TWI321102B - Systems and methods for calibrating inkjet print head nozzles using light transmittance measured through deposited ink - Google Patents
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Description
1321102 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種用於校準噴墨列印喷嘴的噴墨列印 喷嘴校準系統和方法。 【先前技術】
平面顯示器工業已經試圖採用喷墨列印方法來製造顯 示器,更具體地而言,是用於製造平面顯示器的濾色片。 當列印用於濾色片的圖案時,由於欲用來裝入墨水的像素 井(p i X e 1 w e 11 s)可能特別小,所以發生列印誤差的可能性很 大。另外,列印頭的多種製造變因可能產生不如意的列印 性能或不規則性。因此,需要一種能用於校準喷墨列印頭 及調整列印參數的有效方法和裝置。 【發明内容】
在本發明一態樣中,喷墨列印噴嘴校準系統的實施例 包括一喷墨列印喷嘴、一光源、一成像系統以及一控制器, 其中該喷墨列印喷嘴適用以回應一發射脈衝參數(firing pulse parameter,例如發射脈衝電壓、發射脈衝寬度、發 射脈衝電流、發射脈衝能量、發射脈衝頻率、發射脈衝波 形等)而將墨水分配到基板上;該光源適於照明已分配在 基板上的墨水;該成像系統(i m a g i n g s y s t e m)適於測量光 線通過所分配墨水的透光率;以及,該控制器係耦合到成 像系統和喷嘴列印喷嘴,並適用於根據所測得的透光率來 5 1321102 控制性地調整一個或多個喷墨列印喷嘴。
在本發明另一態樣中,校準喷墨列印喷嘴的方法實施 例包括:使用喷墨列印喷嘴將墨水分配到基板上,該噴嘴 已設定在一發射脈衝參數(例如發射脈衝電壓、發射脈衝 寬度、發射脈衝電流、發射脈衝能量' 發射脈衝頻率、發 射脈衝波形等);測量所分配墨水的透光率特性;基於測得 的透光率特性來判斷所分配的墨水量;以及,基於所判斷 的已分配墨水量和期望墨水量之間的差異來調整喷墨列印 噴嘴的發射脈衝電壓。 通過以下的詳細描述、後附申請專利範圍和附圖,本 發明的其他特徵和態樣將更清楚、明顯。 【實施方式】
喷墨印表機經常使用在安裝一個或多個滑動架内的 一個或多個噴墨列印頭,並使該等滑動架在諸如玻璃或聚 合物平板等基板上方移動,以列印用於平面顯示器的濾色 片。在一些實施例中,則在列印頭下方,使基板在一精確 控制的平臺上移動。當基板相對於列印頭移動時,喷墨列 印控制系統會驅動該些列印頭内的獨立噴嘴將墨滴(或其 他液滴)分配或喷射到基板上以形成圖像。 驅動該列印頭噴嘴的動作可包括發送一發射脈衝信 號或一發射脈衝電壓(Vfp)到獨立喷嘴,以使一噴射機構 分配出一定量的墨水。在某些列印頭中,脈衝電壓是用於 6 1321102 啟動諸如用來將墨水推出噴嘴之壓電元件等裝置。在 列印頭中,脈衝電壓使一雷射照射一薄膜,而該薄膜 應輕射光從而將墨水推出噴嘴。其他能將啟動能轉化 使喷嘴將墨水噴出之機械能的轉換器,皆可採用。因 發送到噴嘴的信號可包括,例如發射脈衝電壓、發射 寬度(firing puise width)、發射脈衝電流、發射脈衝能 發射脈衝頻率和/或發射脈衝波形。 由於製造變因和/或其他因素的影響,對於既定的 脈衝參數Pfp (例如指定的發射脈衝電壓、發射脈 度wfp、發射脈衝電流Ifp、發射脈衝能量、發射 頻率Ffp、發射脈衝波% %等),噴嘴可能無法分配 量的墨滴。在一些情形下,墨滴的量可能冑、做非 變化。換句話說,纟列印頭中的製造變因可能導致同 嘴喷對應於不同發射脈衝噴出非線性變化的墨水量, 不同嘴嘴對應於相同發射脈衝噴出不同的墨水量。 本發明提供一種藉由測 夏尤線穿透經個別喷嘴 墨水而填滿墨水之像素的透 次*量’來判斷個別噴嘴所 出之墨水量的方法。更具韹 0 ^ 。从一已知發射脈衝 fP將墨水分配到基板上的顯示 . 豕素井(d1sp1 ay p1Xe1 ’然後利用本發明方法,來刺θ φ 出光線穿透各個像 中所为配墨水的透光率, ..Γ§ „ 透先率對應於各個像素井 墨水厚度,以判斷出各個喷 « . « . . 所刀配出的墨水量(厚 墨水量成正比)。藉著找出該已
Pfp與由透光率所判 其他 會回 成可 此, 脈衝 >量、 發射 衝寬 脈衝 出等 線性 一噴 以及 分配 分配 參數 wells) 素井 内的 度與 斷出 7 之測得墨水 斷該已分配 來校準喷墨 嘴,從而可 可在日 多個顯示器 出來的墨水 發明所提供 第1A 統100的示 上之濾色片 如圖所 板102設置 材料(black 個表面上成 存儲從喷墨 在第2圖中 寸(指定像 1 02上之矩 先前引用的 請案令描述 性實施例。 支樓台 量之間的關聯性,太欲 發明可進一步提供—種判 墨水量和Pfp間之關係的方法,並利用該關係 、卩0» 1¾墨水4資訊可用於校準各個喷 以連到使像素U墨水深度-致的目的。 常維修程序中,咨合户 次曰在列印操作期間對一個或 物件執行診斷測試並部- ^ Λ〇 ™Λ- -Λ1, 頌不一或多個喷嘴所分配 量不符合期望量或期望益 人範圍時,可執行根據本 的校準方法。 圖是根據本發明之示範性噴墨列印噴嘴校準系 意圖,其使用透光率來判斷出分配到位於基板 顯示像素内的墨水量。 示,將可由玻璃、聚合物等材料製成之平板基 在支撞台104上。基板1〇2可能包括-黑矩陣 matrix material),該黑矩陣材料包括在基板整 排及成列排列的多個像素井。該等像素井用於 列印頭(未示出)分配出的墨水,該等像素井 更加詳細示出。每個像素可具有相同的長寬尺 素的實際長度和寬度可以不同),並因此基板 陣中的各個像素可用於存储相似量的墨水。在 美國專利申請號1丨/5 21,577和1 1/5 36,540的申 了可用在本發明内容中的黑矩陣和像素井示例 104可包括一移動平台,用以在Y-方向(進八 8 1321102
或退出第11圖頁面方向)傳送基板經過設置在支撐台104 上方的一個或多個列印頭,其中該等列印頭可分配墨水到 基板10 2的像素井中。在濾色片列印程序中,典型地,一 單一顔色(例如,紅色、綠色或藍色)分配到基板1 〇 2上 一指定直行的像素中,同時另一不同的顏色則分配到鄰近 直列中。在該程序中,通常會避免發生顏色混合的情形。 在本文先前所引用的美國臨時專利申請案60/785,5 94號中 描述了可用在本發明喷墨列印程序中之支撐台1 04和列印 頭配置的各種態樣。支撐台1 04可包括多個延伸貫穿整個 支撐台1 04厚度的孔、縫隙、窗口等等(未示出),使得基 板102可暴露於從支撐台104下方所發出的光中。
光源106可設置在支撐台104下方,以經由位在支撐 台1 04中的孔、縫隙、窗口等傳輸光線,從而照射至基板 1 0 2上的像素井。例如,光源可包括由位在美國麻州伯靈 頓(Burlington,MA)的 Leutron Vision 公司戶斤生產的 Phlox 4i-BL系列的背光源。4i-BL型背光源106可含有多個光 管,該等光管包含適於在特定方向上引導光線的半透明材 料。可配置該光管,使得引入到背光光源1 06 (例如經由 耦接到背光側部的LED )的大部分光線從背光光源1 06的 上表面107均勻地再發射出。可根據基板102的尺寸來選 擇光源106的表面面積,例如表面面積可從20x20毫米(mm) 變化到2 0 0 X 2 0 0毫米。亦可使用其他尺寸。光源1 0 6的亮 度範圍可藉於大約 4000到 20,000燭光/每平方公尺 9 1321102 (cd/m2)之間,反比於表面面積。光源106可發出白光以 提供通過不同顏色墨水的透光率。在一些實施例中,多種 光源可用於照明基板1 0 2。
可設置適於測量透光率的光學探測器1 〇 8,以捕捉從 光源1 0 6發出並通過基板1 0 2之像素井的光線。光學探測 器108可包括一電荷耦合器(CCD)照相機。可用于本發 明内文中的適當CCD照相機可包括例如7微米(μπι)像素大 小或更小、2 0 0 0像素數或更多,以及〇 · 1 %的亮度強度精 度,和1x1透鏡。可使用其他尺寸和參數。光學探測器件 I 0 8可安裝到位在喷墨列印系統中支撐台1 〇 4上方的支架 或其他特徵(未示出)上。如上所述,從基板102上一特 定像素位置所捕獲到的光線強度與該像素位置的透光率成 比例,並且與該捕獲光線所通過之像素位置的墨水厚度(或 量)成反比。可使用例如一個或多個馬達(未示出)使光 學探測器件1 〇 8在X和Υ軸方向上移動。
圖像處理器110可包含一計算器,並且該圖像處理器 II 0可耦接到光學探測器1 〇 8以擷取圖像資料(其包括透 光度資訊)。主機1 1 2 (例如,U ΝIX主機)可經由例如乙 太網(Ethernet )或RS232連結而耦接到圖像處理器1 1 0。 主機 1 1 2可包括用於噴墨列印系統的系統控制器和/或資 料伺服器。在一個或多個實施例中,可合併圖像處理器Π 0 和主機1 1 2。主機1 1 2可操作性地耦接到光源1 0 6,以控制 光源1 06的操作,例如起動或關閉光源1 06、調節亮度等。 10 1321102 在一個或多個實施例中,主機1 1 2可在沒有任何延遲或起 動時間的情況下起動光源1 0 6。
第1 B圖是根據本發明所提供的喷墨列印喷嘴校準系 統200另一實施例的示意性方塊圖。在第1B圖所示的實 施例中,如第1A圖的實施例,包括多個像素井的基板202 置於可沿Y軸方向移動的支撐台204上。然而,在該實施 例中,反射表面205(例如,鏡子)設置在基板202和支 撐台204之間。在一些實施例中,支撐台204本身的表面 便是反射表面。在第1 B圖所描述的示範性替代實施例中, 光源206設置在基板202上方,而不是設置在支撐表面下 方。從光源206發出的光通過基板202上的像素井而抵達 反射表面205。入射到反射表面205上的光可穿過基板202 而反射回去,並可在該處使用光學探測器 208來捕捉光 線。圖像處理器2 1 0耦接到光學探測器2 0 8以處理圖像資 料,以及主機212耦接到圖像處理器210。系統200的各 個部件,包括基板2 0 2、支撐台2 0 4、光源2 0 6 '光學探測 器208、圖像處理器210和主機210,可包含與上述第1A 圖所討論的相應元件裝置相同或相似的部件。 第1B圖所示的喷墨喷嘴校準系統200提供以下優 勢:可在水平(X-Y)面和/或垂直(Z-轴)方向更靈活地 設置光源206,原因在於光線能直接照射到基板202上而 不是經過支撐台204中的孔、縫隙或窗口。類似地’可以 採用多種光源並且以這種方式更加靈活排列。然而,由於 Π 1321102 從光源206發出的光線會通過基板202上的像素井兩次, 一次是通過基板202到反射表面205上的入射路徑上,以 及另一次是從反射表面205經過基板202反射回去的返回 路徑上,由光學探測器208所捕獲的透光率「資料」量可 有效地加倍。
在以上所描述的任一實施例中,可以各種方式來測量 和/或計算來自光源108、208通過基板102、202上之像素 而到達光學探測器1 〇 8、2 0 8的透光率。在一個或多個實施 例中,可根據一個或多個典型單元(c e 11)的平均透光度來測 量出每個直行像素井的透光率。例如,各行中的透光度可 以是多個(M)單元或顯示像素的平均值,其中Μ可以是 預設和/或使用者指定的數值。
參照第2圖,第2圖是基板上一示範性顯示物件的俯 視圖,並且標示了多個像素,其中像素標示符號的下標代 表一指定顏色的像素直行號碼,以及像素標示符號的上標 代表一指定橫列的像素橫列號碼。可利用來自像素不同群 集(set,行、列)的透光率資料計算出平均透光率。並可 針對各個顔色如紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)可建立 資料集。不同尺寸單元的透光率數據資料集的範例可包括: 對於 M=l: 1Ri= Ri〇; 1R2= Κ·2〇; 1Κ·3= Κ·3〇;...... 對於 Μ = 3: 1R,= (R,° + R, + 3 + RT3); 1R2= (R2° + R2 + 3 + r2·3); 1R3= (R30 + R3 + 3 + R3'3);...... 對於 M = 5: 1R,= (R]° + Ri+3 + Rr3 + R/6 +
Ri'6); 1R2 = (R20 + R2 + 3 + R2·3 + 12 1321102 R2 + 6 + R2·6); 1R3= (R30 + r3 + 3 + R3·3 + R3 + 6 + R3'6);...... 第二組資料集可包括: 對於 M=l: 2Ri= R】2R2= Κ·2 】;...... 對於 M;3: 2Ri= Ri i + Ri 4 + Ri 2;...... 對於 M = 5: 2R,= R/1 + R/4 + RT2 + R,7 + R1 5...... 第三組資料集可包括:
對於 M=l: 3Ri = Ri + 2;...... 對於 M = 3 : 3Ri = R,2 + R, + 5 + R,·1;...... 對於 M = 5: 3Ri = R, + 1 + R/5 + R〆1 + R/8 + R1'4;...... 因此,可針對M的一指定值,將各個顏色的資料整理 爲四個資料集: -對於顏色(例如R)的原始全部資料集; -包括1R1、1R2、1R3.......的1R的資料集; •包括2R1、2R2、2R3.......的2R的資料集; -包括3R1、3R2、3R3.......的3R的資料集;
其中,如上方法計算出1R、2R、3R.......,並且根 據透光率遞減的方式來排序。 第3圖是基板302上的一示範性顯示物件的俯視圖, 其顯示出一獨立顯示像素304。在該特定實施例中,顯示 像素3 0 4的寬度可介於約8 0微米到約2 5 0微米的範圍之 間,並長度介於約200微米到約600微米的範圍内《暗區 的寬度約20微米至約40微米。也可使用其他尺寸。疊置 在顯示像素304上的柵格亦包含在内,以示出在顯示像素 之圖像檔案中用於表示顯示像素304的單獨「資料像素 13 1321102 (data pixels)」〇 第4圖是根據本發明,藉著判斷一單獨顯示像素之透 光率並調整喷嘴參數的喷墨列印喷嘴校準方法400的示例 性實施例流程圖。在以下討論中的圖示元件符號來自第1 圖。然而可以理解到,所討論的程序步驟同樣適用於第 2 圖所描述的校準系統。
在步驟402中,判斷出顯示像素304的中心。在一些 實施例中,可藉著在X和Y方向上,找出該顯示像素兩個 暗邊緣的中心而判斷出顯示像素3 0 4的中心。然後,在步 驟404中,從顯示像素的中心開始,根據從顯示像素304 中心延伸出的資料像素數量(N )來定義出一待測區域。 例如,如果選擇N爲1,該待測區域可包括一個資料像素; 如果N = 2,該待測區域可包括排成矩形的九個資料像素; 如果N = 3,待測區域可包括二十五個資料像素,依此推算。 可以將整個顯示像素304上,來自各個資料像素的透光率 資料加以平均。在第3圖所示的特定實施例中,N = 2及在 顯示像素中心處的九個標示斜線陰影的資料像素代表待測 區域,並隨後對其平均以得到顯示像素3 0 4的透光率。可 使用其他方法來選擇欲進行測量及平均的資料像素代表性 群集。 在步驟4 0 6中,測量通過資料像素後的透光率。該測 量步驟可包括計算該通過所分配墨水和基板1 〇 2所測得之 光強度比上該僅通過基板102所測得之光強度的比率。因 爲僅經過基板 102的光線量可能隨著照相機的位置而變 化,包括該僅經過基板且受位置影響(位置依賴性)的光強 度測量值在内的基線透光率資料,可在示範方法400開始 之前就先行存儲。在一些實施例中,基線資料可包括該些 14 1321102 通過具有或不具有黑矩陣之基板102的位置依賴性光強度 測量值。在替代實施例中,基線可僅只存儲基板3 02不存 之情況下的強度直接測量值。因此,在這些實施例中,測 量資料像素之透光率的步驟可包括:計算該通過所分配墨 水和基板302所測得之光強度與所測得之直接光強度的比 率〇
在步驟406中的測量可自動並且非常迅速地執行。在 一些實施例中,喷墨列印系統的支撐台1 04可將基板1 02 和/或光學探測器1 〇 8移動至能捕捉來自所選顯示像素3 04 之光線的位置處。測量的命令可由主機1 1 2發出。從顯示 像素304内的該些資料像素收集光強度資料。在步驟408, 針對顯示像素304的該些所選資料像素,計算並平均出該 透射光強度對該基線(或直接)強度的比率。在步驟410, 可在一樓案和/或在對應於不同顏色墨水的不同檔案中存 儲該比率資料。藉著沿基板1 02的長度(例如,7x2000微 米)來移動光學探測器1 0 8和/或移動基板1 0 2,而對於基 板上更多的顯示像素重複執行該些測量步驟;可接收這些 新資料並可加入到現有檔案中。在完成測量之後,可將該 些内含平均透光率資料的檔案傳送到主機,例如噴墨列印 系統的資訊伺服器或控制器。在步驟4 1 2,可讀取含有該 些透光率資料的檔案,以判斷分配在顯示像素3 04内的墨 水量。在步驟414中,將顯示像素304内的墨水量對應到 用來分配墨水的特定喷嘴。 在步驟416中,判斷從該透光率資料所判斷出之顯示 像素3 04内的分配墨水量(容積)和期望量之間的差異。 在步驟418中,可根據所判斷出的差異來調整喷嘴的發射 脈衝參數PfP (例如,Vfp、Efp、Ifp等),以使喷嘴分配到 15 1321102 顯示像素304中的墨水量接近所期望的量。可選地,在步 驟416中,可以判斷分配在顯示像素3 0 4中的墨水量是否 超出期望的墨水量範圍。如果是,在步驟418中,可根據 所判斷的分配墨水量超過期望範圍多少,來調整喷嘴的發 射脈衝參數;如果為否,則無需調整。
在一些實施例中,可手動測量特定的顯示像素。光學 探測器1 0 8所捕獲的圖像可顯示在例如圖像處理器1 1 0 上。使用者可選出一大概位置,並將所選位置的透光率顯 示爲在X或Y方向上位置的函數。使用者可以放大特定的 顯示像素,以得到更詳細的資訊。
前述内容僅公開了本發明的數個特定實施例,然而本 領域具有通常技術人員可輕易明瞭到該些落在本發明範圍 中之上述方法和裝置的修飾變化態樣。例如,雖然上述方 法採用所測得的透光率(強度)作爲判斷該分配墨水量的 指標,但是也可使用所測得的頻率透光率(frequency t r a n s m i 11 a n c e)來進行相似的判斷,及/或結合強度測量以判 斷不同顏色墨水是否在一個或多個像素井内混合。此外, 本發明還可以應用在形成間隔子(spacer)'偏光板塗層和形 成納米顆粒電流等製程上。 因此,雖然本文中以多個特定實施例來揭露本發明, 但是應該理解到。尚有其他實施例亦落入本發明的精神和 範圍内,本發明範圍係由後附申請專利範圍所限定。 【圖式簡單說明】 第1 A圖是根據本發明實施例之喷墨列印喷嘴校準系 統的示意圖; 16 1321102 第1 B圖是根據本發明另一實施例的噴墨列印喷嘴校 準系統示意圖; 第2圖是根據本發明實施例所作,具有多個標示以參 考符號之列印像素的濾色片示圖; 第3圖是根據本發明實施例,使用一照相機所産生的 資料檔案來表示基板上單一個顯示像素的示圖;
第4圖是描述根據本發明實施例之校準喷墨列印噴嘴 方法的流程圖。 【主要元件符號說明】 100噴墨列印噴嘴校準系統 104支撐台 107上表面 1 10處理器 200喷嘴校準系統 204支撐台 2 0 6光源 210處理器 302基板 1 02基板 1 0 6光源 1 0 8光學探測器 1 12主機 202基板 205反射表面 2 0 8光學探測器 212主機 3 04顯示像素 17
Claims (1)
1321102
十、申請專利範圍: 1. 一種校準一噴墨列印噴嘴的方法,包括: 使用一噴墨列印喷嘴將墨水分配到基板上,該喷 定在一發射脈衝參數; 測量該已分配墨水的透光率特性; 根據所測得的透光率特性來判斷該已分配墨水的 以及 根據所判斷的已分配墨水量與一期望墨水量之間 異,來調整該喷墨列印喷嘴的發射脈衝參數。 2.如申請專利範圍第1項所述的方法,其中該發射脈 數包括發射脈衝電壓、發射脈衝寬度、發射脈衝電流 射脈衝能量、發射脈衝頻率、發射脈衝波形中的至少 一者。 3.如申請專利範圍第1項所述的方法,更包括: 從該基板下方照明已分配到該基板上的墨水;以/ 捕捉穿透一引導路徑(direct path)上之該基板和 板上方之已分配墨水的光線。 4.如申請專利範圍第1項所述的方法,更包括: 從該基板上方照明已分配到該基板上的墨水;以2 捕捉在入射路徑上通過該基板上方之已分配墨水 後在反射路徑上通過該已分配墨水的羌線。 5.如申請專利範圍第1項所述的方法,更包括: 在該基板上分配墨水之前: 嘴設 量: 的差 衝參 、發 其中 該基 並隨 18 1321102 照明不含已分配墨水的該基板; 捕捉已穿透該基板的光線;以及 測定該捕獲光線的基線光強度。 6.如申請專利範圍第5項所述的方法,其中測量已分配墨 水之透光率特性的步驟包括:測量所捕獲到穿透該已分配 墨水之光線的強度。
7.如申請專利範圍第6項所述的方法,更包括: 判斷該捕獲光線之測得強度與該基線光強度間的比 率。 8. 如申請專利範圍第7項所述的方法,其中判斷該已分配 墨水量的步驟包括:確認與該捕獲光線測得強度和該基線 光強度之比率相應的墨水量。 9. 如申請專利範圍第8項所述的方法,更包括: 判斷所該已分配墨水量和一期望量之間的差異。
10. 如申請專利範圍第9項所述的方法,其中調整該發射 脈衝參數的步驟包括:修正該發射脈衝參數,以使該喷墨 列印喷嘴分配出該期望量的墨水。 11. 如申請專利範圍第10項所述的方法,其中,根據該已 分配墨水的量對該發射脈衝參數所做的修正是非線性變化 的。 19 1321102 1 2.如申請專利範圍第1 0項所述的方法,其中該墨水分配 到一顯示像素井中。 13. 如申請專利範圍第10項所述的方法,其中該顯示像素 井包括多個區域,並且光線會穿透該等區域而被捕獲。 14. 如申請專利範圍第13項所述的方法,更包括: 將從該顯示像素井之該多個區域所捕獲的光線強度加
1 5. —種喷墨列印噴嘴校準系統,其包括: 一噴墨列印喷嘴,其適於回應一發射脈衝而將墨水分 配到基板上,該發射脈衝包括一發射脈衝參數; 一光源,其適於照明已分配在該基板上的墨水; 一成像系統,適於測量穿透該已分配墨水之光線的透 光率;以及 一控制器,其連接到該成像系統和該喷墨列印喷嘴, 並適於根據所測得的透光率來控制性地調整該發射脈衝參
1 6 ·如申請專利範圍第1 5項所述的噴墨列印喷嘴校準系 統,其中該發射脈衝參數包括:發射脈衝電壓、發射脈衝 寬度、發射脈衝電流、發射脈衝能量、發射脈衝頻率、發 射脆衝波形中的至少其中之一。 1 7.如申請專利範圍第1 5項所述的噴墨列印喷嘴校準系 統,其中該成像系統包括:一光學探測器,其適於捕捉通 20 1321102 過該已分配墨水的光線;以及,一圖像處理器,其連接到 該光學探測器。 1 8.如申請專利範圍第1 7項所述的喷墨列印喷嘴校準系 統,其中該光學探測器包括一電荷耦合器(CCD)照相機。
1 9.如申請專利範圍第1 8項所述的噴墨列印噴嘴校準系 統,其中該光源設置在該基板下方,並且適於發出光線穿 透該基板而進入該已分配墨水中。 20.如申請專利範圍第18項所述的喷墨列印喷嘴校準系 統,其中該光源設置在該基板上方,並且能相對於該基板 而移動。 21.如申請專利範圍第20項所述的喷墨列印喷嘴校準系 統,更包括:
一反射表面,其設置在該基板下方,並適於將從該光 源發出並穿透該基板的光線反射回去,而使光線通過該基 板朝向該光學探測器。 2 2.如申請專利範圍第1 7項所述的喷墨列印喷嘴校準系 統,其中該控制器能根據穿透該已分配墨水所測得的透光 率,來判斷該已分配墨水的量。 2 3.如申請專利範圍第2 2項所述的喷墨列印喷嘴校準系 統,其中該控制器適於判斷該已分配墨水的量和一期望量 之間的差異。 21 1321102 2 4.如申請專利範圍第2 3項所述的噴墨列印噴嘴校準系 統,其中該控制器適於將一調整信號傳輸到該喷墨列印喷 嘴,該信號能調整該發射脈衝參數,以使該喷嘴分配出的 墨水量趨近該期望量。 2 5.如申請專利範圍第1 5項所述的噴墨列印噴嘴校準系 統,其中該光源發出白光。
26.如申請專利範圍第1 7項所述的喷墨列印噴嘴校準系 統,其中該基板包括一個或多個用於存儲分配墨水的像素 丼0 2 7.如申請專利範圍第1 7項所述的喷墨列印喷嘴校準系 統,其中該圖像處理器適於計算該一個或多個像素井中之 多個區域上所測得透光率的平均值。 22
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