TWI257913B - Vacuum chuck - Google Patents
Vacuum chuck Download PDFInfo
- Publication number
- TWI257913B TWI257913B TW092105128A TW92105128A TWI257913B TW I257913 B TWI257913 B TW I257913B TW 092105128 A TW092105128 A TW 092105128A TW 92105128 A TW92105128 A TW 92105128A TW I257913 B TWI257913 B TW I257913B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- substrate
- vacuum
- workpiece
- vacuum chuck
- robot
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Manipulator (AREA)
Description
1257913 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明) 【發明所屬技術領域】 發明領域 本發明涉及具備可裝卸在形成電子電路的基片的外面 5上的吸附面,在該基片的移動中使用的真空卡盤,被利用 於半導體元件的製造工序或作爲它的應用産品的薄膜電晶 體(TFT)液晶面板的製造工序等,存在基片的操作中因靜 電引起電路元件破壞的危險的工序。 I:先前技術3 10 發明背景 在形成電晶體電路的液晶玻璃基片等的工件的製造工 序中,工件的移動通常是由具有安裝了真空卡盤的手臂的 機器人來進行。這種真空卡盤,如特開平7_237765號公報 中所公佈的浮動型的真空卡盤那樣,對工件吸附部分的結 15構面方面提出了種種改良。另外,此類現有的真空卡盤吸 附部分的材料,-般使用比較硬的聚酰亞胺(ρι)或聚賴 _(ΡΕΕΚ)等的硬質樹脂材料。 但疋,若吸附部分使用上述材料的話,工件操作時, 解除真空卡盤的吸附使其吸附部分離開工件的時候,會産 20生釗離V電現象,在工件上會導致相當於8〇〇〜15〇〇ν的電 壓的電荷帶電的問題。而且,在TFT液晶面板的製造工序 中,隨其母體玻璃的大型化和薄板化的發展,由剝離帶電 使電晶體電路達到被破壞程度的抗靜電容限減少,靜電破 壞的危險性增大。 1257913 玖、發明說明 而且,這種帶電,即使在與玻璃接觸的接觸部分使用 電的導體的情況下,由於殘留在玻璃基片上面上的電荷, 也難於防止因感應帶電產生的剝離帶電。 【考务明内】 5 (發明要解決的課題) 本發明的課題是··解決現有技術中的上述問題,提供 一種不會由於剝離帶電而引起電路破壞的真空卡盤。 (解決課題的手段) 本發明是爲瞭解決上述課題,根據本發明㈤發明, 其特徵在於··在具備可裝卸在形成電子電路的基片的外面 上的吸附面,使用於該基片的移動之真空卡盤中,吸附面 的材料是與基片表面的材料相同的材料或者在帶電等級方 面具有與基片材料的等級近似的的任何一種材料。 圖式簡單說明 15 第1圖是表示適用於本發明的真空卡盤的實施例的剖 面圖,(a)及(b)分別表示了全體和部分。 第2圖表不了裝配有上述真空卡盤的機械手的一種實 施例,(a)是平面圖,(b)是(a)的沿b—b線的剖面圖。 第3(a)到(d)圖是表示用裝配了上述真空卡盤的機械手 20 移動工件時的狀態的說明圖。 I:實施方式3 較佳實施例之詳細說明 第1圖是表示適用於本發明的真空卡盤的實施例,第2 圖是表示安裝了此真空卡盤的工件操作用的機械手 i 1257913 玖、發明說明 分的實施例。 真二卡盤1具備可裝卸在作爲工件1的外面、通常是 背面Wb上的吸附面2,使用於工件W的移動中,工件贾由 作爲形成電晶體電路的基片的液晶玻璃基片構成。吸附面 5 2的材料採用與作爲卫件的材料、與工件全體 材料的玻璃相同的材料玻璃,或者採用在帶電等級方面具 有與玻璃的等級接近的等級的材料,例如:佔玻璃主要成 一種的氮化矽(SiN、
SisN4)等的帶電等級近似材料的任何—種材料。 1〇 彡種真空卡盤卜作爲-般的構造部分,由以下幾部 刀構成概墊3,其上端的一部分上形成吸附面2,外侧是 部分球面,中間具有空隙部分;此空隙部分内部,保持襯 墊3可活動狀悲的,同時也設計了形成真空空間4的帶有法 蘭盤的環狀物5 ;爲安裝此環狀物的螺釘6 ;以及爲在概塾 15 3、固定球面支援螺釘6,同時形成真空空間4的圓形的中 間板7;通常由螺釘1〇2安裝在機械手1〇〇的兩隻手臂ι〇ι上。 本例中的機械手100是這樣構成的··通過中間板7將真 二卡盤1为別安裝在2個位置上,中間形成與上述真空空間 4導通的真空通路1〇^的所述兩隻手臂1〇1 :由這些螺釘 2〇 103將手臂安裝,中間形成與所述真空通路ι〇ι&導通的真 空中間路104a的連接板104。該機械手1〇〇是裝配在圖中沒 有顯不的機器人上,真空中間路1〇4a是與安裝在機器人上 的圖中沒有顯示的真空配管相連接。 正如第1圖中(b)所表示的,吸附面2形成在從襯墊3的 1257913 玖、發明說明 上端面31稍稍突出的頂部平面部32上。而且,如前所述, ^用同i件W相同的破璃或者叫或㈣等的材料。這種 下开^成及附面2的襯墊3的全體或頂部平面32雖然可 乂抓用這樣的材料,本例中,在頂部平面W上通過塗敷 〇2等^/成吸附面2。SiQ24|別容易塗敷而且便宜,對於 本用途是合適的材料。當工件W是石夕晶片時,在吸附面2 上塗層石夕(Si)最好。例如,爲了能得到足夠的枯附強度, 可以通過濺射等進行該塗敷。 此情況下,由於只有與工件w接觸的接觸面對工件w 10的γ電性有影響,塗層的厚度不是問題。所以,例如幾十 個μ左右的平常的塗層厚度就行了。而且,由於襯墊3的上 端面31由通常的倒角加工,形成退避到比頂部平面32更低 的位置的形狀,因而此部分完全不影響帶電性。因此,也 不需要對這部分塗敷。 15 上述真空卡盤按如下運轉,發揮其作用效果。 工件W是用最大im左右方形的大玻璃基片,經過將電 晶體電路照相製版的上膠機、曝光機、熱處理裝置等中的 TFT的各種系列的工序製作液晶玻璃基片。而且,在這樣 的各工序中,由具有裝配了應用本發明的真空卡盤1的機 20械手1〇〇的機器人,在各工序内的機械裝置之間與搬送系 統之間移動工件w。 此移動如第3圖所示那樣地進行。在該圖(心及(b)中, 將女裝了真空卡盤1的機器人的手臂1〇1插入到载置在前一 工序的裝置的基片承受體200上的工件w的下面上,如箭 1257913 玖、發明說明 頭所示上升,工件w就從基片承受體細上被舉起,放在 真空卡船中的襯塾3的吸附面2上,與此同時真空系統動 作’依次在真空中間路104&、真空通路1〇1&、真空空間4 中形成負壓,工件W被吸附在真空卡盤以,可靠地保持 5 在機械手100上。 在該圖⑷及⑷中,吸附支撐工件W的手臂101由機器 人移動到搬送系統或者後一工序裝置的基片承受體则等 的上面,解除真空系統的動作,使工件|成爲只放在吸附 面2上的狀態之後,如箭頭所示手臂101下降,工件w放在 10基片承受體300的上面上,離開工件w的襯墊3及手臂1〇1 從工件W的下面的位置離開,完成了工件的移動。 此時,如現有技術那樣、與工件w接觸的吸附面與襯 墊3疋整體,例如,當使用如特氣隆(注冊商標)材料的時 候,因爲剝離帶電,在工件冒上殘留了具有800V〜1500V 丨5南電位的電荷。而且,當工件w接地的時候,由該電荷形 成電机,有可能破壞工件冒上所形成的電晶體電路。特別 是TFT中其傾向更爲顯著。 對此,在應用本發明的真空卡盤丨中,由於吸附面2採 用與工件…的材料的玻璃相同的玻璃或者與構成玻璃的主 2〇要成分的二氧化矽或氮化矽等的帶電等級近似的材料,或 者其塗層材料,剝離帶電的電荷量是非常小的值。 右把物質的帶電等級由正到負舉例表示,是醋酸酯一 玻璃—人的毛髮—尼龍...........聚乙烯一聚氱乙烯—聚三 氟氯乙烯(KEL· F)—特氟隆(注冊商標)。因此,玻璃與現 1257913 玖、發明說明 有的真空卡盤用的襯墊材料特氟隆(注冊商標)的帶電等級 的等級是在正側和負侧距離最大,成爲形成剝離帶電量多 的材料關係,與此相反,由於玻璃與其主要成分的二氧化 矽等的帶電等級上的等級相近,剝離帶電量極少。其結果 5 即使將現有的厚度爲的玻璃超薄化,成爲 厚度爲〇.5mm〜0.6mm的玻璃,也能夠可靠地防止靜電破壞。 (發明的效果) 如上所述根據本發明,由於可裝卸在形成電子電路的 基片外面上的真空卡盤的吸附面的材料,採用與基片的表 10面材料相同的材料、或者在帶電等級方面與基片材料的等 級近似的任何一種材料,能夠充分降低當將真空卡盤裝配 在機械手等上、用於在基片的製造過程中移動基片、吸附 面從基片上分離時所産生的剝離帶電的電荷量,即使在基 片大型化的情況下,也能夠可靠地防止因在現有的平常的 15真空卡盤中發生的危險性很高的剝離帶電而造成的電子電 路的破壞。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示適用於本發明的真空卡盤的實施例的剖 面圖,(a)及(b)分別表示了全體和部分。 20 第2圖表示了裝配有上述真空卡盤的機械手的一種實 施例’(a)是平面圖,(b)是⑷的沿b—b線的剖面圖。 第3(a)到(d)圖是表示用裝配了上述真空卡盤的機械手 移動工件時的狀態的說明圖。 【圖式之主要元件代表符號表】 10 1257913 玖、發明說明 1…真空卡盤 2…吸附面 3…概塾 4…真空空間 5…環狀物 6…螺釘 7…中間板 31…上端面 3 2…平面部 10 0…機械手 101…手臂 101a…真空通路 10 2…螺釘 10 3…螺釘 104···連接板 104a…真空中間路 200,300···基片承受體 W…工件(基片) Wb···背面(外面)
Claims (1)
- 第9210512S號專利申請案申請專利範圍修正本 93年12月4日 1 · 一種真空卡盤,具有吸附面,該吸附面係可藉由形成 真空狀態或解除該真空狀態而吸附或脫離基板之外面 ’該基板上形成有包含薄膜電晶體電路之電子電路, 5 其特徵在於·· 前述吸附面係經由塗敷與前述基板表面之材料相 同之材料,或帶電等級近似材料中之任一者而形成, 刖述帶電等級近似材料係指於帶電列中具有之等級, 近似於前述基板材料之等級者。 1012
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002065581A JP2003266354A (ja) | 2002-03-11 | 2002-03-11 | バキュームチャック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200304893A TW200304893A (en) | 2003-10-16 |
TWI257913B true TWI257913B (en) | 2006-07-11 |
Family
ID=28034882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092105128A TWI257913B (en) | 2002-03-11 | 2003-03-10 | Vacuum chuck |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003266354A (zh) |
KR (1) | KR100640693B1 (zh) |
CN (1) | CN1248829C (zh) |
TW (1) | TWI257913B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111250880A (zh) * | 2020-02-20 | 2020-06-09 | 中国航空制造技术研究院 | 一种用于带筋壁板激光焊接的支撑定位装置及方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100916532B1 (ko) * | 2007-01-19 | 2009-09-11 | 피에스케이 주식회사 | 기판 반송 장치 |
JP2011073875A (ja) * | 2009-10-02 | 2011-04-14 | Sharp Corp | 搬送方法 |
KR101116843B1 (ko) | 2009-11-30 | 2012-03-06 | (주)미래컴퍼니 | 기판 지지용 진공 테이블 |
CN102897536B (zh) * | 2012-11-02 | 2015-04-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于搬运平板的传输系统及其机械装置和搬运方法 |
DE102014216638B4 (de) * | 2014-08-21 | 2016-08-11 | J. Schmalz Gmbh | Spannvorrichtung mit Rastkupplung und integriertem Saugkanal zum Fixieren eines Werkstücks |
-
2002
- 2002-03-11 JP JP2002065581A patent/JP2003266354A/ja active Pending
-
2003
- 2003-03-04 KR KR1020030013367A patent/KR100640693B1/ko active IP Right Grant
- 2003-03-05 CN CNB031070612A patent/CN1248829C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-10 TW TW092105128A patent/TWI257913B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111250880A (zh) * | 2020-02-20 | 2020-06-09 | 中国航空制造技术研究院 | 一种用于带筋壁板激光焊接的支撑定位装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200304893A (en) | 2003-10-16 |
CN1443629A (zh) | 2003-09-24 |
CN1248829C (zh) | 2006-04-05 |
JP2003266354A (ja) | 2003-09-24 |
KR100640693B1 (ko) | 2006-10-31 |
KR20030074196A (ko) | 2003-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4489904B2 (ja) | 真空処理装置及び基板保持方法 | |
CN1790889B (zh) | 被吸附物的处理方法以及静电吸附方法 | |
KR100834837B1 (ko) | 반도체 다이 픽업 장치와 이를 이용한 반도체 다이 픽업방법 | |
CN101405857B (zh) | 承载基片的装置和方法 | |
JP4905934B2 (ja) | プラズマ処理方法及びプラズマ装置 | |
US10403490B2 (en) | Wafer processing method | |
JP2004063645A (ja) | 半導体ウェハの保護部材剥離装置 | |
JPH07211767A (ja) | 静電クランプ及び方法 | |
TW200810010A (en) | Electrostatic chuck | |
WO2005109489A1 (ja) | ワーク除電方法及びその装置 | |
JP5851131B2 (ja) | 静電チャック、真空処理装置 | |
TWI574328B (zh) | 使用靜電力增強半導體結合之裝置、系統及方法 | |
TW578204B (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
TWI257913B (en) | Vacuum chuck | |
WO2021111732A1 (ja) | 吸着保持装置及び対象物表面加工方法 | |
JP2004241568A (ja) | 基板脱着装置、基板脱着方法及び基板処理システム | |
US20110024964A1 (en) | Substrate processing pallet with cooling | |
JP2019091887A (ja) | 成膜装置及び部品剥離装置 | |
TWI622472B (zh) | 用於機器人的端效器、用於將基板保持於端效器上的方法、及處理系統 | |
JP3763710B2 (ja) | 防塵用カバーフィルム付きウエハ支持台及びその製造方法 | |
JP5886783B2 (ja) | シート剥離装置、接合システム、剥離システム、シート剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
US10332777B2 (en) | Wafer processing method | |
JP2004221134A (ja) | 半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2005123642A (ja) | 搬送機構および搬送方法 | |
JP6011965B2 (ja) | プラズマダイシング方法及びプラズマダイシング装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |