TWI238114B - Production method of micro lens and micro lens, optical device and optical transmission system, laser printer head, and laser printer - Google Patents

Description

1238114 (1) 政、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關微透鏡的製造方法，及藉此方法取得的 微透鏡，以及具備該微透鏡的光學裝置，光傳送裝置，雷 射印表機用頭，雷射印表機。 【先前技術】 近年來具有多數個所謂微透鏡的微小透鏡·之光學裝置 被提供。就如此的光學裝置而言，例如有固體攝像元件 等，該固體攝像元件具有：具備雷射的發光裝置，及供以 先纖的光互接，且集合入射光的集光透鏡。 構成如此光學裝置的微透鏡，以往使藉由使用模具的 成形法或光蝕刻微影法來成形（例如參照專利文獻i)。 又’近年來也有提案利用印表機等中所被使用的液滴 噴出法來形成微細圖案的微透鏡（例如參照專利文獻2)。 [專利文獻1] 特開2 0 0 0 - 3 5 5 0 4號公報 [專利文獻2] 特開2 0 0 0 - 2 8 0 3 6 7號公報 【發明內容】 (發明所欲解決的課題） 但’在利用模具的成形法或光触刻微影法中，爲了形 成微透鏡形成’而必須要模具或複雜的製造步胃，其成本 -4 - (2) 1238114 會變高’且難以使任意形狀的微透鏡形成於任意的位置。 又’若單只採用液滴噴出法，則雖容易將微透鏡形成 於任意的位置，但難以將其形狀控制成所望的形狀。 本發明是有鑑於上述情事而硏發者，其目的是在於提 供一種可任意控制形狀來使集光機能等的透鏡特性形成良 好之微透鏡的製造方法及微透鏡，以及具備該微透鏡的光 學裝置’光傳送裝置，雷射印表機用頭，雷射印表機。 (用以解決課題的手段） 爲了達成上述目的，本發明之微透鏡的製造方法係具 備·· 在基體上形成基座構件之步驟； 對上述基座構件的上面進行撥液處理之步驟；及 在上述撥液處理後的基座構件上，藉由液滴噴出法來 將透鏡材料噴出複數點，在上述基座構件上形成微透鏡之 步驟。 若利用此微透鏡的製造方法，則因爲在基座構件上形 成有微透鏡，所以基座構件上面的大小形狀會被適當地形 成，藉此可適當地形成所取得之微透鏡的大小形狀。又， 因爲基座構件的上面被施以撥液處理，所以對被噴出配置 的透鏡材料的基座構件上面之接觸角會變大，因此可增多 載置於基座構件上面的透鏡材料量。又，因爲可在增多載 置於基座構件上面的透鏡材料量之狀態下噴出複數點透鏡 材料，所以可藉由適當調整點數來良好地控制所取得之微 (3) 1238114 透鏡的大小形狀，因此可例如形成接近球形狀的微透鏡。 又’於上述微透鏡的製造方法中’在上述撥液處理的 步驟中’在對以上述基座構件形成材料所形成的平面配置 上述透鏡材料時，最好以能夠發揮該透鏡材料的接觸角爲 形成20°以上的撥液性之方式來進行撥液處理。 如此一來，對被噴出配置的透鏡材料的基座構件上面 之接觸角會確實地變大，因此可增多載置於基座構件上面 的透鏡材料量。 又’於上述微透鏡的製造方法中，在形成上述基座構 件的步驟中，最好使上述基座構件的上面形狀形成圓形或 橢圓形，或者多角形。 如此一來，可形成更接近球的微透鏡，因此可適當形 成其曲率的情況下調整集光機能等的光學特性。 又，於上述微透鏡的製造方法中，在藉由上述液滴噴 出法來噴出透鏡材料時，最好以所形成之微透鏡的上面側 的曲率能夠形成預先設定的規定曲率之方式來決定噴出的 點數。 如此一來，因爲是以上面側的曲率能夠形成預先設定 的規定曲率之方式來形成，所以可使光從該上面側透過， 藉此可形成具有所期望的光學特性之微透鏡。 本發明之微透鏡係形成於基體上所形成之基座構件的 上面者，其特徵爲： 上述基座構件的上面會被施以撥液處理， 上述微透鏡係錯由液滴噴出法來將透鏡材料噴出複數 -6- (4) 1238114 點而形成。 若利用此微透鏡’則因爲在基座構件上形成有微透 鏡，所以基座構件上面的大小形狀會被適當地形成，藉此 其大小形狀會形成適當者。又’因爲基座構件的上面被施 以撥液處理，所以對被噴出配s的透鏡材料的基座構件上 面之接觸角會變大’因此可增多載置於基座構件上面的透 鏡材料量。藉此，噴出之透鏡材料的點數會被適當地調 整，藉此所取得之微透鏡的大小或形狀會被良好地控制， 例如可形成接近球形狀者。 又，於上述微透鏡中，最好上述基座構件的上面形狀 爲圓形或橢圓形，或者多角形。 如此一來，會形成更接近球形者，因此可在其曲率形 成適當的情況下良好地調整集光機能等的光學特性。 又，於上述微透鏡中，最好與上述基座構件的上面平 行之微透鏡的横斷面的最大外徑比上述基座構件的上面的 外徑更大。 如此一來，因爲具有比基座構件上面的外徑更大的横 斷面’所以該微透鏡會例如形成接近球的形狀，因此可在 其曲率形成適當的情況下良好地調整集光機能等的光學特 性。 又’於上述微透鏡中，最好上述基座構件具有透光 如此一來，在基座構件側配置發光源使用時，可使來 自該發光源的光能夠良好地從微透鏡的上面側射出，因此 -7- (5) 1238114 可藉由該上面側的曲率等來良好地發揮集光機能等。 本發明之光學裝置的特徵係具備：面發光雷射，及藉 由上述製造方法而取得的微透鏡，或上述微透鏡， 並且’將上述微透鏡配置於上述面發光雷射的射出 側。 若利用此光學裝置，則如前述因爲可將大小形狀控制 良好的微透鏡配設於上述面發光雷射的射出側，所以可藉 此微透鏡來良好地進行來自發光雷射的射出光的集光等， 因此可形成具有良好的發光特性（光學特性）者。 本發明之光傳送裝置的特徵係具備··上述光學裝置， 及受光元件，以及將來自上述光學裝置的射出光傳送至上 述受光元件的光傳送手段。 若利用此光傳送裝置，則如前述因具有良好的發光特 性（光學特性）之光學裝置，所以可形成傳送特性佳的光傳 送裝置。 本發明之雷射印表機用頭的特徵係具備上述光學裝 置。 若利用此雷射印表機用頭，則如前述因具有良好的發 光特性（光學特性）之光學裝置，所以可形成描繪特性佳的 雷射印表機用頭。 本發明之雷射印表機的特徵係具備上述雷射印表機用 頭。 若利用此雷射印表機，則如前述因具備描繪特性佳的 雷射印表機用頭，所以該雷射印表機本身會形成描繪特性 (6) 1238114 佳者。 【實施方式】 以下，詳細說明本發明。 首先，針對本發明之微透鏡的製造方法來説明° 本發明之微透鏡的製造方法具備： 在基體上形成基座構件之步驟； 對上述基座構件的上面進行撥液處理之步驟；及 在上述撥液處理後的基座構件的上面，藉由液滴噴出 法來噴出複數點透鏡材料，而於上述基座構件上形成微透 鏡之步驟。 在此，本發明中所謂「基體」是意指具有可形成上述 基座構件的面者，具體而言，玻璃基板或半導體基板，且 於該等基板形成各種機能性薄膜或機能性要件者。又，有 關可形成上述基座構件的面，可爲平面或曲面，且有關基 體本身的形狀，並無特別加以限定，可採用各種的形狀。 在本發明中，如圖1 (a)所示，例如使用 G a A S基板 1，以於該GaAs基板1形成多數個面發光雷射2者來作 爲基體3。又，於此基體3的上面側，亦即形成上述面發 光雷射2的射出側的面上，設置基座構件的形成材料，而 形成基座構件材料層4。並且，在面發光雷射2的射出口 周邊形成有由聚醯亞胺樹脂等所構成的絶縁層（未圖示）。 在此，基座構件的形成材料爲具有透光性的材料，亦即在 來自上述面發光雷射2的發光光的波長域中幾乎不會吸 (7) 1238114 収’因此實質上最好爲使該發光光透過的材料，例如可適 用聚酿亞胺系樹脂，丙烯系樹脂，環氧系樹脂，或氟系樹 脂等’特別是聚醯亞胺系樹脂更適合。 在本實施形態中是使用聚醯亞胺系樹脂來作爲基座構 件的形成材料。又，將此聚醯亞胺系樹脂的先驅物塗佈於 基體3上，然後以約丨5 〇它來進行加熱處理，藉此來形成 圖1 (a)所示的基座構件材料層4。並且，有關此基座構件 材料層4，可此階段不使充分硬化，形成可保持該形狀的 程度硬度。 若如此形成由聚醯亞胺系樹脂所構成的基座構件材料 層4 ’則如圖1 (b)所示，會在此基座構件材料層4上形成 光阻劑層5。然後，利用光阻劑層5來使形成規定圖案的 光^罩6曝光且顯像，藉此如圖1 (〇所示形成光阻劑圖案 5 a 〇 其次’以光阻劑圖案5 a作爲光罩，例如藉由使用鹼 系溶液的溼蝕刻來對基座構件材料層4形成圖案。藉此， 如圖1 (d)所示在基體3上形成基座構件圖案4a。在此， W關形成的基座構件圖案4a是將其上面形狀形成圓形或 橢圓形’或者多角形，但最好在該等的上面形成微透鏡， 在本實施形態中是將上面形狀形成圓形。又，如此之圓形 上面的中心位置會位於形成於基體3的上述面發光雷射2 的射出□(未圖示）的正上方。 然後，如圖1 (e)所示，去除光阻劑圖案5 a，且以約 3 5 0 t：來進行熱處理，藉此來使基座構件圖案4 a充分硬， -10- (8) 1238114 而成爲基座構件4b。 其次，對該基座構件4 b的上面施以撥液處理。此撥 液處理，例如可採用在大氣環境中以四氟化碳作爲處理氣 體的電漿處理法（C F 4電漿處理法）。此C F 4電漿處理的條 件，例如電漿功率爲50〜lOOOkW，四氟化碳（CF4)的氣體 流量爲50〜100ml/m in，對電漿放電電極之基體3的搬送 速度爲〇. 5〜1020mm/sec，基體温度爲70〜90°C。 又，處理氣體並非限於四氟化碳（CF4)，亦可使用其 他的氟代烴系的氣體。藉由進行如此的撥液化處理，在基 座構件4b的上面構成彼的樹脂中導入氟基，藉此來賦予 高的撥液性。 在此，有關如此的撥液處理，特別是在對以上述基座 構件 4b的形成材料所形成的平面配置後述的透鏡材料 時，最好以能夠發揮該透鏡材料的接觸角爲形成20°以上 的撥液性之方式來進行撥液處理。 亦即，如圖6所示，以上述基座構件4 b的形成材料 (本例爲聚醯亞胺系樹脂）來形成基座構件材料層4，且其 表面爲平面。又，對該表面施以前述廢液處理。其次，在 該表面上藉由液滴噴出法來配置透鏡材料7。 y s l 如此一來，透鏡材料7會形成對應於浸潤性（對基座 構件材料層4的表面而言）的形狀之液滴。此刻，若基座 構件材料層4的表面張力爲γ s，透鏡材料7的表面張力爲 γ L，基座構件材料層4與透鏡材料7之間的界面張力爲 ，對基座構件材料層4之透鏡材料7的接觸角爲Θ，則 -11 - 1238114 Ο) 於7s，YSL，Θ之間以下的式子會成立。

Ys^Ysl+Tl cos0 如後述，形成微透鏡的透鏡材料7，其曲率會受限於 根據上述式子而定的接觸角Θ。亦即，在使透鏡材料7硬 化後取得的透鏡曲率爲決定最終的微透鏡形狀的要件之 一。因此，在本發明中，會以所取得的微透鏡形狀能夠更 接近球形之方式，藉由撥液處理來增大基座構件材料層4 與透鏡材料7之間的界面張力7SL，藉此來增大上述接觸 角Θ，最好爲20°以上。 如此，在上述基座構件4 b的上面實施圖6所示的接 觸角Θ爲20°以上的條件之撥液處理，藉此如後述被噴出 配置於該基座構件4b上面的透鏡材料7之對基座構件4b 上面的接觸角Θ，會確實地變大。因此，可更增多載置於基 座構件上面的透鏡材料量，藉此可容易以噴出量（噴出點 量）來控制其形狀。 若如此在基座構件4b的上面施以撥液處理，則會在 此基座構件4 b上利用液滴噴出法來噴出複數點透鏡材料 7。在此，液滴噴出法可採用噴射發泡機法或噴墨法等。 噴射發泡機法爲一般作爲噴出液滴的方法，可於較廣的領 域噴出液滴。噴墨法則是利用噴墨頭來噴出液滴的方法， 可以μηι的單位來控制噴出液滴的位置，且所噴出的液滴 量亦可以微微升的單位來控制，因此特別適用製造微細的 -12- (10) 1238114 透鏡（微透鏡）。 在此，本實施形態是使用噴墨法來作爲液滴噴出法。 此噴墨法，例如圖2(a)所示，噴墨頭34爲具備不鏽鋼製 的噴嘴板1 2及振動板1 3者，且隔著間隔構件（蓄池板）j 4 來接合兩者。在噴嘴板1 2於振動板1 3之間，藉由間隔構 件1 4來形成複數個模槽1 5…及蓄池1 6，該等的模槽1 5 ... 與蓄池1 6是經由流路1 7來連通。 各模槽1 5與蓄池1 6的内部會充滿噴出用的液狀體 (透鏡材料），該等之間的流路1 7具有作爲由蓄池1 6來供 給液狀體至模槽1 5的供給口之機能。並且，供以從模槽 1 5來噴射液狀體的孔狀噴嘴1 8會以縱橫整列的狀態來複 數形成於噴嘴板1 2。另一方面’在振動板1 3形成有開口 於蓄池1 6内的孔1 9，且液狀體槽（未圖示）會經由管道（未 圖示）來連接至該孔19 又，在與朝向振動板1 3的模槽1 5的面呈相反側的面 上，如圖2(b)所示，接合有壓電元件20。此壓電元件20 是被夾持於一對電極2 1，2 1間’可藉由通電來突出於外 側而彎曲構成，作爲本發明的噴出手段機能者。 根據如此的構成來接合壓電元件2 0的振動板1 3會與 壓電元件2 0形成一體同時往外側彎曲，藉此使模槽1 5的 容積増大。如此一來’模槽1 5内與蓄池1 6内會連通’當 蓄池1 6内充塡有液狀體時，相當於模槽1 5内増大的容積 部份的液狀體會從蓄池I 6經由流路1 7來流入。 又，若由如此的狀態來解除往壓電元件2 0的通電’ -13- (11) 1238114 則壓電元件2 0與振動板1 3會回到原本的形狀。藉此，模 槽1 5也會回到原來的容積，因此模槽1 5内部的液狀體的 壓力會上昇，液狀體的液滴2 2會從噴嘴1 8來噴出液狀體 的液滴2 2。 又’噴墨頭的噴出手段，亦可使用上述壓電元件20 的電氣機械變換體以外者，例如亦可採用利用能量產生元 件的電氣熱變換體的方式，或所謂帶電控制型，加壓振動 型的連續方式，静電吸引方式，以及照射雷射等的電磁波 來使發熱’而於此發熱的作用下噴出液狀體的方式。 又’噴出的透鏡材料7，亦即形成微透鏡的透鏡材料 7爲使用光透過性樹脂。具體而言，例如有聚甲基丙烯酸 甲酯，聚羥乙基丙烯酸甲酯，聚環乙基丙烯酸甲酯等的丙 烯系樹脂，聚二乙二醇雙烯丙基碳酸酯，聚碳酸酯等的丙 烯樹脂’甲基丙烯樹脂，聚氨酯系樹脂，聚酯系樹脂，聚 氯乙燒系樹脂，聚醋酸乙烯酯系樹脂，纖維素系樹脂，聚 醯亞胺系樹脂，氟系樹脂，聚丙烯系樹脂，聚苯乙烯系樹 脂等的熱可塑性或熱硬化性的樹脂，可使用該等中的一種 或複數種混合使用。 又，本發明中，上述光透過性樹脂爲使用非溶劑系 者。此非溶劑系的光透過性樹脂是利用有機溶劑來溶解光 透過性樹脂，非爲液狀體，而是例如將此光透過性樹脂以 其早體來稀釋而形成液狀化，可從噴墨頭3 4來噴出。並 且’ Μ非丨谷劑系的光透過性樹脂可藉由混合聯二咪唑系化 σ物等的光重合開始劑來作爲放射線照射硬化型使用。亦 -14 - (12) 1238114 即，可藉由混合如此的光重合開始劑來對上述光透過性樹 脂賦予放射線照射硬化性。在此，所謂的放射線是指可視 光線’紮外線，遠紫外線，X線，電子線等的總稱，特別 是紫外線爲一般所用。 如圖3(a)所示，藉由上述構成的噴墨頭34在基座構 件4b上噴出複數點，例如3 〇點的透鏡材料7，而於基座 構件4b上形成微透鏡先驅物8。在此，藉由噴墨法來噴 出透鏡材料7，可精度良好地將透鏡材料7配置於基座構 件4b上的大致中心部。又，如前述，在基座構件4b的上 面施以撥液處理，藉此所被噴出之透鏡材料7的液滴會難 以浸潤擴散於基座構件4 b的上面上，因此配置於基座構 件4 b上的透鏡材料7不會從基座構件4 b滴落，可以安定 的狀態來保持於基座構件4b上。又，斷續地噴出數點（本 例爲3 0點）’藉此由該被噴出的透鏡材料7所構成的微透 鏡先驅物8其橫斷面（與基座構件4 b的上面平行的水平面） 會終究形成比基座構件4 b的上面更大。 亦即，在透鏡材料7的噴出初期，由於透鏡材料7的 噴出量少，因此如圖4(a)所示，在擴散於基座構件4b的 上面全體的狀態下，全體不會大幅度地隆起，對基座構件 4b的上面之接觸角Θ5會形成銳角。 若由此狀態再持續噴出透鏡材料7，則之後噴出的透 鏡材料7當然對先前噴出的透鏡材料7之密着性高，因此 如圖4(b)所示，之後不會滴落而形成一體化。如此一來， 該一體化的透鏡材料7其體積會變大而隆起，藉此對基座 (13) 1238114 構件4b的上面之接觸角θ，會變大，進而超越直角。 又’若由此狀態持續噴出透鏡材料7，則會因爲是特 別以噴墨法來噴出，因此各點不會形成大量，藉此可保持 全體在基座構件4b上的平衡，其結果如圖4(c)所示，接 觸角θ’會形成較大的鈍角，結果形成接近球的狀態。 如此’事先對基座構件4 b的上面施以撥液處理，而 於此撥液處理面上針對量及噴出位置來精度佳地噴出少量 的點’藉由此噴墨法（液滴噴出法）來配置複數點的透鏡材 料7，藉此接觸角Θ ^可形成較小的銳角乃至較大的鈍角， 而來分別作成微透鏡先驅物8的形狀。亦即可配合形成噴 出的點數之微透鏡的形狀來事先予以是適當地決定，而形 成所期望的形狀之微透鏡。 若如此形成所期望形狀（本實施形態爲圖4(c)所示之 接近球形的形狀）的微透鏡先驅物8，則會如圖3 (b)所 示’使該等微透鏡先驅物8硬化，形成微透鏡8 a。 就微透鏡先驅物8的硬化處理而言，如前述，由於透 鏡材料7爲使用不添加有機溶劑，賦予放射線照射硬化性 者’因此特別是適於利用紫外線（波長λ = 3 65ηηι)的照射之 處理方法。 又’於如此的紫外線照射之硬化處理後，最好是進行 例如I 〇 〇 °C，1小時程度的熱處理。藉由進行如此的熱處 理，即使在紫外線照射之硬化處理的階段產生硬化不均， 還是能夠使該硬化不均減少，而使全體大致形成均一的硬 度。 -16 - (14) 1238114 若如此形成微透鏡8 a，則會因應所需切斷基體3，形 成單片化或陣列狀等，藉此來作成所期望的形態。 又，由如此製造的微透鏡8 a及預先形成於基體3的 上述面發光雷射2來取得本發明之一實施形態的光學裝 置。 由於如此之微透鏡8 a的製造方法是在基座構件4 b上 形成微透鏡8a，因此可藉由適當形成基座構件4b上面的 大小形狀來適當形成所取得之微透鏡8 a的大小形狀。 又，由於對基座構件4b的上面施以撥液處理，因此可擴 大對噴出配置的透鏡材料7的基座構件4 b上面之接觸角 θ’，藉此可增多載置於基座構件4b上面的透鏡材料7 量。又，由於是在如此能夠增多載置於基座構件4b上面 的透鏡材料7量的狀態下將透鏡材料7噴出複數點，因此 可藉由適當地調整點數來良好地控制所取得之微透鏡8 a 的大小形狀。 亦即，如前述，可將微透鏡8a的形狀分別作成圖4(a) 〜（c)所示的各種形狀，亦即由平坦的形狀（圖4 ( a))作成側 面爲接近半球的形狀（圖4(b))，以及側面接近球的形狀 (圖4(c))。因此，特別是在本實施形態時，來自形成於基 體3的面發光雷射2的射出光（發光光）會透過基座構件 4 b，從與該基座構件4 b呈相反的側，亦即從微透鏡8 a的 上面側來射出，但如圖4 (a )〜（c)所示，因爲可適當地分 別作成該微透鏡8 a上面側的曲率，所以可預先設定該微 透鏡8 a的集光機能來進行調整。 - 17- (15) 1238114 因此，例如當來自面發光雷射2的射出光（發光光）作 爲放射光來透過基座構件4b而射入微透鏡8a時，可事先 按照放射光的放射情況來形成微透鏡8 a的形狀，亦即以 能夠形成預先設定微透鏡8 a上面側的曲率之曲率的方式 來形成，藉此如圖5(a)〜（c)所示，可以微透鏡8a來良好 地集中來自面發光雷射2的放射光（射出光）。 又，相反的來自面發光雷射2等發光源的光不具放射 性，而具有直進性時，可在使透過微透鏡8 a之下使該透 過光具有放射性。 又，特別是如圖4(b)，（c)所示，針對基座構件4b上 面的外徑A，以和上述上面平行的横斷面中形成最大的横 斷面的外徑B能夠形成較大之方式來形成微透鏡8 a，藉 此該微透鏡8a與圖4(a)所示者相較之下會形成接近球形 者。因此，可使該上面側的曲率形成較小，而使集光機能 更爲提局。 又，由如此製造的微透鏡8a及形成於基體3的上述 面發光雷射2所構成的光學裝置’如前述會在上述面發光 雷射2的射出側配設大小形狀會被良好地控制之微透鏡 8 a，所以可藉此微透鏡8 a來良好地進行來自面發光雷射 2之射出光的集光等，因此會形成具有良好的發光特性 (光學特性）者。 又，上述實施形態中雖是在基體3上形成基座構件材 料層4，而由此基座構件材料層4來形成基座構件4b，但 本發明並非限於此，例如當基體3的表層部爲透光性材料 -18- (16) 1238114 戶斤形成時，亦可於此表層部直接形成基座構件。 又，有關基座構件4b的形成方法並非限於前述光會虫 刻微影法，亦可採用其他的形成方法，例如選擇成長法或 複印法等。 又’有關基座構件4 b的上面形狀，可按照形成的微 透鏡所被要求的特性來形成三角形或四角形等各種的形 狀’又，有關基座構件4b本身的形狀亦可形成錐型或倒 錐型等各種的形狀。 又，上述實施形態中，微透鏡8 a雖是在形成於基座 構件4b上的狀態下當作透鏡使用，但本發明並非限於 此’亦可以適當的方法來切離或剝離基座構件4b，將微 透鏡8 a作爲單獨的光學零件用。此情況，有關製造用的 基座構件4b當然不必具有透光性。 又，本發明中，在由上述面發光雷射2及微透鏡8a 所構成的光學裝置中追加具備：由光纖或光導波路等（傳 送來自該光學裝置的射出光）所構成之光傳送手段，及接 受以該光傳送手段所傳送的光之受光元件。藉此可使具有 作爲光傳送裝置的機能。 由於如此的光傳送裝置如前述具有良好的發光特性 (光學特性）的光學裝置，因此該光傳送裝置也會形成具有 良好的傳送特性者。 又，本發明之雷射印表機用頭爲具備上述光學裝置 者。 亦即，如圖7所示，使用於該雷射印表機用頭的光學 - 19 - (17) 1238114 裝置具備： 直線配置多數個面發光雷射2而成的面發光雷射陣列 2a ;及 針對構成該面發光雷射陣列2 a的各個面發光雷射2 配設的微透鏡8a。 又，針對面發光雷射2設有TFT等的驅動元件（未圖 示），且於該雷射印表機用頭設有温度補償電路（未圖 示）。 又，藉由具備如此構成的雷射印表機用頭來構成本發 明的雷射印表機。 由於如此的雷射印表機用頭如前述具有良好的發光特 性（光學特性）的光學裝置，因此可形成描繪特性佳的雷射 印表機用頭。 又，由於具備此雷射印表機用頭的雷射印表機如前述 具有描繪特性佳的雷射印表機用頭，因此該雷射印表機本 身描繪特性佳。 又，本發明的微透鏡除了上述用途以外，亦可適用於 各種的光學裝置，例如亦可作爲設置於固體攝像裝置 (C C D)的受光面或光纖的光結合部等的光學零件使用。 【圖式簡單說明】 圖1(a)〜（e)是表示本發明之微透鏡的製造步驟圖。 圖2(a) ’（b)是表示噴墨頭的槪略構成圖。 圖3(a) ’（b)是表示本發明之微透鏡的製造步驟圖。 (18) (18)1238114 圖4(a)〜（c)是表示本發明的微^纟竟。 圖5(a)〜（c)是表示微透鏡的集光機能圖。 圖6是用以說明撥液處理之透鏡材料的接觸角。 圖7是表不本發明之雷射印表機用頭的槪略構成圖。 [符號之說明] 1 ... G a A s 基板 2.. .面發光雷射 3 ...基體 4.. .基座構件材料層 4b...基座構件 7 ...透鏡材料 8a...微透鏡

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Claims (1)

1238114 Π) 拾、申請專利範圍 1 · 一種微透鏡的製造方法，其特徵係具備： 在基體上形成基座構件之步驟； 對上述基座構件的上面進行撥液處理之步驟；及 在上述撥液處理後的基座構件上，藉由液滴噴出法來 將透鏡材料噴出複數點，在上述基座構件上形成微透鏡之 步驟。 2 ·如申請專利範圍第1項之微透鏡的製造方法，其 中在上述撥液處理的步驟中，在對以上述基座構件形成材 料所形成的平面配置上述透鏡材料時，以能夠發揮該透鏡 材料的接觸角爲形成20。以上的撥液性之方式來進行撥液 處理。 3 ·如申請專利範圍第1或2項之微透鏡的製造方 法’其中在形成上述基座構件的步驟中，使上述基座構件 的上面形狀形成圓形或橢圓形，或者多角形。 4 ·如申請專利範圍第1或2項之微透鏡的製造方 法’其中在藉由上述液滴噴出法來噴出透鏡材料時，以所 形成之微透鏡的上面側的曲率能夠形成預先設定的規定曲 率之方式來決定噴出的點數。 5 · —種微透鏡’其係形成於基體上所形成之基座構 件的上面者，其特徵爲： 上述基座構件的上面會被施以撥液處理， 上述微透鏡係藉由液滴噴出法來將透鏡材料噴出複數 點而形成。 -22- (2) 1238114 6 ·如申請專利範圍第5項之微透鏡，其中上述基座 構件的上面形狀爲圓形或橢圓形，或者多角形。 7 ·如申請專利範圍第5或6項之微透鏡，其中與上 述基座構件的上面平行之微透鏡的橫斷面的最大外徑比上 述基座構件的上面的外徑更大。 8。如申請專利範圍第5或6項之微透鏡，其中上述 基座構件具有透光性。 9 · 一種光學裝置，其特徵係具備：面發光雷射，及 藉由申請專利範圍第1〜4的其中任一項所記載的製進方 法而取得的微透鏡，或申請專利範圍第5〜8的其中任〜 項所記載的微透鏡， 並且’將上述微透鏡配置於上述面發光雷射的射出 側。 1 0 · —種光傳送裝置，其特徵係具備：申請專利範圍 第9項所記載的光學裝置，及受光元件，以及將來自上述 光學裝置的射出光傳送至上述受光元件的光傳送手段。 1 1 · 一種雷射印表機用頭，其特徵係具備：申請專利 範圍第9項所記載的光學裝置。 1 2 * 一種雷射印表機’其彳寸徵係具備：申請專利範 圍第1 1項所記載的雷射印表機用頭。 -23-