TWI238268B - Reflection mirror and optical equipment using the same - Google Patents

Reflection mirror and optical equipment using the same Download PDF

Info

Publication number
TWI238268B
TWI238268B TW093105207A TW93105207A TWI238268B TW I238268 B TWI238268 B TW I238268B TW 093105207 A TW093105207 A TW 093105207A TW 93105207 A TW93105207 A TW 93105207A TW I238268 B TWI238268 B TW I238268B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
layer
mirror
lower layer
protective layer
Prior art date
Application number
TW093105207A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200422654A (en
Inventor
Mitsuharu Sawamura
Shumpei Tatsumi
Original Assignee
Canon Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Kk filed Critical Canon Kk
Publication of TW200422654A publication Critical patent/TW200422654A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI238268B publication Critical patent/TWI238268B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • G02B5/0858Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

1238268 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種反射鏡和使用該反射鏡之光學設備 ,其爲穩定的,具有滿意的耐久性,且提供高反射比,例 如,在可見光範圍的預定波長帶(波長:4 0 0到7 0 0奈米) ,和當應用於光學系統例如TV相機、視頻相機、數位相 機或相似物中所用的光學組件時,是適當的。 【先前技術】 習知地,許多的使用 A1鋁薄膜之典型反射鏡爲已知 的。最近,然而銀反射鏡爲已知,其係藉由將在寬可見光 範圍的波長中具有高反射之銀薄膜蒸汽-沈積在樹脂基材 上而獲得。 作爲反射薄膜之銀薄膜具有高反射。然而,當暴露在 外面空氣時,銀薄膜腐蝕而減少反射。因此,銀薄膜具有 弱的抗環境性。 因爲上述,使用銀薄膜之反射鏡需要提供一種用於覆 蓋銀薄膜的保護薄膜以使提高有關環境之耐久性的措施, 例如。 曰本專利申請案公開號H5- 1 27005或日本專利申請案 公開號H6-31 3 8 0 3揭示一種在下層使用硫化物(提供在基 材和銀薄膜之間的薄膜)或銀薄膜的保護薄膜之反射鏡。 另一方面,曰本專利申請案公開號H7-0 053 09,曰本 專利申請案公開號H 8 - 3 2 7 80 9,或日本專利申請案公開號 (2) 1238268 2001-074922揭示一種在下層中使用金層薄膜或一種用於 銀薄膜之保護薄膜的反射鏡。 除此之外,加入由銀薄膜之外的其他材料(例如,P d ,A1或Au)組成的反射鏡也爲已知。 在上述申請案提議之反射鏡中,使用樹脂基材代替玻 璃基材,且爲了避免當使用 Ag薄膜代替A1薄膜時所引 起之耐久性和可信度(薄膜剝離、霧化等等)的減少,採用 一些措施。 然而,在上述申請案提議之反射鏡中,雖然認出耐久 性和可信度的增強,但是在形成薄膜之後有最初反射比趨 向變成不穩定的。此外,可信度測試例如使用膠帶的黏著 測試的結果,於80t、100小時之高溫測試,和於60°C 和9 0 %的濕度、1,0 0 〇小時之環境測試,在某些情況中發 生薄膜剝離、霧化等等。 【發明內容】 發明槪述 本發明的一個目的爲提供一種反射鏡,其中使用樹脂 基材,且當在樹脂基材上提供銀薄膜作爲反射層時,適當 地提供下層和保護薄膜,藉此容易地獲得高耐久性和可信 度,和提供一種具有該反射鏡之光學設備。 爲了達到上述目的,根據本發明的第一個觀點,提供 一種反射鏡,其包括: 樹脂基材; -5- (3) 1238268 在樹脂基材上形成之下層,下層包括至少一個Ti02薄膜 和至少~個Al2〇3薄膜,其中接觸樹脂基材的下層的薄膜 爲Ti〇2薄膜; 在下層上形成的由Ag薄膜組成之反射層;和 在反射層上形成之保護層,保護層包括至少一個 T i 0 2薄膜和至少一個a 1 2 〇 3薄膜。 