TW574635B

TW574635B - Use of alkylated polyamines in photoresist developers

Info

Publication number: TW574635B
Application number: TW90100045A
Authority: TW
Inventors: Kevin Rodney Lassila; Kristen Elaine Minnich; Court Carr Richard Van
Original assignee: Air Prod & Chem
Priority date: 2000-01-06
Filing date: 2001-01-02
Publication date: 2004-02-01
Also published as: US6268115B1; JP3433187B2; JP2001194777A; EP1115033A1; KR20010070405A

Description

574635 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（1) 發明領域本發明爲有關於在水性光阻顯影劑及電子淸潔組成物中使用烷基化多胺當作濕潤劑。發明背景半導體製造需要在光阻顯影劑配方中使用高性能界面活性劑及潤濕劑。隨著線路特徵縮小至較小尺寸且光阻基質材料在本質上變得更具脂肪族性（即是具有較低表面能量），水性顯影劑溶液正被加入表面張力降低劑。這些顯影劑的其他需求是它們具有較低的發泡傾向。隨著晶圓尺寸變大，此種現象日益明顯。當使用噴霧-池技術時低泡沬形成是特別重要的，因爲在將溶液塗佈於光阻表面期間帶有微泡沫可能導致缺陷的產生。在過去被用來潤濕光阻的界面活性劑典型地會導致較高的泡沬形成。業界大部分集中注意力於界面活性劑對於光阻性能的影響，例如對比、關鍵尺寸及特徵鮮明度。雖然典型的界面活性劑可以增強底下基質的淸潔能力，泡沬的形成仍然是一個問題。依照 J. R. Sheats 及 B. W. Smith, Marcel Dekker，Inc· 所編輯的 Microlithography，Science and Technology, 1 998, pp551-553，氫氧化四甲銨（TMAH)是用於顯影光阻的水性鹼溶液的化學品選擇。界面活性劑被加入TMAH溶 .液中以降低顯影時間及浮泡並且增進表面潤濕。美國專利5 939 476揭示使用烷基化多胺以在水性組成物中降低平衡及動態表面張力。 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) f 訂---------線· 574635 A7 B7 i、發明說明（) 相對於1998年1月20日提出的美國專利申請案號 09/009099的EP 0 930 346揭示使用N，N，-二烷基亞烷基二 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 胺以在水性組成物中降低平衡及動態表面張力。僅有少數文獻描述顯影劑組成物中的低泡沫界面活性劑。日本專利10-319606揭示可商業上獲得的環氧乙烷 (EO)/環氧丙烷（P〇)塊狀聚合物具有良好潤濕及低泡沬。曰本專利03-062034揭示聚氧伸烷基二甲基聚矽氧烷於顯影劑配方中具有低泡沬而可用爲良好界面活性劑。聚矽氧烷已知在高pH値條件下會重組或分解。雖然有少數文獻揭示於光阻顯影劑組成物中使用胺，它們都無關於表面活性劑的使用。美國專利5252436揭示使用相對高量的胺添加物（3-30重量％)而美國專利揭示使用5-50重量％量的胺添加物。該兩文獻報導似乎都是使用胺來改變顯影劑溶液的整體溶劑性質。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製美國專利4997748揭示以用量爲0.1到10重量。/。的環氮化合物來降低浮泡的形成並且在光阻顯影期間增強影像鮮明度。所揭示的環氮化合物包括環脲1,3-二甲基-2-咪唑啶酮。由於氮化合物不是兩親媒性的，它們不太可能在低濃度降低表面張力，而且它們的用途似乎是基於降低表面張力以外的性質。1，3-二甲基-2-咪唑啶酮是習知非常好的溶劑但是不被知道是表面活性物質。 . 美國專利4828965揭示較低烷醇胺類（1-4碳）與濃度爲 0.40-5重量°/。的醇結合使用。美國專利4741 989揭示使用少量的胺以改質於光阻中本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 574635 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（") 二疊氮光活性化合物的反應化學，但是僅使用少量鏈胺而沒有提到表面活性胺。美國專利4628023揭示水溶性胺當作顯影劑溶液的鹼來源。因爲較佳的pH範圍是高於12.5，必須使用較高濃度的有機胺。日本專利61-179651揭示表面張力爲25及50達因/公分之間的含胺顯影劑溶液之使用。這些表面張力之達成是使用較大量的非表面活性胺（3-5重量％)配合使用氫氧化四甲錢當作驗。發明要旨本發明提供水性光阻顯影或電子淸潔組成物，其含有一有效量具有下列結構I和II的烷基化多胺化合物而具有降低的平衡及動態表面張力 R—HN—G—NH —R’

I (CH2) (CH2)n / \ / \ R-HN NH NH-R，

II 其中R和R’個別地是C5到C8烷基，G是可能含有C1-C4烷基取代基的C2-C6線性或環性伸烷基，m是2-6，且η是2或3。，於本發明中，”以水爲基礎的（water-based)”、”水性的 (aqueous)”或’’水性介質（aqueous medium)”代表含有至少大約90重量％(較佳爲至少大約95重量％)水的溶劑或液態 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 574635 A7 五、發明說明（） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 分散媒質。明顯地，其包括完全由水組成的媒質且其爲最佳。且供用於本發明之目的，術語”光阻顯影，，及，，電子淸潔，是可互換的。本發明亦提供一種在曝露於照射之後的5¾阻的顯影方法，其包含將一水性顯影劑組成物施用在光阻表面，該水性顯影劑組成物含有有效量的上述結構的烷基化多胺化合物的以降低組成物的動態表面張力。在水性光阻顯影或電子淸潔組成物中使用這些烷基化多胺化合物有一些明顯的優點，這些優點包括： *控制水性組成物的發泡特性的能力；及 *能夠調配供用於半導體製造業具有良好濕潤及極低泡沫的低表面張力水性電子淸潔及處理溶液（包括光阻顯影劑溶液）。將這些物質使用在光阻顯影劑配方中是特別重要的，因爲它們能夠提供降低表面張力及降低泡沬形成的優異性能的所有好處，同時維持良好的光阻顯影應用之良好對比。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製發明之詳細描述本發明爲有關於使用具有下列化學式丨和Μ的化合物 r—ΗΝ—G—NH —R’

I 其中R和R’個別地是C5到C8烷基，G是可能含有C1-C4烷基取代基的C2-C6線性或環性伸烷基，以及本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 574635 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 五、發明說明（）广丄\ (CH2)n R-HN NH ^NH-R’

