，置放於該真空容器 3内之待加工物2〇亦同時進行了含浸動作，此時，亦因 2空計37對該真空容器3内真空度之控管作用，一旦注液過 多、真空度不再維持後，注人於該真空容器3⑽體會因位差 而自動回流回該儲液容器卜而因含浸反應所產生之氣體以及過 多壓力，則可由該除氣孔33以及㈣孔3排出容器外； 步驟七：最後，待含浸動作完成，打開該真空容器3之蓋 板3卜將加工物20㈣，即可再接續進行下—次之含浸作業。 據由以上所述本發明種凡立水含浸裝置1〇’提供使含浸加 1344395 工作業可以由真空計全程控制其真空度 使含浸液體-_凡立水

品質效能以及高安全度者。 【圖式簡單說明】 圖一係本發明一 較佳實施例之平面示意圖。 圖二係圖一相關電路零件配置圖。 【主要元件符號說明】 1儲液容器 11蓋板 12液量補充孔 13閘閥 14液流孔 15排液孔 16閘閥 17液面檢視管 20加工物 3真空容器 31蓋板 1344395 32洩壓孔 3 3除氣孔 34液流孔 35閘閥 36真空閥 37真空計 5真空幫浦 51、52真空閥

Claims (1)

1. 、申請專利範圍： 一種凡立水含浸裝置，其具有： -儲液容器’係為一可供凡立水容裝儲放之密閉槽體其 具有設於槽體上方之一液量補充孔以及一設於槽體下方之 液流孔，作為供凡立水輸入與輸出槽體之孔口； -真空容器，係為一可抽真空、密閉之腔體，其同樣於其 下方設有-液流孔，藉由管料接而與射容器之液流 孔相通，可適時將儲液容器内之凡立水抽吸進入容器内， 而能供放置於容器内之待加工物進行含浸作業者； -真空幫浦’係提供將該真^容器抽取成真空狀態之動力 來源； 據由以上所述，首先利用該真空幫浦運作而將該真空容器 抽成真空狀態，接著關閉該真空幫浦與該真空容器間之通 路，隨後打開該儲液容器與該真空容器之液流孔，使凡立 水由儲液谷器進入真空容器内至適當高度後，即得進行含 浸作業。 如申請專利範圍第1項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 該儲液容器之液量補充孔係由一閘閥控制其之啟閉。 如申明專利範圍第1項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 該儲液容器另具有一排液孔，係設於槽體的下方、位於該 液流孔設置處之另一側，提供作為更換凡立水之排出管道。 如申凊專利範圍第1項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 於該儲液容器之外侧設有一與槽體内部連通、而可檢視槽 體内液面高度之液面檢視管。 5·如申請專利範圍第1項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 係於該真空容器之液流孔與該儲液容器之液流孔之間，設 有一閘閥控制二者之連通狀態。 6·如申請專利範圍第1項所述之一種凡立水含浸裝置，於該 真空容器之液流孔與該儲液容器之液流孔之間另設有一真 空閥。 響 如申《月專利範圍第1項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 該真工谷盗於上方設有—茂壓孔。 8·如申請專利範圍第4項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 該真空谷器於上方設有一除氣孔。 &m’j範圍第1項所述之—種凡立水含浸裝置，其中 該真空容器與該真空幫浦之間設有若干之真空閥。 申。月專利範圍帛彳項所述之一種凡立水含浸裝置，其中 _ 〜真工令器另加設有-真空計，以控制當真空容器内失去 ^ 後則办器内之凡立水會自動回流向儲液容器。 種凡立水含浸裝置的含浸方法’其操作步驟如下： , 先在該真空容器内部完全淨空的狀態之下，將欲 丁又加工的待加工物置入於容器内，並使真空容器變 成完全密封的腔體； 關閉該真空閥與該閘閥阻斷該真空容器與該儲液 各器間之诵& 艰硌後，再將該儲液容器之閘閥打開，以開啟該 12 液量補充孔’則含浸用之㈣凡立水可以由此注入儲液 容器内至適當液位後，即關閉該開閥與該液量補充孔者； 步驟三：將二真空閥與打開’並啟動該真空幫浦運作，而 進行將該真空容器抽成真空狀態之動作者； 步驟四.透過該真空計控制該真空容器内真空度待到達 設定值後，再關閉該二真”與，並令該真空幫浦停止運 轉；

   料五：依序㈣朗_該真空閥，亦即打開該真空容 U儲液令器間之通路，使於該儲液容器内含浸用之液 凡立水可以由e亥液流孔進入該真空容器内，進行對該 真空容器之注液作業； 器内之待加工物亦同時進行了含 步驟六：置放於該真空容 浸動作； 步驟七：待含浸動作完成，

   以间这具工令器’將加工物取 出’即可再接續進行下—次之含浸作業。 12.如申請專利範圍第11 分 斤述之一種凡立水含浸裝置的含 空閥後由該液流孔 "方法’其中該步驟五中該儲液容器内含浸用之液體-凡 立水可以由該液流孔通過該閘閥與該真 4進入該真空容器内。 如申請專利範圍第Μ 浸方法，其中該步驟六 項所述之一種凡立水含浸裝置的含 中該真空計能對該真空容器内真空 13 13. 1344395

   度之控管作用，一旦注液過多、真空度不再維持後，注入 於該真工各器内液體會因位差而自動回流回該倚液容器。 14.如申明專利範圍第μ項所述之一種凡立水含浸裝置的含 浸方法’其中該步驟六中該真空容器因含浸反應所產生之 氣體以及過多壓力，則由該除氣孔以及洩壓孔排出容器外。 14