TWI341957B - Method and tool for cleaning photomask - Google Patents

Description

1341957 • » · 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種清洗光罩的方法及治具’且特別有關於 一種可有效保護光罩圖形區之清洗光罩的方法及洽具。 【先前技術】 在半導體裝置和液晶顯不裝置的積體電路(integrated circuits ; ICs)製作過程中，常需藉由一微影製程，將一光罩上的 _ 圖形經由曝光而轉移至一感光材料層上，接著再利用此感光材料 層作為蝕刻或離子摻雜的遮罩，以於基板之各個層別上形成積體 電路各部分的圖案或進行其電性的調整。而隨著消費者對於電子 ； 產品的要求不斷地提高，積體電路設計乃愈漸精密，因此用以製 ·， 作積體電路圖案的光罩之線幅尺寸(critical dimension ; CD)亦愈加 - 細微。然而，當光罩的線幅尺寸愈形細微，一方面意味著光罩的 製作成本愈加昂貴，而另一方面表示其對於污染物例如微塵或顆 粒等缺陷的谷忍度(tolerance)減低，因此在進行光罩的保存及應用 # 時則需要更加地小心。 " “ 有鑑於此，第一圖係顯示一習知具有光罩護臈(pellicle)的 光罩之側面剖視圖。參照第一圖，一般光罩可簡單劃分為一 圖形區12、以及一非圖形區14，其中上述光罩1〇之圖形區12 乃具有用以形成積體電路圖案之圖形，而非圖形區14則通常圍 繞於光罩10的圖形區12之週邊。為了避免在微影製程中，位於 光罩10圖形區12之表面的微塵或顆粒等污染物會一併轉印至積 體電路圖案上，:d成其生產良率的降低，因此目前乃通常利用一 6 1341,957. 底膠16而將一框架18固著於光罩1〇的表面上，且框架i8係产 繞於光罩_形區I2之外圍，而—呈現透明薄片狀的光罩護膜^ 則可藉由一貼合膠而黏附於框架18的上緣，如此一來，則光 護膜20及框架18可有效將光罩1〇的圖形區12與外界進行阻隔， 避免光罩1G的表面形成髒污。此外，當進行郷触時 乃聚焦於光罩10 _職12，而由於光罩· 2G乃藉由框架以 與光罩10之表面相隔-間距，因此位於光罩護膜2〇上的塵埃 ==祕顧為失焦，而無法於基板上形成具有缺陷的積體 儘官使用光罩護膜20可有效增加積體電路產品的良率， 本ΖΓ0所需進行的清潔和檢驗工作，然而光罩護膜2〇 宝片狀’有時容易因使用不慎或機台故障等原由而造 二’又或者_為了進行光罩丨㈣清洗，或因其、 而必需將舊的光罩護膜20及框架18先行卸除。 的 的側邊光罩護膜2G及框架18的方式，可例如於框架18 -習f n插人構件插人至上軌财，以利用 連同光膜罩卸雜置，藉由槓桿原理將上述框架18 與光罩ω門所拆除，之後再·—些清洗液將框架18 式的洗淨。=的底膠16去除，並且對光罩10進行一全面 的腐餘性^ 由於上述清洗液树係包含例如—酸性或驗性 面，因此it ΐ上述殘膠乃容易結合於光罩ω之_區12表 發其所製罩lG之圖形區12的損害或污染，更進而引 乍之積體電路_的缺陷，以及良率不佳等問題。 【發明内容】 1341957 * . · 冑鑑於上關題，本發明之—目的乃為提供-種可有效保護 光罩之圖形區的光罩清洗方法及治具。 本發明之再-目的為提供—種可針對光罩之賴形區以及圖 形區進行分段_洗淨財敍料，其補可賴聽造成光 罩之圖I區的損害，並可用以維持光罩之圖形區表面的高度潔 净。 本發明之又-目的為提供—種可有效由光罩内部之圖形區往 φ光罩賴之棚賴進行洗淨的方法及治具，明免污染物停留 於光罩的圖形區之表面。 本發明之另-目的為提供一種將光罩護膜自光罩上移除的方 法，以利於後續進行光罩的清洗步驟。

V 【實施方式】 未依據束 述如下，其内文中相關之圖示並 I =， 本發明亦可廣泛地施行於其他的實施例 光罩蚁獅全面洗淨財綠洗光罩，駿未針對 先罩的圖祕作-區隔，因此有時為了特殊目的之考量而必須使 腐:性的清洗液’例如為去除光罩護膜之框架所殘留於 之-膠’則容易造成光罩的圖形區之損害，又或者 使污染物有機會殘留於林之_區表面而造成缺陷。 有鑑於上述習知清洗光罩技術所存在之問題，本發明之目的 乃為提供-種可有效保護光罩之圖形區的光罩清洗方法及其治 具’其係針對光罩之非_區以及圖祕進行分段隱洗淨，並 可由光罩内部之卿區往光罩外圍之非_區進行洗淨，以防止 對光罩之_區造成損害’並避免污染物停留於光罩關形區之 表面，而維持光罩之圖形區表面的高度潔淨。 第二圖為根據本發明一實施例之清洗光罩的流程圖。參照第 二圖，步驟S2G1 75提供-光罩，其包含—圖賴與非圖形區 環繞於上述圖形區之外圍，而步驟s2〇3則利用一阻絕盒對上述 光罩的圖形區進行隔離，並於步驟s2〇5中，先行針對上述光罩 未受到阻絕盒隔離的部分進行清洗，而步驟S2〇7則係將一流體 注入至上述阻絕盒中，以由阻絕盒内往阻絕盒外進行光罩的清 1341957. 洗。 主為了有助於完成上述之實施例’本發明之另—實施例乃提供 清洗光罩的治具，亦即—用以隔離光罩之圖形區的阻絕盒。第 圖為顯示本發㈣—實_之清洗料的治具之側面剖視概略 彻H二圖人,發明另—實施例所提供之清洗光罩的治具 ^ 3 -内盒盖3〇2以及一外盒蓋3〇4，其中内盒蓋係 • 凹陷部f間3°6以用於隔離一光罩之圖形區，而外盒蓋304 則1U於内盒盍302之外，並與内盒蓋3〇2構成一通道⑽8。另， =盒蓋=4乃具有-孔洞_與通道3()8相通。儘管在 中，内盒蓋302與外盒f 304穴3, 現一门字型，然本發明並非以 ;人士均可根據其不同考量，而將内盒蓋孤 ,、卜皿盍3〇4叹8十成弧形、倒v型、亦或其他之幾何形狀。 本實施例所提供之清洗光罩的治具3〇〇可更包含 7陷部空間306相通，而—遮板314則可位於内盒蓋 鲁成之凹陷部空間306内，其主要作用乃於後詳述。 _ 為了有效於清洗光罩的過程中，針對光罩之圖職作一有效 ，Γΐ例所提供之清洗光罩的治具_乃需緊貼 =罩之表面’然而清洗光罩的治具3⑻之主體，例如内盒蓋3〇2 。外盒蓋3G4等，其係較佳為—可重複使用之堅固耐用的材質， 然而如此-來，用於隔離光罩之圖形區的内盒蓋3〇2 犯， ==於接觸光科造絲罩_傷。因此，為了避免^ 接接觸之内盒蓋3〇2的底部3〇2,到傷光罩之表面，内各蓋 1341957. 底β 302更可包含或包覆有一彈性物316，例如—橡膠。此外， 上述彈性物316膽佳為—可峨驗之抗腐赌質，以避免因清 洗劑造成彈性物3!6的雜，而產生不必要的污染^另上述 ^物316乃較佳可自内盒蓋3心底部3〇2,分離，以便進行彈 性物316的更換。 、而為了針對光罩之非圖形區以及圖形區進行分段隔離洗淨， 並且由光罩内部之圖形區往光罩外圍之非圖形區進行洗淨以避 免^物停留於光罩賴形區之表面，轉縣罩之圖形區表面 的高度潔淨’本實施例所提供之清洗光罩的治具3〇〇，其外盒蓋 304之底部3〇4,更可包含有一阻隔物318，而阻隔物爪乃包含 用以連接外盒蓋304之底部304,的接合部32〇、以及一位於接 .5邰320之底部的阻擋部322，而其中阻擋部322乃較佳包含一 ]具有彈性之片狀結構。此外’阻隔物318乃較佳包含一抗腐珊 - 質’並可自外盒蓋304之底部304,分離。 在本實施例所提供之清洗光罩的治具300中，其内盒蓋302 •結合彈性物土16乃具有一突出於外盒蓋結合阻隔物31S之接 合部320的高度，而外盒蓋3〇4結合阻隔物318之阻撐部您則 較佳具有-大抵等於或稍微突出於喊蓋3()2結合彈性物训之 高度，而其中之主要考量乃於後所詳述。 本發明之又一實施例乃提供一種清洗光罩的方法，其係採用 上述實施例所提供之清洗光罩的治具3〇〇作為一阻絕盒，、以 發明所述之目的。 第四A圖至第四g圖為根據本發明又一實施例所提供之一 1341957 種清洗光罩的方法之侧面剖視圖流程圖示。首先’參照第四A圖， 一習知光罩400可簡單劃分為一圖形區412、以及一圍繞於圖形 區412週邊之非圖形區414，其中上述光罩400之圖形區412乃 具有用以形成積體電路圖案之圖形。為了避免光罩400的圖形區 412之表面形成癖污，習知技術乃通常於光罩4〇〇之表面上設置 一框架418、以及一黏附於框架418上緣之光罩護膜420，並利 用一底膠416而將框架418固著於光罩400之表面上，而其中主 要作用已於先前技術中提及，故此處乃不再贅述。 ® 為了容易卸除框架418，習知技術乃通常利用一溶劑對上 述框架418與光罩400間的底膠416事先進行軟化，然而溶劑本 身或經軟化的殘膠可能會對光罩400上的圖形區412造成損害或 - 污染等問題，因此，本發明之又一實施例亦提供了一種移除光罩 -* 護膜42〇的方法，以利於後續清洗光罩400的製程之進行。在此 : 實施例中，利用一沾布422黏附於光罩護膜42〇之表面，以將光 罩護膜420自框架418上撕除，而為了避免所使用的沾布422於 使用過程中產生塵埃，其較佳為一無塵沾布。在此實施例中，上 鲁述沾布422係以一滚轴式沾布為例，於光罩護膜420表面上滾動 並進行黏附，之後再將光罩護膜420自框架418上撕除，然而本 發明並非以此為限，上述沾布422亦可片面黏附於光罩護膜420 之表面上’而之後再將光罩護膜420自框架418上撕除。 參照第四B圖，將上述實施例所提供之用以清洗光罩的治 八300作為一阻絕盒，以於後續清洗光罩4〇〇的過程中，針對光 罩400的圖形區412進行隔離及保護，而其中相同的圖示標號表 不相同的構件，故此處乃不再贅述。在此實施例中，為了有效針 12 1341957. 對光罩400的圖形區412進行隔離及保，阻絕盒通 需與光罩彻之表面進行緊密的貼合，因此阻絕盒3(；之 :3=的底部3G2’乃較佳包含—彈性物316，以避免到傷光 罩400之表面，並與光罩4〇〇之表面進行更為緊密的貼合。另， 將阻絕盒300置放於光罩400之表面後，可經由阻絕盒通之通 孔312進仃抽氣’使得凹陷部空間3〇6内呈現一負壓或真空狀離， 因而阻絕盒300之内盒蓋302與光罩_之表面則可更二緊二也 貼合，如第四C騎示，然而本發明並非受限於此，此技蔽一般 •人士亦可利用其他方式而外施壓力於阻絕盒300及/或光^ 400 上，使得阻絕盒300和光罩400緊密貼合。此外，阻絕盒之 j孔312中可利用一橡皮作為阻塞，以維持凹陷部帥3()6之氣

★另’當利用阻絕盒300對光罩4〇〇的圖形區412進行隔離時， 内盒蓋302之底部302’的彈性物316係緊貼於光罩彻之表面， :此時外盒蓋·之底部304,則與光罩·之表面維持一間隙。 為了避免後續針對未受到阻絕盒勘所隔離之光罩彻的部分進 订清洗時’其清洗液或污雜進人至崎盒彻Θ，因此 3〇4之底部3〇4,乃較佳具有—阻隔物318用以彌補上述外盒蓋^ 之底部^4’與光罩400間的間隙，而阻隔物318乃包含一用以連 接外盒蓋3〇4之底部3〇4,的接合部32〇與一連接於接合部挪之 ^m322，且其中上述之阻指部322係較佳為一具有彈 ’接著可進行框架418的卸 400表面卸除，可利用一溶 參照第四D圖，在此實施例中 除步驟。為了容易將框架418自光罩 13 1341957. 劑對底膠4丨6進行軟化後，再將框架418卸除。物除框架4i8 後’可利用一清洗液342將框架418與光罩彻贿殘留的底朦 416去除，並且針對未受到阻絕盒3〇〇所隔離之光罩彻的部分 進行清洗。由於阻絕盒300的外盒蓋3〇4、结合阻隔物318之_ 部322乃具有-大抵等於或稍微突出於内盒蓋3〇2、结合彈性物 之高度’且阻隔物3丨8之阻擋部322乃為一具有彈性之片狀結構， 因此當利用上述溶劑或清洗液處理光罩4〇〇之表面時阻隔物 之阻擋部322可緊貼於光罩之表面，而提供—有效阻絕的功 能。 在此實施例中’將光罩400置放於一洗淨工作台上，並且利 用清洗液342而針對未受到阻絕盒3〇〇所隔離之光罩4〇〇的部分 進行一沖洗式的清洗。在此實施例中，洗淨工作台主要可包含一 支托架450作為光罩400之支樓、一清洗頭34〇祕提供清^液 342以進行光罩4⑻表面的清洗、以及一排液體通道344用以將 清洗光罩400後的液體給排出。另，上述洗淨工作台更可包含一 外圍部460，以避免進行光罩4〇〇魏淨時’清洗液四處飛二的 情形。 由於上述排液體通道344係可於清洗光罩4〇〇的同時，用以 將=光罩4GG後的液體給排出，如此—來，洗淨後的污染物亦 y隨著清洗液而-同排出，有效避免f知技術浸泡式的洗 净法’其污祕容純著清洗液來回光罩之表面，而再产造 成光罩400的污染等問題。然而，此技藝一般人士亦可根據^可 根據其他*同考量’而朗-浸泡式之洗淨方法，或者先採用— 沖洗式洗淨’而讀再_浸泡式之洗淨方法，本發明乃並非以 1341957.