根據本發明的第二個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中下層和保護層由Ti02薄膜和ai2〇3 薄膜交錯層所組成。 根據本發明的第三個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中接觸反射鏡的下層之薄膜爲Ti〇2 薄膜。 根據本發明的第四個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中包含在下層中的A 1 2 0 3薄膜之幾何 總薄膜厚度爲1 0奈米或更多。 根據本發明的第五個觀點,提供一種根據本發明第四 個觀點之反射鏡,其中包含在下層中的A1203薄膜之幾何 總薄膜厚度爲100奈米或更少。 根據本發明的第六個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中接觸樹脂基材的下層之Ti〇2薄膜 的幾何薄膜厚度爲80奈米或更少。 根據本發明的第七個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中保護層進一步地包括一種具有1到 20奈米的幾何薄膜厚度之SiOx(l < x< 2)的薄膜。 (4) 1238268 根據本發明的第八個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中下層由下列組成:2層之Ti02薄 膜和Al2〇3薄膜;3層之Ti〇2薄膜、Al2〇3薄膜和丁丨02薄 膜;4層之Ti〇2薄膜、a1203薄膜、Ti02薄膜和Al2〇3薄 膜;或5層之Ti〇2薄膜、ai2o3薄膜、Ti〇2薄膜、ai2o3 S膜和1 Ti〇2薄膜,提供一種根據本發明第一個觀點之反 射鏡。 根據本發明的第九個觀點,提供一種根據本發明第一 個觀點之反射鏡,其中保護層由下列組成:2層之Al2〇3 薄膜和Ti〇2薄膜的層;4層之Al2〇3薄膜、Ti02薄膜、 Al2〇3薄膜和Ti〇2薄膜;3層之Ti02薄膜、Al2〇3薄膜和 Ti〇2薄膜;5層之Ti02薄膜' Al2〇3薄膜、Ti02薄膜、 Al2〇3薄膜和Ti〇2薄膜;或3層之a12〇3薄膜、Ti02薄膜 和Si〇x(1< χ< 2)薄膜,按照從樹脂基材側開始之順序。 根據本發明的第十個觀點,提供一種光學組件,其包 含根據本發明的第一個觀點之反射鏡。 根據本發明的第十一個觀點,提供一種光學設備,其 包含根據本發明第十個觀點之光學組件。 較佳具體實施例之詳細說明 以下’本發明將會參考圖式利用具體實施例詳細說明 〇 圖1爲一種槪要截面圖,其顯示根據本發明之反射鏡 (銀反射鏡)的具體實施例之主要部分。在本實例的反射鏡 (5) 1238268 中,下層2 Ο、銀層3 0和保護層4 0連續地提供在樹脂基 材1 0上。 更詳而言之,包括三層21,22和23的下層20提供 在樹脂基材1 〇上。然後’反射層(銀層)3 〇 ’和包括二層 41和42的保護層40進一步提供在其上面。 關於下層20和保護層40的層數’除了圖1所示的數 目之外可使用任何數目’只要其符合下列條件。 各下層20和保護層40包括至少一個ΑΙ2Ο3薄膜。這 是因爲頃發現爲了增加銀層3 0的耐久性之可信度的試驗 果,其有效提供具有低水分透過率和具有關於來自銀層 3 0兩側(上面和下面)的基材1 〇的除氣成分之高阻斷效果 之薄膜。 保護層40包括交錯之Ti02薄膜和Α12〇3薄膜。這是 因爲頃發現在表面反射鏡的情況中,Ti〇2薄膜和αι2ο3薄 膜的組合爲最適宜的以便提高反射鏡的可信度和獲得高反 射比。 下層20包括交錯之Ti02薄膜和Α12〇3薄膜。這是因 爲頃發現在後表面反射鏡的情況中,爲了提高反射鏡的可 信度和獲得高反射比,特別地,在銀層3 0和下層2 0之間 的黏著,或在銀層3 0和保護層4 0之間的黏著,以及獲得 高反射比,銀層兩側上的交錯層用相同的材料做成且具有 幾乎相同的結構是有效的。 接觸樹脂基材10的下層20之薄膜21由Ti02薄膜形 成。這是因爲頃發現Ti〇2薄膜有效提高反射鏡的可信度 (6) 1238268 ,特別地,在樹脂基材1 〇和下層2 0之間的黏著。 接觸銀層30的下層20之薄膜23由Ti02薄膜形成。 這是因爲頃發現Ti〇2薄膜有效提高反射鏡的可信度’特 別地,在銀層3 0和下層2 0之間的黏著。 然後,將描述較佳的“幾何薄膜厚度”(亦即’“物理薄 膜厚度”,不是光學薄膜厚度“nd”,其中薄膜厚度爲“d”, 且薄膜的折射率爲“η”)。 包含在下層2 0中的A12 0 3薄膜的幾何總薄膜厚度設 定在10奈米或更多和100奈米或更少之範圍。這是因爲 頃發現爲了提高銀層3 0的可信度,特別地’減少水份吸 收和銀層3 0的霧化,由於來自基材1 〇的除氣成分’作爲 A12 0 3薄膜的幾何總薄膜厚度,需要1 〇奈米或更多。此外 ,這是因爲頃發現爲了減少在60 °C和90%的濕度之1,〇〇〇 小時的環境測試中薄膜浮起,作爲Al2 03薄膜的幾何總薄 膜厚度,100奈米或更少爲較佳。 接觸樹脂基材的下層20之Ti02薄膜21的薄膜厚 度設定爲80奈米或更少。這是因爲頃發現爲了避免在60 °C和90%的濕度之1 50 0 0小時的環境測試中薄膜浮起,作 爲Ti02薄膜的幾何薄膜厚度,80奈米或更少爲較佳。 在此具體實施例中,以具有1到20奈米的幾何薄膜 厚度之 SiOx(l < X < 2)製成的第二個保護層可提供在由 Ti02薄膜和A1203薄膜之交錯層組成的保護層40上。其 有效提高反射鏡的可信度,特別地,表面之抗磨鈾性。 (7) 1238268 【實施方式】 接著,將描述根據本發明之各實例之特定薄膜結構。 (實例1)
銀表面反射鏡係藉由真空沈積形成,使用不透明聚碳 酸酯基材(包含黑色成分)作爲樹脂基材1 0。薄膜結構爲 5 -層結構,包括,按照從基材1 0側開始之順序,T i 0 2薄 膜(折射率:約2.15)和AhO3薄膜(折射率·· ι·6)作爲下層 20 ; Ag薄膜作爲反射薄膜30 ;和Al2〇3薄膜和Ti02薄膜 作爲保護薄膜40。 作爲個別幾何薄膜厚度,保護層40具有55奈米的 Al2〇3薄膜和60奈米的Ti02薄膜。下層20的各材料的幾 何薄膜厚度也幾乎以相同方式設定。在薄膜形成期間,基 材不加熱,和使用電子槍作爲蒸發裝置。銀表面反射鏡之 最初反射比是令人滿意的,也就是,97%或更多(波長: 5 5 0奈米)。
爲了評估可信度,藉由使用膠帶之剝離,於8 0 °C、 1 〇〇小時之高溫暴露測試,和於60 °C和90 %的濕氣、 1,〇〇〇小時之環境測試進行形成薄膜之後的最初黏著測試 。表1顯示該等結果。根據實際使用,沒有黏著和外觀之 問題。在表1中,符號“A”和“B”表示根據實際使用沒有問 題,及符號“C”表示有問題。 (實例2) 與實例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲6- -10- (8) 1238268 層結構,包括,按照從基材1 0側開始之順序,Ti02薄膜 、A1203薄膜和Ti02薄膜作爲下層20; Ag薄膜作爲反射 薄膜30;和AhOs薄膜和Ti02薄膜作爲保護層40。 薄膜結構的槪要圖類似於圖。作爲幾何薄膜厚度,保 護層40具有55奈米的Al2〇3薄膜和60奈米的Ti02薄膜 。下層2 0具有幾乎與保護層之幾何薄膜厚度相同的幾何 薄膜厚度。銀表面反射鏡之最初反射比是令人滿意的,也 就是,97%或更多(波長:5 5 0奈米)。 爲了評估可信度’藉由以膠帶剝離,於80°C、100小 時之高溫暴露測試,和於6 0 °C和9 0 %的濕氣、15 0 0 0小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。黏著 和外觀是令人滿意的。 (實例3) 與實例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲9 -層結構,包括,按照從基材1 0側開始之順序’ T i0 2薄膜 、Α12〇3薄膜、Ti〇2薄膜和Ah〇3薄膜作爲下層20;Ag 薄膜作爲反射薄膜30;和Abels薄膜、Ti02薄膜、AI2O3 薄膜和Ti〇2薄膜作爲保護層40 °作爲幾何薄膜厚度’保 護層40具有60奈米的Al2〇3薄膜、60奈米的Ti〇2薄膜 、95奈米的Ah〇3薄膜和40奈米的Ti〇2薄膜’按照從銀 層30側開始之順序。作爲個別幾何薄膜厚度’下層20具 有40奈米的丁丨〇2薄膜、50奈米的Α】2〇3薄膜、60奈米 的T i 0 2薄膜和5 〇奈米的A12 0 3薄膜’按照從基材]◦側 - 11 - 1238268 Ο) 開始之順序。保護層4 0和下層2 0具有幾乎相同的結構, 具有銀層3 0插入其間。銀表面反射鏡之最初反射比是令 人滿意的,也就是,98%或更多(波長:55〇奈米)。 爲了評估可信度,藉由以膠帶剝離,於8 0 °C、1 〇 〇小 時之高溫暴露測試,和於6 0 °C和9 0 %的濕氣、1,0 0 0小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。環境 測試的結果,發生以目視檢驗不能夠檢測之微薄膜浮起; 然而,根據實際使用,黏著和外觀都沒有問題。 (實例4) 與實例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲1 ^ 層結構,包括,按照從基材1 〇側開始之順序,Ti〇2薄膜 、Al2〇3薄膜、Ti〇2薄膜、Ah〇3薄膜和Ti〇2薄膜作爲下 層20; Ag薄膜作爲反射薄膜30;和Ti02薄膜、Al2〇3薄 膜、Ti02薄膜、Al2〇3薄膜和Ti〇2薄膜作爲保護層40。 作爲幾何薄膜厚度,保護層40具有95奈米的Ti〇2薄膜 、85奈米的Ah〇3薄膜、60奈米的Ti02薄膜、55奈米的 Al2〇3薄膜和20奈米的Ti〇2薄膜’按照從銀層側開始之 順序。作爲幾何薄膜厚度,下層20具有40奈米的Ti02 薄膜、10奈米的Al2〇3薄膜、60奈米的Ti02薄膜、10奈 米的Al2〇3薄膜和95奈米的Ti〇2薄膜’按照從基材10 側開始之順序。保護層40和下層20具有於對稱方式之幾 乎相同的結構,具有銀層3 〇插入其間。下層20的各材料 具有於對稱方式的與保護層4 0之幾乎相同的幾何溥膜厚 -12- (10) 1238268 度,具有銀層3 0插入其間。銀表面反射鏡之最初反射比 是令人滿意的,也就是,98%或更多(波長:550奈米)。 爲了評估可信度,藉由以膠帶剝離,於8 0 °C、1 〇 〇小 時之高溫暴露測試,和於6 0 °C和9 0 %的濕氣、1 5 0 0 0小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。黏著 和外觀是令人滿意的。
(實例5)
與實例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲7-層結構,包括,按照從基材1 0側開始之順序,Ti 02薄膜 、Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射 薄膜30 ;和Al2〇3薄膜、Ti02薄膜和SiOx薄膜(1 < x< 2) 作爲保護層40。作爲幾何薄膜厚度,保護層40具有55 奈米的ΑΙ2Ο3薄膜、55奈米的Ti〇2薄膜,和10奈米的 SiOx薄膜。下層20的各薄膜也與保護層的幾何薄膜厚度 幾乎相同。銀表面反射鏡之最初反射比是令人滿意的,也 就是,97%或更多(波長:550奈米)。 爲了評估可信度,藉由以膠帶剝離,於80t、100小 時之高溫暴露測試,和於60°C和90%的濕氣、15〇〇〇小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。黏著 和外觀是令人滿意的。此外,以濕嫘縈非織造織物的摩擦 測試的結果,與實例2比較,觀察到改良。 (實例6) -13- (11) 1238268 與實例1同樣地形成銀後表面反射鏡。在此,使用作 爲樹脂基材10者爲透明聚碳酸酯基材。薄膜結構爲7-層 結構,包括,按照從基材1 0側開始之順序,Ti02薄膜、 Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射薄 膜30 ;和Ti02薄膜、Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲保護層 40。作爲幾何薄膜厚度,下層20具有80奈米的Ti02薄 膜、80奈米的Al2〇3薄膜和105奈米的Ti02薄膜,按照 從樹脂基材1 〇側開始之順序。保護層4 0的各薄膜也爲於 對稱方式之相同幾何薄膜厚度,具有銀層3 0插入其間。 銀後表面反射鏡之最初反射比是令人滿意的,也就是,97 %或更多(波長:5 5 0奈米)。 爲了評估可信度,藉由以膠帶剝離,於80 °C、1〇〇小 時之高溫暴露測試,和於6CTC和90%的濕氣、1,000小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。環境 測試的結果,發生以目視檢驗不能夠檢測之微薄膜浮起; 然而,根據實際使用,黏著和外觀都沒有問題。 (實例7) 與實例2同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲6-層結構,包括,按照從基材1 〇側開始之順序,Ti 02薄膜 、Ah〇3薄膜和Ti〇2薄膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射 薄膜30 ;和Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲保護層40。作爲 幾何薄膜厚度,保護層40具有55奈米的Al2〇3薄膜和60 奈米的Ti〇2薄膜。作爲幾何薄膜厚度,下層20具有60 -14- (12) 1238268 奈米的Ti〇2薄膜、i〇奈米的A1203薄膜和60奈米的 T i 〇2薄膜,按照從基材1 〇側開始之順序。保護層4 0和 下層2 0具有幾乎相同的結構,具有銀層3 0插入其間。銀 表面反射鏡子的最初反射比,是令人滿意的,也就是,9 7 %或更多(波長:5 5 0奈米)。 爲了評估可信度,藉由以膠帶剝離,於80。(:、100小 時之局溫暴露測試’和於6 0 °C和9 0 %的濕氣、1 , 〇 〇 〇小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。高溫 暴露測試的結果,發生以目視檢驗不能夠檢測之非常輕微 的霧化;然而,根據實際使用,黏著和外觀都沒有問題。 (實例8) 與實例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲6-層結構,包括,按照從基材1 〇側開始之順序,Ti02薄膜 、Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射 薄膜30;和A1203薄膜和Ti〇2薄膜作爲保護層40。 作爲幾何薄膜厚度,保護層40具有55奈米的Al2〇3 薄膜和60奈米的Ti〇2薄膜。作爲幾何薄膜厚度’下層 20具有60奈米的Ti02薄膜、1〇〇奈米的Ah〇3薄膜和60 奈米的Ti〇2薄膜,按照從基材1 0側開始之順序。保護層 40和下層2〇具有幾乎相同的結構’具有銀層30插入其 間。銀表面反射鏡之最初反射比是令人滿意的’也就是’ 97%或更多(波長:5 5 0奈米)° 爲了評估可信度’藉由以膠帶剝離,於8 0 °C、1 00小 -15- (13) 1238268 時之高溫暴露測試,和於60 °C和90%的濕氣' 1,000小時 之環境測試進行最初黏著測試。表1顯示該等結果。環境 測試的結果,發生以目視檢驗不能夠檢測之微薄膜浮起; 然而,根據實際使用,黏著和外觀都沒有問題。 其次,將描述比較例,用於與上述發明實例比較。 (比較例1) 與實例1同樣地藉由真空沈積使用不透明聚碳酸酯樹 脂基材1 0 (包含黑色成分)形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲 4-層結構,包括,按照從基材10側開始之順序’ Ti〇2薄 膜作爲下層20; Ag薄膜作爲反射薄膜3 0;和Al2〇3薄膜 和Ti〇2薄膜作爲保護薄膜40。 作爲幾何薄膜厚度,保護層40具有55奈米的Al2〇3 薄膜和60奈米的Ti02薄膜。作爲幾何薄膜厚度,下層 20具有100奈米。銀表面反射鏡之最初反射比是令人滿 意的,也就是,97%或更多(波長:55〇奈米)。 爲了評估可信度,藉由使用膠帶之剝離,於8 0 °C ' 1 〇〇小時之高溫暴露測試,和於 6(TC和 90 %的濕氣、 1,〇〇〇小時之環境測試進行形成薄膜之後的最初黏著測試 。表1顯示該等結果。黏著是令人滿意的;然而,關於外 觀,發生霧化。因此,根據實際使用,反射鏡不能適用° (比較例2) 與比較例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲 -16- (14) 1238268 4- 層結構,包括,按照從基材1 0側開始之順序,ai2〇3薄 膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射薄膜30 ;和Al2〇3薄膜 和Ti〇2薄膜作爲保護層40。 作爲幾何薄膜厚度,保護層40具有55奈米的ai2〇 3 薄膜和60奈米的Ti02薄膜。作爲幾何薄膜厚度,下層 20具有100奈米。銀表面反射鏡之最初反射比是令人滿 意的,也就是,97%或更多(波長:550奈米)。 爲了評估可信度,藉由使用膠帶之剝離,於8〇t、 1 〇 〇小時之高溫暴露測試,和於 6 0 °C和 9 0 %的濕氣、 1,〇〇〇小時之環境測試進行形成薄膜之後的最初黏著測試 。表1顯示該等結果。關於外觀,沒有發生霧化;然而, 環境測試的結果,發生可藉由目視檢驗檢測之浮起。此外 ,關於黏著,在基材ίο和ai2o3薄膜之間或在ai2o3薄 膜和銀層3 0之間發生剝離。因此,根據實際使用,反射 鏡不能適用。 (比較例3) 與比較例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲 5- 層結構,包括,按照從基材10側開始之順序,SiOx(l < x< 2)薄膜和Ti02薄膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射 薄膜30 ;和Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲保護層40。 作爲幾何薄膜厚度,保護層40具有55奈米的Al2〇3 薄膜和60奈米之Ti02薄膜。作爲幾何薄膜厚度,下層 20具有50奈米的SiOx薄膜和1〇〇奈米的Ti02薄膜,按 -17- (15) 1238268 照從基材1 〇側開始之順序。銀表面反射鏡之最初反射比 是令人滿意的,也就是,97%或更多(波長:550奈米)。 爲了評估可信度,藉由使用膠帶之剝離,於8CTC、 1 0 0小時之高溫暴露測試,和於 6 0 °C和 9 0 %的濕氣、 1,000小時之環境測試進行形成薄膜之後的最初黏著測試 。表1顯示該等結果。關於外觀,發生霧化。黏著測試的 結果,在一些情況中 SiOx薄膜從基材剝離。因此,根據 實際使用,反射鏡不能適用。 (比較例4) 與比較例1同樣地形成銀表面反射鏡。薄膜結構爲 5-層結構,包括,按照從基材10側開始之順序,Al2〇3薄 膜和Ti02薄膜作爲下層20 ; Ag薄膜作爲反射薄膜30 ; 和Al2〇3薄膜和Ti02薄膜作爲保護層40。作爲幾何薄膜 厚度,保護層40具有55奈米的AI2〇3薄膜和60奈米的 Ti02薄膜。關於每個形成下層20的薄膜之幾何薄膜厚度 ,Al2〇3薄膜和Ti02薄膜做的與保護層40幾乎相同。銀 表面反射鏡之最初反射比是令人滿意的,也就是,97 %或 更多(波長:5 5 0奈米)。 爲了評估可信度,藉由以膠帶剝離,於80°C、100小 時之高溫暴露測試,和於60 °C和90%的濕氣、1,〇〇〇小時 之環境測試進行最初黏著測試。 表1顯示該等結果。黏著測試的結果,在一些情況中 發生A】2〇3薄膜從基材剝離。環境測試的結果,也發生可 -18- (16) 1238268 藉由目視檢驗檢測之浮起。因此,根據實際使用,反射鏡 不能適用。 表1 評估 黏著 外觀 膠帶測試 於 80°C、100 小 時之暴露測試 於 60°C,90%、15〇〇〇 小時之環境測試 實例1 B :發生非常 小數目之剝離 A A 實例2 A A A 實例3 B :發生非常 小數目之剝離 A B :微浮起發生 實例4 A A A 實例5 A A A 實例6 A A B :微浮起發生 實例7 A B :非常輕微 的霧化 A 實例8 A A B :微浮起發生 比較例1 A c :霧化 A 比較例2 c:剝離發生 A c :浮起發生 比較例3 c:剝離發生 C :霧化 A 比較例4 c:剝離發生 A c :浮起發生 當具有上述結構的反射鏡應用在使用於光學系統的光 -19- (17) 1238268 學組件例如TV相機、視頻相機、數位相機或相似物中, 可容易地獲得滿意的光學特性。 根據本發明,使用樹脂基材,及銀薄膜提供在其上作 爲反射層’藉此反射鏡(其中高耐久性和可信度可容易地 獲得)及具有反射鏡之光學設備可被達成。 特而言之,根據本發明,即使當使用樹脂基材,可產 生優良反射特性和可信度之銀反射鏡。 【圖式簡單說明】 圖爲 ° "、、〜種顯示根據本發明之實例的薄膜結構之槪要圖
示。 元件符號說明 10 樹脂基材 20 下層 2 1、2 2、2 3 , π , z ' 41、42 薄膜 30 銀層 40 保護層
-20-

Claims (1)

  1. (1) 1238268 拾、申請專利範圍 1. 一種反射鏡,其包含:按照從樹脂基材開始之順 序,在樹脂基材上之下層、反射層和保護層,其中反射層 由Ag薄膜組成’各下層和保護層包括至少一個Ti02薄膜 和至少一個ai2o3薄膜,且接觸樹脂基材之下層的薄膜爲 T i 〇 2薄膜。 2 ·如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中各下層和 保護層由Ti02薄膜和Al203薄膜之交錯層組成。 3 ·如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中接觸反射 鏡的下層之薄膜爲Ti02薄膜。 4. 如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中包括在下 層之ai2o3薄膜的幾何總薄膜厚度爲10奈米或更多。 5. 如申請專利範圍第4項之反射鏡,其中包括在下 層之Al2〇3薄膜的幾何總薄膜厚度爲100奈米或更少。 6. 如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中接觸樹脂 基材的下層之Ti02薄膜的幾何總薄膜厚度爲80奈米或更 少〇 7. 如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中保護層進 一步包括具有1到20奈米的幾何薄膜厚度之SiOx(l<x< 2)的薄膜。 8. 如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中下層由下 列組成,按照從樹脂基材側開始之順序: 2層之Ti02薄膜和Al2〇3薄膜; 3層之Ti02薄膜、Al2〇3薄膜和Ti〇2薄膜; -21 - (2) 1238268 4層之Ti02薄膜、Al2〇3薄膜、Ti〇2薄膜和a12〇3薄 膜;^ 5層之Ti02薄膜、Al2〇3薄膜、Ti02薄膜、Al2〇3薄 膜和T i 0 2薄fi旲。 9 ·如申請專利範圍第1項之反射鏡,其中保護層由 下列組成,按照從樹脂基材側開始之順序: 2層之Al2〇3薄膜和Ti02薄膜的層; 4層之ai2o3薄膜、Ti〇2薄膜、ai2o3薄膜和Ti02薄 膜; 3層之Ti02薄膜、Al2〇3薄膜和Ti〇2薄膜; 5層之Ti02薄膜、Al2〇3薄膜、Ti〇2薄膜、Al2〇3薄 膜和Ti02薄膜;或 3層之Al2〇3薄膜、Ti02薄膜和si〇x(l<x<2)薄膜 〇 10. 一種光學組件,其包含如申請專利範圍第1至9 項中任一項之反射鏡。 11. 一種光學設備,其包含如申請專利範圍第1 0項 之光學組件。 -22-
TW093105207A 2003-02-28 2004-02-27 Reflection mirror and optical equipment using the same TWI238268B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003053318A JP4125158B2 (ja) 2003-02-28 2003-02-28 反射鏡及びそれを用いた光学機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200422654A TW200422654A (en) 2004-11-01
TWI238268B true TWI238268B (en) 2005-08-21

Family

ID=32905764

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093105207A TWI238268B (en) 2003-02-28 2004-02-27 Reflection mirror and optical equipment using the same

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6957895B2 (zh)
JP (1) JP4125158B2 (zh)
CN (1) CN100371739C (zh)
TW (1) TWI238268B (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200741241A (en) * 2006-04-17 2007-11-01 Asia Optical Co Inc Lens to reduce the stray light
JP2011242648A (ja) * 2010-05-19 2011-12-01 Nippon Electric Glass Co Ltd 反射部材
JP5853638B2 (ja) * 2011-11-24 2016-02-09 セイコーエプソン株式会社 ハーフミラー及び画像表示装置
US9488760B2 (en) * 2013-02-28 2016-11-08 Corning Incorporated Enhanced, durable silver coating stacks for highly reflective mirrors
CN107092046A (zh) * 2017-04-26 2017-08-25 上海默奥光学薄膜器件有限公司 一种宽光谱高反光镜
CN109738978B (zh) * 2018-12-26 2021-10-08 河南机电职业学院 一种耐高温、耐废气中强酸腐蚀激光器件用高反射膜层及其制备方法
US10840391B1 (en) * 2019-04-26 2020-11-17 Visera Technologies Company Limited Light filter structure
US10919268B1 (en) * 2019-09-26 2021-02-16 United States Of America As Represented By The Administrator Of Nasa Coatings for multilayer insulation materials
WO2021096533A1 (en) * 2019-11-15 2021-05-20 Applied Materials, Inc. Optical reflector film, display with optical reflector film and method of manufacturing an optical reflector film

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3147985C2 (de) * 1981-12-04 1986-03-13 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einer mehrfarbigen Feinstruktur
JPS60195502A (ja) * 1984-03-19 1985-10-04 Canon Inc 金属回転多面鏡
JP3120882B2 (ja) 1991-10-31 2000-12-25 旭光学工業株式会社 表面高反射鏡
GB2261079B (en) * 1991-10-31 1995-06-14 Asahi Optical Co Ltd Surface reflecting mirror
JP2637016B2 (ja) 1992-07-29 1997-08-06 セントラル硝子株式会社 表面反射鏡
CA2090713C (en) * 1993-02-23 1996-11-19 Gerald T. Mccarthy Lateral vision controlling device
CH685138A5 (de) 1993-04-15 1995-03-31 Balzers Hochvakuum Hochreflektierender Silberspiegel.
CA2120877A1 (en) 1993-04-28 1994-10-29 Jesse D. Wolfe Durable first and second surface mirrors
JPH08327809A (ja) * 1995-05-31 1996-12-13 Ricoh Co Ltd プラスチック製反射ミラー
JP2000241612A (ja) * 1999-02-23 2000-09-08 Nikon Corp 反射鏡
JP4482971B2 (ja) 1999-09-08 2010-06-16 株式会社ニコン 反射鏡
JP4410367B2 (ja) * 1999-12-24 2010-02-03 キヤノン電子株式会社 金属鏡および金属回転多面鏡およびその製造方法
JP2002055213A (ja) 2000-06-02 2002-02-20 Canon Inc 高反射ミラー
US6709119B2 (en) * 2001-04-27 2004-03-23 Alusuisse Technology & Management Ltd. Resistant surface reflector
JP2008034919A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Nec Corp スキャナ内蔵携帯通信端末

Also Published As

Publication number Publication date
TW200422654A (en) 2004-11-01
US6957895B2 (en) 2005-10-25
US20040169944A1 (en) 2004-09-02
JP2004264438A (ja) 2004-09-24
CN100371739C (zh) 2008-02-27
JP4125158B2 (ja) 2008-07-30
CN1530669A (zh) 2004-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20020140885A1 (en) Heat-resistant reflecting layer, laminate formed of the reflecting layer, and liquid crystal display device having the reflecting layer or the laminate
JPWO2007013269A1 (ja) 反射膜用積層体
TW200833163A (en) A light emitting device including anti-reflection layer(s)
TWI238268B (en) Reflection mirror and optical equipment using the same
US20120268810A1 (en) Infrared ray reflective substrate
TW201605610A (zh) 高耐久性銀鏡子
JP2008268277A (ja) 赤外線透過構造体および赤外線センサー
JP2020064160A (ja) 光学部材および画像表示装置
JP4482971B2 (ja) 反射鏡
JP6302688B2 (ja) 高反射膜、高反射膜付き基板及び高反射膜の製造方法
JP2003131011A (ja) 多層膜およびそれを用いた多層膜付き基体
JP2000241612A (ja) 反射鏡
WO2006129528A1 (ja) 表面鏡
JP2010506788A (ja) 防眩鏡面板並びにかかる防眩鏡面板を有するバックミラー
JP4320866B2 (ja) 反射防止積層体、光学機能性積層体、および表示装置
JPS63294501A (ja) 赤外用光学薄膜
JPH07168008A (ja) Ag表面鏡
JP3120882B2 (ja) 表面高反射鏡
JPH03163402A (ja) 反射鏡
JPH03191301A (ja) 反射鏡
JP2005275029A (ja) 裏面反射鏡及びそれを備えるペンタプリズム
JP2003329818A (ja) 反射鏡
KR102542171B1 (ko) 플렉서블 투명 전도성 필름 및 이를 포함하는 투명 전극 및 투명 차열 필름
JP3266335B2 (ja) 裏面反射鏡
JP2006154587A (ja) リアプロジェクションテレビ用表面鏡

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees