1270477 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於畫像形成裝置中當作曝光手段使用之行 列式光學頭模組，和具備此之畫像形成裝置。 【先前技術】 就以利用電子照片方式之印表機而言，所知的有行列 • 式印表機（畫像形成裝置）。該行列式印表機是接近成爲被 曝光部之感光體鼓筒之圓周上，配置帶電器、行列狀之印 表頭（行列式光學頭）、顯像器、複印器等之裝置。即是， 在藉由帶電器所帶電之感光體鼓筒之圓周上，依據以被設 置在印表頭之發光元件之選擇性的發光動作，執行曝光， 形成靜電潛像，以由顯像器所供給之調色劑像顯像該潛像 ，以複印器將該調色劑像複印至用紙上。 在此，以上述般之印表頭之發光元件而言，一般是使 # 用發光二極體。再者，近年來開發出將精度佳作成發光點 之有機電機發光元件當作發光元件的發光元件陣列，也提 案有將如此之發光元件陣列當作曝光手段的畫像形成裝置 (例如，參照專利文獻1)。 [專利文獻1]日本特開平1 1 - 198433號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 但是，作爲發光元件之有機EL元件至今無法滿足作 (2) (2)1270477 爲曝光手段之發光元件所求取之亮度（光量），因此，對於 使用如此有機EL元件之發光元件陣列所構成之印表頭（行 列式光學頭），尤其提高亮度（光量）則成爲大課題。 本發明是鑒於上述事情，其目的是提供一種提高自發 光元件所射出之光的亮度（光量），並提高印表頭（行列式 光學頭）之實用性的行列式光學頭模組，和具備該行列式 光學頭模組之畫像形成裝置。 [用以解決課題之手段] 本發明之行列式光學頭模組是具備排列配置多數發光 元件之光學頭而所構成，被配置成能夠相向於被設置成可 旋轉之感光體鼓筒，並且使上述發光元件之排列方向與感 光體鼓筒成爲平行，而對該感光體鼓筒構成曝光的行列式 光學頭模組，其特徵爲：在上述行列式光學頭之光射出側 ，並與上述感光體鼓筒之間，具有在與上述發光元件之排 列方向交叉的方向上構成聚光的聚光透鏡。 若依據該行列式光學頭模組，因具有僅在與發光元件 之排列方向交叉之方向構成聚光之聚光透鏡，故自各發光 元件所射出之光，是藉由透過聚光透鏡，不會在被排列之 發光元件間，互相干擾，各成爲獨立聚光。因此，不會損 害曝光機能，可提高自發光元件所射出之光的亮度（光量） ，依此可提高當作該行列式光學頭模組之曝光手段的實用 性。 再者，上述行列式光學頭模組中，即使上述發光元件 -5- (3) 1270477 爲電激發光（EL)元件亦可。有機EL元件等之EL元件之亮 度（光量）是例如比發光二極體之亮度低，如上述般，依據 聚光透鏡予以聚光，以提高亮度（光量），依此成爲充分具 備高實用性。 再者，上述行列式光學頭模組中，上述發光元件之各 發光畫素是被形成與該排列方向交叉之方向比該發光元件 之排列方向長爲佳。尤其，上述發光畫素是以長方形狀爲 Φ 佳。再者，上述聚光透鏡是將自上述各發光畫素所射出之 光，在上述感光體鼓筒表面上，各聚光成正交於上述發光 元件之排列方向的方向之長度，能夠成爲與該排列方向之 長度幾乎相等或未滿爲佳。 若形成如此，自各發光元件射出，以聚光透鏡被聚光 後之光，即使被成像於感光體鼓筒上之光，是成爲例如圓 形、正方形或是接近於該些之形狀，因此不會互相干擾， 成爲以高密度在感光體鼓筒上成像。依此，可提高解像度 • 形成精細之畫像。尤其，若依據將發光畫素當作長方形狀 ，使大約呈正方形狀聚光於感光體鼓筒上之構成，因發光 面積變寬，故可以確保大光量。 再者，上述發光畫素之上述發光元件之上述排列方向 的長度和交叉於上述排列方向之方向的長度之比，與該發 光畫素之亮度和在上述感光體鼓筒表面所要求之亮度之比 幾乎相等爲佳。若依據該構成，藉由以聚光透鏡聚光自各 發光畫素所射出之光，則可以在感光體上取得所欲之亮度 (亮度）。 (4) 1270477 在上述行列式光學頭中，上述發光元件之各發光畫素 是被形成與該排列方向大約正交之方向比該發光元件之排 列方向長，上述聚光透鏡是在與上述發光元件之排列方向 大約正交之方向構成聚光爲佳。若依據如此之構成，則可 以使來自整列所有之發光畫素的光，以1個聚光透鏡予以 聚光。再者，可以可以使該聚光透鏡之寬度成爲最小。 再者，行列式光學頭模組是具備有在上述行列式光學 φ 頭之光射出側上，配列使來自上述發光元件之光予以成像 的透鏡元件而所構成的透鏡陣列爲佳。 如此一來，自各發光元件所射出之光是更佳地被聚光 在感光體鼓筒上。 上述行列式光學頭模組是在上述行列式光學頭和透鏡 陣列之間，及透鏡陣列和上述感光體鼓筒之間，具備有上 述聚光透鏡爲佳。若依據如此之構成，則可以更有效率執 行上述聚光。再者，比以單一聚光透鏡執行聚光之時，因 φ 可以增大各聚光透鏡之曲率半徑，故可以薄化聚光透鏡。 並且，該行列式光學頭模組中，上述聚光透鏡是於相 向於上述感光體鼓筒之側的面相對於該感光體鼓筒爲凸的 曲面，相向於行列式光學頭之側的面爲平面的半圓錐體的 透鏡時，該聚光透鏡是該平面側被貼合設置在上述透鏡陣 列之光射出側之面上爲佳。 如此一來，因透鏡陣列和聚光透鏡互相被校準，故於 使用時，僅使包含有該透鏡陣列之行列式光學頭模校位於 感光體鼓筒即可，因此容易對感光體鼓筒校準，可防止因 1270477 (5) 校準不良所引發之曝光不均。 再者，因尤其將聚光透鏡之平面側貼在透鏡陣列，故 容易執行貼合，並且藉由一體化該聚光透鏡和透鏡陣列， 可謀求全體之小型化。 再者，上述行列式光學頭模組中，上述聚光透鏡是於 相向於上述感光體鼓筒之側的面相對於該感光體鼓筒爲凸 的曲面，相向於行列式光學頭之側的面爲平面的半圓錐體 % 的透鏡時，該聚光透鏡是該平面側被貼合設置在上述行列 式光學頭之光射出側之面上。 如此一來，因透鏡陣列和聚光透鏡互相被校準，故於 使用時，僅使包含有該透鏡陣列之行列式光學頭模校位於 感光體鼓筒即可，因此容易對感光體鼓筒校準，可防止因 校準不良所引發之曝光不均。 再者，因尤其將聚光透鏡之平面側貼在透鏡陣列，故 容易執行貼合，並且藉由一體化該聚光透鏡和透鏡陣列， ® 可謀求全體之小型化。 本發明之畫像形成裝置，其特徵爲具備有上述之行列 式光學頭模組。 若依據該畫像形成裝置，則如上述般，行列式光學頭 模組，由於提高自發光元件所射出之光的亮度（光量），並 提高作爲曝光手段之實用性，故提昇該畫像形成裝置本身/
I 之印刷性性能，也提昇所列印之品質。 1 再者，本發明之行列式光學頭模組，爲具有相向於被 設置成可旋轉之感光體鼓筒而被排列配置之多數發光元件 -8- 1270477 (6) 的行列式光學頭模組，其特徵爲，上述發光元件是被配置 成該發光元件之排列方向與上述感光體鼓筒之旋轉軸成爲 平行，在上述行列式光學頭之光射出側上配置聚光透鏡， 將藉由該聚光透鏡而被聚光之上述行列式光學頭之射出光 ，曝光於上述感光體鼓體。並且’上述聚光透鏡是將上述 行列式光學頭之射出光，聚光至與上述發光元件之排列方 向交差的方向。 【實施方式】 以下，針對本發明之實施形態’參照圖面予以說明。 並且，以下所參照之各圖面中，爲了易於觀看圖面，適當 變更各構成要素之尺寸等而予以顯示。 (行列式光學頭模組） 首先，針對行列式光學頭模組予以說明。 # 第1圖爲實施形態所涉及之行列式光學頭模組之斜視 截面圖。本實施形態之行列式光學頭模組1〇1是具備有排 列配置作爲發光元件之有機EL元件3 (參照第3圖）的行列式 光學頭1，和排列配置使來自行列式光學頭1之光予以直立 等倍率成像之透鏡元件而所構成之透鏡陣列3 1，和支撐行 列式光學頭1及透鏡陣列31之外圍部的光學頭盒52 ’並在 上述透鏡陣列31之光射出側之面上貼有聚光透鏡58而所構 成。 行列式光學頭1和透鏡陣列3 1是以互相校準之狀態’ -9- (7) 1270477 被光學頭盒52所保持，再者透鏡陣列31和聚光透鏡58是在 互相校準之狀態下被貼合，成爲一體化。在如此之構成下 ，行列式光學頭模組101是如後述般，僅以單對感光體鼓 筒9 (參照第9圖）執行校準，即可執行行列式光學頭1、透 鏡陣列31、聚光透鏡58之校準。 (行列式光學頭） φ 第2圖是模式性表示行列式光學頭1。該行列光學頭1 是將配列多數有機EL元件3而所構成之發光元件列3A ;使 有機EL元件3予以驅動之驅動元件4所構成之驅動元件部 ;和用以控制該些驅動元件之驅動的控制電路群，一體形 成在細長矩形的基板2上者。發光元件列3A在本實施形態 中，是將第2圖中之箭號方向當作排列方向3L形成兩個（兩 列），在該些發光元件列3A、3A中，各有機EL元件3是被 配置成棋盤格花紋狀。在此構成下，行列式光學頭1是該 # 長邊方向之有機EL元件3間之外表上之間距變小，因此可 以提昇後述畫像形成裝置之解像度。 並且，該行列式光學頭1是如後述般，該光射出側之 面相向於感光體鼓筒9而被配置，此時，上述發光元件列 3 A之整列方向3L，是被配置成與感光體鼓筒9之旋轉軸平 行。 有機EL元件3是在一對電極間至少具有有機發光層者 ，藉由自該一對電極供給電流至發光層，而予以發光。該 有機EL元件3中之一方電極是連接電源線8，另一方電極 -10- (8) 1270477 是經由驅動元件4而連接電源線7。該驅動元件4由薄膜晶 體（TFT)或薄膜二極體（TFD)等之開關元件所構成。驅動元 件4採用TFT之時，該源極區域連接電源線8，於閘極電極 連接有控制電路群5。然後，藉由控制電路群5控制驅動元 件4之動作，藉由驅動元件4控制對有機EL元件3之通電。 並且，針對有機EL元件3及驅動元件4之詳細構造及 製造方法於後述。再者，該行列式光學頭1雖然是使用有 φ 機EL元件3當作EL元件，但是即使使用無機EL元件取代此 當然亦可。 (透鏡陣列） 第3圖爲透鏡陣列3 1之斜視圖。該透鏡陣列3 1是由例 如自動聚焦（SELFOC)透鏡陣列（日本板硝子公司之商品名） 所構成，將自動聚焦（SELFOC)透鏡元件或與此相同之構 成所形成之SL元件31a，2列配列（配置）成棋盤隔花紋狀。 # 再者，被配置成棋盤格花紋狀之各SL元件31a之間隙，是 被塡充黑色之矽樹脂32，並且，在該周圍上配置幀34。在 此，SL元件爲圓柱狀之透鏡元件，爲直立等倍率成像者。 藉由將如此之SL元件3 la予以2列配列（配置）成棋盤格花紋 狀，透鏡陣列3 1是可執行寬範圍之畫像成像。並且，當作 透鏡陣列31，並不限定於上述自動聚焦（SELFOC)透鏡陣 列，若爲配列使來自有機EL元件3 (發光元件）之光予以成 像之透鏡元件而所構成之透鏡陣列時，則可使用各種。 -11 - (9) 1270477 (聚光透鏡） 第4圖（a)爲聚光透鏡58之斜視圖。該聚光透鏡58是上 述行列式光學頭1之光射側，並且爲被配置在後述感光體 鼓筒9之間者，本實施形態是如上述般，被貼在上述透鏡 陣列31之光射光側之面上。再者，該聚光透鏡58是構成僅 在與上述發光元件列3A之列方向正交之方向聚光，本實 施形態是相向於後述感光體鼓筒9之側的面，相對於該感 φ 光體鼓筒9，是被形成凸狀之凸面58a，相向於行列式光學 頭1側之面則被形成平面58b。 即是，該聚光透鏡58爲全體形成半圓錐體之柱面透鏡 ，該平面58b側是藉由例如透明接著劑被貼在上述透鏡陣 列31之光射出側之面（平面）。再者，該曲面58a側是從側 端朝向中央逐漸膨脹鼓起彎曲而所形成者。但是，該曲面 58a僅在與聚光透鏡58之長邊方向（軸方向）正交之方向上 彎曲，並在上述長邊方向不彎曲而形成直線狀。然後，在 # 如此構成下，聚光透鏡58是僅在與該長邊方向（軸方向）正 交之方向構成聚光，在長邊方向不構成聚光。因此，該聚 光透鏡58是被配置成該長邊方向能夠與上述行列式光學頭 1中之發光元件列3A之排列方向3L—致，依此，如上述般 ，僅在與上述發光元件列3 A之列方向正交之方向上，構 成聚光。 再者，該聚光透鏡58是被貼成該長邊方向能夠與透鏡 陣列3 1中之上述S L元件3 1 a之配列方向一致。然後，如此 一來，藉由聚光透鏡58之平面58b側被貼合在透鏡陣列31 -12- (10) 1270477 ，透鏡陣列31和聚光透鏡58平面彼此互相抵接，依此成爲 容易且良好密著接合。因此，也容易執行該些之間的校準 〇 並且，本實施形態中之聚光透鏡58若如上述般，僅在 與上述發光元件列3A之列方向正交之方向構成聚光，針 對上述發光元件列3A之列方向，爲不構成聚光者，並不 限定於上述半圓錐體，可採用各種形狀。例如，如第4圖 φ (b)所示般，即使爲轉軸狀，即是兩端細尖之圓柱狀亦可 。但是，於該轉軸狀之時，該兩側之面，即是旋轉中心之 側面因所有成爲曲面，故不容易透鏡陣列1直接貼合。因 此，不直接貼合透鏡陣列3 1或行列式光學頭1，例如，以 藉由安裝於光學頭盒5 2，使對透鏡陣列3 1或行列式光學頭 1執行校準爲佳。 (光學頭盒） # 返回第1圖，本實施形態中之光學頭盒5 2予以說明。 光學頭52是在行列式光學頭模組101中，用以支撐行列式 光學頭1及透鏡陣列31之外圍部。該光學頭盒52是依據A1 等之剛性材料形成裂縫狀。該光學頭盒52是對於該長邊方 向以垂直之截面所示般，上下兩端部成爲開口之形狀，該 上半部之側壁52a、5 2a是互相平行被配置，下半部之側壁 5 2b、5 2b是各朝向下端中央部而被傾斜配置。並且，雖無 圖示，光學頭盒52之長邊方向中之兩端部之側壁也被互相 平行配置。 -13- (11) 1270477 然後，在光學頭盒52之上半部側壁52a之內側上配置 有上述之行列式光學頭1。 第5圖是行列式光學頭之結合部分（第1圖之A部）中之 放大圖。如第5圖所示般，在光學頭盒52之側壁52a之內面 上，在全圓周上形成有階梯狀之台座53。該台座53之上面 抵接於光學頭1之下面，行列式光學頭1是被水平配置。詳 細雖於後述，但行列式光學頭1爲底部放射方式，將元件 φ 基板2朝下，將密封基板30朝上予以配置。 再者，藉由光學頭盒52之側壁52a和行列式光學頭1所 形成之角部，是在全圓周上配設有密封材54a、54b。並且 ，在光學頭盒52之側壁52a之內面和行列式光學頭1之側面 之間隙，也配設有密封材。依此，行列式光學頭1對光學 頭盒52是被氣密接合。其中，被配設在行列式光學頭1之 上側的密封材5 4b是由丙烯酸等之紫外線硬化性樹脂所構 成。再者，被配設在行列式光學頭1之下側的密封材54a是 φ 由環氧樹脂等之熱硬化樹脂所構成。 並且，該些密封材54a、54b即使含有吸氣劑亦可。吸 氣劑是指乾燥劑或脫氧劑，用以吸附水分或氧者。依據該 構成，可以藉由密封材54a、5 4b確實截斷水分或氧之透過 。因此，可抑制形成在行列式光學頭1之有機EL元件3之 吸濕或氧化，並可阻止有機E L元件之耐久性下降及壽命 變短。 返回第1圖，被形成在光學頭盒52之下端部之裂縫狀 之開口部，是使上述聚光透鏡5 8成爲外側’配置有透鏡陣 -14- (12) 1270477 列31。然後，依據光學頭52之側壁52b和透鏡陣列31所形 成之角部是在全圓周上配設有密封材55a、55b。並且，在 光學頭盒52之側壁52a之內面和行列式光學頭1之側面之間 隙，也配設有密封材。依此，透鏡陣列31對光學頭盒52是 被氣密>接合。其中，被配設在透鏡陣列3 1之上側的密封材 55 a是由環氧樹脂等之熱硬化性樹脂所構成。再者，被配 設在透鏡陣列31之下側的密封材55b是由丙烯酸等之紫外 φ 線硬化性樹脂所構成。並且，該些密封材55a、55b即使含 有吸氣劑亦可。 然後，在光學頭盒52之內側中之行列式光學頭1和透 鏡陣列31之間，形成有室箱56。如上述般，因行列式光學 頭1及透鏡陣列31對光學頭盒52是被氣密接合，故室箱56 是被密閉封口。然後，室箱56之內部是塡滿氮氣等之惰性 氣體，或保持真空。 • (行列式光學頭模組之製造方法） 接著，針對本實施形態之行列式光學頭模組101之製 造方法，使用第1圖予以說明。首先，沿著被形成在光學 頭盒52之上半部側壁52a之內面的台座53，在光學頭盒52 之內面全圓周上塗布由熱硬化性樹脂所構成密封材54a。 接著，在光學頭盒52之內側插入光學頭盒1，配置在台座 53之上面。此時，沿著台座53而被塗布之密封材54a是流 動，而再次被配置至光學頭盒52之內面和行列式光學頭1 之下面的角部。 -15- (13) 1270477 並且，光學頭1是被形成細長矩形狀’因容易彎曲， 故因應所需確保光學頭1之平面度。接著，沿著光學頭盒 5 2之內面和行列式光學頭1之下面的角部’在行列式光學 頭1之全圓周上塗布由紫外線硬化性樹脂所構成之密封材 5 4b。接著，以每規定間隔對所塗布之密封材5朴照射光點 UV，並使密封材54b部分性硬化’暫時固定行列式光學頭 1 ° 接著，將光學頭52放入至氮氣環境下之處理室內’以 下之工程是在該處理室內執行。接著’沿著光學頭52之下 端開口部，在光學頭盒52之內面全圓周上’塗布由熱硬化 性樹脂所構成之密封材5 5 a °並且’即使沿著台座5 3塗布 密封材5 4 a，同時沿著下端開口部塗布密封材5 5 a亦可。接 著，在光學頭盒52之下端開口部插入透鏡陣列31°此時’ 沿著下端部而被塗布之密封材5 5 a是流動，而再次被配置 至光學頭盒52之內面和透鏡陣列31之下面的角部。 在此，執行透鏡陣列31對行列式光學頭1相對性之定 位，即是校準。針對該校準之方法並無特別限定’例如可 採用使行列式光學頭1之有機E L元件3點燈’確認透鏡陣 列3 1之成像狀態，並定位兩者之方法。此時’使行列式光 學頭1之發光線，即是配列有機EL元件3而所構成之發光 元件列3 A之中心線與透鏡陣列3 1之中心線一致。 接著，沿著光學頭盒5 2之外面和透鏡陣列3 1之側面之 角部，在透鏡陣列3 1之全圓周’塗布由紫外線硬化性樹脂 所構成之密封材5 5 b。接著’以每規疋間隔’ W所塗布之 -16- (14) 1270477 密封材55b照射光點UV，使密封材55b部分性硬化’暫時 固定透鏡陣列。 接著，在加熱爐內將行列式光學頭模組101全體加熱 至5 0 t：左右。依此，硬化由熱硬化性樹脂所構成之密封材 5 4 a、5 5 a之全體。接著，對行列式光學頭模組1 0 1全體照 射紫外線。依此，硬化紫外線硬化性樹脂所構成之密封材 54b、5 5b之全體。並且，即使以相反順序執行由熱硬化性 φ 樹脂所構成之密封材54a、55a之硬化，和由紫外線硬化性 樹脂所構成之密封材54b、55b之硬化亦可。 接著，在透鏡陣列3 1之外面，執行與該透鏡陣列3 1之 校準並貼上聚光透58。並且，在此對透鏡陣列31校準聚光 透鏡58，實際上是對上述行列式光學頭之校準，即是使行 列式光學頭1之上述發光元件列3A之排列方向3L(中心線） ，與延伸於聚光透鏡58之之長邊方向之中心軸一致的處理 。因此，如上述般，即使不是間接性對透鏡陣列3 1校準聚 # 光透鏡28，而是直接對行列式光學頭1校準聚光透鏡58當 然亦可。 再者，針對該貼合，藉由使用例如透明之熱硬化性樹 月旨，或是透明之紫外線硬化性樹脂而執行。並且，針對將 聚光透鏡貼合於透鏡陣列3 1，如上述般，即使並非於將透 鏡陣列31固定於光學頭52之後執行，而是事先將聚光透鏡 5 8貼在透鏡陣列31，之後將此安裝固定於光學頭盒52亦可 〇 依據上述，，藉由密封材54a、5 4b使行列式光學頭 -17- (15) 1270477 54a、5 4b對光學頭盒52氣密接合，並且藉由密封材55 a、 5 5b使透鏡陣列31對光學頭51氣密接合，並且在透鏡陣列 3 1貼上聚光透敬58。然後，氣密封口被形成在行列式光學 頭1和透鏡陣列3 1之間的室箱5 6，在該內部塡充氮氣。 依此，本實施形態之行列式光學頭模組1〇1是可以自 透鏡陣列3 1側防止接近行列式光學頭1之水分或氧。依此 ，可抑制有機EL元件之吸濕或氧化，可以阻止有機EL元 φ 件之耐久性下降及壽命變短。當然，即使不在本實施形態 所示之惰性環境下作業，亦可組裝於初期性具有相同特性 之行列式光學頭模組。 (有機EL元件及驅動元件） 接著，針對行列式光學頭中之有機EL元件3或驅動元 件4等之詳細構成，參照第6圖（a)、（b)予以說明。 於自畫素電極23側射出在發光層60發出之光，即是所 • 謂的底部放射型之時，因爲自元件基板2側取出發光光線 的構成，故作爲元件基板2則採用透明或半透明者。例如 ，可舉出玻璃、石英、樹脂（塑膠、塑膠膜）等，尤其最佳 使用玻璃基板。 再者，於自陰極（對向電極）50側射出在發光層60所發 出之光，即是所謂的頂部放射型之時，因成爲自屬於該元 件基板2之對向側的密封基板側取出發光光線的構成，故 可以使用透明基板及不透明基板中之任一者。就以不透明 基板而言，例如除可舉出在鋁等之陶瓷、不銹鋼等之金屬 -18- (16) 1270477 薄片上施予表面氧化等之絕緣處理之外，另可舉出熱硬化 性樹脂、熱可塑性樹脂等。 本實施形態是採用底部放射型，因此元件基板2是採 用透明玻璃。 元件基板2上形成有包含以連接於畫素電極23之驅動 用TFT 123(驅動元件4)等的電路部11，其上面設置有有機 EL元件3。有機EL元件3是藉由依順序形成當作陽極發揮 φ 功能之畫素電極23;注入/輸送來自該畫素電極23之電洞 的電洞輸送層70 ;由有機EL物質所構成之發光層60 ;和 陰極50所構成。 在此，當以對應於第2圖之模式圖表示有機EL元件3 及驅動用TFT123(驅動元件4)時，則如第6圖（b)所示般。 於第6圖（b)中，電源線7是連接於驅動元件4之源極/汲極電 極，電源線8是連接於有機EL元件3之陰極50。 然後，依據如此之構成，有機EL元件3是如第6圖（a) # 所示般，藉由在發光層60結合自電洞輸送層70所注入之電 洞和來自陰極50之電子，構成發光。 以陽極發揮功能之畫素電極23尤其爲底部發射型之時 ，藉由透明導電材料所形成，具體而言，適合使用ITO。 作爲電洞輸送層70之形成材料，適合使用3，4 -聚乙 燃二氧吩（polyethylene dioxythiophene)/聚苯乙烯硫酸 (Polystyren sulfonic acid)(PEDOT/PSS)之分散液，即是使 3，4-聚乙烯二氧吩分散於當作分散液之聚苯乙烯硫酸中 ，並將此分散於水之分散液。 -19 - (17) 1270477 並且，當作電洞輸送層70之形成材料，並不限定於上 述者，可使用各種者。例如’可使用使聚苯乙燒 (polystyrene)、聚秘咯（PolypyHole)、聚苯胺（P〇lyaniline) 、聚乙炔（polyacetylene)或該衍生物等，分散於適當之分 散媒，例如上述之聚苯乙烯硫酸中者。 作爲用以形成發光層60之材料，使用可發光螢光或磷 光之公知發光材料。並且，於本實施形態中，雖然採用例 鲁 如發光波長頻寬對應於紅色之發光層，但是即使使用發光 波長頻寬對應於綠色或藍色之發光層亦可。 就以發光層60之形成材料具體而言，可以適合使用聚 芴衍生物（PF)、（聚）苯基乙烯衍生物（PPV)、聚苯衍生物 (PP)、聚對苯（PPP)、聚乙烯基咔唑（PVK)、聚塞吩衍生物 、聚甲基苯基硅烷（PMPS)等之聚硅烷（polysilane)系·。再 者，亦可以在該些高分子材料，摻雜茈（Perilene)色素、 香豆素（Coumarin)色素、若丹明（Rhodamine)色素等之高分 • 子材料，或紅螢燦（Rubrene)、花、9，10 -二苯基蒽、四苯 基丁三烯、尼羅紅（Nile red)、香豆素6、喹吖酮 (Quinacridone)等之低分子材料。 陰極50是覆蓋上述發光層60而所形成者例如將Ca形成 厚度20nm左右，並在該上方將A1形成厚度200nm左右，作 爲疊層構造之電極，也將A1當作反射層予以發揮功能。 再者，在該陰極50上經由接著層黏貼有密封基板（無 圖示）。 在此，由上述畫素電極23、電洞輸送層7〇、發光層60 -20- (18) 1270477 、陰極50所構成之有機EL元件3，尤其是將電洞輸送層70 和發光層60所形成之區域，即是依據後述之無機隔牆25之 開口 25 a形狀所決定之區域，當作構成發光的區域，即是 發光畫素（參照第7圖）。然後，在本實施形態中，該發光 畫素（發光區域）。然後，本實施形態中，該發光畫素（發 光區域）25b是被形成與該排列方向正交之方向，比有機EL 元件3之排列方向長。 φ 具體而言，例如第7圖（a)所示般各發光畫素25b爲橢 圓形，使該短軸之長度方向與有機EL元件3之排列方向3L 一致，舉出使長軸之長度方向與和上述排列方向3L正交之 方向一致的形狀，及該配置。再者，針對各發光畫素25b 之形狀，例如第7圖（b)所示般，即使爲長圓形亦可，並且 ，如第7圖（c)所示般即使爲長方形亦可。尤其，若依據使 發光畫素25b設爲長形狀，略正方形狀地聚光在感光體鼓 筒9上之構成時，因發光面積寬，故可以確保大的光量。 • 藉由採用如此之形狀及配置，自各有機EL元件射出 ，並以聚光透鏡58所聚光後的光，即是被成像在感光體鼓 筒9上之光，是成爲例如圓形或正方形或是接近此之形狀 。將該狀態表示於第8圖。第8圖是表示發光畫素25b如第7 圖（a)所示般之橢圓形，或是第7圖（b)所示般之長圓形之時 的感光體鼓筒9表面之圖像26c，圖像26c略呈圓形。在此 ，圖像26c即使爲將平行於發光畫素25b之排列方向3L之方 向當作長軸之橢圓形狀亦可，將此時之圖像2以表示於第8 圖（b)。再者，第8圖（c)室表示發光晝素25b爲如第7圖（c) -21 - (19) 1270477 所示般之長方形之時的感光體鼓筒9表面之圖像26s，圖像 26s爲略正方形。 如此一來，來自發光畫素25 b之光是針對該長軸方向 被聚光，被照射至感光體鼓筒9上。若依據發明者之實驗 ，則可以將長軸方向之長度爲l〇〇//m，短軸方向之長度 爲50/zm之橢圓形之發光畫素25 b之光，在感光體鼓筒9上 聚光成直徑50 // m之橢圓形之圓，此時在感光體鼓筒9上 φ 取得發光畫素25b之亮度的兩倍亮度。 再者，尤其針對上述各發光畫素25b，如上述般，因 改變該縱橫比，故例如若使在感光體鼓筒9上所要求之亮 度，和有機EL元件3之各發光畫素25b的亮度之比幾乎相 等時，藉由聚光透鏡聚光自各發光畫素25b所射出之光， 則可以在感光體鼓筒9上獲得所欲之亮度。因此，藉由事 先適當設定依據發光畫素25 b之縱橫比和聚光透鏡58的聚 光度，亦可由亮度比降低之有機EL元件3，藉由以聚光透 • 鏡58聚光，而獲得所欲之良好亮度。 並且，在如此之有機EL元件3之下方如上述般設置有 電路部11。該電路部11是被形成在元件基板2上。即是， 在元件基板2之表面形成有以Si02爲主體之基底保護層281 當作基底，在該上方形成有矽層241。該矽層241之表面形 成有以Si02及/或SiN爲主體之閘極絕緣層282。 再者，上述矽層241中，挾持閘極絕緣層282與閘極電 極24 2重疊之區域成爲通道區域241a。並且，該閘極電極 242爲無圖示之掃描線之一部分。另外，覆蓋矽層241，形 -22- (20) 1270477 成有閘極電極242之閘極絕緣層282之表面，形成有以Si02 爲主體之第1層間絕緣層283。 再者，在矽層241之中，在通道區域24 la之源極側’ 設置有低濃度源極區域241b及高濃度源極區域241S，另外 ，通道區域2 4 1 a之汲極側，設置有低濃度汲極區域2 4 1 c及 高濃度汲極區域241D，成爲所謂的LDD(Light Doped Drain)構造。該些之中，高濃度源極區域241S是經由在閘 φ 極絕緣層282和第1層間絕緣層283開孔之接觸孔243a，而 連接於源極電極243。該源極電極是當作電源線（無圖示） 之一部分而所構成。另外，高濃度汲極區域241D是經由 在閘極絕緣層282和第1層間絕緣層283開孔之接觸孔244a ，連接與汲極電極243相同層所構成之汲極電極244。 形成有源極電極243及汲極電極244之第1層間絕緣層 283之上層，形成有以例如丙烯酸系之樹脂成分爲主體之 平坦化膜284。該平坦化膜284是藉由丙烯酸或聚醯亞胺系 # 等之耐熱性絕緣性樹脂等而所形成者，是爲了消除因汲極 電極244等所引起之表面凹凸而所形成之公知者。 然後，由ITO等所構成之畫素電極23是被形成在該平 坦化膜284之表面上，並且經由被設置在該平坦化膜284之 接觸孔23a，而連接於汲極電極244。即是，畫素電極23是 經由汲極電極244，而連接於矽層241之高濃度汲極區域 241D。 形成有畫素電極23之平坦化膜284之表面上，形成有 畫素電極23和上述無機隔牆25，並且在無機隔牆25上，形 -23- (21) 1270477 成有機隔牆221。然後，在畫素電極23上，被形成在無機 隔牆25之上述開口 25a，和被形成在有機隔牆221之開口 221 a之內部，即是畫素區域上，自畫素電極23側順序疊層 上述電洞輸送層70和發光層60，依此，形成有功能層。 並且，該例雖然是舉出在元件基板2上組裝TFT等之 驅動元件4當作驅動有機EL元件3的元件的例，但是即使 爲不在元件基板2上組裝驅動元件4，外裝驅動元件4，具 φ 體而言在元件基板2之端子區域COG安裝驅動1C，互將已 安裝有驅動1C之撓性電路基板安裝在元件基板2亦可。 接著，針對行列式光學頭1〇1之使用形態予以說明。 第9圖是表示後述畫像形成裝置中之行列式光學頭模 組1 〇 1之使用形態的圖示。如第9圖所示般’行列式光學頭 模組101是將光照射至爲被曝光部之感光體鼓筒9並予以成 像而曝光。在此，尤其行列式光學頭1是被校準成可平行 於感光體鼓筒9之旋轉軸。再者，如上述般’因行列式光 # 學頭1和透鏡陣列3 1和聚光透鏡5 8是在互相被校準之狀態 下，被一體性保持在光學頭盒5 2，故於使用時’單只有將 行列式光學頭模組1〇1校準於感光體鼓筒9亦可。 因此，該行列式光學頭模組101比起另外準備行列式 光學頭i和透鏡陣列3 1和聚光透鏡5 8之時，容易對感光體 鼓筒9校準，可確實防止因校準不良所引起之曝光不均。 如此之行列式光學頭模組1〇1因具有僅在與有機以元 件3之排列方向3L正交之方向上構成聚光之聚光透鏡’故 可以，藉由透過聚光透鏡58，使自各有機EL元件3所射出 -24- (22) 1270477 之光，不會在被排列之有機EL元件3之間互相干擾，而各 個獨立聚光。因此，不會有損曝光功能，可提高自有機 EL元件3所射出之光的亮度，依此，提高當作該行列式光 學頭101之曝光手段的實用性，可以謀求提昇畫像形成裝 置之印刷性能，及謀求提昇所獲得之列印品質。 針對，針‘對設置有本發明之行列式光學頭模組101之 畫像形成裝置予以說明。 (縱排方式之畫像形成裝置） 第10圖是縱排方式之畫像形成裝置之槪略構成圖，第 10圖中符號80爲畫像形成裝置。該畫像形成裝置80是將本 發明之行列式光學頭101K、101C、101M、101Y，各配置 在所對應之相同構成的4個感光體鼓筒（畫像支撐體）41K、 41C、41Μ、41Υ之曝光裝置，以縱排方式而構成者。 該畫像形成裝置80是具備有驅動滾輪91和被動滾輪92 φ 和旋轉滾輪93，在該些各滾輪架設中間複印皮帶90，使能 夠循環驅動至第10圖中鍵號方向（反時鐘方向）。對於該中 間複印皮帶90，以規定間隔配置有感光體鼓筒41Κ、4 1C 、41Μ、41Υ。該些感光體鼓筒41Κ、41C、41Μ、41Υ該外 圓周面是成爲當作圖像支撐體之感光層。 在此，上述符號中之Κ、C、Μ、Υ各爲黑、青、洋紅 、黃之意，各表示黑、青、洋紅、黃用之感光體。並且’ 該些符號（Κ、C、Μ、Υ)之意針對其他構件也相同。感光 體鼓筒41Κ、41C、41Μ、41Υ是與中間複印皮帶90之驅動 -25- (23) 1270477 同步，旋轉驅動成第9圖中箭號方向（時鐘方向）。 各感光體鼓筒41 (K、C、Μ、Y)之周圍，設置有使各 個感光體鼓筒41 (K、C、Μ、Y)之外圓周面一樣帶電之帶 電手段（CORONA帶電器）42(K、C、Μ、Υ)，和使藉由該帶 電手段42(K、C、Μ、Υ)被一樣帶電之外圓周面，與感光 體鼓筒41(K、C、Μ、Υ)之旋轉同步，而依序線掃描的本 發明之行列式光學頭模組l〇l(K、C、Μ、Υ)。 φ 再者，設置有在以該行列式光學頭模組1〇1(Κ、C、Μ 、Υ)所形成之靜電潛像上，賦予屬於顯像劑之調色劑而當 作可視像（調色劑像）之顯像裝置44(K、C、Μ、Υ);作爲 將以該顯像裝置44 (Κ、C、Μ、Υ)所顯像之調色劑像，依 序複印至屬於一次複印對象之中間複印皮帶90上之複印手 段的一次複印滾輪45(K、C、Μ、Υ);和作爲除去於複印 後殘留於感光體滾筒41(K、C、Μ、Υ)之表面上之調色劑 的清洗手段的清洗裝置46(K、C、Μ、Υ)。 # 在此，各行列式光學頭101(K、C、Μ、Υ)是被配置成 各行列式光學頭1之陣列方向（有機EL元件3之配列方向3L) 平行於感光體鼓筒41 (Κ、C、Μ、Υ)之旋轉線。然後，設 定成各行列式光學頭模組101 (Κ、C、Μ、Υ)之發光能量峰 値波長，和感光體鼓筒41(K、C、Μ、Υ)之感度峰値波長 大略一致。 顯像裝置44(K、C、Μ、Υ)是使用例如非磁性成分調 色劑當作顯像劑者，以供給滾輪將該成分顯像劑搬運至顯 像滾輪，並以規範刮刀限制附著於顯像滾輪表面之顯像劑 -26- (24) 1270477 之膜厚，並藉由使該顯像滾輪接觸或推壓於感光體鼓筒 41(K、C、Μ、Y)，因應感光體鼓筒41(K、C、Μ、Y)之電 位位準使顯像劑予以附著’並當作調色劑顯像。 如此藉由4色之單色調色劑像形成站所形成之黑、青 、洋紅、紅之各調色劑像，是藉由被施加至一次複印滾輪 4 5(K、C、Μ、Υ)之一次複印偏壓，而被依序一次複印至 中間複印皮帶90上。然後，在中間複印皮帶90上依序重疊 # 而成爲彩色之調色劑像，是在二次複印滾輪6 6中被二次複 印至用紙等之記錄媒體Ρ上，並且’透過屬於固定部之固 定滾輪對6 1，固定於記憶媒體Ρ上’之後’依據排紙滾輪 對62使排出於被形成在裝置上部之排紙盤68上。 並且’第10圖中之符號63是豐層保持多數張gB錄媒體 P之紙匣，64是自紙匣63—張一張供給記錄媒體之拾取滾 輪，65是規定二次複印滾輪66之二次複印部之記錄媒體P 之供給時機的閘滾輪對，66是當作在中間複印皮帶90之間 • 形成二次複印部之二次複印手段之二次複印滾輪，67是作 爲除去於二次複印後殘留於中間複印皮帶90之表面的調色 劑之清洗手段的清洗刮刀。 (4循環方式之畫像形成裝置） 接著，針對本發明所涉及之畫像形成裝置之第2實施 形態予以說明。第11圖是4循環方式之畫像形成裝置之縱 剖面側面圖，第11圖中符號160是4循環方式之畫像形成裝 置。於第10圖中，在畫像形成裝置160上以主要構成構件 -27- (25) 1270477 ，設置有轉子構成之顯像裝置161、當作圖像支撐體而發 揮功能之感光體滾筒1 65、由行列式光學頭模組所構成之 圖像寫入手段（曝光手段）167、中間複印皮帶169、用紙搬 運路徑174、固定器之加熱滾輪172、供紙盤178。 顯像裝置161是被構成顯像轉子i6ia是以軸161b爲中 心而朝箭號A方向旋轉。顯像顯像轉子16 la之內部是被分 割爲4，各設置有黃（Y)、青（C)、洋紅（M)、黑（K)之4顏色 • 之圖像形成元件。162a〜162d是被配置在上述4顏色之各影 像形成元件上，旋轉於箭號B方向之顯像滾輪163a〜163d是 旋轉於箭號C方向之調色劑供給滾輪。再者，164 a〜164 d是 規範調色劑爲一定厚度之規範刮刀。 第1 1圖中符號1 65是如上述般當作圖像支撐體而發揮 功能之感光體鼓筒，166是一次複印構件、168是帶電器。 再者，167是當作圖像寫入手段（曝光手段）發揮功能之本 實施形態之行列式光學頭模組。感光體圓鼓筒165是藉由 • 省略圖示之驅動馬達，例如步進馬達，被旋轉驅動在與顯 像滾輪1 6 2 a相反之方向的箭號D方向上。並且，構成圖像 寫入手段167之行列式光學頭模組是於此和感光體鼓筒165 之間執行定位（校準光軸）之狀態下被配設。 中間複印皮帶169是被架設在驅動滾輪170a和被動滾 輪170b之間者。驅動滾輪170 a是被連結於上述感光體滾輪 165之驅動馬達者，使動力傳達至中間複印皮帶。即是’ 藉由該驅動馬達之驅動，中間複印皮帶169之驅動滾輪 170a是旋轉於與感光體滾筒165相反方向之箭號E方向。 -28- (26) 1270477 用紙搬運路徑1 74是設置有多數搬運滾輪和排紙滾輪 對176等，成爲搬運用紙。被中間複印皮帶169所支撐之單 面畫像（調色劑像），是在二次複印滾輪171之位置被複印 至用紙之單面上。二次複印滾輪171是依據離合器使離開 抵接於中間複印皮帶1 69，打開離合器則抵接於中間複印 皮帶169，畫像則被複印至用紙上。 如此一來，畫像被複印之用紙，接著被具有固定加熱 φ 器Η之固定器固定處理。固定器是設置有加熱滾輪172、 加壓滾輪173。固定處理後之用紙是被捲入排紙滾輪對176 而朝箭號F方向前進。當自該狀態排紙滾輪對176朝逆方向 旋轉時，用紙則反轉方向，將兩面列印用搬運路徑朝箭號 G方向前進。177是電製品箱，178是收納用紙之供紙盤， 179是被設置在供紙盤178之出口的拾取器滾輪。 在用紙搬運路徑中，作爲驅動搬運滾輪之驅動馬達， 是使用例如低速之無刷馬達。再者，針對中間複印皮帶 φ 169，因必須執行修正顏色偏差，故使用步進馬達。該些 之各馬達是藉由省略圖示之控制手段之訊號而被控制。 在第11圖所示之狀態中，黃（Υ)之靜電潛像是被形成 在感光體鼓筒165上，藉由對顯像滾輪162a施加高電壓’ 在感光體鼓筒1 6 5上形成黃色之畫像。黃色之背側及表側 之畫像當所有被中間複印皮帶1 6 9支撐時，顯像轉子1 6 1 a 則朝箭號A方向90度旋轉。 中間複印皮帶169是1次旋轉後回到感光體鼓筒165之 位置。接著，青（C)之兩面之畫像被形成感光體鼓筒165 ’ -29 - (27) 1270477 該畫像與被中間複印皮帶169支撐之紅色畫像重疊被支撐 。以下，同樣地反覆顯像轉子161之90度旋轉、中間複印 皮帶169之畫像支撐後之1次旋轉處理。 4顏色之彩色畫像支撐是中間複印皮帶169執行4次旋 轉，之後又控制旋轉位置，在二次複印滾輪1 7 1之位置將 畫像複印至用紙上。以搬運路徑174搬運自供紙盤178所供 給之用紙，在二次複印滾輪171之位置將上述彩色畫像複 • 印至用紙之單面上。單面被複印畫像之用紙是如上述般， 藉由排紙滾輪對176反轉，在搬運路徑待機。之後，以適 當之時機，搬運用紙至二次複印滾輪171之位置，另一面 則複印上述彩色畫像。殻180上設置有排氣風扇181。 如此第10圖、第11圖所示之畫像形成裝置80、160中 ，具備有將第1圖所示之本發明之行列式光學頭模組101當 作曝光手段。 因此，對於該些畫像形成裝置80、160，如上述般行 ® 列式光學頭模組101因提高自發光元件所射出之光的亮度 ，故提高作爲曝光手段之實用性，依此也提昇該畫像形成 裝置本體之印刷性能，並也提昇所獲得之列印品質。 並且’具備有本發明之行列式光學頭之畫像形成裝置 並不限定於上述，可作各種變形。 以上，雖然針對本發明之實施形態予以說明，但是對 於上述實施形態，只要在不脫離本發明之主旨下的範圍下 ，可以做各種變形。就以變形例而言，例如可考慮下述。 -30- (28) 1270477 (變形例l) 上述實施形態雖然爲將聚光透鏡58貼合在與透鏡陣列 31之感光體鼓筒9之面的構成，但是即使取代此，爲將聚 光透鏡58配置在透鏡陣列31和感光體鼓筒9之間的中間位 置的構成亦可。第12圖次表示此時之行列式光學頭101。 如該圖所示般，聚光透鏡5 8因不接觸於行列式透鏡3 1 及感光體鼓筒9中之任一者，故可以當作兩凸透鏡。因此 φ ，比起半圓錐體透鏡之上述實施形態，可以使用曲率半徑 大之透鏡，並可以薄化聚光透鏡58。聚光透鏡58之固定若 爲透鏡陣列3 1之相對位置不變之方法，則以任何方法所執 行亦可，例如，可以透過支撐構件間接性固定在行列式光 學頭52上。 依據上述構成之行列式光學頭模組1〇1是可以依據聚 光透鏡58，將自各有機EL元件3所射出之光，針對發光畫 素25 b之長軸方向予以聚光。依此，感光體鼓筒9表面中之 • 發光畫素25b之圖像，是被聚光成略圓形或略正方形，可 以將感光體鼓筒9表面中之亮度提昇比發光畫素25b之亮度 高。再者，可以提昇當作行列式光學頭模組10 1之曝光手 段之實用性，畫像形成裝置之印刷性能及提昇所獲得之列 印品質。 (變形例2) 即使取代上述各實施形態之構成，聚光透鏡5 8配置於 行列式光學頭1和透鏡陣列3 1之間亦可。將如此構成之行 -31 - (29) 1270477 列式光學頭模組l 〇 1之使用形態表示於第13圖。 第13圖（a)是表示將聚光透鏡58貼合在對應於行列式 光學頭1之發光元件列3 A之部分之構成的行列式光學頭模 組101。於該圖中，聚光透鏡58爲單面呈平面之半圓錐體 狀之透鏡，以該平面接觸於行列式光學頭1之狀態被貼合 。在此，聚光透鏡58之表面中，相當於光路之部位之曲率 半徑，爲了有效率率聚光，以設爲比來自發光畫素25 b之 φ 距離還小之値爲佳。 即使依據如此構成之行列式光學頭模組101，亦可以 依據聚光透鏡58，使自各有機EL元件3所射出之光，針對 發光畫素25 b之長軸方向予以聚光。依此，感光體鼓筒9表 面中之發光畫素25b之圖像是被聚光成略圓形或是略正方 形，可以使感光體鼓面9表面之亮度，比發光畫素25b中之 亮度高。 第13圖（b)是表示將聚光透鏡58配置在行列式光學頭1 Φ 和透鏡陣列31之中間位置之構成的行列式光學頭模組101 。於該圖中，聚光透鏡58爲兩凸透鏡，可使用比第13圖 (a)之聚光透鏡58，曲率半徑大之透鏡，可以薄化聚光透 鏡58。再者，聚光透鏡58是透過支撐構件被間接性固定於 光學頭盒52。在此，聚光透鏡58之配置位置，爲了使光吞 入角變寬，更提昇感光體鼓筒9表面之亮度，是以設置成 接近發光畫素25b之位置爲佳。 即使依據如此構成之行列式光學頭模組1〇1，亦可以 依據聚光透鏡58，使自各有機EL元件3所射出之光針對發 -32- (30) 1270477 光畫素25b之長軸方向予以聚光。依此，感光體鼓筒9表面 中之發光畫素25b之圖像是被聚光成略圓形或是略正方形 ，可以使感光體鼓面9表面之亮度，比發光晝素25b中之亮 度高。 (變形例3) 亦可以取代上述各實施形態及變形例，設爲具備有多 φ 數聚光透鏡5 8之構成。第1 4圖是表示如此構成之行列式光 學頭模組101之使用形態。 第14圖（a)是表示在對應於行列式光學頭1之發光元件 列3A之部分，及在相向於透鏡陣列31之感光體鼓筒9之面 各貼上聚光透鏡58之構成的的行列式光學頭模組1〇1 °於 該圖中，聚光透鏡58爲任一單面爲呈平面之半圓錐體狀之 透鏡，在該平面接觸於行列式光學頭1或是透鏡陣列3 1之 狀態下被貼合。 • 若依據如此構成之行列式光學頭模組101時’可以依 據兩個聚光透鏡58’使自各有機EL元件3所射出之光’針 對發光畫素25 b之長軸方向予以聚光。依此’感光體鼓筒9 表面中之發光畫素25b之圖像是被聚光成略圓形或略正方 形，可以使感光體鼓筒9表面之亮度，比發光畫素25b之売 度高。此時，可以比依據單一聚光透鏡58聚光之時’更有 效率地予以聚光。再者，可增大各個聚光透鏡58之曲率半 徑，並可以薄化該聚光透鏡5 8。 再者，如第14圖（b)所示般，即使設成將聚光透鏡58 -33- (31) 1270477 配置在行列式光學頭1和構鏡陣列3 1之中間位置，及透鏡 陣列3 1和感光體鼓筒9之中間位置的構成亦可。於該圖中 ，聚光透鏡58任一者皆爲兩凸透鏡，透過支撐構件間接性 固定於光學頭盒52。 即使依據如此構成之行列式光學頭模組1〇1，亦可以 依據聚光透鏡58，使自各有機EL元件3所射出之光針對發 光畫素25b之長軸方向予以聚光。依此，感光體鼓筒9表面 φ 中之發光畫素25b之圖像是被聚光成略圓形或是略正方形 ，可以使感光體鼓面9表面之亮度，比發光畫素25b中之亮 度高。 該些構成之外，其他也可以藉由將第14圖（a)中任一 的聚光透鏡58設成兩凸透鏡’透過支撐構件間接性固定於 光學頭盒52之構成’或將第14圖（b)中任一的聚光透鏡58 設成半圓錐體透鏡’貼在行列式光學頭1或是透鏡陣列3 1 之構成等，取得與上述相同之效果。 (變形例4) 並且，亦可以取代上述各實施形態或是變形例，設成 具備有3個以上之聚光透鏡58的構成。第15圖是表示該構 成之行列式光學頭模組101之使用形態。 第15圖是表示在對應於行列式光學頭1之發光元件列 3A之部分’在行列式光學頭1和透鏡陣列31之間的空間’ 及與透鏡陣列31之感光體鼓筒9相向之面上’共計具備有3 個聚光透鏡58的行列式光學頭模組101 °若依據如此之構 -34- (32) 1270477 成的行列式光學頭模組101，則可以依據3個聚光透鏡58， 使自各有機EL元件3所射出之光，針對發光畫素25b之長 軸方向更有效率予以聚光。依此，感光體鼓筒9表面中之 發光畫素25b之圖像是被聚光成略圓形或略正方形，可以 使感光體鼓筒9表面之亮度，比發光畫素25 b之亮度高。此 時，可以比依據單一或兩單聚光透鏡5 8聚光之時，更有效 率地予以聚光。再者，可增大各個聚光透鏡58之曲率半徑 φ ，並可以薄化該聚光透鏡58。 在此，各聚光透鏡58之配置位置並不限定於第15圖所 示者，例如亦可以配置在與透鏡陣列3 1之行列式光學頭1 之面，配置在透鏡陣列3 1和感光體鼓筒9之間的空間等。 再者，即使配置4個以上之聚光透鏡58亦可。 (變形例5) 在上述各實施形態中，發光畫素25b雖然是被配置成 • 該短軸及長軸各與行列式光學頭1之長軸方向及短軸方向 平行，但是即使取代此，以配置成與行列式光學頭1之各 軸方向具有一定角度亦可。將如此之行列式光學頭1之平 面圖表示於第16圖（a)及（b)。於該些圖中，發光畫素25b之 排列方向3L雖爲平行於行列式光學頭1之長軸方向，但是 各發光畫素25b之短軸及長軸各與行列式光學頭1之長軸方 向及短軸方向爲非平行。 爲了與上述各實施形態相同針對長軸方向聚光來自上 述發光畫素25b之光，則如第16圖（a)所示般，將半圓錐體 -35- (33) 1270477 形之聚光透鏡58配置成，該母線能夠與發光畫素25b之短 軸方向平行，並且能夠覆蓋所有發光畫素25b。即使依據 如此之構成，發光畫素25 b之光是針對長軸方向被聚光。 其結果，感光體鼓筒9表面之發光畫素25b之圖像被聚光成 略圓形或略正方形，可以使感光體鼓筒9表面之亮度比發 光畫素25b之売度局。 再者，即使於每1個或兩個以上之發光畫素25b配置聚 φ 光透鏡58亦可。第16圖（b)是每兩個發光畫素25 b配置聚光 透鏡58之例，各個聚光透鏡58是被配置成能夠針對長軸方 向聚光發光畫素25b之光。 (變形例6) 上述實施形態中，雖然使用有機EL元件3 (或是無機 EL元件）當作行列式光學頭1之發光元件，但是即亦可使用 發光二極體取代此。 【圖式簡單說明】 第1圖是實施形態所涉及之行列式光學頭模組之斜視 截面圖。 第2圖是模式性表示行列式光學頭之圖式。 第3圖是透鏡陣列之斜視圖。 第4圖（a)、（b)是聚光透鏡之重要部位斜視圖。 第5圖是行列式光學頭之結合部分的放大圖。 第6圖（a)是行列式光學頭之重要部位側截面圖，（b)爲 -36- (34) 1270477 模式圖。 第7圖（a)〜（c)是用以說明發光畫素之形狀及配置的圖 不 ° 第8圖（a) ~(c)是用以針對來自感光體鼓筒表面之發光 畫素的光之圖像予以說明的模式圖。 第9圖是用以說明行列式光學頭模組之使用形態的模 式圖。 Φ 第10圖是表示本發明之畫像形成裝置之第1實施形態 的槪略構成圖。 第11圖是表示本發明之畫像形成裝置之第2實施形態 的槪略構成圖。 第12圖是用以說明變形例1所涉及之行列式光學頭之 使用形態的槪略構成圖。 第13圖是用以說明變形例2所涉及之行列式光學頭之 使用形態的槪略構成圖。 # 第14圖是用以說明變形例3所涉及之行列式光學頭之 使用形態的槪略構成圖。 第15圖是用以說明變形例4所涉及之行列式光學頭之 使用形態的槪略構成圖。 第1 6圖是變形例5所涉及之行列式光學頭之平面圖。 【主要元件符號說明】 1 :行列式光學頭 2 ·兀件基板（基板） -37- (35) 1270477 3 :有機EL元件（發光元件） 3A :發光元件列 4 :驅動元件 9 :感光體鼓體 3 1 :透鏡陣列 31a ： SL元件 52 :光學頭盒 • 5 8 :聚光透鏡 5 8a :曲面 58b :平面 60 :發光層 70 :電洞輸送層 80、160 :畫像形成裝置 101 :行列式光學頭模組