TWI328715B - Method of manufacturing a photocurable printing blank - Google Patents

Description

1328715 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種製造軟性凸版印刷 法，該等軟性凸版印刷元件，可提供比習知 均勻之底板層；本發明亦關於一種執行將：i 化底板層之印刷胚板提供給印刷店客戶之商 【先前技術】 軟性凸版印刷元件普遍用於印刷，尤其 且易變形表面上之印刷，諸如包括紙板、塑 材料表面上。軟性凸版印刷元件通常具有彈 從彈性體之光可硬化樹脂組成物所製備成。 光可硬化（亦熟知爲光可聚合化或光每 通常包括一彈性體黏結劑（有時稱作爲預 物）、至少一單體、及一光起始劑。爲製備 胚板，一或多層光可硬化材料被插置在一支 個頂板之間，而該等頂板包括可保護該光每 離膜。 光可硬化印刷胚板典型地係由包括溶齊 壓延、及擠出等習知方法所製成。該等印剧 供給印刷店客戶，其將以多個步驟來加工處 板，以便可製成具有所要性質之浮凸影像Ef 不同製造程序之諸範例，可見於頒予B ohm 5, 1 3 5,82 7號專利、頒予Goss等人之美國第 利、及頒予Min之美國第4,622,088號專和 元件之改良方 丨印刷元件更爲 ，有一已預先硬 務方法。 :是用於在軟質 丨膠膜等之包裝 ί性表面，其係 :)樹脂組成物 聚合物或寡聚 i浮凸影像印刷 :持件與一或多 :表面之滑動剝 丨澆鑄、熱壓、 丨胚板之後被提 ;理該等印刷胚 i刷胚板。各種 等人之美國第 5,735,983 號專 丨，其均以全文 1328715 表面以一影像之方式被暴露在光化輻射中。在影像曝光於 光化輻射之後，該光可聚合化層之聚合化及因而所致之不 溶解化隨即發生在該等已曝光之區域中。以一適當之顯影 劑（或熱顯影）所進行之處理將移除該光可聚合化層之諸 未曝光區域，從而留下一可被用於軟性凸版印刷之印刷浮 凸。 背曝光係爲位在與一已具有或最終將帶有浮凸之側面 成相對向的該側面上之該光可聚合化層在光化輻射下之一 全面性曝光。此步驟通常係經由一透明之支撐層而被完 成，並被用以在該光可硬化層之支撐側上產生一淺層之已 光硬化材料，亦即該「底板」。該底板之用途槪括而言係 在於建立浮凸之深度，及建立較大之支撐。 在此一簡要的曝光步驟（與隨後之該如影像曝光步驟 相比爲簡略）之後，一影像曝光可藉由利用一攝影用負片 光罩或一數位成像光罩而被完成，而該光罩係與該光可硬 化層相接觸，且光化輻射被導引穿過該光罩。 所使用之輻射類型係依位在該光可聚合化層之光起始 劑的類型而定》該攝影用負片光罩或數位成像光罩將可防 止在其不透明區域下方之材料被暴露於光化輻射下，且因 此那些藉由該光罩的諸不透明區域而被覆蓋之區域並不會 聚合化。未被該光罩的諸不透明區域所覆蓋之該等區域被 暴露於光化輻射下並聚合化。任何傳統之光化輻射源均可 被用於此一曝光步驟。適當之可見光或紫外光源包括碳弧 光、水銀蒸汽弧光、螢光燈、電子閃光設備、電子光束設 1328715 備、及攝影用泛光燈。 流線化工作流程係大多數參與加工處理光敏印刷元件 之印刷店客戶的最大渴求，以便可達更有效率且更快速地 加工處理該等光敏印刷元件且增加生產率。

此外，對於印刷店客戶及印刷板製造商而言，達到多 數軟性凸版印刷元件（尤其是薄板）具有一致之底板及背 曝光時間是有困難的。如本文中所述地，在該製造商製成 該等印刷胚板之後，該印刷板之底板將藉由印刷店客戶利 用背曝光而在印刷店中被建立。此背曝光由於許多因素而 易發生變動，該等因素包括紫外光源之改變、溫度、板齡、 以及原料之改變，其可能衝擊到該因而所製成之底板層的 一致性。 在達成一致性之背曝光方面，印刷店所面臨的諸多困 難中之一者被描述在頒予Cusdin的美國第4,92 7,723號專 利中，該專利之標的係以全文引用之方式被併入本案中以 供參考。當製備軟性凸版印刷薄板（例如總厚度2至3 mm ) 時，該已硬化之底板厚度與該成品板之厚度大體上係成一 比例關係。將該已硬化底板製作於該整個板上所需之背曝 光將在若干區域中形成適當之底板深度，而在該等區域中 該形成影像之負片絕大多數地係呈透明狀，但在該負片上 與該印刷板之若干「反影j (shadow reverse)相對應之一些 小的不透明區域中則有取代該等反影之趨向，因爲該背曝 光作業易於使該負片之細微不透明區域的遮蔽效果變爲無 效，而因此易於在應與該印刷板之一小的硬化地區相對應