II 其中r和R’個別地是C5到C8烷基，m是2-6，且n是2或3，其中m較佳爲2或3 ;以降低水性光阻顯影劑配方的平衡及動態表面張力並且降低其發泡性。理想的是該二烷基化多胺的水性溶液展現在23°C的濃度€ 5重量％水中的動態表面張力低於45達因/公分以及依照最大泡沬壓力方法爲1泡沬/每秒。以最大泡沫壓力法測量表面張力已經記載於 Langmuir 1986, 2, 428-432，該文獻倂入本文以供參考。適用於本發明的二烷基化多胺含有N，Ν’-二烷基亞烷基二胺及Ν，Ν’’-二烷基二亞烷基三胺，其是分別教導於歐洲專利0 930 346及美國專利5 939 476的烷基化多胺。這些文獻亦教導如何製造這些二烷基多胺。一般而言，於本發明的應用中，理想的所使用的烷基化多胺於水中具有至少〇.〇〇1重量％(較佳爲0.001到1重量 %，最佳爲0.005到0.5重量％)的溶解度。烷基可以是相同或相異。它們可能是線性的或分支的，且連接至氮的點可以是分子內或終端碳。適當的烷基是衍生自C5到C8醛或酮的還原性烷基化反應，較佳爲衍生自甲基異丁基酮或甲基異戊基酮的還原性烷基化反應。適 •當的C5到C8醛或酮的特定例子包括1-戊醛，2-戊酮，3-戊酮，甲基異丙基酮，1-己醛，2-己酮，3-己酮，甲基特丁基酮，乙基異丙基酮，1-庚醛，2-甲基己醛，2-庚酮，3- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 574635 A7 B7__ 五、發明說明（6 ) 庚酮，4-庚酮，1-辛酸，2-辛酮，3_辛酮，4-辛酮，2-乙基己醛，等等。選擇的特定羰基化合物以及附著於多胺衍生物的數目將取決於特定應用之所需界面活性劑性質。水性光阻顯影劑/電子淸潔組成物被加入用以降低平衡及/或動態表面張力的有效量二烷基化多胺化合物。此有效量可能是水性組成物的0.001到1克/100毫升，較佳爲 0.005到0.5克/100毫升。自然地，最有效的量將取決於特定的應用以及二烷基化多胺的溶解度。使用二烷基化多胺當作界面活性劑特別適用於使用在半導體工業的光阻的顯影劑。此類顯影劑及其使用已經爲業界所熟知，而不需要在此細述。無法事先獲知的本發明之改進涉及在這些顯影劑配方中使用於烷基中含有5到8 個碳原子的某些二烷基化多胺。在下列依照本發明含有二烷基化多胺的水性光阻顯影劑或電子淸潔組成物中，這些組成物的其他可選擇的成分是熟於此項技藝之人士所習知的成分。適於添加二烷基化多胺的典型水性光阻顯影劑或電子淸潔組成物含有帶有下列成分的水性媒質： --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製水性光阻顯影劑組成物〇.1到3重量％氫氧化四甲銨〇到4重量％酚系化合物 10到 10,000 ppm 烷基化多胺本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 574635 A7 B7 五經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 '發明說明（簡而言之，積體電路的製造程序包含將一層光阻組成物薄膜塗覆在一例如矽晶圓的適當基質上，然後該光阻薄膜曝露於設計圖案的放射線中。視該光阻是正向或負向工作，該輻射照射增加或減少其於後續應用顯影劑溶液中的溶解度。接著，在一正工作光阻中受到遮蔽免於輻射的區域在顯影之後留存下來，而曝露於輻射中的區域則溶解掉。在一負工作光阻中相反的程序產生。本發明的界面活性劑適用於用在任一類型光阻的顯影劑中。在決定所形成電路的品質上顯影劑的本質是非常重要的，而且顯影的精確控制是必要的。爲了使顯影劑達到較好的表面濕潤，業界人士經常將界面活性劑加入配方中以降低溶液的表面張力。然而此種添加可能導致顯影劑起泡，因而導致電路產生缺陷。業界已經注意到此起泡的問題，而且已經採取相當的努力以圖獲得解決方案。較佳使用二烷基化多胺於其中的水性顯影劑或電子淸潔溶液是氫氧化四甲銨（TMAH)的水性溶液。這些顯影劑是業界所習知的。商業的顯影劑通常含有50到1000 ppm重量份的低量界面活性劑。界面活性劑含量不應該超過達成所需要的溶液表面張力的量。舉例來說，大約40到45達因/ 公分的表面張力對於以酚醛爲基礎的光阻樹脂將是適當的。經常倂入有脂族的先進樹脂可能需要具有較低表面張 >的顯影劑以增強潤濕。本發明的界面活性劑的優點之一是比其他潤濕劑所需用量還低的用量即可達成適當的表面張力。此本身是向解決微電路製造中的發泡問題邁進一 -10 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -·1111111 ^ · I I--I---. 574635 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明說明（8) 步。有關於使用二烷基化多胺於水性組成物中當作界面活性劑的美國專利5 939 476及於1 998年1月20日提出的美國專利申請案號09/009099倂入本案以供參考。實施例1 本實施例說明具有下列結構的二伸乙三胺與甲基異丁基酮（DETA/MIBK2)的還原性烷基化產物的製備·· A7 B7

二伸乙三胺（1.5莫耳），甲基異丁基酮（3.2莫耳）與10% Pd/C(總進料的2.4重量％)被加入一公升裝的不鏽鋼壓力鍋中，該反應器受到密封以及氮氣洗滌。該反應器的內容物在7巴（100卩以9)的叱中被加熱到90°C。壓力被增加到55 巴（800 psig)並且在反應期間（9小時）藉由自一加崙裝的壓力筒經由一圓頂調節器導入氫氣而維持在該壓力。反應器的內容物被以GC/FID分析而且發現含有92.4面積％的二烷基化二伸乙三胺以及2.7%的三烷基化二伸乙三胺。該二烷基化產物2,4,12,14-四甲基-5,8,11-三氯雜十五烷在145-146°C6.6毫巴（5托）中受到蒸餾純化。實施例2 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線 i^w. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 574635 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 9 五、發明說明（）本實施例說明具有下列結構的二伸乙三胺與甲基異戊基酮（DETA/MIAK2)的還原性烷基化產物的製備：

二伸乙三胺（0.5莫耳），甲基異丁基酮（2·0莫耳）與5% Pd/C(總進料的4重量％)被加入一公升裝的不鏽鋼壓力鍋中，而且如實施例1般反應5小時。反應器的內容物被以 GC/FID分析而且發現含有92.4面積。/。的二烷基化二伸乙三胺。該產物2,5,13,16-四甲基·6,9,12-三氯雜十七烷在 1 55-157°C2.7毫巴（2托）中受到蒸餾純化。實施例3 本實施例說明具有下列結構的二-(3-胺丙基）胺與甲基異丁基酮（DAPA/MIBK2)的還原性烷基化產物的製備：

二-(3-胺丙基）胺（0.8莫耳），甲基異丁基酮（1.5莫耳）與10% Pd/C(總進料的4重量。/。）被加入一公升裝的不鏽鋼 •壓力鍋中，而且如實施例1般反應6小時。反應器的內容物被以GC/FI D分析而且發現含有95.8面積％的二烷基化二-(3-胺丙基）胺。該產物2,4,14,16-四甲基-5,9,13-三氯雜十 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 574635 A7 B7 10 五、發明說明（）七烷在125-1 30°c 0.53毫巴（0.4托）中受到蒸餾純化。實施例4 本實施例說明二伸乙三胺與甲基異丁基酮 (DETA/MIBK2)的還原性烷基化產物的製備。 1.2- 伸乙二胺（1.6莫耳），甲基異丁基酮（3.7莫耳）與5% Pd/C (總進料的2重量％)被加入一公升裝的不鏽鋼壓力鍋中，該反應器受到密封以及氮氣洗滌。該反應器的內容物在7巴（100 psig)的H2中被加熱到9CTC。壓力被增加到55 巴（800 psig)並且在反應期間（31小時）藉由自一加崙裝的壓力筒經由一圓頂調節器導入氫氣而維持在該壓力。反應器的內容物被以GC/FID分析而且發現含有87.6面積％的 Ν，Ν’-二烷基化伸乙二胺。該產物在112-114°C 6.6毫巴（5托）中受到蒸餾純化。實施例5 本實施例說明1,3-丙烷二胺與甲基異丁基酮 (PDA/MIBK)的還原性烷基化產物的製備。 1.3- 丙烷二胺（1.0莫耳），甲基異丁基酮（2_2莫耳）與 1 0% Pd/C(總進料的4重量％)被加入一公升裝的不鏽鋼壓力鍋中，而且如實施例1般反應5小時。反應器的內容物被 .以GC/FID分析而且發現含有92.6面積。/。的Ν,Ν’-二烷基化 1,3-丙烷二胺。該產物在113-115°C2.7毫巴（2托）中受到蒸餾純化。 -13 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ------ 訂--------線秦經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5^4635 A7 B7 ^ 11 i、發明說明（）實施例6 本實施例說明一種丁烷-，環己烷-及己烷二胺混合物的還原性烷基化產物的製備。一種含有1，4-丁烷二胺、1，2-環己烷二胺及1，6-己烷二胺的1,6-己烷二胺製程副產物物流（0.9莫耳），甲基異丁基酮（2.0莫耳）與10% Pd/C(總進料的4重量％)被加入一公升裝的不鏽鋼壓力鍋中，而且如實施例1般反應4小時。反應器的內容物被以GC/FID分析而且發現含有11.3面積。/。的單烷基化1,2-環己烷二胺以及77.4%的二烷基化物質。該單烷基化產物在126-128艽2.7毫巴（2托）中受到蒸餾純化。該二烷基化產物在1 30-137°C 1.3毫巴（1托）中受到蒸餾純化，以提供含有（GC卩⑴面積％分析）1,4-丁烷二胺（11.5%)、1,2-環己烷二胺（46.6%)及1,6-己烷二胺（38.7%)的還原性烷基化產物。這些物質的結構如下：

實施例7 (a) 遵守製造者的指示一種以酚醛型甲酚/甲醛樹脂爲基礎的商業光阻及一種疊氮萘醌（DNQ)光敏劑 (SPR510A，Shipley)被塗覆在一四英吋矽晶圓上至厚度大約1微米。接著藉由將該晶圓置於一開口之下並經由一可變 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂-------！線* 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 574635 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 、發明說明（12) 透光率濾光器（來自 Op to-Line Associates, Wilmington MA)該光阻曝露於不同強度之集中在365nm(水銀i-線）的 UV照射，該濾光器由在石英板上的圓形面積組成，該面積分成不同透光程度的楔。所得到的經曝露的晶圓在0.262 Μ 氫氧化四甲銨（ΤΜΑΗ)液池中受到顯影（60秒），該氫氧化四甲銨溶液含有足量的EDA/MIBK2(0.0225重量％，225 ppm) 以將顯影劑的表面張力降低至42達因/公分。接著該晶圓的不同部分使用Filmetrics F20薄膜測量系統（San Diego, CA)而受到檢驗其薄膜厚度，所得到的結果與曝光及顯影之前的薄膜厚度相加比較。正常化的薄膜厚度是一個無因次的比値，而且是將曝光前的薄膜厚度除以顯影後的薄膜厚度而得。其結果顯示於表1的實施例7(a)。這些資料顯示就高度曝露的光阻對中度曝露的光阻之溶解而言，該顯影劑溶液具有優異的選擇性。 (b)另一種商業光阻（OCG 825 20 cS，Olin Corporation)被用來在四英吋矽晶圓上塗覆厚度大約1微米的薄膜。此光阻被設計成大大地更可溶於顯影劑溶液中而且配合0.131M TMAH使用。接著藉由將該晶圓置於一開口之下並操作一快門該光阻的不同區域曝露於不同強度之集中在365nm(水銀i-線）的UV照射。表1的實施例7(b)顯示該經曝露光阻以含有〇.〇175重量％(175 ppm) EDA/MIBK2 .的0.131 Μ ΤΜΑΗ使用60秒顯影時間的溶解度。再次地，即使以此高度敏感的光阻配方，資料仍顯示傑出的選擇 -15- _本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱) --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 574635 五經濟部智慧財產局員工消費合作社印製發明說明（ _實施例7(a) EDA/MIBK2 實施例7(b) EDA/MIBK2 劑量正常化的薄膜劑量正常化的薄膜一(m J/cm2) 厚度 (m J/cm2) 厚度 _ 2.67 1.00 8.9 0.98 一 2.82 1.00 10.6 0.98 一 3.27 1.00 12.4 0.97 一 10.02 1.00 15.9 0.93 _ 11.95 1.01 19.5 0.87 _ 17.52 1.00 24.8 0.71 25.47 0.98 31.9 0.50 _ 36.38 0.92 40.7 0.39 一 53.09 0.35 49.6 0.26 一 66.60 0.21 63.7 0.07 92.73 0.06 79.7 0 118.27 0 100.9 0 ^ 153.32 0 197.34 0 222.51 0 實施例8 • 使用EDA/MIBK2以及DETA/MIBK2當作界面活性劑製備TMAH顯影劑溶液，以及三種含有界面活性劑的商業顯影劑溶液被用來進行泡沫測試。使用一泡沫產生裝’置來收 -16 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------線* 574635 A7 ___B7__ 14 五、發明說明（）集資料，藉由該裝置氮氣通過一玻璃料而且以泡泡以50 mL/分鐘通過100 mL的溶液。除了商業顯影劑溶液以其購得的狀態使用之外，所有於水中含有2·4重量％TMAH的溶液皆以足量界面活性劑將表面張力降低至大約43達因/公分。所得的結果列於表2。 --------------------訂---------線· (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 574635 A7 時間 EDA/MIBK2 DETA/MIBK2 OCG 934 MF-702b MF-319b (分鐘） 3:2a 0 0 0 0 0 0 1 7.8 13.6 15.6 39.5 51.1 2 7.8 12.4 17.2 72.6 91.4 3 8.0 12.9 24.2 107.4 135.3 4 8.0 13.6 22.9 156.4 176.8 5 8.1 14.2 22.3 172.8 237.8 6 8.3 14.6 22.0 236.2 275.1 7 8.3 15.2 25.8 287.0 321.3 8 8.5 15.4 25.8 307.6 372.6 9 8.6 15.6 25.5 326.9 416.7 10 8.6 15.8 26.2 301.3 460.6 11 8.5 15.6 26.5 340.2 502.0 12 8.5 15.8 26.9 404.8 544.9 13 8.5 15.8 26.9 438.6 594.7 1 8.6 15.8 26.9 488.6 647.5 4 15 8.7 16.2 27.3 514.9 681.1 15 五、發明說明（）表2 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 a來自Olin(現在Arch Chemical)的商業顯影劑溶液七由Shipley以Microposist®商標行銷的商業顯影劑上述表2中的資料顯示含有EDA/MIBK2以及 -18 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 574635 A7 ___B7_____ 16 五、發明說明（） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) D ETA/MIB K2當作界面活性劑的TM A Η顯影劑溶液比含有其他類型界面活性劑的商業顯影劑溶液減少發泡許多。令人訝異的是在烷基中含有C5-C8烷基的烷基化多胺提高了這些材料在ΤΜΑΗ顯影劑溶液中降低表面張力以及發泡傾向的能力，同時維持供用於光阻顯影劑應用的良好對比。這些目標被達成同時降低達到所要表面張力降低所需的烷基化多胺用量。實施例9 表3顯示使用Ross-Miles技術測量烷基化多胺潤濕劑於 0.262NTMAH溶液中的低發泡性質之額外資料。表3 多胺濃度（PPm) 最初R-M發泡（t到〇) EDA/MIBK2 175 1·◦公分（13 s) DETA/MIBK2 400 2.0公分（18 s) 經比較，一帶有長線性側鏈的衍生物的N-十二基二伸乙三胺（0£丁八/00八1)在僅有40口口阳的濃度顯示8.3公分的經濟部智慧財產局員工消費合作社印製最初泡沬高度，該値維持幾乎完全穩定五分鐘，在此期間泡沬仍然在7.5公分的高度。 . 總之，在水性光阻顯影劑的性能上某一界面活性劑在平衡及動態條件下降低表面張力的能力是非常重要的。低的動態表面張力導致在動態條件應用中增強的潤濕及擴 -19 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐） " 574635 A7 B7 五、發明說明（1 ) 散，導致更有效率的使用組成物及較少缺陷。在光阻顯影劑/電子淸潔組成物中泡沫控制是特別重要的特質。本發明提供這些特色同時在光阻顯影應用中維持良好對比。工業應用聲明本發明提供適用於光阻顯影劑/電子淸潔組成物的組成物。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -20 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims

574635 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1·-種含有界面活性劑的水性光阻顯影劑組成物，其改進在於含有一具有下列化學式結構丨或丨丨的二烷基多胺化合物當作界面活性劑 r_HN—G—NH—R* I (CH2) (CH2)n / \ / \ R-HN NH 'NH-R， I! 其中R和R’個別地是C5到C8烷基，G是可含有C1-C4烷基取代基的C2-C6線性或環性伸烷基，m是2-6，且η是2或3。 2. 如申請專利範圍第1項的顯影劑組成物，其中該二烷基多胺的水性溶液展現在23°C的濃度^ 5重量％水中的動態表面張力低於45達因/公分以及依照最大泡沬壓力方法的1泡沫/每秒。 3. 如申請專利範圍第1項的顯影劑組成物，其中該多胺具有I的結構。 4. 如申請專利範圍第1項的顯影劑組成物，其中該多胺具有II的結構。 5. 如申請專利範圍第3項的顯影劑組成物，其中G是伸乙基或伸丙基。 6. 如申請專利範圍第4項的顯影劑組成物，其中m是2 或3。 7. 如申請專利範圍第2項的顯影劑組成物，其中該烷基化多胺是二伸乙三胺、二-(3-胺丙基）胺、乙烯二胺、丙院 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） L---^--------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 8 8 8 8 ABCD 574635 >、申請專利範圍二胺、丁烷二胺、環己烷二胺或己烷二胺與甲基異丁基酮或甲基異戊基酮的還原性烷基化產物。 8·如申請專利範圍第1項的顯影劑組成物，其含有氫氧化四甲錢。 9. 如申請專利範圍第5項的顯影劑組成物，其含有氫氧化四甲錢。 10. 如申請專利範圍第6項的顯影劑組成物，其含有氫氧化四甲銨。 11. 一種被曝露於照射之後的光阻的顯影方法，包含將一含有表面張力降低有效量的界面活性劑的水性顯影劑組成物施用予光阻表面，其改進在於含有一具有下列化學式結構I或II的二烷基化多胺化合物被當作該界面活性劑 R—HN—G—NH — R’ I (CH2) (CH2)n / \ / \ R-HN NH 、卜R， II 其中R和R’個別地是C5到C8烷基，G是可含有C1-C4烷基取代基的C2-C6線性或環性伸烷基，m是2-6，且η是2或3。 12. 如申請專利範圍第11項的方法，其中該多胺具有 I的結構。 13. 如申請專利範圍第11項的方法，其中該多胺具有 II的結構。 14. 如申請專利範圍第12項的方法，其中G是伸乙基 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 574635 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 " ' 或伸丙基。 15.如申請專利範圍第]3項的方法，其中⑺是2或3。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 6·如申請專利範圍第1 2項的方法，其中該烷基化多胺是二伸乙三胺、二-(3-胺丙基）胺、乙烯二胺、丙烷二胺、丁院二胺、環己烷二胺或己烷二胺與甲基異丁基酮或甲基異戊基酮的還原性烷基化產物。 17·如申請專利範圍第11項的方法，其中該顯影劑溶液含有氫氧化四甲錢。 18·如申請專利範圍第14項的方法，其中該顯影劑溶液含有氫氧化四甲銨。 1 9·如申請專利範圍第1 5項的方法，其中該顯影劑溶液含有氫氧化四甲銨。 2〇.如申請專利範圍第1 6項的方法，其中該顯影劑溶液含有氫氧化四甲銨。 21. —種水性電子淸潔組成物，其含有於水中的下歹成分 0_1到3重量％氫氧化四甲銨，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製〇到4重量％酚系化合物；及 10到10,000 ppm二烷基多胺；其中該二烷基多胺化合物具有下列化學式結構I或11 R—Η Ν—G—Ν Η—R ’ -23- I紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 574635 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 (CH2) (CH2)n / \ / V R-HN NH NH-R， II 其中R和R’個別地是C5到C8烷基，G是可含有C1-C4烷基取代基的C2-C6線性或環性伸烷基，m是2-6，且η是2或3。 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 木經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐）