TWI233535B

TWI233535B - Motion feed-through into a vacuum chamber and its application in lithographic projection apparatuses

Info

Publication number: TWI233535B
Application number: TW088108963A
Authority: TW
Inventors: Hermanus Mathias Joann Soemers; Theodorus Hubertus J Bisschops; Johannes Cornelis Driessen; Michael Jozefa Mathijs Renkens; Adrianus Gerardus Bouwer
Original assignee: Asml Netherlands Bv
Priority date: 1999-04-19
Filing date: 1999-05-31
Publication date: 2005-06-01
Also published as: JP3688181B2; KR100554885B1; JP2000331930A; US6816238B2; KR20010014745A; US20020180946A1; US6903805B2; US20030098960A1; US6445440B1

Description

1233535 _案號 88108963 ，/ 年义月 7 曰_Ifi_;_ 五、發明說明（1) # 本發明係關於從外面移動饋入裝置進入真空者。特別言之，本發明係關於該等裝置於微影蝕刻投影裝置之應用，該等裝置包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統〇為簡潔之故，該投影系統以下均稱為「鏡頭」；然而此名詞應廣泛解釋為包含各類的投影系統，例如包括折射光學、反射光學、反屈光系統及高能粒子光學。該照射系統亦可包括依據指向、成型或控制投影照射光束該等原理而操作的元件，而該等元件亦可於以下共同地或單獨地被稱為「鏡頭」。另外，該第一及第二物件台（object table) 可分別被稱為「光罩台（mask table)」及「基材台 (subsrate table)」。再者，該微影#刻裝置可以是一種具有兩個或更多個「光罩台（mask table)」及/或兩個或更多個「基材台（subsrate table)」的型態。在此種「多級」裝置中，其餘的平台可並列使用，或可在一或多個平台中實施準備步驟，同時其他一或多個平台則用於曝光。例如，在W0 9 8 / 28 6 6 5及W0 98 / 4 0 7 9 1國際專利申請案中所描述的雙級微影蝕刻裝置。微影蝕刻投影裝置可用於積體電路的製造。在此例中，

O:\58\58390-910509.ptc 第5頁 1233535 q _案號88108963 //年义月7日修正_ 五、發明說明（2) 該光罩（掩膜）可包括相當於該積體電路一單獨層的一電路型態，而此型態可顯影在一基材（矽晶圓）上的目標區（晶粒），該基材曾覆蓋一層感光物質（光阻劑）。一般而言，一片晶圓將包括鄰近晶粒的整個網路，該晶粒經由該掩膜一次一地連續照射。在微影蝕刻投影裝置的一種型態中，每一晶粒藉著將整個掩膜圖案一次曝露於該晶粒上而得以照射；此類裝置通常稱為一晶圓步級。在一通常稱為步驟及掃描裝置的替代裝置中，每一晶粒藉著在一所賦予之參考方向（「掃描」方向）的投影光束下逐次掃描該掩膜圖案’同時同步掃描該平行或非平行該方向的晶圓級而得以照射；一般而言，由於該投影系統將具有一放大向量 Μ (通常< 1 )，該晶圓級的掃描速度v將是一向量的Μ倍’該向量即該掩膜被掃描的速度。有關此處所描述之微影蝕刻投影裝置更詳細的資料可參考WO 9 7 / 3 3 2 0 5國際專利申請。在一種微影蝕刻投影裝置中，該可被顯影在晶圓上之圖案的尺寸受限於該投影照射的波長。希望能夠顯影出較小的圖案，以便製造較高裝置密度的積體電路並因而達到較高的作業速度。雖然目前大部份微影蝕刻投影裝置使用水銀燈或激發雷射所產生的紫外光，但其曾被建議使用約十三奈公尺之較短波長之照射光。此類照射光被稱為極紫外光或軟X光，而可能的來源包括雷射離子源或蓄電環同步加速器照射。使用同步加速器照射之微影蝕刻投影裝置的概述請參閱J B M u r p h y e t a 1之「同步加速器照射源及微影蝕刻投影聚光鏡」，應用光學3 2卷2 4冊6 9 2 0至6 9 2 9頁

O:\58\58390-910509.ptc 第6頁 1233535 _案號88108963 力年Γ月7日修正_ 五、發明說明（3) (1993) ° 其他所建議之照射類型包括電光束及離子光束。該等類型的光束與極紫外光分擔該光束路徑需保持高度真空的需求，包括光罩、基材及光學組件。此係避免光束的吸收及 /或散射，對於此類高能粒子光束的典型需求為總壓力約低於1 0_6毫巴。經由表面碳層的沉澱，晶圓可能被污染，而極紫外光照射光學元件可能被破壞，此造成了額外的需求，即碳氫化合物的局部壓力一般而言應保持在1 〇_8至1 〇_9 毫巴以下。否則，對於使用極紫外光照射的裝置而言，所需要的總真空壓力僅為1 〇_3至1 〇_4毫巴，其傳統上視為一粗糙的真空。有關電光束在微影蝕刻中的用途可予以擷取，例如自 US 5,079，122 及US 5, 260,151 ，以及自ΕΡ-Α 98201997. 8 (Ρ- 0 1 1 3 - 0 0 0 -ΕΡ) 〇在如此高度真空下作業，形成該元件上極麻煩的狀況，其必須置入該真空並位於該真空室密封墊上，特別是於該裝置的週遭，自外部饋入該真空室内元件的動作。對該真空室内元件而言，應使用將污染降至最低甚或排除的材料，並需將其所有的氣體排出，即材料本身及其表面所吸收的氣體皆需排出。很希望能夠降低或避免此類限制。本發明的一目標是備置一改良的移動饋入，以便能夠自一真空室外控制一置於該真空室中的物體。依據本發明，此目的及其他的目標將在一遠端的操控裝置中達成，以便將一外部的移動穿過一真空室牆上之孔而送達該真空室中的一物體，該操控裝置的特徵描述如下，