1328715 之區域中硬化該聚合物。如果該背曝光作業爲了避免上述 之趨向而被對應地減少，則在該板之其他部分中之諸重要 點處的穩定性可能會由於一過薄之底板成形於該浮凸板上 而被危及。 該’723專利試圖解決此一問題，而其係藉由使用該影 像之正片作爲該背曝光步驟的一光罩，以便確定在該板上 之那些會形成纖弱之印刷浮凸區域（例如諸重要點）的區 域中，爲了穩定化該等重要點而存在一堅固之底板，而在 該板之其他區域中（該等浮凸印刷區域佔絕大多數之處）， 經由背曝光所形成之該底板厚度被對應地減小，以便可經 由使用該正片的一部分而保留該等細微未硬化「反影」之 敞開性，而該正片佔絕大部分係不透明以作爲用於該背曝 光作業之光罩。然而，此方法將一額外步驟加至該製板程 序中，因而導致需花費額外之時間來產生該印刷元件。 本發明之諸發明人已確定有高度的必要將該印刷店客 戶之工作流程流線化，同時在浮凸影像印刷元件上達到更 多一致之底板層。爲達該目的，本發明之諸發明人已發現 可製造一種具有一被構成於其中之已預先硬化的印刷胚 板，其然後被運送至該印刷店客戶處作進一步之加工處理。 完成一已預先硬化的底板消除了顯著數量之品質問 題。提供一已預先硬化的底板亦允許使用一較簡單之聚對 苯二甲酸乙二醇酯（PET)背襯，而只要在該「生的j PET 上之已硬化光聚合物的黏著性係足夠的，則將無需再使用 黏著劑。

£ 1328715 產生一具有已預先硬化底板之板將可提供該印刷店客 戶兩個潛在利益： . 1)因爲背曝光步驟已不再需要，故由於省去此一加工處理 . 步驟而提升了生產率。該背曝光步驟之省略將可消除該 印刷店客戶之裝配、持續人力成本及週期性調整。 2)在已處理之印刷板上獲得極爲均勻且一致之底板層。 頒予Daems等人之美國第6,759,175號專利（其標的 • 以全文引用方式被倂入本文中）敘述一種在現場製備一浮 ® - 凸影像之方法，其包括下列之步驟：（a)疊合薄層而形成 一材料，其包括一第一可剝除支撐件、一影像記錄層、及 —置於一對紫外光敏感（UV-sensitive)材料上之黏著層， 而該對紫外光敏感材料包括一支撐件，即一對紫外光敏感 層，其中該黏著壓被疊合在該對紫外光敏感層上、（b)使 該影像記錄層影像曝光以形成一光罩、（c)通過該光罩對 該對紫外光敏感材料整片曝光、及（d)使該對紫外光敏感 材料顯影。該可剝除支撐件在步驟（b) 、（c)或（d)前 ® 先被移去。結果’從該對紫外光敏感層至該影像記錄層之 單體擴散之範圍被減小，且在該影像記錄層與該對紫外光 敏感層之間的黏著性被最佳化。然而，Daems並未提出對 有關該底板層差異之問題的處理，且諸如紫外光源變動、 溫度、及原料變更等之因素仍係爲一問題。 頒予Stebani等人之美國第2005/00 1 5297號專利公開 案（其標的以全文引用方式被倂入本文中），欽述一種軟 性凸版印側之光聚合套筒之商務方法，其中客戶被供應以 -1 0 - 1328715 適合用於製造光聚合套筒之設備及技術，以便使該客戶本 身可製造光聚合套筒。然而，Steb an i等人被限定在印刷套 / 筒之製造上，且亦未提出對諸如紫外光源變動、溫度、及 原料變更等之因素的處理。 本發明之優點在於標準化該底板層之厚度，此用以防 止該底板層厚度上之改變。另一優點在於該客戶之成本節 省，此乃因爲該已預先硬化的底板層使得該工作流程藉由 • 減少該程序中之一 了步驟且省除裝配、持續人力成本、及 ·. 與該背曝光步驟相關聯之週期性調整，而得以被更快速地 ' 完成。因此，只需要較少之時間及較少之機器設備便可製 造該浮凸印刷元件成品。 【發明內容】 本發明之目的在於提供一種製造光可硬化印刷胚板之 改良方法，藉此使製造商及其客戶之成本（及時間）可被 降低。 本發明之另一目的在於將印刷胚板提供給印刷店客 ^ 戶，而該印刷胚板具有一形成於其中之已預先硬化的底板 層，藉此可消除在該底板層方面之變動，而使印刷板可被 更快速且有效率地製成。 爲達此目標，本發明揭示一種製造光敏印刷胚板之方 法，而該方法包括下列步驟： a) 在一背襯板上形成第一光可硬化層； b) 以光化輻射硬化該第一光可硬化層，以便在整個該第一 光可硬化層上產生一經硬化之底板層；及 -11- 1328715 C)在該已硬化之第一光可硬化層的頂面上形成一第二光 可硬化層，其可經光化輻射處理而形成一浮凸影像印刷 元件。 在另一實施例中，本發明係關於一種在一光可硬化印 刷胚板之製造工廠中執行之商務方法，藉以使該製造工廠 及其客戶可實現時間之節省及產品之改良，而該方法包括 下列步驟： • a )提供客戶一光可硬化印刷胚板，其中該光可硬化印刷胚 .板包括一被形成於其中之己預先硬化的光聚合物底板 層，以及一位在該己預先硬化底板層之頂面上的未硬化 光聚合物層；及 b)提供該客戶操作說明，以便從工作流程之加工程序中消 除一背曝光步驟； 藉此使該客戶可製造一具有一均勻且一致之底板的浮 凸影像印刷元件。 【實施方式】 本發明係關於一種製造光敏印刷胚板之改良方法，其 包括下列之步驟： a) 在一背襯板上形成第一光可硬化層； b) 以光化輻射硬化該第一光可硬化層，以便在整個該第一 光可硬化層上產生一堅硬底板層；及 c) 在該已硬化之第一光可硬化層的頂面上形成一第二光可 硬化層，其可經光化輻射處理而形成一浮凸影像印刷元 件。

