TWI287045B - Method for sputter-coating multilayer film on sheet work-piece at low temperature - Google Patents
Method for sputter-coating multilayer film on sheet work-piece at low temperature Download PDFInfo
- Publication number
- TWI287045B TWI287045B TW94115714A TW94115714A TWI287045B TW I287045 B TWI287045 B TW I287045B TW 94115714 A TW94115714 A TW 94115714A TW 94115714 A TW94115714 A TW 94115714A TW I287045 B TWI287045 B TW I287045B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- sheet
- workpiece
- multilayer film
- production
- oxide
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
1287045 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於-種低溫激鍍多層膜於片狀工件之方 法,主要係利用片狀卫件容易設置連續式生產線的特性, 排定連續式生產的流程,使用電漿潔淨片狀工件之表面, 並且組合傳誠鍍生產機台,來達成安裝方便性及高級材 料量產方便之達成。而且較習知之生產IT〇高級多層膜面 板的料卷式艘膜的方法為優良。
【先前技術】 一在光電原材料生產工業中,極為重要的原材料為⑽ 局級多層膜面板的生產及其生產控制方法,該^ 著光電產品要求產品良率提高、生產控也伴鼢 速生產等魏的要求讀顯衫,更有與 低、快 色的態勢。ITG高級多層膜面板的生產玉,平分秋 種類光電I業相關,如液晶顯示器、有機技術更與多 器及場發射顯4科;ITG高❹層膜面顯示 根據各產業對於材料需求來要求控制ΙΊΌ高級 求的 U ’ ;t其是大尺寸面板時亦表示其需要 、面板 原材料。 <艮之基本 如一般使用大眾所認知的,ΙΤ0高級多層膜 關技術是指從光電產業中作為基材及用到透明電I生產相 原材料,幾乎所有高級的面板製程皆以IT 〕之基礎 板為基礎,ITQ高級多層膜面板與其它的一了層膜面 裝於-個聯線結構之中,成為—電子產品=共同組 W建成一特定 1287045 « 設計功能。ΙΤ0高級多層膜面板需求的功能有三,分別H 電能傳送(Power Distribution)、訊號傳送(Signai Distribution)、透光性(Transparency)。 請參考如第一圖所示,其為一般常見之IT〇多層膜面 板料卷式生產流程示意構造,其排配流程為原料卷 • 電漿3〇a鍍膜流程(一般為ΙΤ0或是氧化物層)及收^卷 ‘ 2 0 a,g夕層鍛膜流程施>f于時,生產線會拉得彳艮長,此時 原料卷10 a到收料卷20 a之間的材料張力不夠,要加裝 • 張力輪,但是張力輪有時會歪斜卡住料帶,因此習知的^ 多層膜方法不単只有設備不易設置而且會有維護上的問 題,因此其生產方便性僅限於鍍少量膜層之產品,因此有 必要採用較為快速而且可靠的方法來生產丨TO高級多層膜 ^ 面板,尤其是基礎材料為高分子材料如透明壓克力時(PMMA 板材),來符合實際應用之要求。 因此,對現今市面上大部分需要IT〇高級多層膜面板 之光電產業而言,穩定生產及生產控制為製造過程之重要 • 需求,且導致發明人經努力研發出本發明來達成上述之需 求。 【發明内容】 本發明之主要目的在於提供一種利於穩定生產及生產控制, 而能使用傳統濺鍍機台簡單組合改良即低溫濺鍍多層膜於片狀工 . 件之方法(可以用於多層膜原料生產),可用於以ΙΤ0高級多層膜 - 面板為原材料來生產光電產品需求之工業(如如液晶顯示器、有 機發光二極體顯示器及場發射顯示器等等或光感測器),可以提供 1287045 低成本鬲品質之製程生產功效。 為了達成上述目的,本發明提供一種低溫濺鍍多層膜於片狀 工件之方法,主要係利用片狀工件容易設置連續式生產線的特 性,排定連續式生產的流程,使用電漿潔淨片狀工件之表面,配 口傳統生賴程及製雜度低的週邊設備,將各該製程步驟結合 在一起而發展出本發明。 口 本發明方法步驟包含:將片狀工件施以電漿處理以潔淨表 面;將片狀工件濺鑛至少一層金屬氧化物或半導體氧化物、|及將 片狀工件濺鑛至少-層ιτο透明導電層;其中該片狀工件經過之 鑛膜相關處理為-使用-工站連續相接之生產過程,使得片狀工 控制在—預定細之内;其中該錄工件為 * =使貴審查委員能更進—步瞭解本發明之特徵及技術内 :征下有關本發明之詳細說明與_,_所附圖式僅 祕參考與說日’並_來對本發·以限制者。 【實施方式】 凊參考第二A圖、第二B圖 第 釐炎^ 不一A圖、第三B圖等 為以壓克力板(p職)之片狀工件設 狀定連續式生產的流程,使用電漿潔淨片 =工件之表面(步驟LdBf及“卜丨),配合 製程難度低的週邊設備,將各該製 / 主 _到UnLd)對於_ IT0高.級在1步驟 驟對於設備規格_®,其中起始狀’%做規狀步 進料步驟(LD,L_),再進人將片壓克力板進入 于月狀工件濺鍍至少一層金 ⑧ 7 1287045 屬氧化物或半導體氧化物之步驟(Lpt-l到L3-2)由圖中觀 察可知本實施例中至少濺鍍了兩層石夕Si氧化物(無材為石夕 但是濺1鍍過程會形成氧化物薄膜)及一層鈮Nb氧化物(% 材為銳但是機鍍過程會形成氧化物薄膜),而後段製程則至 少機鍛了一層ΙΤ0透明導電層(L4in到L4out),本實施例 說明片狀工件對於傳統濺鍍產品生產線安排上具有極為方 便的特性’產品線之設計工程師只要將半導體對於晶片做 處理之生產線加以略為修改即可以用於是本發明之連續形 式之尚級多層膜面板之濺鍍製程。透過本說明書的各圖, 可看出本發明之主要方法依據。 本發明方法步驟包含(參考第四圖):將片狀工件施以 ,,處理以潔淨表面(sm);將片狀工件濺鑛至少一層金 —【化物或半導體氧化物(S1G3);及將片狀工件濺鑛至少 :二該片狀工件經過之鍍媒 工件的工址門、 連々相接之生產過程,使得片狀 狀工件為高分二::=在-預定範圍之内;其中該片 件鍍膜::玆::::::二化:其中該片狀工 (軸需要工件表面乾絮淨等級範圍之内 站間係為以輸送帶或是自動工件在於各鑛膜工 其中該金屬氧化物為^Nb =(類似半導體製程); 矽Si之氧化物;進一牛勺紅軋化物或該半導體氧化物為 即壓出片狀工件之步驟於所有製造步驟之前, 〜上游製程可以控制工件尺 8 1287045 寸)ο ,提供一
本發明之特徵與方便之處在於 產及生產控制, 用於多層膜原料生
溫激鍛多層膜於 產)’可用於以ΙΤ0高級多層膜面板/ 品需求之工業,可用於以ττ〇宜纽, 成本高品質之敎製程減,並且設置成本低及對傳統光 電產業生產線影響不大。 本發明有以下優點:(1)新製程設置容易,所需新添設 備價格及技術要求皆不大(2)連續生產快速(3)可以用於其 他類似光電製品,可配合傳統製程。 綜上所述,本發明實為一不可多得之發明產品,極具 產業上利用性、新穎性及進步性,完全符合發明專利申請 要件,爰依專利法提出申請,敬請詳查並賜準本案專利, 以保障發明者之權益。 【圖式簡單說明】 第一圖:為習知技術的鍍膜產品線示意圖; 第二Α圖··為本發明實施例生產Π0高級多層膜面板的生 產線前半段之示意圖; 第二B圖:為本發明實施例生產ΙΤ0高級多層獏面板的生 產線後半段之示意圖; 9 ⑧ 1287045 第三A圖:為本發明實施例生產ΙΤ0高級多層膜面板的生 產線前半段生產貧料表格; 第三Β圖··為本發明實施例生產ΙΤ0高級多層膜面板的生 產線後半段生產資料表格;及 第四圖··為本發明生產流程圖。 【主要元件符號說明】 原料卷 10a 收料卷 20a 電漿 30a
Claims (1)
1287045 十、申請專利範圍: 1、 一種低溫濺鍍多層膜於片狀工件之方法,其步驟 包含: 將片狀工件施以電漿處理以潔淨表面; 將片狀工件濺鍍至少一層金屬氧化物或半導體氧化 物;及 將片狀工件濺鍍至少一層ΙΤ0透明導電層; 其中該片狀工件經過之鍍膜相關處理為一使用一工 站連續相接之生產過程,使得片狀工件的工站間延遲時間 控制在一預定範圍之内;其中該片狀工件為高分子材料所 構成。 2、 如申請專利範圍第1項所述之低溫濺鍍多層膜於 片狀工件之方法,其中該片狀工件鍍膜相關製程為維持在 一定數值之潔淨等級範圍之内。 3、 如申請專利範圍第1項所述之低溫濺鍍多層膜於 片狀工件之方法,其中該片狀工件在於各鍍膜工站間係為 以輸送帶或是自動推車輸送。 4、 如申請專利範圍第1項所述之低溫濺鍍多層膜於 片狀工件之方法,其中該金屬氧化物為鈮Nb之氧化物或該 半導體氧化物為矽Si之氧化物。 5、 如申請專利範圍第1項所述之低溫濺鍍多層膜於片 狀工件之方法,進一步包括一步驟於所有製造步驟之前, 即壓出片狀工件之步驟。 .⑧
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW94115714A TWI287045B (en) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | Method for sputter-coating multilayer film on sheet work-piece at low temperature |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW94115714A TWI287045B (en) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | Method for sputter-coating multilayer film on sheet work-piece at low temperature |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200639263A TW200639263A (en) | 2006-11-16 |
