TW594040B - Manufacturing method of optical grating having anti-glare, coloring-enhancement, anti-electrostatic and radiation-proof functions, and product thereof - Google Patents

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Description

594040
一、 【發明所屬之技術領域】 光與ί:ΐ係提供一種具反眩、增艷、防靜電及防輻射之 ΐ丨;眩y製造方法’其所製出光學柵板可適用於大型或小 ^薄膜液晶顯示器(TFT-LCD)或電漿顯示器(pDp)等螢 上,具有反眩、增艷、防靜電及防輻射等效益者。 二、 【先前技術】 由於科技的發達,使用電腦及電視傳播之趨勢也達到 =及化,因此人們每天曝露在螢幕輻射線下的時間也愈來 ^長。根據專家研究,由於眼睛長時間接受光線轄射的結 果,使得罹患視覺病痛的患者日益增多,包括近視、亂 視、白内障及嚴重的視覺障礙等,故目前世界視訊家電廠 商不僅提供高晝質、低量輻射及成本有競爭性之螢幕產品 商品化後,莫不考量其螢幕產品之輻射阻隔之重要性。 按目如薄膜液晶顯示器宗TFT-LCD定或電裝顯示器 (PDP )等螢幕為使其晝面所產生出來之輻射及靜電直接 危害到觀賞者,乃進一步於螢幕前加裝一光學柵板予以阻 隔,此光學柵板係為一經過鍍上多層膜處理予以阻隔輻射 及靜電之玻璃基板。然以目前視訊家電廠商所製出之螢幕 有愈來愈大之趨勢,就現今此阻隔輻射及靜電之玻璃基板 製程而言’已無法適用其大量省產之需求了,此乃受&於 製程設備及薄膜製程之影響。 現今阻隔輻射及靜電之玻璃基板製程,係利用真空錢 鍍之方式及設備’將玻璃基板鍍上多層薄膜。然多層薄膜 採真空歲鍵方式塗佈於玻璃基板上,其塗佈面積會受限,' Φ
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無法適用大面積之基板面上,此乃面積愈大之薄膜愈易產 生剝膜剝離現象,故一般只能適用於1 5,,〜2 0,,之基板面 上’大於30’’基板面無法適用,只能少量製造,故現今阻 隔輕射及靜電之玻璃基板採真空濺鍍之方式已無法適用, 大型螢幕列為商品化大量生產之需求。 又’現今大型螢幕之電漿顯示器(PDP),其畫面建 到3 0 0 之阻抗值時,觀賞者會產生一種暈眩現象,造成 視覺不舒服感,故此種暈眩現象也是目前視訊家電廠商 及愈克服之技術瓶頸。 因此,目前薄膜液晶顯示器(TFT-LCD )或電漿顯示 器(PDP )等大型螢幕阻隔輻射及靜電之光學柵板,並$ 有適合之產品研發出來,因此產業上以期尋找或開 代之產品。 & 9 三、【發明内容】 有鑑於此,本發明者基於現今薄膜液晶顯示器 (TFT-LCD)或電漿顯示器(PDP)等螢幕阻隔輻射及靜 之光學柵板只能小面積製造,無法合乎經濟效益之大旦“ 產等缺失,以及產業上之需求,於是著手加以研究,終生 創新一種『具反眩、增艷、防靜電及防輻射之光學柵板$ 造方法及其製品』,供以產業上利用。 表 本發明之主要目的’即在提供一種具反眩、增觀、p 靜電及防輻射之光學栅板製造方法,不僅製程簡單,、商= 大量生產,進而使製造成本低,製出產品更具競爭力,合 其所製出光學栅板產品可適闬於大型或小型薄膜液晶顯八
920208.ptd 594040 五、發明說明(3) 器(TFT-LCD ) 增餘、防暈眩 本發明所 強化後,施以 使基板表面上 幸畐射,也具有 或電漿顯示器(PDP ) 、防靜電及防輻射等效益者。 採用之技術手段,乃將 浸鍍塗佈形成由多層奈 具有黑化處理效果,不 吸光增艷效益之特性, 等榮幕上,具有產生 一大面積 表面進一步貼合一防靜電隔離層,此 為基材 表面, 柵板之 層之光 射等效 採貼付 鍍膜處 也降低 用。 四、【 有 方法, 查委員 首 發明方 括: 第 將由奈 供以消 製出方 學栅板 益,且 於基板 理,並 ’極適 米導電纖維所編織而成 除螢幕所產生之靜電。 法,能製出鍍有反眩薄 製品,不僅具有反眩、 基板只需少層薄膜處理 上之製程處理方式,完 促使製程更趨簡化容易 合大量生產之經濟規模 米粒子之 僅能反眩 而此鍍膜 隔離層係 之金屬導 故本發明 膜及貼合 增艷、防 ,而防靜 全克服大 ’相對購 效益,供 之基板予以 反眩薄膜, 及有效阻隔 處理之基板 以PET或PC 電網黏著於 所提供光學 一層防靜電 靜電及防輻 電層也直接 面積基板之 置設備成本 以產業上利 實施方式】 關本發明為達成上述目的,所 茲舉一可行實施例,並配合附 對本發明之製作處理方法更易 先,請參閱第一圖至第四圖所 法之製造流程示意圖,其製作 一步驟,提供一基板,此基板 抹用之技術手段及其 圖詳述如下,俾使審 於了解: 示,第一圖所示為本 處理方法之步驟包 為經強化後之玻璃或
920208.ptd 第7頁 594040 五、發明說明(4) 光學塑膠玻璃或光學塑膠等基板1。 第二步驟,基板浸鍍塗佈反眩薄膜,係將基板1表面 上施以浸鍍塗佈披覆一反眩薄膜2。此反眩薄膜2係於一電 艘槽中浸鍍5〜2 0分鐘以形成鍍膜厚度為〇 · 1刪〜〇 · 3删之 多層薄膜’且此多層薄膜係由多層奈米粒子均佈披覆所構 成’如第三圖所示其内層21係以銅(Cll )或鋁(A1 )所披 覆之奈米粒子’外層2 2係以鉻(C r )所彼覆之奈米粒子, 月匕達到全透光係數(Toal light permeation)為 90 + 0-3,擴散光係數宗Diffused light permeation 定為 1· 45 ± 〇· 2,模糊度宗Haze定為1· 6 ± 〇· 3,光澤度Gloss 定為80 ± 5,硬度宗Hard ness定為7H之反眩薄膜2,並能有 效阻隔輻射’且讓基板丨表層具有黑化處理之效果,而該 披覆之鉻粒子具有吸光點增艷之作用,如此螢幕4所投射 出影像光線能透過反眩薄膜2繞射,進而具有反眩、抗轄 射及增艷之效益。 第二步驟,貼合防靜電隔離層製出光學柵板,係將基 板1鍍膜表面貼合一防靜電隔離層3,以完成製出具光學繞 射之光學柵板者。此隔離層3係為一以pET或%之基材31於 表面將導通率宗丨ight,表面 阻抗宗serface resistivity 定為〇· 14 ( Q/sq )之奈米導 電纖維32編織黏著於表面上之金屬導電網(如第四圖所 示),供以螢幕4上所產生之靜電能透過此奈米導電纖維 32予以放電,以達到消除螢幕4上之靜電。 表T、上所陳,本發明所提供具反眩、增艷、防靜電及防
594040 五、發明說明(5) 輻射之光學柵 柵板,此光學 能達成預期之 基板只需少層 上之製程處理 促使製程更趨 合大1生產之 發明專利所規 查,並賜准專 惟以上所 運用本發明之 述之等效變化 五、【圖式簡 第一圖所示為 第二圖所示為 第三圖所示為 第四圖所示為 板製造方法 柵板鍍有反 反眩、增艷 薄膜處理, 方式,完全 簡化容易, 經濟規模效 定之要件, 利。 述,僅係本 技術思想, ,理應包含 單說明】 本發明方法 本發明實施 本發明基板 本發明相關 ’以及其所 眩薄膜及貼 、防靜電及 而防靜電層 克服大面積 相對購置設 益’可供產 故爰依法提 製成具光學繞射之光 合一層防靜電層,確 防輻射實用價值,且 也直接採貼付於基板 基板之鍍膜處理,並 備成本也降低,極適 業上利用,完全符合 出申請,祈請惠予審 發明之一較佳實施例而已,舉凡 書及申請專利範圍所 專利權範圍内。 依據本說明 在本發明之 之製造流程示意圖 例示意圖。 表面鑛反眩 構件之分解 薄膜之側視示意圖 示意圖。
920208.ptd 第9頁 594040 圖式簡單說明 第一圖所示為本發明方法之製造流程示意圖。 第二圖所示為本發明實施例示意圖。 第三圖所示為本發明基板表面鑛反眩薄膜之側視示意圖。 第四圖所示為本發明相關構件之分解示意圖。 符號說明: 1 ......基板 2 ......反眩薄膜 21 .....内層 22 .....外層 3 ......隔離層 31 .....基材 32 .....奈米導電纖維 4 ......螢幕
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Claims (1)

  1. 594040 六、申請專利範圍 防靜電及防輻射之光學栅板 1、一種具反眩、增觀、 製造方法,其包括下列步驟 光學塑膠玻 提供一基板,此基板為經強化後之玻璃或 璃或光學塑膠等基板; 基板浸鍍塗佈反眩薄膜,係將基板表面上施以浸鍍塗 佈彼覆一反眩薄膜,該反眩薄膜係由多層奈米粒子均佈彼 覆所構成,内層係以銅(Cu )或鋁(A丨)所披覆之奈米粒 子,外層係以鉻(C r )所披覆之奈米粒子;
    貼合防靜電隔離層製出光學栅板,係將基板鍍膜表面 貼合一防靜電隔離層,以完成製出具光學繞射之光學栅板 者0 2、 如申請專利範圍第1項所述之具反眩、增艷、防靜 電及防輕射之光學栅板製造方法,其中反眩薄膜係於一電 鑛槽中浸鍍5〜20分鐘以形成鍍膜厚度為〇·ι刪〜〇·3 mm之 多層薄膜者。
    3、 如申請專利範圍第2項所述之具反眩、增艷、防靜 電及防輻射之光學栅板製造方法,此多層薄膜係由内層以 鋼(Cu )或鋁(a 1 )所彼覆之奈米粒子,外層以鉻(Cr ) 所披覆之奈米粒子所均佈彼覆構成,讓基板表層具有黑化 處理之效果,且披覆之鉻粒子具有吸光點增艷之作用,以 々螢幕所投射出影像光線能透過反眩薄膜繞射,進而具有 反眩、抗輻射及增艷之效益。 4、 如申請專利範圍第2項所述之具反眩、增艷、防靜 電及防輻射之光學栅板製造方法,其中隔離層係為一以
    594040 六、申請專利範圍 PET或PC之基材於表面將奈米導電纖維編織黏 之金屬導電網,供以螢幕上所產生靜、'^ ^准、予以放電,以達到消除螢幕上之靜電者。 极’其包^具反眩、增齡、防靜電及防輕射之光學栅 讀有一基板及一隔離層,其特徵在於: 奈米反於—表面浸鍍塗佈内層為銅(cu)或鋁(A1) 眩薄m ;夕卜層為I ( Cr ) I米粒子所均佈披覆構成之反 S隔離;&炎 鵠織黏二、為一以PET或1^之基材於表面將奈米導電 轉此二者於表面上之金屬導電網; 、增麵將隔^層貼合於鍍膜基板之表面上,以形成具 h 6、如φ 方靜電及防輻射之光學繞射柵板者。 ^及防輻射請毒段利範圍第5項所述之具反眩、增艷、防靜 先學塑膠舱t光學橋板’其中該基板為經強化後之玻璃或 坡壤或光學塑膠者。 言亥 纖•維鵡 反眩 <1
    92〇2〇^ Ptd 第12頁
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