< S 12- 1328715 在另一實施例中，本發明係關於一種在一光可硬化印 刷胚料之製造場所中進行之商務方法，藉此使時間之節省 -及改良之產品可藉由該製造場所及其客戶而被實現，該方 法包括下列之步驟： a)提供客戶一光可硬化印刷胚板，其中該光可硬化印刷胚 板包括一被形成於其中之己預先硬化的光聚合物底板 層，以及一位在該己預先硬化底板層之頂面上的未硬化 - 光聚合物層；及 ^ - b )提供該客戶操作說明，以便從工作流程之加工程序中排 除一背曝光步驟； 藉此使該客戶可製造一具有一均勻且一致之底板的浮 凸影像印刷元件。 該第一光可硬化層較佳地係藉由將該光可硬化之樹脂 組成物混合在一起並將該樹脂組成物塗敷於兩軟性支撐層 之間而被構成。在本發明中，一軟性支撐件係爲一背襯板， 其較佳係一諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯之軟性薄膜，並可 I 視需要地帶有一層黏著材料或接著劑，或可爲一諸如矽膠 之剝離層。其他適當之背襯層包括聚亞醯胺膜與撓性金屬 板片及箔片（例如，鋼或鋁）。其他之軟性支撐件係爲一 剝離層，諸如可得自Mitsubishi Polyester Film公司之27 SLK » 在一個實施例中，該樹脂組成物被一起混合在一擠出 模中，且被擠出至一壓延機之夾點內，並在該兩軟性支撐 層之間尙熱之時被壓延。如第1圖所示，該組成物被從該 -13- 1328715 包括： a)該（聚對苯二甲酸乙二醇酯）背襯層14; ' b)該已預先硬化之第一光可硬化層18; c)—第二光可硬化層20;及 d ) —頂板組件3 4。 如有必要，一黏著層可使用在該背襯層14及該第一光 可硬化層18之間。然而，本發明之諸優點中之一者在於： - 只要該已硬化之光可硬化組成物在該背襯層上之黏著是足 夠的，該黏著層便並非必要的。 " 如本藝中所熟知的，類比及數位板兩者均可依據本發 明而被製備。 在某些情況中，最好是使該第一光可硬化層及第二光 可硬化層具有不同之物理性質。例如，較佳地將最靠近該 支撐層之該第一光可硬化層形成可具有一組成物，其在已 硬化狀態下可輕易變形且係彈性的，以便可提供該板與該 待印刷之表面間一較大的相符性，且可提供一更平坦之壓 ^ 印。此外’較佳地將提供該印刷表面之該第二光可硬化層 形成可具有一組成物，其係特別地適於提供改良之印刷特 性’包括吸墨與放墨性、耐磨性、耐溶劑性、及其他類似 之特性。 【圖式簡單說明】 第1圖顯示本發明用於製造一光敏印刷胚板之新穎加 工程序中的步驟。 第2圖顯示根據本發明所製備之一光敏印刷胚板的不 • c~> ·’ ·· ^ -16-

Claims (1)

1328715 修正福允 ， 第 95 1 3 893 1 號 光可硬化印刷胚板之製造方法」專利案 (2010年3月31日修正） 十、申請專利範圍： 1. 一種光可硬化印刷胚板之製造方法，該胚板可用於製造 —軟性浮凸影像印刷元件的製程中，而該方法包括下列 之步驟： a) 在一背襯板上形成第一光可硬化層； b) 以光化輻射硬化該第一光可硬化層，以便在整個該 第一光可硬化層上產生一堅硬底板層；及 c) 在該已硬化之第一光可硬化層的頂面上形成一第 二光可硬化層，其可經光化輻射處理而形成一浮凸影像 印刷元件。 2. 如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該背襯板係聚 對苯二甲酸乙二醇酯。 3. 如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該第一光可硬 化層及該第二光可硬化層係經由擠出而形成。 4. 如申請專利範圍第3項之製造方法，其中該第一光可硬 化層被擠出於該背襯板及一剝離層之間。 5. 如申請專利範圍第4項之製造方法，其中在將該第二光 可硬化層形成於該第一光可硬化層的頂面上之前，將該 剝離層從該第一光可硬化層移除。 6. 如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該第一光可硬 化層在無需使用黏著劑下，沈積於該背襯層上。 7·如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該第一光可硬 1328715

日修正補充 化層及該第二光可硬化層具有相同之成分。 8.如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該第一光可硬 化層及該第二光可硬化層具有不同之成分。 9. 如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該光化輻射源 爲至少一個紫外光源。 10. 如申請專利範圍第1項之製造方法，其中包括一或多層 之頂板組件被設置在該第二光可硬化層之頂靣·上。 ,φ 11·如申請專利範圍第3項之製造方法，其中包括以下步驟： 在以光化輻射硬化該第一光可硬化層之前先壓延該第一 光可硬化層。 12.如申請專利範圍第1項之製造方法，其中包括以下步驟： 在以光化輻射硬化該第一光可硬化層之前先冷卻該第一 光可硬化層。 13.如申請專利範圍第3項之製造方法，其中包括壓延該第 二光可硬化層之步驟。 φ 14.如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該第一光可硬 化層之厚度係介於約22與125密爾（mil )之間。 15. 如申請專利範圍第1項之製造方法，其中該第二光可硬 化層之厚度係介於約23與約125密爾（mil)之間。 16. —種利用一光可硬化印刷胚板之製造工廠以執行商務之 商務方法’其可使該製造工廠及其客戶藉以實現時間之 節省及產品之改良，該方法包括下列步驟： a)提供客戶一光可硬化印刷胚板，其中該光可硬化印 刷胚板包括一被形成於其中之己預先硬化的光聚合物底 1328715 年S月^曰修正補充 板層；及 b)將操作說明（instruction)提供給該客戶以在該客 戶的工廠建立用於製造浮凸影像印刷元件的程序 (process)，其中該程序包括該光可硬化印刷胚板之正 面曝光（front exposure )及將該光可硬化印刷胚板顯影 以產生該浮凸影像印刷元件的步驟，但不包括背曝光步 驟； 其中該客戶執行步驟以對該光可硬化印刷胚板進行正 面曝光及顯影而形成浮凸影像印刷元件，但不對該光可 硬化印刷胚板進行背曝光。 17. 如申請專利範圍第16項之商務方法，其中該光可硬化印 刷胚板包括： a )—背襯板； b) —第一光可硬化層，其被預先硬化，以便形成該底 板層； c) 一第二光可硬化層，其位在該第一光可硬化層的頂 面，其中該第二光可硬化層可由該客戶予以處理而形成 —浮凸影像印刷元件：及 d ) —頂板組件。 18. 如申請專利範圍第17項之商務方法，其中該背襯層包括 聚對苯二甲酸乙二醇酯。 19. 如申請專利範圍第18項之商務方法，其中該第一光可硬 化層在無需使用黏著劑下，沈積在該背襯層上。 20.如申請專利範圍第16項之商務方法，其中該客戶被賦予 1328715 年5月％修正補充 可訂製具有一所要大小及厚度之印刷胚板的選項可能

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