TWI287045B true TWI287045B (en) | 2007-09-21 |
Family
ID=39460203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW94115714A TWI287045B (en) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | Method for sputter-coating multilayer film on sheet work-piece at low temperature |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI287045B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI513840B (zh) * | 2014-12-25 | 2015-12-21 | Linco Technology Co Ltd | Production method of multilayer film |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101583735B (zh) * | 2007-01-09 | 2012-08-22 | 株式会社爱发科 | 多层膜形成方法及装置 |
-
2005
- 2005-05-13 TW TW94115714A patent/TWI287045B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI513840B (zh) * | 2014-12-25 | 2015-12-21 | Linco Technology Co Ltd | Production method of multilayer film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200639263A (en) | 2006-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN204893725U (zh) | 一种多功能亚克力板材单面抛光机 | |
WO2011122354A3 (en) | Exposure apparatus, exchange method of object, exposure method, and device manufacturing method | |
TWI287045B (en) | Method for sputter-coating multilayer film on sheet work-piece at low temperature | |
CN105988619B (zh) | 显示触控装置 | |
CN102427709A (zh) | 一种电磁屏蔽膜及其制备方法 | |
CN101807552B (zh) | 一种半透射式tft阵列基板制造方法 | |
CN202246524U (zh) | 光学透明双面胶带 | |
CN203077767U (zh) | 辊压装置 | |
CN103568455B (zh) | 板材加工装置及加工的方法 | |
CN202494795U (zh) | 一种带通滤光片 | |
CN102280164B (zh) | 一体化柔性触摸屏双面ito膜结构 | |
CN205648200U (zh) | 一种补强片多贴检查装置 | |
CN104793272B (zh) | 防止手机蓝光的方法与结构 | |
CN204259274U (zh) | 一种软硬结合板层压结构 | |
CN102074281A (zh) | 射频等离子的透明导电膜 | |
CN210402160U (zh) | 一种柔性触摸屏 | |
CN102253722A (zh) | 组合式电脑键盘 | |
CN210650055U (zh) | 一种线路板基板板面打磨装置 | |
CN203535981U (zh) | 一种具有正反结构的触摸屏导电膜 | |
CN204577465U (zh) | 增加蓝光芯片亮度的背面多层反射金属层 | |
CN102707848B (zh) | 一种在电容式触摸屏上制备纳米银导电层的方法 | |
CN209939633U (zh) | 触控膜加工用自动传送机构 | |
CN203490669U (zh) | 一种大片ogs基板 | |
CN203535980U (zh) | 一种改进型的具有正反结构的触摸屏导电膜 | |
CN206788836U (zh) | 一种显示模组及显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |