TWI308995B - Proximity type exposure apparatus - Google Patents
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Description
1308995 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種近接式曝光裝置,特別是關於—種近接式 曝光裝置上配置有用以支持光罩載物臺之負載支撐單元與驅動光 罩载物臺之㈣單元,以及-種_此近接式曝光裝置進行基板 與光罩定位之方法。 【先前技術】 在半導體裝置或者液晶顯示裝置(LCD)的製程中,需要有 用以形成多個薄膜的程序’並且薄_成程序係透過普通的曝光 _執行。這裡’曝光技術係指照射料線絲χ射線通過具有 預疋圖案的鮮’以曝細加在基板上的光衡料,進而將預定 的圖案轉印到基板上。
4於液_’、貞轉置,需朗曝光技術於乡種程料,例如液 ^顯不裝置之間極線、資料線以及單元晝素的圖案化程序,以及 -、Ί板之a色;U層的形成程序。因此’由於轉移精確 圖案至基板的而要’曝光技術被認為是非常重要的。 裝晋躺投影辦絲置贿接式曝光 又0 .光裝置可實現縮小或放大的圖案轉移, 光裝置則利用光線之水平與平行照射執行i: i比例的圖案轉移。‘ 需要1==小圖案曝光的投影式曝光裝置’通常可用於製造 、、例如轉體裝置。當需要將相同大小的圖 成在較大的區域中時,例如液晶齡裝置,_合ϋ擇具有场 1308995 光罩之近接式曝光裝置。 近接式曝光裝置需要在基板上執行曝光,盡可能地接近基 進岭全鱗料翔教紐上。财在有制式曝光裝 铁觸式曝光衣置在光罩與基板完全接觸的狀態下執行曝光。 '、,、而由於基板上的雜質或者由於光罩與基板之間的接觸本身, 上^曝光裝置會對光罩造成損壞。因此,近接輕絲置驅向用 ^與基板⑽沒餘何接觸的情況τ,使得鮮齡臺與基板 择:L斤。 近接式曝域置與郷式縣裝置基本上触含有照射 2的^產生·曝光的光線;光錢物臺,驗支撐具有預定 圖案的光罩;基板支撐卡盤,其上安置有基板,衫酬案即轉 移到此基板上;以及配置有基板支撐卡盤的支架。 3此外,對祕光裝置而言,由_確_光罩謂案至基板 上疋非常f要的,為了實現定位群載物臺絲板的目的,提供 有多個定位照相機,以檢查光罩載物臺與基板的位置。定位 機識別形録紐支針料者紐上蚊傾,_定位基板 及光罩載物臺。 隨著液晶齡錢的增大,光罩狀切料喊 也隨之增大。鮮安裝絲罩載物㈣下方,因此光罩可以^ 能地接近基板,並且藉_定元件將光糊定到光罩載物臺二 現在結合「第1圖」,對先前技術之近接式曝光裝置進^說明, 1308995 此裝置中具有上文提到的各組成部分 參考「第1圖」’近接式曝光裝置包含照射光學系_ 於提供光線’光罩載物臺⑴5,安裝在照縣學系統收之 支撐光罩110 ;支_支辟光轉物臺㈣四肖,χ輛驅= 板U3與y轴驅動板η2形成在光罩載物臺1〇5的下彳,並並支 撐著基板U4。支撐怖u支撐χ軸鋪板u3與板 112,此外,基座板150構成曝光裝置的基部。
照射光學系統101透過產生例如紫外線或者χ射線的光線, 將光罩圖案轉移到基板114上。 光罩載物臺105包含上平板103與下平板1〇2,其中上平板 1〇3與光罩no連接,下平板1〇2支撐光罩載物4 1〇5之上平板 103,並並構成光罩載物臺的基部。 光罩載物臺105支撐光罩110以使上平板1〇3連接至下平板 102的下方,其中光罩11〇直接設置在上平板1〇3上,進而允許光 罩則盡可能近地靠近基板114。所以,光罩載物臺之下平板1〇2 與上平板103的中部為空的’進而允許來自照射光學系統1〇1的 光線通過光罩11〇前進,並發散到基板114上。 此外,光罩載物臺105的四角由棒狀的光罩載物臺支架12〇 支撐。 在光罩載物臺105的下方設置有基板114與χ軸驅動板113 及y軸驅動板112,用於移動所安裝的基板114。 7 1308995 y轴驅動板U2絲在支撐切⑴上。-縱執道沿著y輪 的方向安衣在支撐卡盤lu上’並且y軸驅動板"a與此軌道連 接,因此基板可以沿著y軸方向移動。此外,在y軸驅動板山 上也安裝有-預定執道,並且x軸驅動板1Π與此軌道連接,因 此基板也可以沿著X軸方向移動。 基板114絲在χ軸麵板113上,錢職作χ轴驅動板 113與y軸驅動板112 ’將基板m移動至某一座標位置。由於通 常基板114尺寸大於光罩,因此在基板m移動時,需要執行多 们曝光%序。透過上述方式,轉移光罩職至整個基板114上。 由於曝光裝置需要將完好的光罩圖案轉移至基板上,因此對 應曝光裝置來說’财定位鮮_臺與基板是㈣要的。因此, 為了精確定位光罩臺絲板,在光罩載物臺上絲—定位照 _ (财未示出)’於基板與鮮載物臺之_定位,並且 文衣疋位鍵到基板或者x軸驅動板上。 定位照相機透過檢蚊倾_精確崎基板與光罩載物臺 進行定位。 但: …疋’由於x轴驅動板113與y軸驅動板112帛於移動基板, 2絲板與群_臺,因此存杉鮮確蚊1¾著容易地 更:::光罩與驗之局限,而且光罩嫩需要利用微米或者 、早位進仃定位’目此上述局限也是—個問題。 【發明内容】 1308995 鑒於以上的問題,本發明的主要目的在於提供一種光罩定位 裝置,以及利用近接式曝光裝置精確地定位光罩與基板。 本發明的另一目的在於提供一種光罩定位裝置,其不會由於 具有較大光罩載物臺之曝光裝置的負載而導致缺陷調整,透過安 裝此種光罩定位裝置,進而可以不受到光罩載物臺之負載的影響。 本發明之又-目的在於提供一種光罩定位裝置及方法,進而 克服先前技術所存在的局限及缺點。 口此為達上述目的及優點’本發明所揭露之曝光裝置包含 疒光罩載物臺、負載支標單^、引導單元、支架、基板以及驅 動板。於此’光罩載物臺包括光罩固定臺與基座臺,其中光罩固 定臺用以岐鮮,基座臺驗支撐料 用於分散光罩固定臺之酿基座臺上,引導單元設 先罩峡臺,支朗於狀鮮載物臺。純上特轉移有光罩 圖案,驅動板則用於移動基板。 此外’賴本發明’鮮峡臺錢在基縣財央區域, =由㈣支撐單元與基座錢接。_讀單摘—側透過連 定臺連接’並且負載支撐單元的另-側與基座臺連 =,動元制以插人至每個所述負蚊撐單讀基座臺之 間’進而允許光罩固定臺在基座臺上稍微移動。 罩固疋臺四謝物—竭,y軸方向^ 1308995 軸方向移動光罩固定臺。 曝光破置中,即使光罩固定臺較大且重, 由於負蚊料祈《衫料岐臺之重量 可:=動光罩固定臺。因此,在需要精確定位基板與光罩 之曝光裝置中’可以獲得精確的定位。
依照本發日狀-方面,提財曝光裝置包含:光罩載物臺、 至少-個負載支撐單it、至少—则導單元、至少_個支架,以 及至少一個驅動板。光罩載物臺包括-光罩_臺與—基座臺, 其中固ΐ鮮至光糊定臺上,総臺驗切群固定臺。負 载支撐單元祕分散群目定臺之貞載至基座臺上,引導單元設 置用於祕光糊定臺,絲驗支撐鮮臺,驅動板則用 於移動基板,其巾光罩之圖案即將轉移至此基板上。 依照本發明之又一方面,所提供之曝光裝置包含:光罩載物 臺,_臺以及至少-则導單元;於此,光罩載物臺包括光罩 固定臺以固定支撐光罩,基座臺用於支撐光罩固定臺,至少一個 引導單元配置在基座臺中,與光罩固定臺連接,並用於移動光罩 固定臺’進而沿預定方向移動光罩。 依照本發明之一方面,揭露了一種利用曝光裝置進行基板與 光罩定位之方法,此曝光裝置包含光罩固定臺、至少一個引導單 元,以及至少一個基板驅動元件,其中光罩固定臺固定支撐光罩, 至少一個引導單元移動光罩固定臺,至少一個基板驅動元件移動 10 1308995 基板’此方法包含下列步驟:義操作至少—個基板驅動元件, .粗略地移祕板,啸略定絲板與拉;以及透過操作至少一 .個引導單元’細緻地移動光罩赋臺,以精確定位基板與光軍。 關於本發明之上収魏目的,優點,方面及·將結合圖 式在下文中給出詳細說明。 【實施方式】 有關本發明的特徵與實作,兹配合圖式作最佳實施例詳細說 明如下。 現在結合「第2圖」對本發明之近接輕絲置之結構進行 說明。 「第2圖」為顯示本發明之近接式曝光裝置之光罩載物臺2〇〇 與支撐光罩載物臺200之支架202的透視圖。 參考「第2圖」,依照本發明之光罩載物臺2〇〇包含有矩形基 _座臺2(H,光罩固定臺204,支架202,負載支撐單元206,以及 複數個引導單元。於此,矩形基座臺2〇1構成光罩載物臺的基底; 光罩固定臺204形成在基座臺201的中部,具有預定圖案的光罩 210固定到光罩固定臺204上;支架202與基座臺201的邊緣連 接’以支撐基座臺201 ;負載支撐單元206承受光罩固定臺204 的載重,並連接光罩固定臺204與基座臺201 ;以及複數個引導單 元205a,205b以及205c用以精確地移動光罩固定臺204。 光罩載物臺200、基座臺201以及光罩固定臺204通常為矩 1308995 形,但是也可以具有其他的形狀。此外,用於支撐光罩載物臺2〇〇 之支木202被女裝在基座臺2〇 1的四個角上。 支架202可以為四個柱狀物,分卿成在基座臺观的四個 角,並可以沿著垂直方向延伸’進而控制光罩載物42〇〇的高度。 支架202與基座板連接,以組成曝光裝置的底部。 基座臺201上用於安裝光罩固定臺2〇4之中央區域為空的, 並且將光罩_臺204安裝到此中空部。安裝到中空部的光罩固 定臺204之中心區域也具有中空部。光罩21〇安裝至光罩固定臺 204的中空部’因此接收照射光學系統(例如「第1圖」所示之 ιοί)發射之光線。對於基座臺201與光罩固定臺2〇4而言,其中 空部也可以形成在其他位置,而不是其中央區域。 由於設計本發明實蝴之曝絲置義㈣絲大的液晶顯 示面板或者類_裝置,則絲也應#是大的,進㈣大型的液 晶顯示面板進行曝光。因此’用於固定光罩的光罩固定臺綱尺 寸也應當變大。如果大的光罩固定臺綱由金屬材料形成,則光 罩固定臺204具有較大的重量,甚至可以達到嘴的重量單位。因 此,需要-7G件,以抵抗光罩固定臺辦之重量並連接光罩固定 s: 204與基座臺20卜此外,由於上述原因,本發明之實⑽_ 供了負載支撐單元206。 至少一個負載支撑單元2G6形成在光罩狀臺204的四側, 亚亚透過任意連接元件,例如「第4圖」所示的螺釘挪,將負載 1308995 支撐單元206與光罩固定臺2〇4 插入基座臺201與負裁支撐單元
移動。關於| 上的滾珠軸承直接連接, 連接一起。此外,利用滾珠軸承 206之間,進而將負载支撐單元 载支撐單元206能夠 關於負載支撐單元之_將在下文情細說明。 也就是說,承載支撐單元與形成 連接,並可以在滾珠軸承上稍稍 ★光衣置的姆要的技術結構是定位絲與娜光基板。 因此,提供例如複數_位鍵至需要曝光的基板或者是基板驅動 板^,以定錄板以顧朗鮮_臺上狀罩,並在光罩载 物;S:上提供用於侧定賴的制照械。並且,由於藉由支架 將光罩載物fg]定職底板上,因此,需魏置—基板驅動系統, 以移動基板進行光罩與基板之間的定位。 。除引導單元205a至瓶之外,本發明提絲板驅動板作為 支禮與驅祕板的元件。這些基板驅板板形成在鮮載物臺2〇〇 的下方,並且包含X軸驅動板與y軸驅動板,其中X軸驅動板能 夠/σ X軸方向移動基板’ y軸驅動板可以沿y軸方向移動基板。上 述X軸驅動板與y軸驅動板可以與先前技術之驅動板,例如與第1 圖編號112與113對應的驅動板相同或者相似。 X軸驅動板或者y軸驅動板與位於基底板上的執道連接,進而 沿著X軸方向或者y軸方向移動基底板。 此外’例如,假設X軸驅動板形成在基底板上,y軸驅動板形 1308995 成在X軸驅動板上,以沿y軸方向移動基板。這樣,透過操作χ 軸驅動板以及y軸驅動板,則能夠移動基板至預定位置。一般而 言,由於基板的大小大於光罩,因此可以移動基板進行完全曝^。 因此,本發明提供有引導單元2〇5a_2〇5c,當定位光罩^基板 時,引導較抓梟可以脫離基板的移動(基板移動由基ς驅 動板控制)精確地控制光罩的移動。 透過控制與光罩直接連接之光罩固定臺204的移動,引導單 元可以對光罩提供精確的定位。 為了精確定位光罩及基板,光罩應當沿χ轴,y轴以及0轴方 向移動。在本發明中,至少三個引導單元205a、205b與205c提 供在光罩固定臺204四側邊中的至少三側處,進而沿著χ轴,y 軸以及Θ軸方向移動光罩210。 引導單元205a、205b與205c用於移動光罩固定臺2〇4,並分 為X軸驅動引導單元2〇5a、y軸驅動引導單元2〇5b以及時驅動 引導單元205c。X軸驅動引導單元2收沿χ軸方向移動光罩固定 臺204,y軸驅動引導單元205b沿y軸方向移動光罩固定臺2〇4 ’ 而Θ軸驅動引導單元205c則透過結合x軸驅動引導單元2〇5&及乂 轴驅動引導單元205b’允許光罩固定臺綱沿著θ轴方向,即關 於z軸的旋轉方向進行旋轉。 因此’在藉由本發明之曝光裝置定位光罩與基板時,首先利 用χ轴驅動板與y軸驅動板(基板驅動板)粗略地對基板與光罩 1308995 定位’然後進一步透過引導單元205a_205c精確且細緻地移動光罩 . 固定臺,進而精確定位光罩與基板。 • 這裡,引導單元205a、205b及205c與光罩固定臺2〇4之間 分離開狀的間隔(間隙),進而不會受到光罩固定臺綱負載對 它們的影響。這是因為’如果引導單元205a-205c直接安裝在光罩 口疋至204的下方,光罩固定臺204自身的較大載重能夠對引導 單元2G5a 2G5e g此,變得難於精確地控制光罩 固定臺204。將諸如片彈簧_接件安裝至上述間隙處,以連接光 罩固定臺204與對應的引導單元。 口此’本發明之曝光裝置藉由負載支撐單元施抵抗光罩固 定臺204之負載’並進而支撐光罩固定臺2〇4。並且,藉由滾珠轴 承或者其他連接件連接每個負載支樓單it 2G6與基座臺201,進而 當透過引導單元205稍微移動光罩固定臺204時,可允許光罩載 _物臺200在預定範圍内自由移動。 下面參考「第3圖」,對本發明實施例之光罩載物臺2〇〇之平 面結構進行詳細說明。 茶考第3圖,光罩載物臺2〇〇包含有:矩形基座臺基座臺 2〇卜以構成光罩載物臺的基礎;以及光罩固定臺綱,安裝在基 座臺201的中部,並為矩形結構。。 基座臺201中間為空的,進而可以將光罩固定臺2〇4安裝其 中光罩固定臺204安裝在基座臺2〇1的中空部。如果將光罩載 1308995 物臺200用於曝光較大的液晶顯示面板’則光罩載物臺2〇〇可以 具有較大的尺寸,例如達到數米的寬度與長度,並可以重量很重, 而且由於光罩固定臺204由金屬材料製造而成,例如紹合金,因 此也可以具有很大的重量。 為了支撐較重的光罩固定臺204,本發明特別提供了一或多個 負載支撐單元206,以支撐光罩固定臺204。 負載支撐單元206可以分別安裝到矩形光罩固定臺2〇4的四 *個角,或者角邊區域’以連接光罩固定臺204與基座臺2〇1,並將 光罩固定臺204的載重分散到基座臺2〇1上。負载支撐單元2〇6 也可以安裝在其他位置。 透過例如螺釘或其他類似的固定元件,將負載支撐單元2〇6 的-側與光罩固定臺204連接到一起,並且透過將滾珠轴承或者 類似元件插入到負載支撐單元2〇6的另一侧與基座臺2〇1之間, •進㈣它們連接起來。也就是說,砂複數嫩珠軸承被安裝到 基座臺2〇1力上端,即負載支撐單元應與基座臺2〇1連接的\ 域,因此負載續單元2Q6可以在基座臺2(M上在—定範圍 動’進而允許光罩_臺2Q4 (其_到負載支撐單元观上 預定的範_於光|鑛臺上移動。 每個負載支撐單元2〇6均可以形成在光罩固定臺綱四 中的其f之一上’但是可以安裝任—負載支撐單it 206至光罩固 定臺2〇4的每個角落或者其他位置。 16 1308995 在基座臺2〇ι上安裝複數個引導單元2〇5,作為驅動元件移動 矩形光罩固定臺204。為了安裝各個引導單元2Q5,切割掉基座臺 201上側的-部分’以形成—個凹槽。即,安裝每個引導單元挪 至基座臺201上對應的凹槽部,因此引導單元的上表面可以與光 罩固定臺204之上表面位於相同的平面冰平面。 、 可以分別安裝至少三烟導單元挪至矩形光罩固定臺2〇4 的三個側邊或其他位置處,以允許光罩_臺綱分別沿x轴方 向,y轴方向及叫方向精確地移動。即,χ車由引導單元抓用 於驅動光罩_臺2〇4沿X轴方向在歡範_移動,y轴引導單 疋〇5b用於驅動光罩固定臺2〇4沿y軸方向在預定範圍内移動, 並叫哪單元她’刺導單元編以及咖導單元施 同叫合用於光罩固定臺2〇4沿Θ轴方向移動。引導單元撕之 動力傳遞單元透過諸如片彈簧的連接件與光罩固定臺綱連接。 光罩固疋室204的令部為空的。如「第2圖」所示光罩別 =财的圖案’並安裝光罩彻在㈣部,透過照射光學系統 之發政光線將光罩_轉制其下方的基板上。 贴結合「第4圖」對本發明實施例之引導單元挪與負載 支撐早TC2G6之構架進行詳細說明。 「弟4圖」所示為安裝於光罩載物臺2〇〇之本發明之 元205與負載支撐單元2〇6之透視圖。 負載支撐單元2G6安裝在光罩_臺綱的四角,並且引導 1308995 單疋205對應光罩固定臺2〇4四個側邊中的至少三側,形成 座量201上,用於光罩固定臺2〇4。 土 如「第4圖」所示,藉由連接件,例如螺釘23〇連接每個負 载支撐單元206與光罩固定臺204,並透過光罩固定臺2〇4之滑動 疋件’諸如滾珠轴承220 ’連接負載支樓單元2〇6與基座臺則。 每個引導單元205比如藉由活塞運動線性地傳遞動力,並允 蜂光罩固定臺2〇4沿χ軸方向,y軸方向及/或Θ軸方向移動。 每個引導單it 205的頭部包括有動力傳遞單元,以傳遞動力 至光罩固定臺謝’並且動力傳遞單元之上表面透過諸如片彈菁的 連接件2〇8 ’互相連接引導單元2〇5與光罩固定臺2〇4。使用片彈 簧作為連接件2G8的原因是,片彈簧能夠正確地傳遞引導單元2〇5 的動力’甚至在光罩固定臺204移動的情況下。因此,較佳地是, 動力傳遞單元的上端與光罩_臺綱之上表面位於相同的水平 面’以適當地傳遞引導單元205的動力。 下面參考「第5圖」,對本發明引導單元2〇5之結構實施例進 行詳細說明。 參考「第5圖」,本發明之引導單元2〇5包含動力產生單元3〇1 諸如馬達,以產生動力;動力產生單元支架3〇2,以支撐動力產生 單元301;滾珠螺桿單元304,用於傳遞動力產生單元3〇1之動力; 滾珠螺桿支架303 ’用於支撐滾珠螺桿;以及動力傳遞單元3〇5, 以傳遞動力至光罩固定臺204。滾殊螺桿單元3〇4可包含用於接收 1308995 動力的軸。 ' _動力傳遞早兀305包含導執部31〇,滑動部3u,動力傳遞單 =上平板312,以及連接件固定元件313。於此,導執部310用於 提供動力傳遞單元305水平移動的路徑,滑動部3ιι在導執部训 上運動,以移動動力傳遞單元305。動力傳遞單元上平板312安裝 在滑動部311上’連接件固定元件313用於固定連接件期,其中 連接件遍在動力傳遞單元上平板犯中連接光罩固定臺2〇4與 •動力傳遞單元305。 因此’透過滾珠螺桿移動動力傳遞單元3〇5,進而來回移動動 力產生單7L 301所產生之動力,並因此透過連接件移動與動力傳 遞單元305連接之光罩固定臺2〇4。 、 引導單元2G5形成在矩形光罩_臺204四側邊中的至少三 側,並沿X軸方向與y轴方向移動光罩固定臺204。此外,當聯合 籲三個引導單元執行操作時,可以對光罩固定臺綱進行旋轉。 並且,依照本發明,在光罩固定臺的下方提供有X轴驅動臺 (板)_ y軸驅動宜(板),以沿χ軸與y軸移動即將圖案化之基 ^透過驅動臺’基板可以軸至預定的位置,並藉由照射光二 穿過光罩载物臺使得整個基板曝光。 •依照本發明之曝光裝置,透過移動用於基板移動之基板驅動 臺,進而對基板初步或者粗略地進行定位,缝藉由引導單元# 密且細緻地控顺移動光罩_臺。因此,完賴光罩载物臺: 19 1308995 基板的精確定位。 因此,在需要較高精度之曝光裝置愧夠精確地定位基板盘 先罩载物I:。此外,提供用於切較妓辣物臺之負載支撐單 p以允許將單元精確軸。g此,可以錢 地控制光轉級之粒。
於此’本發明之曝綠置配置村導單元,雜動光罩載物 $,以及負載支撐單元,以轉輕載物臺的重量。因此,可以 精確定位光罩載物臺,並且因此㈣精確蚊位拉與基板。 此外,由於還提供了基板驅動板和驅動光罩載物臺之引導單 疋’因此相無輯地在林_臺與基板之間進行精確定位。 本發明之曝光裝置可應祕任簡由光罩進行曝光以實現圖 案化或其他目的之基板或財。例如,基板可以是位於諸如液晶 顯示裝置之顯示裝置中的層。 —雖穌發_前述之健實_揭露如上,雜並非用以限 疋本發明,任何熟習相像技藝者,在不麟本發明之精神和範圍 内田可作些终之更動與潤錦,因此本發明之專利保護範圍須視 本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 第1圖為先前技術近接式曝光裝置之前視圖; 第2圖為本發明實施例之近接式曝光裝置之光罩載物臺之透 視圖; 20 1308995 第3圖為第2圖所示本發明之光罩載物臺之平面圖; 第4圖為本發明實施例之引導單元與負載支撐單元之透視 圖;以及 第5圖為第4圖所示本發明之引導單元之透視圖。 【主要元件符號說明】
101 102 103 105 110 、 210 111 112 113 114 150 200 201 202 204 205a 、 205b 、 205c 206 照射光學系統 下平板 上平板 光罩載物臺 光罩 支撐卡盤 y軸驅動板 X軸驅動板 基板 基座板 光罩載物臺 基座臺 支架 光罩固定臺 205引導單元 負載支撐單元 1308995 208 連接件 220 滾珠轴承 230 螺釘 301 動力產生單元 302 動力產生單元支架 303 滾珠螺桿支架 304 滾珠螺桿單元 305 動力傳遞單元 310 導軌部 311 滑動部 312 動力傳遞單元上平板 313 連接件固定元件
Claims (1)
1308995 十、申請專利範圍: l 一種曝光裝置,包含有: -光罩載物臺,該光罩载物臺更包括有·· -光罩固定臺’用㈣定—光罩;及 一基座臺,用於支撐該光罩固定臺; 至少一個負載支撐單元 該基座臺上; 用於分散該群峡臺之負載至
至少-個5ί導單元,設置於移動的該光罩固定臺,其中卞 一該至少一個引導單元包含有·· 〜母 一動力產生單元,以產生動力; 一動力傳遞軸,用於傳遞該動力產生單元之動力. 一動力傳遞軸支架,用於支持該動力傳遞輛; 一動力傳遞單元,用於傳遞該動力產生單元之動力至 該光罩固定臺上;以及
一連接件,用於連接該動力傳遞單元與該光罩固定 臺; 至少一個支架,用於支撐該光罩載物臺;以及 至少一個驅動板,設置於移動的一基板,其中該光罩之一 圖案轉移至該基板上。 2·如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置,其中該光罩固定臺安 表在δ亥基座臺的中央區域,並該至少一個負載支撑單元與該基 座臺連接。 23 1308995 3. 如申请專利範圍第1項所述之曝光裝置,其中每一該負載支撐 單元的一側透過一連接件與該光罩固定臺連接,並且每一該負 載支撐單元的另一側與該基座臺連接;以及 其中,該曝光裝置更包含有一滑動元件,用以插入至每— 該負載支撐單元與該基座臺之間,進而允許該光罩固定臺在該 基座臺上稍微移動。 4. 如申請專利細第1項所述之曝光裝置,其_該至少一個負載 支撑單元包含有安裝於該光賴定臺之肢的複數個負載支 撐單元。 5.如申請專利範圍第i項所述之曝光裝置,其中該至少―個引導 單元包含有複數個料單元,安裝於該鮮蚊臺至少三側 邊,並稍微移動該光罩固定臺。 6.
8. 如申請專纖_ 5項所狀曝絲置,料減個導引單元 係設置於該光翔定臺的至少三_,如賴光糊定臺沿 x軸方向,y軸方向以及<9軸方向移動。 =申請專利細第1項所述之料裝置,其中該至少一個引導 單元之動力藉由-連接件傳遞至該光相定臺上。 如申凊專利粑圍第7項所述之曝絲置,其中該連接件為一片 彈簧。 9. 一種曝光裝置,包含有: -光罩載物臺,其中該料義臺更包含有: 1308995 —光罩固定臺,設置用於固定支撑一光罩; —基座臺,用於支撐該光罩固定臺;以及 至少一個引導單元,配置在該基座臺中,與該光罩 固定臺連接,並用於移動該光罩固定臺,進而沿預定方向移動 該光罩’中每一該至少一個引導單元包含: 一動力產生單元,以產生動力; 一支架,以支撐該動力產生單元;以及 一動力傳遞單元,以傳遞該產生動力至該光罩固 定臺’進而移動該光罩固定臺。 10·如申請專利範圍第9項所述之曝光裝置,其中該至少—個引導 单元包含複數個引導單元,以選擇沿\軸方向,y軸方向,以 及θ軸方向移動該光罩固定臺。 士申明專利範圍第1〇項所述之曝光裝置,其中該複數個引導 單疋配置在該光罩m定臺的至少三側邊。 12. 如申請專利範圍第9項所述之曝光裝置,更包含有: 至》一個負載支撐單元,用以分散該光罩固定臺之負載至 該基座臺。 13. 如申睛專利關第n項所述之曝光裝置,其中每—該至少一 们負載支撐單疋包含—第一端部與一第二端部,該第一端部與 該光罩固定臺固定連接,該第二端部與該基座臺彈性連接Γ 25 1308995 R如申請專觀項所述之曝光裝置,更包含有. - 至少—織__件,驗雜1舰般光照曝光 基板,進而互相定位該基板與該光罩。 a如申請專利範圍第丨4項所述之曝光裝置,其帽至少-個基 板驅動元件粗略地移動該基板,並且該至少一個引導單元細緻 地移動該光罩固定臺。 ’ 16. 如申請細_ 14項所述之曝綠置,其中該基板為一液 晶顯示裝置層。 17. 一種_曝光裝置進行基板與鮮定狀方法,鱗光裝置包 含有-光罩固定臺、至少―㈣導單元,以及至少—個基板驅 動元件,其中該光罩固定臺固定支撐該光罩,該至少一個引導 單元移動該光罩固定臺,該至少一個基板驅動元件移動該基 板’該方法包含下列步驟: 透過操作該至少一個基板驅動元件,粗略地移動該基板, > 以粗略定位該基板與該光罩;以及 透過操作該至少一個引導單元’細緻地移動該光罩固定 臺’以精確定位該基板與該光罩,其中每一該至少一個引導單 元包含:一動力產生單元,以產生動力;一支架,以支撐該動 力產生單元;以及一動力傳遞單元,以傳遞該產生動力至該光 罩固定臺,進而移動該光罩固定臺。 18·如申請專利範圍第17項所述之利用曝光裝置進行基板與光罩 26 1308995 定位之方法,其中在執行該粗略地移動該基板步驟之後,執行 該細緻地移動該光罩固定臺之步驟。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050022863A KR101130890B1 (ko) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | 근접노광형 노광장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200634451A TW200634451A (en) | 2006-10-01 |
TWI308995B true TWI308995B (en) | 2009-04-21 |
Family
ID=37002590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW094147568A TWI308995B (en) | 2005-03-18 | 2005-12-30 | Proximity type exposure apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7692770B2 (zh) |
KR (1) | KR101130890B1 (zh) |
CN (1) | CN100465793C (zh) |
TW (1) | TWI308995B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI584075B (zh) * | 2013-07-18 | 2017-05-21 | 財團法人國家實驗研究院 | 一種晶圓步進曝光裝置及一種晶圓步進曝光方法 |
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---|---|---|---|---|
JP5097517B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2012-12-12 | Hoya株式会社 | プロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置、プロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法、プロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 |
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USD702245S1 (en) * | 2012-01-11 | 2014-04-08 | Victor Susman | Scanning frame |
KR20150101906A (ko) * | 2014-02-27 | 2015-09-04 | (주)브이앤아이솔루션 | 얼라이너 구조 및 얼라인 방법 |
NL2014864B1 (en) * | 2015-05-27 | 2017-01-31 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Device for treating a disc-shaped substrate and support adapter. |
CN109491201B (zh) * | 2018-12-26 | 2024-01-19 | 仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司 | 一种掩膜版用高精度二维运动机构 |
CN116974152A (zh) * | 2023-07-31 | 2023-10-31 | 苏州天准科技股份有限公司 | 多自由度调平的物料输送装置及非接触式曝光设备 |
CN117369223B (zh) * | 2023-12-08 | 2024-02-27 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种调平装置及光刻机 |
CN117850172A (zh) * | 2024-01-30 | 2024-04-09 | 深圳市龙图光罩股份有限公司 | 曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4514858A (en) * | 1983-03-15 | 1985-04-30 | Micronix Partners | Lithography system |
US4525852A (en) * | 1983-03-15 | 1985-06-25 | Micronix Partners | Alignment apparatus |
US4544311A (en) * | 1983-03-15 | 1985-10-01 | Micronix Partners | Mask alignment apparatus |
DE68911330T2 (de) | 1988-02-08 | 1994-05-26 | Toshiba Kawasaki Kk | Vorrichtung mit einem Ausrichtungsgestell. |
JPH067544B2 (ja) * | 1990-04-13 | 1994-01-26 | 測英舎株式会社 | 両面アライナ用試料位置決め機構 |
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JP2004153094A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
-
2005
- 2005-03-18 KR KR1020050022863A patent/KR101130890B1/ko active IP Right Grant
- 2005-12-29 CN CNB2005101329676A patent/CN100465793C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-29 US US11/319,387 patent/US7692770B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-30 TW TW094147568A patent/TWI308995B/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN1834787A (zh) | 2006-09-20 |
KR20060101036A (ko) | 2006-09-22 |
CN100465793C (zh) | 2009-03-04 |
KR101130890B1 (ko) | 2012-03-28 |
TW200634451A (en) | 2006-10-01 |
US7692770B2 (en) | 2010-04-06 |
US20060209288A1 (en) | 2006-09-21 |
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