TW575876B - Objective lens drive device of optical pickup - Google Patents

Description

五、發明說明d) 本發明係關於—種構 2裝置，其可輻射—光點碟裝置之光學拾波器之物鏡驅 予方式讀取資訊。 業片上之記錄媒質，自其以光 (相關技藝1 ) 一種構成光碟裝置之 J置構成，配備有一物$ :=波器，通常係以-物鏡驅動 以其接收光，物鏡：動；j學系統，供將光傳輪至物 組之基座。物鏡 二置予以設置在一供安裝光 線圈之活動=r配備有一物鏡，-聚 震材料活動部份藉固定部份：：備：：磁路之固定 線予以立ί種點彈性材料，in由四利用一種彈性減 (相關技〜一份封閉/固持之金屬 傾ΐ第：藝，當其在聚舞方h 裳置之中心重2區段之重力中心在;:多，時’活動部份不 重力中心在活“其次’當活動部份；、τ向之位置與驅動 然而，驅動裝晋份之位置移動與追i蹤方向移動時， 部份之磁路^中之中心在聚焦方^之处移動量相同之量。 方向移動，導钟心，因而其在聚隹方位置可假設為在固定 位置間在聚隹方=動部份在驅動中心，移動，同時在追蹤 。這產生活動：：；錯位’從而繞重重力中心之 作為-種c縱方向之傾斜。中心產生-角力矩 匕寻問題之裝置， 知一種光學拾波器， $ 5頁 575876 五、發明說明（2) ' ------- 其中一包括一物鏡之、本 驅動，並且在聚隹之：動部份同時在聚焦方向及追蹤方向 ^ …、之驅動中心自活動部份之重力中心錯位 之情形，使得在活動却八 π ^丨， 丄士 勒$伤所產生之旋轉力矩繞重力中心對 稱（例如日本專利公主Ηλ·。 、 丄回 in a °Hei. 8 -5 0 72 7 號）。 如圖1 9中所示，弁與从丄 9Π9 , ^ ^ 、元予拾波器在一作為固定基底之基底 2 0 2上配備有磁鐵固梧y — 0 Λ n _ L 寻片208a，208b，及蓋面輛209a至 2 0 9 d，提供在磁鐵固拄 u ,,, , 符片内，並在追蹤方向分開，因而此 .Kr, ^ ^ 、田此構形，如圖20A及20B中所示，供聚 焦驅動線圈2 1 0之磁路，甘 ^ , , 其磁通置密度分佈係成雙峰形狀 。即使在包括物鏡2 0 3之、壬私Μ八> Α 錯位之情形，這也佯持旋^部份在追縱方向及聚焦方向 2 0 3之光軸之傾斜。 見 在圖:及2" 2。13及2〇1]3表示磁鐵，2〇4表示 庄05表不=追縱驅動線圈，““至““ 二方二一:定構件，x表示追蹤方向，γ表示-垂直: 來焦方向及追蹤方向之方向， - 、 (相關技藝3 ) 、不4…、方向。 在根據第一相關技藝之物鐘 ，並且追縱線圈予以谬合在，使用-單1兹路 :卑縮減驅動裝置，及使其更為：=’及設置在-磁隙， 蟄之物鏡驅動裝置，有一問顯Λ二邪。然而，根據相關技 之驅動力之中心經由在追蹤方向焦線圈在聚焦方向 份之重力中心與另一錯位之驅動力蹤線圈，及使活動部 力中心錯位，並且根據錯位气中心重合，而自驅動 座生一力矩，因此導致不相

575876 五、發明說明（3) 要之共振。 作為一種解決此等問題之裝置，已知一種光學拾波器， 其中一聚焦線圈予以設置為夾緊一追蹤線圈，或一追蹤線 圈予以設置為夾緊一聚焦線圈，俾導致每一驅動力之中心 彼此重合（例如日本專利公告H e i · 6 - 1 2 4 4 6 7號）。 如圖2 1中所示，聚焦線圈3 1 0經由黏性固定至一線軸3 1 2 之頂與底區段，及追蹤線圈3 1 1經由黏性在其被聚焦線圈 3 1 0夾緊之位置固定至線軸3 1 2之中心。如圖2 2中所示，聚 焦線圈3 1 0經由黏性固定至線軸3 1 2之中心，及追蹤線圈 3 1 1經由黏性在其自頂與底夾緊聚焦線圈3 1 0之位置固定至 聚焦線圈3 1 0，各別線圈置於一經由黏性固定永久磁鐵3 0 9 之軛30 9。光學拾波器橫越二線圈310，311饋入電流，藉 以允許驅動力在聚焦方向（箭頭A )及在追蹤方向（箭頭B)之 中心與活動部份之重力中心重合。 (相關技藝4) 在根據第一相關技藝之物鏡驅動，需要使高階共振頻率 升高，以便支承高速光碟裝置。 作為一種解決此問題之裝置，已知一種物鏡驅動裝置， 其中透鏡座之物鏡附著區段予以形成為向自由端逐漸變成 較薄，因而可使高階共振頻率升高（例如日本專利公告 Hei. 8- 1 94 9 62 號）。 如圖23中所示，透鏡座411予以形成為以其底面成錐形 ，因而物鏡附著區段411c可向透鏡座411之自由端（在圖中 之左邊）變成較薄，並且其物鏡附著區段4 11 c向固定部份（

575876 五、發明說明（4) 在圖中之右邊）變成較厚。# 厚度b及在後緣有一厚度c。、兄、者區段411c在前緣有〆 在根據第二相關技藝之物鏡驅動 路必須具有複雜之形狀，以便提供磁路之：ί 一問題為磁 ，供聚焦驅動線圈2 1。即# Λ ^ 之又峰磁通量分佈 夠縮減。料致一問題為；活動部二:也難以使力矩足 致活動部份之傾斜，並產生在追蹤方向移動，導 跳動惡化。 m差’因此使讀取之信號 而且，在根據第三相關技蓺之物 ，為其面向設置在聚焦線圈37〇之磁ϋ力面裝置發生一問 設置在磁隙外®，因此被來自磁路 Ί面予以 並在相反方向產生-驅動力及-力矩，ί:;::影響， 重力中心與實際驅動力之中心重合。卜致難以使磁路之 在根據第四相關技藝之物鏡驅動 於透鏡座4U之物鏡附著區段411c之固定部’:生予^ 二成之固定部份予以作成 柄m L 更5又置在物鏡41 lb下面之鏡（直角稜鏡）降 低’口此阻礙低分布光學拾波器。 發明之槪诚 本發明針對解決以上在相關技藝之種種問題。 供解決問題之裝置，將使用對應於本發明之一實例之圖 1、予以解釋。根據本發明，一在其上形成一聚焦線圈3f及 =路：線圈31之線圈單元，設置在一含至少一磁鐵5在二極 聚焦方向F極化之磁路之磁隙5g，以及磁鐵5及追蹤線圈3t 5?5876 五、發明說明（5) 予以設置為致使在二極聚焦方向F極化之磁鐵5之北極與 極間之邊界5 b落在由追蹤線圈31之水平側面B (D)在聚焦 方向F所形成之寬度内，當線圈單元3在聚焦方向F移動 ’水平側面B (D )為垂直於聚焦方向f。 门在此種構形，磁鐵5予以形成在聚焦方向F極化之二極， 而磁路具有一種簡單之形狀。在追蹤線圈h產生一力矩 ，具有與聚焦線圈3f在聚焦方向F及後一力矩之相反方向 =推力Df所導致之力矩大約相等量。這足夠減少物鏡2 i 追蹤方向T之傾斜。 供解決問題之裝置，將使用對應於本發明之一實例 予以解釋。根據本發明，—聚焦線圈33f及追蹤線圈Μ θ 予以附著至一線圈底座3丨，而在線圈厚度方向之中心 ，並且聚焦線圈33f予以設置在一含一磁鐵5 配 向F極化之磁路之磁隙5 g。 。水 <、、、方 在此種構形’一在聚焦方W所產生驅動力之中心盥— 在追蹤方向所產生驅動力之中心及活動部份 +、 合。聚焦線圈33f在相同方向僅產生驅動力。刀〒心重 而且，供解決問題之裝置，將使用對庫於 例之圖16予以解釋。根據本發明座本^月之-實 輕金屬或具有高撓性彈性模數之碳纖維以；^重含 -線圈單元3予以附著在—形成在追‘斤：二’及 凹口 la。 之透鏡座之二 在此種構形，透鏡座1之彈性比變成較高， 共振頻率升高。因此，不需要使設置在物鏡$ 因此使高階 下面之鏡降

575876 五、發明說明（6) 低。 以下將說明較佳實施例 (實施例1) 之砰細說明。 為本發明第一實施例之分 透鏡座，2表示一物鏡，3表八視圖。在圖1中，1表示一 線圈，3t表示追蹤線圈，5^\一_線圈單元，3f表示一聚焦 及5b表示一在磁鐵5之北極與：：表示一磁隙’ 在透鏡座1，在追縱方向丁 間之邊界。 成7供固持物鏡2之物鏡附著區成段:凹口1a。以均勾厚度形 以必要數之層壓印刷 成一喂隹蜱b ώ电峪板3p形成線圈單元3，其中形 成 小…、、、泉圈3 f及二追蹤線圈^ + ^ ^ 印刷雷跋：9 η夕rb 。水…、線圈3 f予以設置在 叩剩冤路板3p之中心，及二诘彳 之一中空區段設置在追縱方Μ線圈W以在聚焦線圈3f 插入及膠合至凹口la，並且固定至透鏡座i 。在線圈早兀3之兩端，在追蹤方向丁形成四個v_形凹槽π ’而經由焊料3 h固定四導電彈性構件4之^__端。 如圖2中所示，磁鐵5在二極，在聚焦方向ρ，經由一在 北極與南極間之邊界5b予以極化，並膠合至在一輕基底6 之軛7。彼此面對之二磁鐵形成一磁隙“。磁力線b之方向 在磁隙5g之聚焦方向逆反。磁鐵5可由一單一磁鐵構成。 線圈單元3予以設置在磁隙5 g。導電彈性構件4之另一端 經由焊料，通過一金屬線基底8固定至一基底板9。這經由 一懸臂可移動式地支承透鏡座1以抵靠磁鐵5，軛基底6， 第10頁 575876

輛7至屬線基底8，及基底板9所構成之固定部份。 在此種構形，使聚焦線圈3 f及追蹤線圈31通電，便在聚 焦方向F及追蹤方向τ產生驅動力，因此允許物鏡2 + 錄媒質之表面撓曲及離中心，在聚焦方向F及追蹤方向/移 其次，將解釋在磁鐵5，聚焦線圈3f與二追蹤線圈3t間 之位置關係。如圖3中所示，以透鏡座丨，物鏡2及線圈單 元3所構成之物鏡驅動裝置，其重力中心與線圈單元3之中 心重合。此為經由一懸臂，藉導電彈性構件可移動式=支 承之活動部份之位置，亦即在聚焦方向F之自身重量狀能 在此位置，在磁鐵5之北極與南極間之邊界置為略古於 上側面D超出垂直於追蹤線圈3t之聚焦方向F之水平侧n面^ 及D。關於聚焦線圈3 f，僅垂直於追縱線圈3 t之聚焦方。 之水平側面b，d之中心設置在磁隙5 g内（一在彼此面對。 磁鐵5之寬度W及高度Η内之磁隙）。關於二追蹤線圈31：，之 一線圈之右半及另一之左半設置在磁隙5 g。 僅 如圖4 A中之箭頭所示，在此位置，在聚焦方向F，樺 追蹤線圈3 t饋入電流I，經由電流流動通過一垂直側面a、 另一垂直側面C，導致包括線圈單元3之活動部份在正追$ 方向T (在圖中向右）移動。同時，如箭頭所示，在追縱 圈3 t之水平側面B，D，產生相反方向之推力D t。此等推 彼此抵消作為一繞線圈單元3之中心之力矩（活動部份力 力中心）。 σ习之重 橫 當聚焦線圈3 f在正追蹤方向Τ移動時（在圖中向右） 575876 發明說明（8) 越聚焦線圈3 f饋給電流i，俾如圖4 B中之箭頭所示，使物 鏡在聚焦方向F向上移動，便經由電流流過水平側面b，廿 ，在聚焦方向F產生一推力Df，並導致包括線圈單元3之活 動部份在聚焦方向F向上移動（在圖中向上）。在此情形， 假设為固定部份之磁路中心，在聚焦方向F之驅動中心， 自線圈單元之中心（活動部份之重力中心G)向左錯位。這 f $聚焦線圈3 f在聚焦方向ρ之推力D f產生力矩，亦即順 時鐘方向力矩，因此導致物鏡2在追蹤方向T傾斜。 然而，在磁鐵5之北極與南極間之邊界5]3，落在由追蹤 線圈3 t之水平側面D所形成之寬度内之情形，磁鐵5之北極 及南極同時位於由水平侧面D所形成寬度内之寬度以内， 因而抵消在聚焦方向F在水平側面D之推力Μ。另一方面， 水平側面B之推力D t則保持。 因此，在聚焦方向F在二水平側面B所產生之推力D t，均 大於在聚焦方向F在水平側面D所產生之推力，並且被導向 在彼此相反方向。因此，在追蹤線圈3t，在聚焦方向F產 生一具有與經由聚焦線圈3 f之推力D f之力矩大約相等量之 逆時鐘方向力矩。可使用此力矩抵消經由在聚焦方向F之 推力Df之力矩，並足夠減少物鏡2在追蹤方向T之傾斜。 要使物鏡在負（-)追蹤方向了（在圖中向左）移動時，在 ί Ϊ Γ:，上移動’:經由在聚焦方向F之推力Df之力矩為逆 守、·里。，並且追蹤線圈31所產生之力矩為順時鐘方 因此二力矩彼此抵消。 田物鏡2在聚焦方向F向上移動同時在追蹤方向τ移動時

鏡2上在述二7=聚，方向F之傾斜。要減少在物 出垂直於追蹤線圈3隹邊界5:置於略低於下側面B ’超 在此情形，在：:；；ί:ΓΛ水平側面_。 經由聚焦線®3f<#⑽力矩之追縱線聊上， ί並：2 f矩抵消經由在聚焦方向F之推州之力 矩，亚足夠減少物鏡2在追蹤方向了之傾斜。

其次，參照圖6解釋在追蹤方向了移動一任意距離+ χ +χ在：與物鏡之傾斜角間之關係、。在任意追蹤位置 Θ 置為在自身重量位置之負方向（在聚焦方向F :::動）之情形，物鏡傾斜角為負，而聚焦位置為在自 ^重里位置之正方向（在聚焦方向F向上移動）之情形，物 鏡傾斜角為正（線卜⑴。在任意追縱位 係（線IV-III)。 關 根據本發明之此實施例，可如II，及丨丨丨，所示，使用一 由追蹤線圈3t之水平側面B所產生，具有與經由聚焦線圈 3 f在聚焦方向F之推力D f之力矩大約相等量及相反方向之 力矩’足夠減少物鏡2在追縱方向T之傾斜。減少慧形像差 之產生並改進讀取信號跳動。 在上述構形，線圈單元3係以一聚焦線圈3 f及二追蹤線 圈3 t構成，並且在磁鐵5之北極與南極間之邊界5 b置於略 咼於上侧面D或略低於下側面B ’超出垂直於追縱線圈3七之 聚焦方向F之水平側面B及D。如圖7中所示，可能有另一種

575876

第14頁 575876 五、發明說明（11) 線二；i: i:=f32f及追蹤線圈捲軸…之-聚 作為線圈底座31。兔隹圈f3t所形成叫吏用印刷電路板¥ 中心。四追縱線圈圈捲轴32'設置在線圈底座31之 繞聚焦線圈捲軸32f 垂直及水平方向對稱設置圍 線圈捲軸32t之厚声：在其外面。聚焦線圈捲軸32f及追蹤 經由此構形，在：隹予方？成為匹配在厚度方向之… 蹤方向T所產生驅動力：:斤^ ::力”心，及在追 之中心與活動部份 U < 11 σ 。每一此等驅動力 焦線圈捲軸32f及追？線力::=，因為如較早所述，聚 線圈底座31。 、、、圈捲軸32t没置在構成活動部份之

在聚焦線圈3 3 f之p ^ A 聚焦線圈捲軸32f4; = m圈…者相同之情形’

在聚隹線圈m f夕；· 又 '為人t 5彳< 線圈捲軸3 21者相同。 隹承…線圈33f之厚度為與追蹤 百祁丨J 線圈底座31在高度上必須 、里1者不相同之情形， 之中心可在聚隹& 、/、 ，、，因而在線圈厚度方向 〒隹魂:二'、、、: 與追縱線圈33t之間匹配。 水'、、、線圈33f及追蹤線圈33t之末端 圈底座31之印刷電路板3p，（未示）。 $接至一構成線 線圈單元？利用線圈底座31插 定至透鏡座i。在線圈底座31之 f =凹口h予以固 [形凹槽3 v，經由焊料3 h固定四^電彈在==向成四 在透鏡座1之凹口 la之表面未形成供的贫 之女而。 ，膜時，-供絕緣加強部之絕緣保護^加^之絕緣保 線圈底座31之區段，將行予以附著至，寻朕(未不)形成在 者至凹口1a，以確保線圈 第15頁 575876

575876

575876 五、發明說明（14) 之中心大約與線圈單元3之中心重合。 在圖1 2中，一流動通過與追蹤線圈3 3 t之聚焦方向F平行 之垂直側面A，C之電流，在追蹤方向τ之相同方向產生驅 動力。 在圖1 2中，聚焦線圈3 3 f之所有側面設置在一磁隙3 g， 並且磁力線之方向在磁隙5 g之聚焦方向ρ逆反。因此，在 垂直於聚焦線圈3 3 f之聚焦方向F之水平側面b及d，僅產生 在聚焦方向F之相同方向之驅動力。這防止聚焦線圈3 3 f之 一側面，相反方向產生驅動力及力矩，被一來自磁路之泄 漏磁通里所影響。因此活動部份之重力中心與實際驅動力 妳線，單元3予以設置在磁隙5g。導電彈性構件4之另一 =ί ^ ί過—金屬線基底8固定至一基底板9。這經 輛Γ，金屈If/'地支承透鏡座1抵靠以磁鐵5，軛基底6， 在此種播土底8，及基底板9所構成之固定部份。 焦方向^及/1，使聚焦線圈33ί及追縱線圈33t通電，在 記錄媒質之方向T便產生驅動力，因此允許物鏡2根相 移動。 、面撓曲及離中心，在聚焦方向F及追蹤方食 上述構形传

32f及追蹤線用正方形或矩形扁平板，作為聚焦線圈捲 繞聚焦線圈捲軸32t，並且將二或四追蹤線圈捲軸321 優點，其中=“及在其外面設置。另-構形提供相同 32f ,並且二（^ —正方形圓柱形扁平板作為聚焦線圈捲 °月見圖13，14)或四（請見圖15)追蹤線圈

第18頁 575876

五、發明說明（15) 轴3 2 ΐ予以設置在其中空區段。 在圖1 3中，在磁鐵5之北極與南極間之邊界置為略高於 上側面D，超出垂直於追蹤線圈331之聚焦方向ρ之水平側 面β及D °關於聚焦線圈33ί，僅垂直於聚焦方向ρ之水平侧 面b ’ d之中心設置在磁隙5 g内。關於二追蹤線圈3 t，僅 一線圈之右半及另一線圈之左半設置在磁隙5g。 在圖1 4中，不同於在圖丨3中，在磁鐵5之北極與南極間 之邊界置為略低於下側面B，超出垂直於追蹤線圈3 t之产 焦方向F之水平側面b及!）。 在圖1 5中，不同於在圖丨3及丨4中，線圈單元3係以 蹤線圈3t在追蹤方向τ設置在一聚焦線圈3f之中空區 及設置在聚焦方向F，α及在磁鐵5之北極又’ ?設置在由下側面Β及上側㈣所形成寬度 ， 聚焦方Μ之水平側面_所構成 雖然上述構形使用正方形，矩形， η線圈捲軸32f及追縱線圈捲軸32 板 置在四角代替扁平板。 」竹棒體設 (實施例3 ) 圖1 6為本發明第三實施例 一透鏡座，la表示凹口，lb 回〇在圖16中，1表示 一物鏡，及3表示一線圈單元表不一物鏡附著區段，2表示 透鏡座1係以一種含輕金屬、， 彈性模數之碳纖維之樹脂來〇鎂合金，或具有高撓性 1本身具有較高撓性彈性模數' 用此種材料使透鏡座 y/^/〇

575876

五、發明說明（17) 如圖18中所示，在線圈單元3在磁隙5g設置在經由一懸 臂由導電彈性構件可移動式地支承之活動部份之位置，亦 即在聚焦方向F之自身重量狀態時，磁鐵5之寬度w予以決 疋為致使僅超出與追蹤線圈3 31之聚焦方向F平行之垂直側 面之右及左之内垂直側面A設置在磁隙5 g (—在彼此面對之 磁鐵5之寬度W内之間隙）。磁鐵5之高度H予以決定為致使 超出垂直於追蹤線圈3 t之聚焦方向F之水平侧面之最上及 ，下水平側面B，D設置在磁隙5g( 一在彼此面對之磁鐵5之 问度Η内之間隙）。如圖1 8中所示，在磁鐵5之北極與南極 間之邊界5b落在超出垂直於追蹤線圈3t之聚焦方向F之水 平側面B及D之上側面b與下側面!）所形成之寬度内。磁 中心大約與線圈單元3之中心重合。 圖1 8中，一况勒逋過平行π延蹤 :力垂直側面A，c之電流，在追縱方向了之相同方向1 = 力力。一流動通過垂直於聚焦線圈3丨之聚焦方向Ft 之雷流，在聚隹古合P β t I ^ ^一 A"、w π、外国όΓ之聚焦方向F 側：b圈及？之電流’在聚焦方向F之相同方向產生驅動力 上早元3予以設置在磁隙5§。導電彈性構件 力— 、，工由烊料通過一金屬線基底8固定至—其 ％ 懸臂可移動式地支承透鏡座i抵靠以磁^ 其，經由一 7，金屬線基底8，A基底板9所構成之基底6，輕 J此種構形’使聚焦線圈”及追蹤 刀 方向F及追蹤方向τ便產生驅動力，因 ^ ^電’在聚焦 錄媒質之表面撓曲及離中心，在聚 允4物鏡2根據記 動。 焦方向F及追蹤方向", 575876 五、發明說明（18) 在上述構形，在透鏡座i形成凹口1&，並將 入及膠合至凹口 la，並且固定至透鏡座 鸦娣圈早兀插 由插入塑模附著至透鏡座31提供：=1 優二 开^在、線圈單元3之區段形成一供絕緣加強部之”在此情 缚膜，經由插入模製予以附著至透鏡心 ：；” W之絕緣。插入塑模在組 =、'泉圈早 無需黏合劑。 直（旱確度，並且 :二：：據第三實施例，“一種含輕金屬諸如鎂， 與此Λν 农在凹 a之表面或在線圈單元3之 二=^成一供絕緣加強部之絕緣保護薄膜（未示），予以w 者至凹口1a，以確保線圈單元3之絕緣。 予以附 及線在==形f;，線圈 F極化之磁鐵之磁路之：隙，並且二及追-縱5線：二向 = =與南極間之邊界“落在由追縱線圈 在水焦方向所形成之寬度内，在線圈單元在 =焦方向F移動時’水平側面係垂直於聚焦方向。圈在早此兀種在 而 才^印磁鐵形成在聚焦方向極化之二極，因而磁路具有一 m:形狀。在追蹤線圈產生力矩，具有與聚焦線圈在 κ…σ之推力所導致之力矩者大約相等量，並在與後一 力矩之相反方向。這足夠減少物鏡在追蹤方向之傾斜。 因此’根據本發明，不必要提供具有複雜形狀之磁路 _s 第22頁 575876 五、發明說明（〗9) 且，減少慧形像差之產生，祐并、隹难 根據本發明，將—聚隹嗖 =取尨號跳動。 座，而㈣圈厚度方向心匹：，線圈？至-線圈底 在—含一磁鐵在二極聚焦方向？ 2^聚焦線圈設置 ，-在聚焦方向所產生驅動力之令心之，路之磁隙。因此 生驅動力之尹心及活動部份之重力中在追蹤方向所產 相同方向僅產生驅動力。因此，：】合。$焦線圈在 重力中心與實際驅動力之中心重人。本务明，活動部份之 而且，根據本發明，一 二 合^或具有高撓性彈性模；之碳；： =，;金屬㈣ -線圈單元予以附著在一形成在追：方：樹月曰所形成，及 階共振頻率較高繞性彈性模數，並使高 。因此，根^發：此；設置在物鏡下面之鏡 光學拾波器之—種低輪扉設計：連光碟裂置，並提供整個 元件編號 1 透鏡座 la 凹口 lb 物鏡附著區段 2 物鏡 3 線圈單元 3h 焊料 3f 聚焦線圈 3p， 印刷電路板 _ 第23頁 575876 五、發明說明（20) 3t 3 v 4 5 5b 5g 6 7 8 9 31 32f 32t 33f 33t 34f ， 34t 35f ， 35t 201a ， 201b 202 203 204 205 206a 至206d 208a ， 208b 追$從線圈 V -形凹槽 導電彈性構件 磁鐵 邊界 磁隙 輛基底 輛 金屬線基底 基底板 線圈底座 聚焦線圈捲軸 追蹤線圈捲軸 聚焦線圈 追蹤線圈 引線 端子 磁鐵 基底 物鏡 透鏡座 追蹤驅動線圈 支承構件 磁鐵固持片

81P 第24頁 575876 五、發明說明（21) 209a 至209d 蓋面輛 210 聚焦驅動線圈 309 永久磁鐵，軛 310 聚焦線圈 31 1 追邱^線圈 312 線軸 411 透鏡座 411b 物鏡 411c 物鏡附著區段 A 垂直側面 B，D 水平侧面 b，d 水平侧面 C 垂直側面

第25頁 575876 圖式簡單說明 圖1為本發明第一實施例之分解透視圖； 圖2為一根據本發明第一實施例之磁路之側視圖； 圖3為配置平面圖，示根據本發明之第一實施例，在聚 焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線圈之間的 關係； 圖4A為配置平面圖，示根據本發明之第一實施例，當在 正（+ )追蹤方向（在圖中向右）移動時，在自身重量位置之 磁鐵、聚焦線圈與追蹤線圈之間之關係；

圖4B為配置平面圖，示當在正（+ )追蹤方向（在圖中向右 )移動時，在自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線圈 之間之關係； 圖5為配置平面圖，示根據本發明之第一實施例，在聚 焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線圈之間的 關係； 圖6為根據本發明之第一實施例，在一在既定追蹤線圈 位置之聚焦位置與一物鏡之傾斜間之關係之解釋圖； 圖7為配置平面圖，示根據本發明第一實施例之另一實 例，在聚焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線 圈之間的關係；

圖8為本發明之第二實施例之分解透視圖； 圖9為分解透視圖，示本發明之第二實施例之另一實例； 圖1 0為分解透視圖，示根據本發明之第二實施例，如何 使一線圈底座及一透鏡座固定； 圖11為一根據本發明之第二實施例之磁路之側視圖；

第26頁 575876 圖式簡單說明 圖1 2為配置平面圖，示根據本發明之第二實施例，在聚 焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線圈之間的 關係； 圖1 3為配置平面圖，示根據本發明第二實施例之另一實 例，在聚焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線 圈之間的關係； 圖1 4為配置平面圖，示根據本發明第二實施例之另一實 例，在聚焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線 圈之間的關係；

圖1 5為配置平面圖，示根據本發明第二實施例之另一實 例，在聚焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線 圈之間的關係； 圖1 6為本發明之第三實施例之分解透視圖； 圖1 7為一根據本發明之第三實施例之磁路之側視圖； 圖1 8為配置平面圖，示根據本發明之第三實施例，在聚 焦方向自身重量位置之磁鐵、聚焦線圈與追蹤線圈之間的 關係， 圖1 9為透視圖，示相關技藝之一實例之一種構形； 圖2 Ο A為根據相關技藝第二實施例之磁路之平面圖；

圖20B示貫穿聚焦驅動線圈之磁通量密度之分佈； 圖2 1為相關技藝之第三實施例之透視圖； 圖2 2為相關技藝之另一第三實施例之透視圖；以及 圖2 3示相關技藝之第四實施例。

第27頁

Claims (1)

1. 575876 六、申請專利範圍 1. 一種光學拾波器之物鏡驅動裝置，其包含： 一聚焦線圈； 一追蹤線圈；以及 一磁路， 其中，在聚焦線圈，追蹤線圈及磁路之線圈厚度方向之 中心予以設置在相同平面。 2. 如申請專利範圍第1項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置，其中，聚焦線圈及追蹤線圈在一線圈底座凸起，並捲 繞於一聚焦線圈捲軸及一追蹤線圈捲軸。

   3. 如申請專利範圍第1項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置，其中，磁路包括一在二極在聚焦方向極化之磁鐵，並 且聚焦線圈予以設置在磁路之磁隙。 4. 如申請專利範圍第3項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置’其中’聚焦線圈及追縱線圈在一線圈底座凸起’並捲 繞於一聚焦線圈捲軸及一追蹤線圈捲軸，其中心在厚度方 向匹酉己。 5. 如申請專利範圍第4項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置，其中，線圈底座係以一印刷電路板形成。

   6. 如申請專利範圍第4項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置， 其中，線圈底座係以一種耐熱樹脂板並在頂部形成， 其中，在線圈底座之兩端之底部提供凸起之端子，供捲 繞聚焦線圈及追蹤線圈之引線之末端。 7. 如申請專利範圍第4項之光學拾波器之物鏡驅動裝

   第28頁 575876 六、申請專利範圍 置， 其中，聚焦線圈捲軸予以設置在線圈底座之中心， 其中，四追縱線圈捲軸予以垂直及水平方向對稱設置繞 聚焦線圈捲軸及在其外面。 8. 如申請專利範圍第4項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置， 其中，聚焦線圈捲軸予以設置在線圈底座之中心， 其中，二追蹤線圈捲軸予以垂直及水平方向對稱設置繞 聚焦線圈捲軸及在其外面。 9. 如申請專利範圍第4項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置， 其中，聚焦線圈捲軸予以設置在線圈底座之中心， 其中，四追蹤線圈捲軸予以垂直及水平方向對稱設置在 聚焦線圈捲軸之中空區段。 1 0.如申請專利範圍第4項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置， 其中，聚焦線圈捲軸予以設置在線圈底座之中心， 其中，二追蹤線圈捲軸予以水平方向對稱設置在聚焦線 圈捲軸之中空區段。 1 1. 一種光學拾波器之物鏡驅動裝置，其包含： 一透鏡座，以一種含輕金屬諸如鎭合金，或具有高撓性 彈性模數之碳纖維之樹脂作成；以及 一線圈單元，附著至在追蹤方向形成在透鏡座之二凹

   第29頁 575876 六、申請專利範圍 1 2.如申請專利範圍第1 1項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置， 其中，一絕緣保護薄膜予以形成在凹口之表面。 1 3.如申請專利範圍第1 1項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置，其中，在線圈單元之區段形成一絕緣保護薄膜予以附 著至凹口。 1 4. 一種光學拾波器之物鏡驅動裝置，其包含： 一透鏡座，以一種含輕金屬諸如鎂合金，或具有高撓性 彈性模數之碳纖維之樹脂作成；以及 一線圈單元經由插入塑模附著至透鏡座。 1 5.如申請專利範圍第1 4項之光學拾波器之物鏡驅動裝 置，其中，一絕緣保護薄膜予以形成在將行經由插入塑模 附著至透鏡座之線圈單元之區段。

   第30頁