TWI250481B - Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same - Google Patents

Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same Download PDF

Info

Publication number
TWI250481B
TWI250481B TW093134258A TW93134258A TWI250481B TW I250481 B TWI250481 B TW I250481B TW 093134258 A TW093134258 A TW 093134258A TW 93134258 A TW93134258 A TW 93134258A TW I250481 B TWI250481 B TW I250481B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
full
color
temperature
electrode
Prior art date
Application number
TW093134258A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200615870A (en
Inventor
Yaw-Ming Tsai
Wei-Chieh Hsueh
Original Assignee
Toppoly Optoelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppoly Optoelectronics Corp filed Critical Toppoly Optoelectronics Corp
Priority to TW093134258A priority Critical patent/TWI250481B/zh
Priority to US11/271,555 priority patent/US7538489B2/en
Application granted granted Critical
Publication of TWI250481B publication Critical patent/TWI250481B/zh
Publication of TW200615870A publication Critical patent/TW200615870A/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/81Anodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/805Electrodes
    • H10K59/8051Anodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

1250481 Μ 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是«於-種主動式有機電激發光元件及絲造方法,特別是 有關於一種全彩化主動式有機電激發光元件及其製造方法。 【先前技術】 目前有機電紐光元制絲切林許錢,—般而言,純三色 發光層(RGB em論g la㈣法及色彩轉換㈣〇r chang· 勢。其中,所謂的色彩轉換層法,係利用一白色有機電激發光二極體陣列 搭配紅色、藍色及綠色的彩色濾光片, 恭 極體陣列後,即產生全彩的效果。 4驅動该有機電激發光二 面社I麥t 1圖’係頒不一種習知全彩化主動式有機電激發光元件的剖 面、、、。構不思圖,該全彩化主動式有機電激發光元件1〇包含 =subs她)12 '複數之薄膜電晶體2G、紅藍綠三色濾光片32、34、% ==色有機發光二極體4G。