O:\58\58390-9l0509.ptc 第7頁 1233535 案號 88108963 曰修正五、發明說明（4) 其包括：一密封該孔的滑動密封墊，其可在至少一平行於該真空室牆的方向移動同時可保持該密封墊；一連接該滑動密封墊及該物體的機械連接，以便將該滑動密封墊的移動傳送給該物體，使得該真空室的該滑動密封墊可得以進行外部的移動。該滑動密封墊裝置讓一相當大的移動（例如，與傳統風箱相比）以大量循環之兩次失敗間的平均時間饋入該真空室，並可予以建構以抗拒重複而快速的移動。目前的微影蝕刻投影裝置皆設計於清潔的場所環境中使用，因而該裝置通常採取一些步驟以降低晶圓的可能污染源。然而，晶圓、光罩及轉換級的傳統設計非常地複雜，並使用大量的檢測器及驅動元件。該級亦需備置大量的信號及控制電纜及其他的設施。本發明藉由採取將許多元件及功能儘可能地置於該真空室的外側之原則，以避免進行此類大量真空相容元件之困難而複雜的工作，或以真空相容的同等元件將其替換。本發明藉由備置創新的密封裝置之機械饋入，因而避免了許多或大部份各式元件真空保證的需要。同樣地，本發明藉由將震動敏感元件儘量的隔離於該真空室牆，因而避免了降低真空裝置中必然發生之震動的困難，特別是對於所備置之電力泵而言。在本發明的一較佳的具體實施例中，該滑動密封墊包括一薄板，該薄板係靠著該真空室膽而由一差動抽氣的空氣軸承所支撐。依據本發明的另一觀點，備置了一種微影蝕刻投影裝置

O:\58\58390-9i0509.ptc 第8頁 1233535 _案號 88108963 V 年·Γ月〒日_^_ 五、發明說明（5) ，其中包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統，其特徵為：一具有一面封入至少一該第一及第二物件台（object table)之牆的真空室，其中該真空室牆内具有至少一孔；一密封該孔的滑動密封塾，其可在至少一平行於該真空室牆的方向以預設的範圍移動同時可保持該孔的該密封墊一機械連接，以便將該滑動密封墊的移動傳送給該真空室内的該物件台（object table)，以便因而造成相關的移動；及移動該滑動密封塾的定位裝置，藉此可於該真空室内移動該物件台（object table)。依據本發明的一進一步的觀點，備置了一種微影蝕刻投影裝置，其中包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及

O:\58\58390-910509.ptc 第9頁 1233535 _案號88108963 夕/年欠月嗲日__ 五、發明說明（6) 一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統，其特徵為：一容納至少一該第一真空室第一及第二物件台（ob ject table)的第一真空室； .一·該第一真空室鄰近的第二真空室；一支柱，其自該第二真空室延伸至該第一真空室，並可移動地支撐該第一真空室中所容納的該物件台（〇 b j e c t table)；一連接至該支柱的滑動密封板，以便分隔該第一真空室及該第二真空室，該滑動密封板可在其平面上以至少一方向移動並向外延伸該第一真空室及該第二真空室；及位於該第一真空室及該第二真空室外部的定位裝置，以便移動該滑動密封板，因而可移動該第一真空室中的該物件台（object table) 〇另依據本發明的一進一步的觀點，備置了一種微影蝕刻投影裝置，其中包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統，其特徵為：一容納至少一該第一及第二物件台（object table)的第一真空室；

O:\58\58390-910509.ptc 第10頁 1233535 ^ _：_案號88108963 0/ 年f月夕日修正_ 五、發明說明（7) 一該第一真空室鄰近的第二真空室並被一具有一孔的真空室牆自此處分隔；該第二真空室所備置之一第一平台，其可在一第一平面上移動一第一範圍；該第一平台所支撐的一第二平台，其可在一第二平面上移動一第二範圍，該第一及第二平面實質上相平行，而該第一移動範圍大於該第二移動範圍，該第二平台穿過該孔支撐第一真空室中的該物件台（object table);及一連接至該第一平台的一環狀滑動密封板，該滑動密封板相對於部份的該真空室牆及該第二平台，以便在整個該第一及第二移動範圍中分隔該第一及第二真空室。仍依據本發明的一進一步的觀點，備置了一使用微影蝕刻投影裝置以製造一裝置的方法，該微影蝕刻投影裝置包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統，其特徵為：一具有一面封入至少一該第一及第二物件台（object table)之牆的真空室，其中該真空室牆内具有至少一孔；一密封該孔的滑動密封墊，其可在至少一平行於該真空室牆的方向以預設的範圍移動同時可保持該孔的該密封墊

O:\58\58390-910509.ptc 第11頁 1233535 _案號 88108963 五、發明說明（8) 曰修正一機械連接，以便將該滑動密封墊的移動傳送給該真空室内的該物件台（〇b j e c t t a b 1 e )，以便因而造成相關的移動：及移動該滑動密封墊的定位裝置，藉此可於該真空室内移動該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e );該方法包括下述步驟：於該第一物件台（object table)上安裝一光罩；於該第二物件台（object table)上安裝一基材；將該基材曝露於該光罩的一影像中。依據本發明，在一使用微影蝕刻投影裝置的製造過程中，光罩中的一圖案被顯影在一基材上，而該基材至少部份被能量感光物質層（光阻劑）所遮蓋。在此顯影步驟前，該基材可能經過各種程序，例如塗底漆、包覆光阻劑及溫和地烘烤。曝光之後，該基材可進行其他的程序，例如曝光後烘烤、顯影、劇烈地烘烤及測量/檢查所顯影的圖案。這一連串的程序用於做為一基礎以便形成一裝置的單獨一層，例如一積體電路。該所形成的一層之後可進行各式的程序，例如蝕刻、金屬離子注入（添加劑）、化學機械拋光等等，所有程序皆是為了形成單獨的一層。若需要許多層，那麼所有的程序在形成每一新層時將需重複一次。最後，一堆的裝置將呈現於該基材上（晶圓）。之後該等裝置將以一種技術分離，諸如切塊或鋸塊，因而該單獨的裝置可安裝於一載體上，再連接至接腳等等。有關此類程序的進一步資料可自例如McGraw Hill出版公司，Peter van Zant所著一九九七年第三版「微晶本製造：半導體處理實

O:\58\58390-910509.ptc 第12頁 1233535 〇 _案號88108963 年f月Y日修正_ 五、發明說明（9) 務指南」乙書（ISBN 0 - 0 7 - 0 6 7 2 5 0 - 4 )中獲得。雖然依據本發明，該裝置的用途在文中有特定的參考，用於積體電路的製造，但很明確地理解是該裝置有許多其他的可能應用。例如，其可用於積體光學系統的製造、磁域記憶的導引及偵測型態、液晶顯示面板、薄膜磁頭等等。熟習此項技藝之人將察覺到，在此類替代應用的上下文中，文中所使用的名詞「掩膜」、「晶圓」及「晶粒」，應考慮分別以更普遍的名詞「光罩」、「基材」及「目標區」予以取代。本發明及其伴隨的優點將以下列具體實施例及圖示予以說明，其中：圖1依據本發明的第一具體實施例描述一種微影蝕刻投影裝置；圖2是依據本發明的第二個具體實施例之微影蝕刻投影裝置的晶圓級的一斷面檢視；圖3是圖2中該晶圓級之驅動裝置的一計晝檢視；圖4是用於圖2中該晶圓級之差動抽氣的空氣軸承的一斷面檢視；圖5是可用於本發明的一替代的差動抽氣之空氣軸承的一計晝檢視；圖5 A是圖5中該差動抽氣的空氣軸承之一部份的擴大斷面；圖6是可用於本發明的一替代的滑動密封板的一斷面檢視；圖6 A及6 B是圖6中該滑動密封板之替代填充物的一斷面

O:\58\58390-910509.ptc 第13頁 1233535 q ____案號88108963 义/年f月7日修！_ 五、發明說明（10) 檢視；圖7是依據本發明的第三個具體實施例之微影钱刻投影裝置的晶圓級的一斷面檢視；圖8是依據本發明的第四個具體實施例之微影鍅刻投影裝置的晶圓級的一斷面檢視；圖9是依據本發明的第五個具體實施例之微影钱刻投影裝置的晶圓級的一斷面檢視；圖1 0是依據本發明的第三個具體實施例之微影餘刻投影裝置的晶圓級的一斷面檢視；在不同的圖示中，相同的零件用相同的符號表示。具體實施例1 圖1描述了依據本發明的一種微影姓刻投影裝置1。該裝置包括： •一照射系統LA，IL供應照射的投影光束PB(例如，UV或 E U V照射，電子或離子）； • 一第一物件台（object table)(光罩台（mask table)) MT，其附有一光罩支架可支撐一光罩ΜΑ(例如，一掩膜 )，並連接至第一定位裝置ΡΜ以便正確地定出有關物件PL 的光罩位置； • 一第二物件台（object table)(基材台（subsrate table))WT，其附有一基材支架可支撐一基材例如，一包覆防蝕劑的矽晶圓），並連接至第二定位裝置p w以便正確地定出有關物件P L的基材位置；

1233535 ^ __ 案號88108963 f/年女^月^日修正 __ 五、發明說明（11) 份顯影於該基材W的目標區C (晶粒）。該照射系統包括一照射源LA(例如，一蓄電環或同步加速器中電子光束路徑週邊所備置之一波動器或擺動器，或是一電子或離子光束源），其可產生一條照射光束。該光束沿著照明系統I L中所包括的各式光學元件傳送，例如，為了引導及/或視準該合成光束PB的目的，及/或使其張力一致地遍及整個斷面。該光束PB隨後顯影在一光罩台（mask table)MT上由一光罩支架所支撐的該光罩MA上。該光罩MA選擇性地反射（或照射），該光束P B通過該鏡頭P L，其將光束P B聚焦於該基材W的目標區C上。經由該干涉量度的位移及測量裝置I f的支撐，該基材台（subsrate table)WT可正確地移動，例如，以便定出該光束PB的路徑中不同目標區C的位置。同樣地，該定位裝置PM可用於正確地定出相對於該光束PB的路徑之該光罩Μ A的位置，例如，該光罩Μ A自一光罩庫或掃描作業間的機械回復之後。一般而言，該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e ) Μ T的移動，W T將以長行程模式（路線定位）及短擊模式（微調定位）予以支撐，其在圖1中並未詳述。所描述的裝置可用於兩種不同的模式： •在級模式中，該光罩台（mask table)MT實質上保持不動，而整個光罩影像一次（即單一「閃光」）便投影到一目標區C上。該基材台（subsrate table)WT接著在X及/或Y 方向漂移，如此一不同的目標區C便可由該光束PB予以照亮；

O:\58\58390-910509.ptc 第15頁 1233535 _案號88108963 f/年Γ月7日倏^ 五、發明說明（12) •在掃描模式中，除了所給予的一目標區c並非在單一「閃光」中曝光外’貫質上處於相同的狀態。與上述級模式不同的是，該光罩台（mask table )ΜΤ是以速度ν在所給予> 的方向（即所謂「掃描方向」，例如，X方向）上移動，如此該投影光束ΡΒ便在一光罩影像上掃描；同時，該基材台 (subsrate table)WT同步地以速度V = Μν在相同或相反^ 方向上移動，其中Μ是該鏡頭PL的倍數（典型上，m = 1/ 4s 1 / 5 )。以此方法，在不損及解析度的狀況下，可曝光一相當大的目標區C。 ^ 具體實施例2 依據本發明的第二個具體實施例之一種微影钱刻裝置以圖示及斷面顯示於圖2。該真空室V被牆11所包圍，該牆η 界定了一位於該室地板上的一孔1 1 a。於該裝備的使用期間，該真空室V藉著適當型式的抽氣唧筒（未顯示）保持所需的壓力。該孔1 1 a是由滑動密封板1 2所形成的一滑動密封墊所密封，在其中間是所備置之晶圓支撐柱1 3。柱1 3支撐該微調級（或短擊晶圓支撐墊塊）1 4，其依次支撐該晶圓 W。該晶圓W的長行程移動是藉著移動該整個滑動密封板1 2 而完成，經長行程移動，該晶圓W的不同區域於該微影餘刻投影裝置的鏡頭下（未顯示）定位以進行曝光。其完成後，該孔1 1 a成形並切割尺寸以容納該長行程級及該柱1 3所需的移動範圍。例如，在一打算進行直徑3 0 0毫米晶圓曝光並具有一根直徑100至150毫米之柱的裝置中，該孔iia 可能為一邊長4 8 0毫米的正方形，以便於該晶圓的邊緣週

O:\58\58390-9l0509.ptc 第16頁 1233535 案號 88108963 f/年夂月7 曰修正五、發明說明（13) 邊備置檢測器等物件的空間。該滑動密封板1 2必須有一定的形狀及大小，以便在整個移動範圍中可維持該孔的密封，例如，在上例中，其因而亦必須為直徑1 2 0 0毫米的正方形。此大小使的一密封墊的每邊寬度為1 2 0毫米。一圓形的孔及岔封板亦可用於圓形的晶圓。經由馬達區間Μ中所備置之傳動桿1 5及驅動器1 6，滑動密封板1 2被驅使於矩形X軸、Υ軸，以及Ζ軸的旋轉單位φ ζ 中轉換。該驅動裝置進一步說明如下，並請參閱圖3。將察知的是，在使用中，該滑動密封板1 2上的主要負載將是該真空室V及該馬達區間Μ之間不同的壓力，此是正常地保持著一大氣壓力（或在淨空的空間環境中一稍微不同的壓力）。該向上的力量（向内）通常將遠超過該長行程級及其所支撐的其他區間的重量。本發明備置差動抽氣的氣體（空氣）軸承2 1 ，其預先承載該孔1 1 a週邊之壓力間的差異以及該密封板及其所支撐區間的重量。該等空氣軸承2 1 進一步說明如下，並請參閱圖4，以及同時進行的專業申請，其標題為「用於真空室中的空氣軸承及其在微影蝕刻裝置中的應用」（申請案號·· P- 0 1 3 3- 0 0 0 -EP)，其在此提出以供參考。當該真空室並未抽空時，例如，進行維修，那麼將備置支撐及安裝於基材1 7上的軸承1 9以便支撐該滑動密封板1 2。用於信號控制及測量以及其他用途的電纜2 0，係經該滑動密封板12中的一洞12a及該中空柱13備置給該短擊級14 〇為備置該孔1 1 a整個週邊的足夠密封，需要確定該滑動

O:\58\58390-910509.ptc 第17頁 1233535 ^ _案號88108963 f/年f月彳曰修正_ 五、發明說明（14) 密封板1 2的形變保持在可接受的限度内。依據本發明之本具體實施例，此係由備置一厚度1 0 0毫米之燒結的三氧化二紹（p 二 3 7 0 0 kg/m3 ，Ε = 3· 5 x 1 011 N/m2 ，v (抑制率）=Ο · 2 2 ) 薄板所影響。其他的適當材料，例如矽化碳發泡材料亦可使用。假定為了計算簡單，該空氣軸承是環狀的，其半徑 r為3 7 0毫米，該薄板上的均勻負載q為大氣壓力為105 N/m2 ，而圓周上的斜角0可由下列方程式求得： 8Z).(l -l· υ) 其中： ι D - Ε; — ................................... [2] 12.(1-02) 對厚度1 0 0毫米的三氧化二鋁薄板而言，該薄板常數 D = 3.1xl07 Nm ，其導出一斜角0 1 6. 6 x 10_6徑，於是於該空氣軸承區中有一約1微米的偏斜。該滑動密封板1 2的一可能的驅動機制顯示於圖3中。如圖所示，四部驅動器1 6各自作用於傳動桿1 5，該傳動桿1 5 自該薄板1 2的每一邊的中間點垂直地向外延伸。每一部該驅動器1 6包括一執道1 6 a，其支撐一部線性馬達的定子以及一支撐該線圈的滑動級架1 6 b。該驅動的力量轉移至該傳動桿1 5，並藉著推動空氣軸承1 6 c因而將上述力量轉移

O:\58\58390-910509.ptc 第18頁 1233535 _案號88108963 //年JT月7日修正_ 五、發明說明（15) 至該薄板1 2，該空氣軸承1 6 c允許橫向移動及一限制之角的移動量P z，以便容納微調的調整。僅使用三部馬達便可達成X、Y和P z的移動，因而在此具體實施例中，一對平行的馬達可視為一部而進行控制。一部水冷式線性馬達可輕易地備置1 1 0 0 N的力量，所以即使當該薄板及相關的零件重量達5 0 0公斤時，四部此類馬達即可備置足夠的加速。該執道1 6 a可予以固定，例如固定至該裝置的基板上，如此該力量便施用於一靜態的反應訊框。另一方面，例如，該執道1 6 a亦可以由空氣軸承所支撐而無束缚地縱向移動，並且是相當大的以便平衡該驅動力量。在此具體實施例中，該傳動桿1 5被定位以至於該力量作用在通過該滑動密封板1 2之重心1 2 b的線上，如圖示於該水平平面上而垂直的亦然。此降低了該薄板1 2的彎曲力矩及該馬達朝向該驅動質量總重心之力量的其他部份。於該第一具體實施例（未顯示）的一變化中，該長行程級所佔用的總空間可藉於該級薄板1 2下安裝該傳動桿1 5而減少。如圖4所示，其是通過該真空室牆1 1的部份及該滑動密封板1 2的一斷面，該薄板1 2藉著空氣轴承2 1而與該真空室牆1 1隔開，該空氣軸承2 1可保持5微米的固定間隙g。儘管該軸承附近的該真空室踏1 1的表面，以及該軸承所移動區域上方所支撐之物件1 2的表面不需要滿足RMS平面粗糙度 0 . 4微米，但由於此間隙，使得上述二平面的RMS平面粗糙度均小於0 . 8微米。此可很容易地以已知的機械磨光技術達成。在一些應用中，5微米至1 0微米的間隙可能是合適

O:\58\58390-910509.ptc 第19頁 1233535 _案號 88108963 9/ 年月 7 日_iMz_ 五、發明說明（16) 的，而且該表面不需達到如此高的容差。持續經由空氣饋入器2 1 1供應乾淨的空氣（或其他氣體，例如氮氣）數個大氣壓，以產生高壓區2 1 4。所供應的空氣將流向該馬達區間Μ ，亦流至該真空室V，當然其壓力即非所需。經由槽 2 1 2備置了一條大氣壓力洩漏的路徑，或該馬達室。為避免該空氣進一步形成空氣軸承，成為一無法接受的：¾漏至該真空室V，便經由真空導管2 1 3進行抽氣。若有需要，該洩漏路徑2 1 2亦可用於抽氣。以此方法，使該殘餘的洩漏1 流入該真空室V中，可使其維持可接受的程度。在本具體實施例中，該空氣饋入器2 1 1的較低部份、該真空導管2 1 3及該洩漏路徑2 1 2皆為細長的槽，其順著延伸至該密封墊週邊的整個長度。沿著這些槽，處處備置著空氣饋入管211a及真空管213a。圖5所顯示的是於該第一具體實施例的一變化中，一自該真空室牆1 1之一部份下方的檢視，該空氣軸承所備置之該空氣饋入器211’是分離的。在每一空氣饋入管的末端，有一擴大的圓柱體211b顯示在圖5A的斷面中，其以一透氣塞2 1 1 c塞住。該透氣塞2 1 1 c較佳的以石墨製成，如此於該真空室牆11之較低平面lib以機器完成後，其可置於該擴大物件2 1 1 b中，之後削平。在上述該空氣軸承的一變體中，在空氣軸承2 1 1及該真空室V之間備置了單獨一條真空槽。在其他的變化中可備置二條或更多條真空槽，經此可將該真空室V抽氣成為更高程度的真空。於該第二具體實施例的另一變化中，其可與上述變化相

O:\58\58390-910509.ptc 第20頁 1233535 _案號88108963 分/年太月夕日修正_ 五、發明說明（17) 結合，該滑動密封板的重量經一中間插入組建而減輕。此顯示於圖6 ，其係穿過該滑動密封板的一垂直平面的斷面。該上部及下部表面1 2 1，1 2 3各由例如燒結的三氧化二鋁之固體薄板所組成，其厚度分別為I及1:3。該厚度為t2 的中間插入填充物1 2 2可為各式的材料，諸如圖6 A中所顯示的三氧化二鋁牆1 2 2 a之網栅結構，或圖6 b中所顯示的緊密包裝之中空玻璃圓柱1 2 2 b。其他的替代材料包括例如玻璃製或陶製發泡材料。在每一變化中，該中間插入填充物的功用是在兩表面1 2 1 ，1 2 3間傳送剪切的力量，所以所選取的材料及結構必須具有一高的彈性係數E。對於一燒結的三氧化二铭之網柵結構的填充物，該薄板的力量及質量取決於該空間因數△，其界定為由該薄板總斷面區域所劃分之該網栅結構的總斷面區域，其係用於修正剪切及彎曲形變之方程式。對一總厚度（1 + 1:2 + 1:3)為200 毫米的薄板，經計算，該最輕的薄板質量可由上下薄板厚度（t i，t3)為1 5毫米，及該栅網的空間因數0 · 1 5而獲得，例如，一柵網牆的厚度為1 5毫米，傾斜1 1 0毫米。依據本發明，該中間插入薄板1 2 0具有持續的邊牆1 24，而該中間插入填充物1 2 2的邊緣被密封以便為内部形成一密封塾。在内部實施密封之前，進行排氣以成為一適合的真空程度。預加壓力於該夾層結構並避免表層薄板上的不同壓力（當該薄板當作一種真空室的一部份時），其將導致該夾層結構分層。該薄板可予以組建以確保該内部真空的程度足以支撐預訂的時間，或可備置一汽門定時地進行内部排氣。

O:\58\58390-910509.ptc 第21頁 1233535 -_iL^m 修正五、發明說明（18) ~·_ -- f察t的是該排氣的夾層結構較本發明的該滑動密封板具Θ更g泛的應用，特別是其可作為任何真空室的牆或該牆的一部份，不論該牆是滑動的或固定的。具體實施例3 依據本舍明的一種微影蝕刻裝置3之第三個具體實施例顯不於圖7。在此裝置中藉著安裝於一環狀訊框33〇上的一反向的半球體或球型物312而形成該滑動密封墊。該球型物3 1 2相當地薄，其如此成形以便以該球型物中平面的張力抗衡έ玄垂直負載於外表的壓力。負載的變化之後造成幾舍的度量而非局部的形變。一寬度D為丨2 〇〇毫米的球型物 ’其將適合於該第二具體實施例中所描述之尺寸及移動範圍的微影姓刻裝置，該中央曲率的半徑r將為〇 · 8 X d。其將逐步地減少至邊緣曲率的半徑r為〇 . 1 5 X D。該球型物的高度Η之後將為〇 · 2 5 X D。該球型物的表面物質垂直地連接至該訊框3 3 0 ’因而避免於該軸承環上形成不需要的負載。該球型物的其他特性為避免已知在橋狀結構上的彎曲動量。在第三具體實施例中，該球型物的滑動動量經該訊框 330中所備置之差動抽氣的空氣轴承“I而啟動，並作用於該真空室牆11底部所備置之一軸承表面32ia上。該空氣軸承3 2 1與該第二具體實施例中所描述的類似。雖然該球型物3 1 2抗衡該馬達室Μ及該真空室V之間的壓力差異’但該微調級丨4及該支撐柱丨3的重量則由一複數之幸I射緩衝器331所支撐，其支撐該訊框330的該支撐柱13及該微調級。該支撐柱丨3亦靠一複數的輻射緩衝器3 3 2所保

O:\58\58390-9l0509.ptc 第22頁 1233535 ^ _案號 88108963 外年t月彳日__ 五、發明說明（19) 持穩定，因而該微調級保持移動間的穩定，如該第二具體實施例相同，受驅動器1 6所影響。來自該驅動器1 6的推力再次經由傳動桿1 5轉移給該微調級，該傳動桿1 5在本具體實施例中依附於該訊框3 3 0。具體實施例4 依據本發明的一種微影蝕刻裝置4之第四個具體實施例顯示於圖8。在本具體實施例中遍及該滑動密封板4 1 2的壓力差異藉著在其下備置一第二真空室V2而降低或消除。因該滑動密封板4 1 2僅需支撐移動該微調級1 3所需的加速力量，所以該滑動密封板4 1 2可因而做成較薄，壓力較小甚或沒有。藉著確定該驅動力施用於該滑動密封板4 1 2的平面上，以及確定該總移動質量的重心亦落於該滑動密封板 4 1 2的平面上，則可減少扭力。該滑動密封板經作用在傳動桿1 5的驅動器1 6而在X、Y及 p z方向上移動，在本例中，該傳動桿1 5連接至該滑動密封板4 1 2的邊緣上。該滑動密封板4 1 2在兩個相對之差動抽氣空氣軸承42 la及42 lb之間移動。空氣軸承42 la類似於該第二具體實施例中所描述者，亦由該真空室V的牆1 1所備置。空氣軸承421b亦類似但反向，由該第二真空室V2的牆 4 1 1所備置。由於於該滑動密封板4 1 2上幾乎沒有垂直的淨力，所以空氣軸承4 2 1 a及4 2 1 b不需行使很大的推力，僅需維持該密封間隙及使其能於X、Y及φ z方向上移動。為避免過份壓制該滑動密封板4 1 2，Z方向上的軸承是固定的，其他的則是預先承載的。該第二真空室V2容納該底部4 4 0，其經由柱1 3支撐該微

O:\58\58390-9l0509.ptc 第23頁 1233535 _案號 88108963 五、發明說明（20) 曰修正調級1 4。所備置之該底部4 4 0備有其自身的軸承，亦即上述差動抽氣空氣軸承，以便讓該微調級1 4移動。由於該第二真空室¥2隔離於該主要真空室V，所以其内部的真空要求程度較低。該第二真空室V2因而可容納該主要真空室V 中所無法接受之材料做成的饋入線及電纜。具體實施例5 本發明的一包括微影蝕刻裝置5之第五個具體實施例顯示於圖9。本具體實施例另外併入一個三級的觀念，其進一步說明在同時進行的專利申請中，其名稱為「多級驅動裝置及其在微影蝕刻裝置中的應用」（申請案號： P - 0132-000-ΕΡ)，其在此提出以供參考。本發明之第五個具體實施例特別適應於步驟及掃描作業。微影蝕刻裝置5包括一長行程滑動密封板5 1 2，其類似於該第二個具體實施例中的該滑動密封板1 2，該滑動密封板 5 1 2被容納於第二真空室V2中。微調級5 1 4被容納於該主要真空室V中，並為使用驅動器514a的該晶圓W備置微調定位。在此二級中備置了一中間級5 5 0。在本具體實施例的步驟及掃描作業中，該長行程滑動密封板5 1 2係沿著將被曝光之晶粒的整行或整列被一固定的速度所驅動。該中間級 5 5 0之後以動量八相對於該長行程滑動密封板5 1 2進行驅動，如此於該曝光點之下之該晶圓的總動量市一適於該步驟及掃描作業之迂迴的進程。此裝置降低了需施加於該機械基礎訊框之上的加速力。該長行程滑動密封板5 1 2的作用如同該中間級5 5 1的平衡質量，但因為其加速低，故該長行程滑動密封板5 1 2本身不需要平衡質量。

O:\58\58390-910509.ptc 第24頁 1233535 案號 88108963 曰修正五、發明說明（21) 該主要真空室V保持低於1 0_6毫巴的氣壓，較佳的範圍是 1 0_7至1 0_8毫巴；而該第二真空室V2則處於1 0_5至1 0_6毫巴的氣壓。為達到該等真空的程度，該長行程滑動密封板5 1 2 則被差動抽氣的空氣軸承521a所支撐，而空氣軸承52 la與該第二具體實施例中的物件相似，並保持5至1 0毫米範圍的固定間隙。該掃描級5 5 1亦由類似的空氣軸承5 2 1 b所支撐。該第二真空室▽2經一滑動密封墊裝置與該主要真空室V 相隔離，該滑動密封塾裝置係由下列二物件所組成：安裝於該長行程滑動密封板5 1 2上的上部滑動密封板5 5 2及安裝於該掃描級5 5 0上的下部滑動密封板5 5 3。該上部滑動密封板5 5 2通常與一中央孔的大小一致，足夠容納該掃描級550 及其相對於該長行程級的移動範圍。該上部滑動密封板 5 5 2較該真空室牆5 1 1中的孔5 1 1 a為大，所以不論該長行程級的位置在何處，該上部滑動密封板有一大部份直接與該真空室牆5 1 1的該下部表面5 1 1 b相對。該下部滑動密封板 5 5 3亦與填滿該掃描級5 5 0的一中央孔一致。該下部滑動密封板5 5 3同樣地較該上部滑動密封板55 1中的孔為大，所以不論該掃描級5 5 0相對於該長行程級5 1 2的位置如何，該下部滑動密封板5 5 3的整個球體有一大部份直接與該上部滑動密封板552的底部表面相對。因為由該主要及第二真空室之間的壓力差異所產生的力量可以忽略，以及該上部及下部滑動密封板並不負載軸承，所以在它們之間，或是於該上部滑動密封板及該真空室牆5 1 1之間並不需要一空氣軸承。反而是該兩薄板之間以及該上部滑動密封板及該真

O:\58\58390-910509.ptc 第25頁 1233535 _案號 881Q8963 五、發明說明（22) 曰修正空室牆之間的間隙做成約5 0 0微米或更小，以及該重疊部份做成夠寬以便將洩漏降至可接受的程度。該不同的密封板及孔亦可為圓形的，以便容納一圓形的晶圓及墊塊。該長行程級薄板5 1 2可被一 Η驅動裝置所驅動，該裝置包括一部線性馬達5 1 6，其橫向地移動橫向傳動桿5 1 5以便備置例如Υ及ρ ζ方向的動量；以及另一部縱向安裝在作用於柱5 1 3之橫向傳動桿5 1 5上的線性馬達（未顯示），以便備置例如X方向的動量。該容納該長行程驅動裝置的馬達室Μ保持例如0 . 1毫巴以下的氣壓，但該室與該主要真空室V隔離，所以該長行程驅動裝置不需要相容的高度真空。適合於該長行程級薄板軸承5 2 1 a的一預先負載是由來自該孔區域上的壓力負載及該長行程級薄板5 1 2的重量所產生之淨力所備置。該長行程級的驅動裝置經底座5 5 4而作用於該基座517上。因為該長行程級以實質固定的速度移動，所以可避免平衡質量的需要。該中間級550的驅動裝置551可以是一經由傳動桿上推動空氣軸承而作用的線性馬達裝置，與圖3中所述者類似。該長行程級的大質量，大部份是該長行程滑動密封板5 1 2，其作用如同該掃描級5 5 0的一平衡質量。該掃描級5 5 0及微調級5 1 4的電纜及供應線（未顯示）可予以安排貫穿該馬達區間Μ及及該中空柱5 1 3的内部。該微調級5 1 4的位置可經由位置檢測裝置5 5 5予以監視，該位置檢測裝置可以是例如干涉計塑式。具體實施例6 依據本發明的一種微影蝕刻裝置6之第六個具體實施例

O:\58\58390-910509.ptc 第26頁 1233535 _案號88108963 《/年f月f日修正_ 五、發明說明（23) 顯示於圖1 0。該第六個具體實施例是該第五個具體實施例的變化，同時一般具有多個微調級及掃描級，大部份以相同的符號顯示。為簡潔之故，相同部份的說明省略。於該第六個具體實施例中，該主要真空室V由一複雜的滑動密封墊裝置予以密封，該裝置組成了中間真空室V2至 V5，其由各別的真空泵（未顯示）抽氣以降低真空程度。如同先前的狀況，該主要真空室可維持1 0_7至1 0_8毫巴的真空程度，同時該中間真空室v2至v5所維持的真空程度如下，例如： ν2 —— 2· 5x1 0_6 毫巴 V3 — 5xl0_4 毫巴 V4--0. 1 毫巴 V 5 — 1毫巴。該複雜的滑動密封墊包括第一至第五滑動密封板6 6 1至 6 6 5，其共同位於該長行程級薄板6 6 0之上部表面所備置之密封表面6 6 0 a上。在其他具體實施例中，較少的級便已足夠。該第一、第三及第五滑動密封板6 6 1 、6 6 3及6 6 5自該真空室牆向内投影，而且均具有一大小足以容納該長行程級薄板6 6 0移動範圍的中央孔，以及該長行程級薄板在此程度上的斷面。該第二及第四滑動密封板6 6 2及6 6 4自該長行程級向外投影，並具有足夠大的外緣，於該長行程級薄板的正常移動範圍中，不論其位置何在，皆將與上述奇數的滑動密封板相重疊。同樣地，於該長行程級薄板6 6 0上的該密封表面6 6 0 a被安排在一位置上，如此於該長行程級薄板的所有位置中，其均直接相對於該第五滑動密封板

O:\58\58390-910509.ptc 第27頁 1233535 案號 88108963 曰修正五、發明說明（24) 6 6 5。該第一及第二滑動密封板6 6 1及6 6 2共同隔離該第一中間真空室V2及該第二中間真空室V3，該第三及第四滑動密封板6 6 3及6 6 4共同隔離該第二中間真空室V3及該第三中間真空室V4，而該第五滑動密封板6 6 5及密封表面6 6 0 a共同隔離該第三中間真空室V4及該第四中間真空室V5。在每一狀況中，選擇各相對薄板間的間隙以及重疊的範圍，以便確定自較高壓力的室流向較低壓力的室之洩漏限制在各室泵可容許的程度内。該第一及第二滑動密封板之間的間隙，以及該第三及第四滑動密封板之間的間隙可為5 0 0毫米，同時該第五滑動密封板6 6 5及密封表面6 6 0 a之間的間隙可為1 0 0毫米。於該第六個具體實施例中，該長行程級薄板6 6 0是在基材6 1 7上由底部6 6 6所備置之（傳統的）空氣軸承所支撐。該驅動裝置（未顯示）可與該第六個具體實施例中所述者相同。本發明以較佳的具體實施例描述如上；然而應瞭解的是本發明並不侷限於以上描述。實際上，本發明曾以關於一種微影蝕刻裝置的該晶圓級描述如上，但其亦適用於此類裝置的光罩台（mask table)或任何其中一長行程操控器必須饋入一種真空室的裝置。元件符號說明 1 微影蝕刻投影裝置 2 微影蝕刻裝置 3 微影蝕刻裝置 4 微影蝕刻裝置 5 微影蝕刻裝置 6 微影蝕刻裝置

O:\58\58390-910509.ptc 第28頁 1233535 _案號88108963_?/年Jr月？曰修正五、發明說明（25) 1 1 牆 1 1 a 孔 12 滑動密封板 12 a 洞 1 2 b 重心

14 短擊晶圓支撐墊塊 16 驅動器 1 6 b 滑動級架 1 7 基材 1 2 1 上部表面 1 2 2 a三氧化二鋁牆 1 2 3 下部表面 2 1 空氣軸承 2 1 1 a空氣饋入管 2 1 1 c透氣塞 213 真空導管 2 1 4 南壓區 3 2 1 空氣軸承 3 3 0 訊框 3 3 2 輻射緩衝器 4 1 2 滑動密封板 4 1 2 b差動抽氣空氣軸承 4 2 1 a空氣軸承 4 4 0 底部 5 1 1 a 孔 5 1 2 長行程滑動密封板 13 支撐柱 15 傳動桿 1 6 a 軌道 1 6 c 空氣軸承 1 2 0 中間插入薄板 1 2 2 中間插入填充物 122b中空玻璃圓柱 1 2 4 持續的邊牆 21 1 空氣饋入器 21 lb擴大的圓柱體 2 1 2 洩露路徑 21 3a真空管 3 1 2 球型物 321a軸承表面 3 3 1 輻射緩衝器 411牆 4 1 2 a差動抽氣空氣軸承 421 滑動密封板 4 2 1 b空氣軸承 5 1 1 真空室牆 5 1 1 b下部表面 5 1 4 微調級 5 1 5 橫向傳動桿 O:\58\58390-9l0509.ptc 第29頁 1233535 _案號 88108963 五、發明說明（26) 5 1 6 線性馬達 5 2 1 長行程滑動密封板 5 2 1 b空氣軸承 5 5 1 掃描級 5 5 3 下部滑動密封板 5 5 5 位置檢測裝置 6 6 0 長行程級薄板 6 6 1 第一滑動密封板 6 6 3 第三滑動密封板 6 6 5 第五滑動密封板修正 51 7 基座 5 2 1 a空氣軸承 5 5 0 中間級 5 5 2 上部滑動密封板 5 5 4 底座 6 1 7 基材 6 6 0 a密封表面 6 6 2 第二滑動密封板 6 6 4 第四滑動密封板

O:\58\58390-910509.ptc 第30頁 1233535 _案號88108963 ^)(年f月f日修正圖式簡單說明第31頁 O:\58\58390-9l0509.ptc

Claims

1233535 ——— — iv : _案號 ^8108963 Ή )年 r j月 1 日：:^7¾正_ 六、申請專利範圍 I ’ ...紀命， 1 · 一種遠距操控裝置，用以部動穿過一真空室牆上孔而饋入該真空室中的一物體，該操控裝置的特徵包括：一密封該孔的滑動密封墊，其可在至少一平行於該真空室牆的方向移動，同時可保持該密封墊；一機械性連接及物體支撐，其自該滑動密封之一可移動部分延伸，並可被調適以支撐該物體，用以將該滑動密封墊的移動傳送至該物體，使該外部的移動可施加於該真空室之滑動密封墊之外部。 2. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該滑動密封墊包括一大小足以覆蓋該操控裝置所需移動範圍中該孔之所有位置的一滑動密封板。 3. 如申請專利範圍第2項之裝置，其中該滑動密封板包括一夾層結構。 4. 如申請專利範圍第3項之裝置，其中該夾層結構具有一密封的外罩及一個透氣的内層，該内層的空氣被排除。 5 .如申請專利範圍第4項之裝置，其中該透氣内層係選自下述物件，包括：一格狀橫牆框架、一列中空圓柱、陶瓷發泡材料及玻璃發泡材料。 6 .如申請專利範圍第1項之裝置，其中該滑動密封墊包括一安裝於一環狀軸承環周圍的球型物，其大小足以覆蓋該操控裝置所需移動範圍中該孔之所有位置。 7.如申請專利範圍第6項之裝置，其中該球型物作成使其上之淨負載實質僅需該球形物之中張力或壓力足以阻擋

O:\58\58390-940307.ptc 第32頁 1233535 _案號88108963_年月日__ 六、申請專利範圍之。 8 .如申請專利範圍第2項之裝置，除了該包含該物體的真空室外，尚包括於該滑動密封板另一側所備置之一第二真空室，因而降低了橫跨該滑動密封板的不同壓力。 9 .如申請專利範圍第8項之裝置，其尚包括所備置之至少一第二滑動密封墊，以便密封該第二真空室牆上的一孔，並以至少一平行於該第二真空室牆的方向移動，以及一第二連接，以便將該第二滑動密封墊的移動傳送給該滑動密封墊，使該第二真空室的該第二滑動密封墊得以進行外部的移動。 1 0.如申請專利範圍第1項至第9項裝置中之任一項裝置，其尚包括該滑動密封墊與該真空室牆之間所備置之一軸承。 1 1 .如申請專利範圍第9項之裝置，其中該軸承包括一氣體軸承，以便於該滑動密封墊與該真空室牆之間維持一預定的分離，及該氣體軸承與該真空室之間所備置之抽空裝置，以便減少自該氣體軸承流至該真空室的氣體洩漏。 1 2. —種微影蝕刻投影裝置，包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系

O:\58\58390-940307.ptc 第33頁 1233535 _案號88108963_年月曰修正_ 六、申請專利範圍統；其特徵為：一具有一面圈住至少一該第一及第二物件台（object table)之牆的真空室，其中該真空室牆内具有一孔；一密封該孔的滑動密封墊，其可在至少一平行於該真空室牆的方向移動同時可保持該孔的密封；一機械連接，以便將該滑動密封墊的移動傳送給該真空室内的該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e )，以便形成相關的移動；及移動該滑動密封墊的定位裝置，藉此可於該真空室内移動該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e )。 1 3 .如申請專利範圍第1 2項之裝置，其中該孔位於該真空室的地板，而該機械連接包括一自該滑動密封塾向上投影的柱子，並支撑該真空室中的該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e ) 〇 1 4 .如申請專利範圍第1 3項之裝置，其中該滑動密封墊包括一滑動密封板及該滑動密封板與該真空室地板之間所備置之一軸承，以便讓該滑動密封板移動。 1 5 .如申請專利範圍第1 3項之裝置，其中該滑動密封墊包括一安裝於一環狀訊框周圍的球型物；該環狀訊框至少安裝一抑制器以支撐該柱子，以及該環狀訊框與該真空室地板之間所備置之一軸承，以便讓該環狀訊框移動。 1 6.如申請專利範圍第1 4項或第1 5項之裝置，其中該軸承包括一氣體軸承以便維持該真空室地板預定的淨空，及該氣體軸承與該真空室之間所備置之抽空裝置，以便減少

O:\58\58390-940307.ptc 第34頁 1233535 _案號88108963_年月日_ί±^_ 六、申請專利範圍自該氣體軸承流至該真空室的氣體洩漏。 1 7. —種微影蝕刻投影裝置，包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統；其特徵為：一容納至少一該第一及第二物件台（object table)的第一真空室；一該第一真空室鄰近的第二真空室；一支柱，其自該第二真空室延伸至該第一真空室，並可移動地支撐該第一真空室中所容納的該物件台（object table)；一連接至該支柱的滑動密封板，以便分隔該第一真空室及該第二真空室，該滑動密封板可在其平面上以至少一方向移動並向外延伸該第一真空室及該第二真空室；及位於該第一真空室及該第二真空室外部的定位裝置，以便移動該滑動密封板，因而可移動該第一真空室中的該物件台（object table) 〇 1 8. —種微影蝕刻投影裝置，包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩

O:\58\58390-940307.ptc 第35頁 1233535 _案號88108963_年月日__ 六、申請專利範圍支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統；其特徵為：一容納至少一該第一及第二物件台（object table)的第一真空室；一該第一真空室鄰近的第二真空室，其被一具有一孔的真空室牆自此處分隔；該第二真空室所備置之一第一平台，其可在一第一平面上移動一第一範圍；該第一平台所支撐的一第二平台，其可在一第二平面上移動一第二範圍，該第一及第二平面實質上相平行，而該第一移動範圍大於該第二移動範圍，該第二平台穿過該孔支撐第一真空室中的該物件台（object table);及一連接至該第一平台的一環狀滑動密封板，該滑動密封板相對於部份的該真空室牆及該第二平台，以便在整個該第一及第二移動範圍中分隔該第一及第二真空室。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之裝置，其中該第一真空室中的該物件台（object table)包括一具有第三移動範圍的第三平台，該第三移動範圍大於該第二移動範圍。 2 0 .如申請專利範圍第1 8項或第1 9項之裝置，其尚包括移動該第一平台的定位裝置，該定位裝置係在一區間中所備置；及一第二滑動密封墊，以便在該第一平台的第一移

Q:\58\58390-940307.ptc 第36頁 1233535 _案號88108963_年月日__ 六、申請專利範圍動範圍中將該區間與該第二真空室分離。 2 1 .如申請專利範圍第2 0項之裝置，其中·· 該第二真空室藉著具有一第二孔的第二真空室牆與該區間分離，該第一平台跨越該第二孔並具有與環繞該第二孔之該第二真空室牆相對之一第一表面；及該第二滑動密封墊包括該第一表面及該第一表面與該第二真空室牆之間所提供的一軸承。 2 2.如申請專利範圍第2 0項之裝置，其中該第二滑動密封墊包括一第一多重環狀薄板，其自該第二真空室的内牆向内延伸，及一第二多重環狀薄板，其自該第一平台向外延伸；該第一及第二多重環狀薄板相互平行、互插及重疊，以便於該第一平台的第一移動範圍中於該第二真空室與該區間之間備置一迷宮式密封件。 2 3 . —種製造一基材之方法，包括：一供應輻射投影光束之照射系統；一第一可移動物件台（object table)，其附有一光罩支架可支撐一光罩；一第二可移動物件台（object table)，其附有一基材支架可支撐一基材；及一將該光罩的照亮部份顯影於該基材目標區之投影系統，其特徵為：一具有一面封入至少一該第一及第二物件台（object table)之牆的真空室，其中該真空室牆内具有至少一孔；

O:\58\58390-940307.ptc 第37頁 1233535 案號 88108963 A_ 曰修正六、申請專利範圍一密封該孔的滑動密封墊，其可在至少一平行於該真空室牆的方向以預設的範圍移動同時可保持該孔的該密封墊；一機械性連接，用以將該滑動密封墊的移動傳送給該真空室内的該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e )，以便造成相對應的移動；及移動該滑動密封墊的定位裝置，藉此可於該真空室内移動該物件台（〇 b j e c t t a b 1 e );該方法包括下述步驟：於該第一物件台（object table)上安裝一光罩；於該第二物件台（object table)上安裝一基材；及將該基材曝露於該光罩的一影像中。

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