TW595210B - Anti-abrasion device and flatbed scanner incorporating the same - Google Patents
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發明所屬之技術領域 本案係關於一種防磨擦裝置,尤指應用於一平台 描器中之防磨擦裝置。 先前技術 #軟排線(flat flexible cable;FFC)係一種電子裝置 =常用=連接線,可於狹小的空間中提供適合的接線。在 平台式掃描器中,來回移動進行掃描之内含光學與光電轉 換π件之光機模組(carriage)便藉由軟 接、。請參圖(A)與⑻’其分別為—平台式 上視與側視剖面示意圖。一平台式掃描器一般包括一上蓋 ^未示出)與一下殼體10,於該下殼體内裝設一光機模組 11、一光機模組驅動機構12、一電路板13、以及一軟排 1二之光:私模組11受該光機模組驅動機構12之馬達與齒輪 .、且121之帶動而沿執道122移動通過一透明掃描平台15下 :機:該掃描平台上之文件或照片等進行掃描,該 於移動時仍透過軟排線14保持與電路板13間之j 電連接,以進行訊號傳遞。 — 哕縈:圖(Α),其為一傳統軟排線之構造示意圖。 由一可撓銅羯導體片141外包覆-可撓塑膠 二緣外層142,並於兩端加上補強片143而形成。該銅羯片 “1之兩端部分露出於該塑膠絕緣外層142之外,藉由該補
第7頁 595210 五、發明說明(2) _ 強片143協助施力而分別插入該光機模組11(如第二圖(B) 所示)與該電路板13之插槽内(圖中未示出)。在光機模 組11移動過程中,該具可撓性之軟排線1 4會隨之伸展或彎 折,當該軟排線1 4彎折時,可能會與該透明掃描平台1 5 (一般為玻璃)產生磨擦(如第二圖(B)所示)。尤其對於 產品厚度朝向越來越薄之設計趨勢的掃描器而言(例如搭 載有接觸型影像感應器(contact image sensor;CIS)光機 模組的掃描器越來越多),越來越短之距離將使得該軟排 線14與該玻璃板15磨擦的機會更大,因此該軟排線14 ,报容易因磨擦而沾在玻璃上,如此將Z響4以 品質。 發明目的 目的係為發展出改善上述習用手段缺 本案主要之發明 失之防磨擦裝置。 發明内容 中,種防磨擦裝置,應用於-平台式掃描器 -軟排線主要包含有—掃描平台―電路板、 路板上,而另一1機模組’該軟排線之一端電連接至該電 該光機模纟且之# f電連接至該光機模組,該軟排線係可隨 移動而於該掃描平台下方伸展或資折,而該
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五、發明說明(3) 防磨擦裝置主要包含有一可撓主體,其設置於該軟排線之 側’隨該光機模組之移動而於該掃描平台下方伸展或彎 折,然該可撓主體之抗彎折強度較該軟排線為大而能與該 掃描平台保持距離,進而可壓制該軟排線而避免與該掃描 平台磨擦產生污損。 根據上述構想,本案所述之防磨擦裝置,其中該可撓 主體之剖面線條上具有不在同一直線上之三個點,而該剖 面線條係與該光機模組移動方向呈正交。 根據上述構想,本案所述之防磨擦裝置,其中該可撓 主體之剖面線條呈圓弧狀。 | 根據上述構想,本案所述之防磨擦裝置,其中該可撓 主體之剖面線條呈V字型。 根據上述構想,本案所述之防磨擦裝置,其中該可撓 主體之剖面線條呈W字型。 根據上述構想,本案所述之防磨擦裝置,其中該可撓 主體之材質係由剛性較該軟排線為大之金屬或塑膠來完 成0 本案之另一方面係為一種平台式掃描器 具包含 掃描平台,提供—被掃描物置放;-電路板;-光機模 汲,軟排$ t連接至該電路板與該光機模组之間而用 以傳遞電1 ’該軟排線係、可隨該光組 掃;展或彎以及-防磨擦裝置,主要= 設置於該軟排線之-側,隨該光機模 移動而於㈣描平台下方伸展或彎折,然該可撓主體之抗 595210
五、發明說明(4) 彎折強度較該軟排線為大而 而可壓制該軟排線而避免與 根據上述構想,本案所 撓主體之剖面線條上具有不 剖面線條係與該光機模組移 根據上述構想,本案所 撓主體之剖面線條呈圓弧狀 根據上述構想,本案所 撓主體之剖面線條呈V字型 根據上述構想,本案所 撓主體之剖面線條呈W字型 根據上述構想,本案所 撓主體之材質係由剛性較該 成0 台保持距離,進 ,描平台磨擦產生污損。 =平:式掃描器,其中該可 一直線上之三個點,而該 動方向呈正交。 述之平台式掃插器,其中該可 〇 述之平台式掃描器,其中該可 述之平台式掃描器,其中該可 述之平台式掃描器,其中該可 軟排線為大之金屬或塑膠來完 簡單圖式說明 解·本案得藉由下列圖式及詳細說明,俾得—更深入之了
^ 一圖(A)為一般平台式掃描器之上視示意圖; —圖(B)為一般平台式掃描器之側視剖面示意圖; 第二圖(A)為一傳統軟排線之構造示意圖。 > μ ί 7,(β)為一傳統軟排線與透明掃描平台產生磨擦
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庳用(=係本案為改善習用手段缺失所發展出來 〜、用:千口式知描器中之防磨擦裝置構造示意圖。 示』四圖⑴⑻⑹為本案可撓主體之三種實施例剖面 本案圖式中所包含之各元件列示如下 掃描器下殼體1 〇 光機模組驅動機構12 軌道122 習用軟排線1 4 可撓塑膠絕緣外層1 4 2 透明掃描平台i 5 掃描平台3 0 軟排線3 2 可挽主體3 4 光機模組11 馬達與齒輪組121 電路板13 可撓銅箔導體片141 補強片143 防磨軟排線34 電路板31 光機模組3 3 發明實施方式 所發展出K::二)』;掃J =案為改善習用手段幻 圖。一般之平a々擦Γ知描中之防磨擦裝置構造示^ 透明玻璃$成;V電路H主要/具有掃描平台30(通常以 構件,而用以板31、軟排線32以及光機模組33等 以傳遞電訊號之該軟排線32之-端電連接至言 595210 五、發明說明(6) 1路板31上,而另一端電連接至該光機模組33,該軟排線 可配合該光機模組33之移動而於該掃描平台下方伸展 折。至於本案所發展出來之防磨擦裝置主要包含有一 =撓^體34_,其設置於該軟排線32之一侧(如第三圖(A) *、分別所示,可為軟棑線3 2之内側或外側),同樣以其一 2連接至該電路板31上,而另一端連接至該光機模組“。 =本案所揭露之可撓主體34之抗f折強度較該軟排線32 雜、’如此將能避免向上翻揚而與該掃描平台30保持距 、,進而可壓制該軟排線32避免與該掃描平台3〇磨擦產生 污損。 < 而為能增加可撓主體之剛性,使其抗彎折強度大於該 丄排線,除了本身採用剛性較強之金屬或塑膠外,尚可將 ^沿^^線之剖面製作成如第四圖(A)(B)(c)所示之圓弧 比子^'或w子型等形狀,其共同特徵在於其剖面線條上 姑1、·!*不在同直線上之二個點3、b、C,藉以增加該可 抗彎折強纟,如此將可有效壓制該軟排線而避免 /、該掃描平台3 〇磨擦產生污損。 綜上所述,透過防磨擦裝置對軟排線彎曲程度之有效 合本案將可有效避免該軟排線與該玻璃板產生磨擦的 幸之丄:此可徹底改善習用手段之缺失,$而達成發展本 塑膠炎—然而該可挽主體之材質可用f見之金屬或 ^疋成,故本案發明得由熟習此技藝之人士任施匠审、 而為诸般修飾,然皆不脫如附申請專利範圍所欲保 了
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第一圖(A)為 第一圖(B)為 第一圖(A)為 第一圖(B )為 之構造示意圖。 般平台式掃插器之上視示意圖; 一般平台式掃插器之側視剖面示意圖; 一傳統軟排線之構造示意圖。 一傳統軟排線與透明掃描平台產生磨擦 第三圖(a)(b)係本案為改善習用手段缺失所發展出來 應用於平台式掃描器中之防磨擦裝置構造示意圖。 第四圖(A)(B)(C)為本案可撓主體之三種實施例剖面 示意圖。
Claims (1)
- 595210 六、申請專利範圍 u防磨擦裝置,應用於一平 ,主要包含有一掃描平台、一電路板、一軟排= -端至:線之—端電連接至該電路板上,而另 移動而於該掃描平台下方伸展 機核組之 要包含有一π接士雜 Τ展次㈢折,而該防磨擦裝置主 Μ^, 撓主體,其设置於該軟排線之一側,隨該光 3組之移動而於該掃描平台下方伸展或缺 ^之w折強度較該軟排線為大而能與該 污損。 u排線而避免與該掃描平台磨擦產生· ’其中該可撓 個點’而該剖 其中該可撓 2·如申請專利範圍第1項所述之防磨擦裝置 主體之剖面線條上具有不在同一直線上之二 面線條係與該光機模組移動方向呈正交。一 2 t Itf2㈣述之防磨擦裝置, 主體之剖面線條呈圓弧狀以增強其剛性,〃 I "撓 大於該軟排線。 使其抗彎折強度 4.如申請專利範圍第2項所述之防磨擦裝置, 主體之剖面線條呈V字型以增強其剛子 :、中該可撓 大於該軟排線。 彳更其抗彎折強度 5·如申請專利範圍第2項所述之防磨擦裝 主體之剖面線條呈W字型以增強其剛性,二,、中該可撓 大於該軟排線。 ’、 使其抗彎折強度 6·如申請專利範圍第丨項所述之防磨擦裝 主體之材質係由剛性較該軟排線’、中該可撓 夂I屬或塑膠來完第14頁 595210 六、申請專利範圍 成0 7· 一種平台式掃描器,其包含: 一掃描平台,提供一被 一電路板; 破知描物置放’· 一光機模組; 以傳遞路板與該光機模組之間而用 掃描平台下方伸展;;該光機模組之移動而於該 排線之光m-可撓主體,其設置於該軟 展或彎折,然該可捷主體之抗nc播平台下方伸< 能與該掃描平台保持距離,進大而 該掃描平台磨擦產生污損。 f j以軟排線而避免與 8·如申請專利範圍第7項所述之平二 撓主體之剖面線條上具有不在同一其中該可 剖面線條係與該光機模組移動方向呈正之二個點,而該 利範圍第8項所述之平台式掃描…… 之。|j面線條呈圓弧狀以増強其;中該了 度大於該軟排線。 便其杬彎折強 :主如/Λ專利範圍第8項所述之平台式掃描器,复中該可’ ,體之“線條呈V字塑以增強其剛性 抗、: 度大於該軟排線。 便/、抗彎折強 11·如申請專利範圍第8項所述之平台式掃描器, 第15頁 595210第16頁
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