• I 此為限。 邱八的、先利用上述何種方法進行阻絕盒300外之光罩400 心的洗分步驟，由於進行洗淨 罩400表面的接觸處乃容易=于阻I獅的底朴先 β Μ “ 易成死角，使得污染物330例如殘膠 的二二:絕盒3⑽的底部和光罩400表面之接觸處所形成 光罩400的，二S圖所不因容易於後續利用光罩洗淨機進行 光罩400的污染。 也双憐口狎

參照細Ε圖，隨著清洗過程的進行，為避免當阻絕盒細 自光罩铜表面移開後，累積於阻絕盒300的底部和光罩400表 面^接觸處死角的污染物33g與光罩的圖形區M2接觸而造 成5染’因此在此實施例中，可將一流體36〇經由阻絕盒之 孔洞3川而注入至通道3〇8中，而由於阻隔物318之底部的阻撐 部322係為一具有彈性之片狀結構，因此流體360可推擠阻擋部 322，而經由間隙流出於阻絕盒3⑻之外盒蓋3〇4外，由阻絕盒3⑻ 内往阻絕盒3GG外進行光罩彻的清洗，同時亦 絕盒300的底部和光罩4〇〇表面之接觸處死角的污染物帶走。在 此實施例中，上述流體係可包含液體或氣體，而上述阻擋部322 可例如包含-則型或上％下料幾何_之彈性橡膠然此技 藝一般人士亦可根據實際需求及不同考量，而採用其他材質或幾 何形狀，本發明乃並非以此為限。 參照第四F圖，接著在此實施例_，可經由阻絕盒3〇〇之 通孔312而將一清洗流體370注入至凹陷部空間3〇6中，以對光 罩400的圖形區412進行清洗，而為了避免清洗流體37〇直接對 15 1341957.

光罩400的圖形區412造成衝擊，因此可利用一位於凹陷部空間 306内的遮板314’將清洗流體37〇引入旁側，以降低清洗流體370 直接對光罩400的圖形區412之表面衝擊的力道。另，上述清洗 流體370係可包含液體或氣體，而在此實施例中，當清洗流體37〇 注入至阻絕盒300之凹陷部空間3〇6時，其之前的負壓或真空狀 態亦逐漸解除，使得阻絕盒3〇〇與光罩4〇〇分離。而當阻絕盒3〇〇 與光罩400分離的同時’清洗流體37〇乃由光罩4〇〇内的圖形區 412往光罩400外圍的非圖形區414流溢，如此一來，亦可將污 木物往外沖離’而再次避免污染物對光罩4〇〇的圖形區412造成 缺陷之影響。接著將阻絕盒·與光罩4⑻分離，如第四G圖所 不’而之射细-光罩洗淨機針對光罩4⑻做—全面式的洗淨。 +經由本發明上述所提供之清洗光罩的方法及治具，其係可 有效防止對光罩之圖職造成财，並避免污純停㈣光罩的 圖形區之表面’而維持光罩之圖形區表面的高度潔淨。 〜^財發配以數她佳實施例揭露如上，财並非用以 S心：笪任何热習此技藝者，在未脫離本發明所揭示之精神 移除? ^纽效改變或修飾，例如將光罩護膜與框架—同或分開 的去除卿職進行框架 16 1.341957 【圖式簡單說明】 第-圖係顯示-習知具有光罩護膜的光罩之側面剖視圖。 第-圖為根縣㈣-實蘭之清洗光罩的流程圖。 g圖為顯示本侧另—實施例之清絲罩的治具之側面剖 之一 種清洗第ί 鮮㈣又—㈣例所提供 【主要元件符號說明】 10〜光罩； 12〜光罩之圖形區； 14〜光罩之非圖形區； 16〜底膠； 18〜框架； 20〜光罩護膜； 3〇〇〜清洗光罩的治具、阻絕盒； 302〜内盒蓋； 302’〜内盒蓋之底部； 304〜外盒蓋； 3〇4’〜外盒蓋之底部； 306〜凹陷部空間； 17 1341957 • I * 308〜通道； 310〜孔洞； 312〜通孔； 314〜遮板； 316〜彈性物； 318〜阻隔物； 320〜接合部； 322〜阻擋部； 330〜污染物； 340〜清洗頭； 342〜清洗液； 344〜排液體通道； 360〜流體； • 370〜清洗流體； 400〜光罩； 412〜光罩之圖形區； 414〜光罩之非圖形區； 416〜底膠； 418〜框架； 420〜光罩護膜； 1341957. 422〜沾布； 450〜支托架； 460〜外圍部； S201〜提供一光罩，其包含— 述圖形區之外圍； 圖形區與-非圖形區環繞於上

〜利用—_嫩蝴__進行隔離; S205〜清洗上述光罩未受驗絕麵離的部分； S207〜將一流體注入至上述阻絕各 盒外進行光罩的清洗。 1 以由阻絕盒内往阻絕

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Claims (1)

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十、申請專利範圍： 1 · 一種清洗光罩的方法，包括下列步驟： 提供一光罩，該光罩包含一圖形區斑一北同 /、 非圖形區環 繞於該圖形區之外圍； 利用一阻絕盒對該光罩的該圖形區進行隔離，其 該阻絕盒内該圖形區與該非圖形區不相通； 清洗該光罩未受到該阻絕盒隔離的部分；以及 將一流體注入至該阻絕盒中，由該阻絕盒内往玆 絶盒外進行該光罩的清洗’其中該流體分別經由 ^ 一孔洞進人該阻絕盒之—内盒蓋與—外盒蓋以分別产 洗該圖形區與該非圖形區。 /月 2·如申料職圍第丨項所収清洗鮮的方法， 形之表面上係具有—框架環繞於該光罩的該圖 在刹田；圍’且—光罩相1樣㈣該框㈣上緣，而 前：先二阻:邑:二光罩的該圖形區進行隔離的步驟 仃去除5亥光罩護膜的步驟。 3.如申請專利範圍第2 其中上述去除該光罩護^的牛j述〜洗光罩的方法， 光罩護膜，$ # 、、乂知乃藉由一沾布黏附於該 亚將邊先罩護膜自該框架上撕除。 4.如申請專利範圍第3項所述之清洗光罩的方法， 20 1341957 !啤> 替換頁 當該光罩護膜自該框架上撕除後，更包括進行一卸除g 框架的步驟。 5. 如申請專利範圍第1項所述之清洗光罩的方法， 其中該內盒蓋係構成一凹陷部空間，以針對該光罩的該 圖形區進行隔離，該外盒蓋圍繞於該内盒蓋之外，並與 泫内盒蓋構成一通道，該孔洞位於該外盒蓋，並與該通 道相通。 6. 如申請專利範圍第5項所述之清洗光罩的方法， 其中該内盒蓋之底部更包含一彈性物。 ^丨7田如中請專利範㈣6項所述之清洗鮮的方法，

:筌彳阻絕盒對該光罩的該圆形區進行隔離時，該内 該彈性物係緊貼於該光罩之表面，而該外 之底部則與該光罩之表面維持-間隙。 其中該外盒蓋 \底:乃S項所述之清洗光罩的方法， 而該流體則經由該阻C用以彌補該間隙， 並且推擠該卩且ρ3札|之5亥孔洞而注入至該通道中， 盒蓋外。χ 而自 该間隙流出至該阻絕盒之該外 21 1341957 9:如申請專利範圍帛5項所述之清洗光罩的方 ，、忒阻絕盒更包含一通孔與該凹陷部空間相通。 如申請專利範圍第9項所述之清洗光罩 /乃:二:用該阻絕盒對該光罩的該圖形區進行隔離時， 乃、左由该通孔進行抽氣，使該内盒蓋緊貼於該光罩之 •如申請專利範圍帛9工員所述之清洗光罩的方 彳，/、中該流體乃經由該阻絕盒之該通孔而注入至該 fe j工間中，以由該阻絕盒内往該阻絕盒外進行該^罩 12·如申請專利範圍第9項所述之清洗光罩的方 '其中该阻絕盒更包含一遮板位於該内盒蓋所構成之 ^凹陷部空間中’而該流體則經由該阻絕盒之該通孔注 俺ί4凹^空間中，並利用該遮板以避免該流體直接 一手该光罩之該圖形區，而由該阻絕盒内往該阻絕盒 進行該光罩的清洗。 丨3·如申請專利範圍第8項所述之清洗光罩的方 其中5亥阻絕盒更包含一通孔與該凹陷部空間相通， 22 1341957 而當該流體注入至該通道後 孔而注入至該凹陷部空間中 盒外進行該光罩的清洗。 1碎》;1豹增正替換頁 則將一清洗流體經由該通 以由該阻絕盒内往該阻絕 14‘ 一種清洗光罩的治具，包含： 内皿盖，違内盒盖係構成一凹陷部空間； 外皿蓋，圍繞於δ亥内盒蓋之外’並與該内盒蓋構 成一通道’其中該凹陷部空間與該通道不相通；以及 一孔洞，該孔洞位於該外盒蓋，並與該通道相通。 料⑽圍第14_述之清絲罩的治 2 =盒蓋所構成之該凹陷部空間係用以隔離-光罩之圖形區。

具， 的 治 具， 17.如申請專利範圍第 其更包含一遮板位於該 14項所述之清洗光罩的治 凹陷部空間内。 14 18.如申請專利範圍第 項所述之清洗光罩的治 23 1341957 具’其更包含一 彈性物位於該内盒蓋之底部 今曰修正t換頁 且，A中如二利乾圍* 18項所述之清洗光罩的治 一其中该弹性物包含一抗腐蝕材質。 具，其二利範圍$ 18‘項所述之清洗光罩的治 一 〇Λ 物可自該内盒蓋之底部分離。 且，2Ι·Λ1料利範㈣18項所述之清洗光罩的治 、/、更匕3 一阻隔物位於該外盒蓋之底部。 的治 且，2二如中請專利範圍帛21項所述之清洗光罩的治 接人料物乃包含—用以連接該外盒蓋之底部的 。。…連接於該接合部之底部的阻擋部。 24 1341957 修止导換頁 25.如申請專利範圍第24頊祕 具，其令該阻擔部係包含一具有彈性之片二結=罩的治 項所述之清洗光罩的治 乃具有一突出於該外盒 26.如申請專利範圍第24 具’其中δ亥内盒蓋結合該彈性物 蓋結合該接合部之高度。

呈，I二申外％項所述之清洗光罩的治 ^ ，、中5亥外|盍結合該阻隔物之該阻擋部乃且有一大 抵等於或突出於該内盒蓋結合該彈性物之$产。、 種移除-光罩護膜的方法’其係藉由一無塵

的方m請專利範圍第28項所述之移除—光罩護膜 '方法，其中該無塵沾布係包含一滚軸式沾布，於該光 罩4膜上錢並進行黏附，之後再將該光罩護膜撕除。 3〇.如申請專利範圍第28項所述之移除一光罩護膜 25 1341957 月f π修正替換頁 的方法，其中該無塵沾布乃片面黏附於該光罩護膜上， 之後再將該光罩護膜撕除。

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