其中,該白色有機發光二極㈣具有一 祕42形成於該彩_片32、34、36上,並舆_膜電 -没極22電性連結。該彩色縣片32、34、3 紅、籃、綠三色光,以使顯示器全彩化。 W專換成 動切月^第2 w係為第1圖之區域八的剖面示意圖,由於古亥主 動式有機笔激發光元件其晝素結構之彩色遽光層32、 、 -定峨(㈣⑽如,纖 =37有 %的表面上職-ITQ觸42作為娜光:==,二 電極層姆斜坦度_色濾光層_ ^ =το 要求(Ra -般需小於}〇_),且==_極表面平坦度的 短路及漏_纽,進™有機___壽件的 0773-A30418TWF(5.0) 1250481 度的她,其耐熱溫 式,例如峨她躲(叫軸的鏟膜方 過高的溫度將使得該彩色遽光層之材質受熱&^形=光層上時, 層之損傷。 鮮忒擴脹,導致該彩色濾光 衣私/、、、、口構疋有機發光顯示器技術的一項重要課題。 【發明内容】 有鑑於此,為了解決上述問題,本發明之 ==:;平坦層作為___== 進蝴問題, 此外,本發明之另-目的係為提供—種全 件的製造方法,其係以低溫製程方式形成—平發光元 以形所述之高效能全彩化主動式有機電轉Γ轉Γ 再者,本發明之又-目的係提供 主動式有機電激發光元件。 千衣置其包含上述之全彩化 -為達成本發明之上述目的,本發明所述之全 兀件,其包含有複數個陣列之晝素 其 二有機電激發光 域係包含有-緩衝層、—薄膜電晶^基板上,其中每一晝素區 彩色濾光層,其中有機發光二極‘包含有二,層及-連結、-有機電激發光層盘一第二 ‘ Ε。兵薄膜電晶體電性 板上,且彩色遽光層形成電晶體及緩衝層係形成於基 第一電極之载層。而第—電極形成於缓衝層上用來作為 电辦光層與第二電極係依序形成於 〇773-A3〇418TWF(5.〇) 1250481 平坦層上。此外,平坦層可以一低溫製程技術所形成。 , /根據本發明所述之全彩化主動式有機電激 係包含有一閘極絕緣層、一閘極、—源極、、x ”牛,/、中薄膜電晶體 於閘極上,並舆緩衝層相連。 ;及極’且閘極絕緣層係形成 根據本發明所述之全彩化主動式有機電激 之絕緣層形成於第一極電極上,以露 又兀件,更包括一圖形化 根據本發明所述之全彩化主動式有機=色fn方之第—極電極。 面粗链度係不大於10nm。 、电_光元件,其中平坦層之表 為達本發明所述之另一目的,本發 激發光元件的製造方式。首先,提供 全彩化絲式有機電 -緩衝層於基板之上,其中薄膜電晶體::人::成複數個薄膜電晶體及 -源極及-汲極。接著,形成_彩色濾光層二_域層、-閑極、 製程技術形成-平坦層於彩以慮光層二二°接著’以-低溫 層上,並與薄膜電晶體電性連結。 ’形成-第-極電極於平坦 根據本發明所述之全彩化主動 製鋪術具造方式,低温 成第振^^所34之全祕主料雜電轉航件的料方式,在 ^弟-㊄極於平坦層後,更包括形成—圖 在形 出位於該彩色遽光層上方之第一極電極。〈巴4於弟一電極上以露 為達本發明所述之另一目的,太 本發明所述之输絲式其包括〜 中有機電激發光元件祕至上述顯 、’以及—電源供應單元,其 有機電激發光元件。 ' 肖以供電至上述全彩化主動式 為使本發明之上述目的、牿矜处 並配合所附圖式,作詳細說明如;"更補易懂,下文特舉較佳實施例, 0773-A30418TWF(5.0) 1250481 【實施方式】 1 錢電激發光元件’係製作單色發光晝素結構,透 過形色濾先片萄而得到紅、藍、綠三種光色。此外,本發明可在^ 該衫色濾以的雜下,提供—平坦層作為該_電極 料 題 =義導錢«面料她麟騎導朗發級率顶及_流= 乂下係為本發明所述之全彩魅動式有機電 法 較佳實闕,兹配合關詳細朗如下: 队方法的 實施例 請參照第―3目,侧示符合本發騎叙全雜絲式有機電激發光 兀之:較佳貫施例的晝素區域平面概要示意圖,該晝素區域则主要包 ^有一薄膜電晶體1〇11禺接於一沿γ方向延伸之資料線1〇2、一電容 益103、-有機發光二極體1〇5及另—薄膜電晶體浙,其中該 雕 浙叙接於該有機發光二極體105。第4a圖至第4e圖為一系列對 圖祕切線的晝素區域剖面結構示意圖,係用來說明本發明所述之絲 有機電激發光元件之一較佳實施例的製造流程。 f先’心考第4a圖’該晝素區域之薄膜電晶體浙係形成於一基板 110上,且該基板110上亦具有—緩衝層112,其中缓衝層112之上表面係 具有-彩色濾光層預定區113,而之後被形成之有機發光二極體發光單元係 成於該彩色濾光層預定區113之上方。該薄膜電晶體術係包含有一問極 12卜-介電層123、一半導體層124、一源極125及一汲極⑶,其中該半 導體層124可為非晶辨導體層、有機半導體薄膜層、或是經由低溫製程 所得之多晶石夕半導體層。此外’該薄膜電晶體1〇7亦包含一源極接觸區S 及-没極接驅126,,_源極接麵125,及驗極接麻126,係分別與 該源極125姐極126冑性連結。本發明對於所使用之薄膜電晶體^類並 無限制,該薄膜電晶體1σ7可例如為嵌入式薄膜電晶體或是堆叠式薄膜電 〇773-A30418TWF(5.0) 8 1250481 :體且圖不之薄膜電晶體結構僅是習知之閑極結構中之 土板‘可為—透光之基板,例如玻璃或趙膠基板。 ^ 著月 第4b圖,形成一彩色濾光層114於該該緩衝層112上的 冰色濾、光層預定區m。其中而該彩色濾、光層之使用可依晝素陣列之 需要而更替,例如可於晝素陣列中依序形成紅色滤光片、綠色濾光片及藍 色滤光片i該彩色濾光層之使用也可為以兩種顏色之濾光片來達到全ς 之效果。該形色渡光層114之形成方式可為綱分散法、染色法、電著法 或疋印刷法。-般來說,彩色濾光層之表面平均粗缝度係為20趣左右,因 此右直接以該形色濾光層114作為發光二極體之透明電極之載層勢必導致 該透明電極之表面平均粗糙度上昇。 、 接著,如第4c圖所示,以一低溫製程技術順應性形成一平坦層ιΐ6於 該彩色濾光層114及缓衝層112上,以完全覆蓋該彩色濾光層114。其中, 該平坦層116可為-介電或絕緣之材質,例如為一低溫介電層⑼w temperature dielectric layer)或是一旋轉塗佈玻璃(spin_〇nglass,s〇G),且該 平坦層116之平均表面粗链度係不大於。此外,該平坦層ns之膜厚 係大於200nm,也就是其膜厚必需維持在該彩色濾光層114之表面平均粗 板度的10倍以上,較佳為20倍以上,以有效降低該平坦層之表面平均粗 糙度。此外,該低溫製程技術係具有一操作溫度T1,而該操作溫度们係 小於該彩色渡光層材料的分解溫度(decomposition temperature)T2,以避免損 害(damage)該彩色濾光層114,而該低溫製程技術可例為液相沉積製程 (liquid phase deposition,LPD)、旋轉塗佈製程(spin_〇n c〇atin幻或是濺鍍 (sputtering)製程。在本發明中,該平坦層116較佳可為一低溫氧化層或是一 低溫氣化層。右以遠低>孤氧化層為例’形成該低溫氣化層較佳方式係為以 矽為靶材,並以氧氣為反應氣體,在操作溫度T1為25〇。(:下,利用一低溫 磁控濺鑛(low temperature magnetron sputtering)設備進行賤鍍。 0773-A30418TWF(5.0) 9 1250481 =卜’ ^形成該平坦層116於該彩色濾光層ιΐ4後,可更對該平坦層 進订-平坦域理,錢—步賴平坦層116之表面粗糙度降至⑽ 以下。料坦化處理係為一退火製程或是研磨處理。 仍晴茶照第4c圖,形成—透明導電層118於該平坦層ιΐ6之上。該透 可為銦錫氧化物_)、銦鋅氧化物_、鋅銘氧化物_ 而此透明導電層118可由濺鍵法、電子束蒸鍍法、熱基 鍍^化學氣相鍍膜法及嘴霧熱裂解法所形成。該透明導電層ιΐ8係作為 後續形成的有機發光二極體的陽極電極。 ...... 接著,如第4d圖所示,順應性形成一圖形化絕緣層140於該薄膜電晶 ^及部細_輪118之上,並露出位於該彩色濾光層Η I =弟極电極118。_緣層14〇可為介電材質或是有機材質,若為介電 則舰緣層14G可為絕緣之氧化物、碳化物、氮化物及其組合 =二群中’像是氧切(叫氧化摩〇χ)、氧化鎂剛、氮切 (i X)、鼠化摩Νχ)或是氣化鎂_χ)等;該絕緣層14〇亦可為有機材
加熱固化之透明光阻材質。 X 最後,請參照第#圖,依序形成一有機電激發光層H2及-全屬電極 歸上述結構,以使該有編嫩層142與該透日卿 觸’ t該金屬電極144係與婦_發光層⑷之上表_。 之全繼喊_激發光元麵造方法。_電極 =、戶=142及該爾極144所形成之糧構係構成本 之有機發光二極體105。其中,該有機電激發光層142可為小分子 層㈣峨:觸料層或複數 二心二、4$ 5構成°若為小分子有機電發光材料’可利用 ^减对料私子錢電總光㈣,啊 墨或網版印刷等方式形成有機發光二極體材料層;該金屬電極144之^ 0773-A30418TWF(5.0) 10 1250481 、Mg、A卜Li及其它低卫作函數之金屬材料或複合金屬材 科,形成方式可為真空熱蒸鍍或機鍍方式。 王 之全’係為第#圖之區域C的剖面示意圖,根據本發明所述 機電纖元件,該斷細紐⑽之表面Π5 平挺層具有平坦表面117(表面粗棱度小於10球平坦層116,而該 免元i短路1助ΐϋ低後績形成之透明電極118表面119的粗缝度,以避 機#光1=°此外’在有機電激發光耕的製程中,為了增加有 電層咖進行氧電絲面改質程序’會先對該透明導 該彩色濾光層114。 序❿該千坦層可進一步避免氧電槳損傷 元件第地絲-好裝置勝其具«述絲式雜電激發光 平板^置2G㈣可以為―可攜讀置,·PDA、筆記型電腦、 千Lblet _pu㈣、行動電 4 子裝置200包括一外妒21〇、 士u 丁-衣置寺寺。一般來說,電 -〇 I" ^ -— 激發光元件300。 ,、众應包源至主動式有機電 雖然本發明已以—較佳實施例聽如上,铁 任何熟習此技藝者,在不脫離本 ;非用以限疋本發明, 與_,本發日狀賴顧當m和=内,"倾許之更動 i視伽之申請專利細所界定者為準。 【圖式簡單說明】 第_顯示習知全彩化主動式有機電激發 弟2圖係顯示第!圖之區域A的剖面放大示意圖。W面〜圖。 =3圖係·根據本發日騎叙全觀主 較佳實施例之平面概要示意圖。 百哉^放杳先兀件之一 弟4a圖至第4e圖係—系列對應於第3 _,切線的剖面結 構示意圖, 0773-A30418TWF(5.0) 11 1250481 顯示根據本發明所述全彩化主動式有機電激發光元件 作流程。 之一 較佳實施例的製 第5圖係顯示第4e圖之區域〇的剖面放大示意圖。 第6圖係為具有本發明之全彩化主動式有機電激發光 白勺示意圖。 元件之電子裳置 【主要元件符號說明】 先前枯術: 10〜有機電激發光元件; 20〜薄膜電晶體; 34〜綠色彩色濾光層; 37〜彩色濾光層之上表面; 42〜ΓΓΟ電極; A〜區域A。 12〜基板; 32〜紅色彩色濾光層; 36〜藍色彩色濾光層; 40〜白光有機發光二極體; 43〜ITO電極之上表面; 本發明拮術·· 1〇〇〜有機電激發光元件之晝素區域; 101、107〜薄膜電晶體; 103〜電容; 110〜基板; 113〜彩色濾、光層預定區; 115〜彩色濾光層之上表面; 117〜平坦層之上表面; 119〜透明電極之上表面; 123〜介電層; 125〜源極; 102〜資料線; 105〜有機發光二極體; 112〜缓衝層; 114〜彩色濾光層; 116〜平坦層; 118〜透明電極; 121〜閘極; 124〜半導體層; 126〜汲極; 0773-A30418TWF(5.0) 1250481 140〜絕緣層; 144〜金屬電極; 210〜外殼; 400〜電源供應單元; C〜區域C。 142〜有機電激發光層; 200〜電子裝置; 300〜主動式有機電激發光元件; B-B’〜延B-B’之剖面線; 0773-A30418TWF(5.0) 13

Claims (1)

1250481 驟 、申請專利範圍: 1.-種全槪均式麵電激發光元件的 製造方法,其包含有下列步 提供一基板; 形成複數_膜電晶體及-緩__基板之上; 形成一彩色濾光層於該緩衝層上; ’ 以-低溫製程技術形成—平坦層於該彩 賴一第一極電極於該平坦層上,並與該薄膜電晶體:二 2.如申請專利範圍第丨項 ^性連、、、°。 造方法’其μ包闕辨轉断麵紐絲元件的製 、3.如申請糊_ 2術述之全彩脸動式錢 造方法’其中該平坦化處理係為-退火製程或研磨處理。Χ 衣 、止4.如申請專利範圍第1項所述之全彩化主動式有機電激發光元件的製 仏方法,更包括形成一圖形化之絕緣層 、 於該彩色絲層上方之鶴-極電極:㈣極之上,用以露出位 侧第丨項所述之全彩化主動式有機電纖元 ==,其中龜溫製鋪術具有—操作溫度且雜作溫度係不大於 6·如申請專利範圍第1項所述全 、、_々κ场化絲式有麵激發統件的製 造方法,其中該平坦層之表面粗糙度係不大於l〇nm。 、7·如料專補圍第丨獅述之全彩化絲式麵電激魏元件的製 造方法,其中該低溫製程技術係為液相沉積製程(liquid細^ d啊出〇n, LPD)、旋轉塗佈製程(sPin-〇ncoating)或是濺鍍(sputtering)。 8·如申請專利範圍第丨項所述之全彩化絲式有機電激發光元件的製 造方法’其中該低溫製程技術係為低溫磁控濺·owtemperatoemagnet_ sputtering)。 0773-A30418TWF(5.0) 14 1250481 範Γ1铜叙蝴獅__光元件的製 k方法,其中斜坦層係為旋轉塗佈玻璃㈣讀細, 、止方第1項職之全雜絲財_激發光元件的製 4法’中該平坦層係為低溫介電層(lowtempe咖⑽― =.如=谋_丨彻奴全㈣絲姑機綠發光元件的製 k方法,射斜坦層係為低溫氧化層献低溫氮化層。 請專機M1撕狀全絲財機電㈣光元件卿 k方法,/、中奸坦層之厚度係賴彩色就狀表她趟度的肿以上。 生方1專利範圍第1項所述之全彩化主動式有機電激發光元件的擎 :方法’更已括接連形成-有機電激發光層及一第二電極於該第一極電極 Η.-種全彩脸動式有機魏發光元件,其包含有魏辦列之 區域形成於一基板上,其中每一晝素區域係包含: 一薄膜電晶體,形成於該基板上; 一緩衝層,形成於該薄膜電晶體外之該基板上; 一彩色濾光層,形成於該緩衝層上; 一平坦層,形成於該彩色濾光層上; 一第一電極形成於該平坦層上,並與該薄膜電晶體電性連結 有枝笔激發光層,形成於該第一電極上;以及 一第二電極,形成於該有機電激發光層上。 15·如申請專利範圍第14項所述之全彩化主動式有機電激發光元 中該薄膜電晶體係包含有一閘極絕緣層、一閘極、_源極及一I極几件’ 其 其 其 16·如申請專利範圍第15項所述之全彩化主動式有機電激發光 中該閘極絕緣層係形成於該閘極上,並與該緩衝層相連。 17.如申請專利範圍第14項所述之全彩化主動式有機電激發光元 中該平坦層係以一低溫製程技術所製成。 &凡件 〇773-A30418TWF(5.0) 15 1250481 18.如申請專利範圍第17項所述之全彩化主動式有機電激發光元件 中該低溫製程技術具有一操作溫度,該操作溫度係不大於35〇〇C。 其 19·如申請專利範圍第14項所述之全彩化主動式有機電激發光元件 中該平坦層之表面粗糙度係不大於10nm。 其 20·如申請專利範圍第14項所述之全彩化主動式有機電激發光元件 中該平坦層之厚度係為該彩色濾光層之表面粗糙度的10倍以上。 ’其 21·如申請專利範圍第17項所述之全彩化主動式有機電激發光元件 中該低温製程技術係為液相沉積製程(liquid phase dep〇sitbn ’其 佈裟程(spin-on coating)或是藏鍍(sputtering)。 卞之 其 22.如申請專利範圍第17項所述之全彩化主動式有機電激發光元 中該低溫製程技術係為低溫磁控濺鍍(low tempemtoe ’ sputtering) 〇 ma§Qetr〇i 其 ^ 23·如申請專利範圍第w項所述之全彩化主動式有機電激發光 中口亥平坦層係為旋轉塗佈玻璃(spin-on glass,SOG) 〇 士 24·如申請專利範圍第M項所述之全彩化主動式有機電激發光 中3平坦層係為低溫介電層(l〇w temperature出也也^ 其 25·如申請專纖M丨4項所述之全彩脸喊麵電激發 中該平坦層係為低溫氧化層或是低溫氮化層。 %件,其 26·如申請專利範圍第14項所述之全彩化主動式有機 包括-圖形化之絕緣層,形成於該第一極電極上 付料凡件,更 層上方之該第—極電極。 〜出位於_色據光 27.—種電子裝置,包括·· 及 以 一如申請翻朗第14項所述之全彩化主動式有機電激發光元件, 電至該全彩化絲式有有機電激發光元件’用以供 〇773-A3〇418TWF(5.0) 16
TW093134258A 2004-11-10 2004-11-10 Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same TWI250481B (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW093134258A TWI250481B (en) 2004-11-10 2004-11-10 Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same
US11/271,555 US7538489B2 (en) 2004-11-10 2005-11-10 Full-color active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electronic devices employing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW093134258A TWI250481B (en) 2004-11-10 2004-11-10 Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI250481B true TWI250481B (en) 2006-03-01
TW200615870A TW200615870A (en) 2006-05-16

Family

ID=36315424

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093134258A TWI250481B (en) 2004-11-10 2004-11-10 Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7538489B2 (zh)
TW (1) TWI250481B (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7821065B2 (en) 1999-03-02 2010-10-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising a thin film transistor comprising a semiconductor thin film and method of manufacturing the same
JP2001175198A (ja) * 1999-12-14 2001-06-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置およびその作製方法
TWI250498B (en) * 2001-12-07 2006-03-01 Semiconductor Energy Lab Display device and electric equipment using the same
US7675078B2 (en) * 2005-09-14 2010-03-09 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Pixel structure
KR100879207B1 (ko) * 2005-12-30 2009-01-16 주식회사 엘지화학 플렉시블 디스플레이장치 및 이의 제조방법
TWI312587B (en) * 2006-08-10 2009-07-21 Au Optronics Corp Organic light emitting display devices and methods for fabricating the same
TWI457881B (zh) * 2010-12-28 2014-10-21 E Ink Holdings Inc 軟性電子紙顯示裝置及其製造方法
TWI563691B (en) * 2014-07-02 2016-12-21 Playnitride Inc Epitaxy base and light-emitting device
CN105810587B (zh) * 2014-12-31 2019-07-12 清华大学 N型薄膜晶体管的制备方法
KR102418492B1 (ko) * 2015-06-30 2022-07-06 엘지디스플레이 주식회사 플렉서블 유기발광표시패널

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0907304B1 (en) * 1996-05-29 2002-11-06 Idemitsu Kosan Company Limited Organic el device
US6512504B1 (en) * 1999-04-27 2003-01-28 Semiconductor Energy Laborayory Co., Ltd. Electronic device and electronic apparatus
TW527735B (en) 1999-06-04 2003-04-11 Semiconductor Energy Lab Electro-optical device
TW493282B (en) * 2000-04-17 2002-07-01 Semiconductor Energy Lab Self-luminous device and electric machine using the same
TWI297407B (zh) 2002-01-29 2008-06-01 Au Optronics Corp
US7229703B2 (en) * 2003-03-31 2007-06-12 Dai Nippon Printing Co. Ltd. Gas barrier substrate
TW200534202A (en) 2004-04-09 2005-10-16 Toppoly Optoelectronics Corp Active matrix oled pixel structure and driving method thereof
US20060012742A1 (en) 2004-07-16 2006-01-19 Yaw-Ming Tsai Driving device for active matrix organic light emitting diode display and manufacturing method thereof
KR100685407B1 (ko) * 2004-10-18 2007-02-22 삼성에스디아이 주식회사 레드, 그린, 블루, 시안, 마젠타 및 옐로우칼라조절층들을 갖는 풀칼라 유기전계발광표시장치

Also Published As

Publication number Publication date
TW200615870A (en) 2006-05-16
US20060097275A1 (en) 2006-05-11
US7538489B2 (en) 2009-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI237518B (en) Organic electroluminescence display and method of fabricating the same
TWI277366B (en) Organic light-emitting diode, display device, and telecommunication employing the same
CN102593366B (zh) 发光装置和电子装置
CN1897775B (zh) 发光器件和电子器件
TWI294192B (en) Method for manufacturing an organic light-emitting display (oled) with black matrix
CN101901787B (zh) 氧化物薄膜晶体管及其制造方法
CN105097874B (zh) 一种oled显示器件及其制作方法、显示装置
TW200421926A (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
TWI259025B (en) Array substrate, methods for forming the same, and electroluminescent display panel, display device and electronic device using the same
CN107706210A (zh) Oled显示面板、oled显示面板的制造方法及显示装置
TW200403945A (en) Organic electroluminescent display device and method of fabricating the same
TW200824114A (en) Pixel structure of active matrix organic light emitting diode and fabrication method thereof
WO2018086358A1 (zh) 有机发光二极管阵列基板及制备方法、显示装置
TWI250481B (en) Active matrix organic electroluminescent device, fabrication method thereof and electric device employing the same
WO2015051646A1 (zh) 有源矩阵有机电致发光显示器件、显示装置及其制作方法
CN105720081A (zh) 一种有机发光二极管阵列基板、显示装置和制作方法
CN109037297A (zh) 一种有机发光显示基板及其制作方法
CN108470844B (zh) 有机发光二极管及其制备方法、显示面板
CN109920923A (zh) 有机发光二极管器件及制备方法、显示面板、显示装置
CN109300912A (zh) 基于电致发光器件的显示基板及其制备方法、显示装置
TW200904240A (en) Method for manufacturing display device
TWI361015B (en) System for displaying images
TWI239790B (en) Organic light-emitting device and fabrication method thereof
WO2015149465A1 (zh) 一种woled背板及其制作方法
CN110416257A (zh) 显示面板背板结构、其制备方法及顶发射型显示面板

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees