TW554058B - Laminate press plate and the preparation and use of the same - Google Patents

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554058 A7 B7 五、發明説明（1 ) 1·發明之領域 本發明係關於處理層合壓板之方法。更特定言之，本發 明係關於一種將塗覆二硼化鈦之層合壓板拋光之方法。 2·先行技藝之說明 在製造裝飾性層合物時，在控制溫度與壓力下將浸潰樹 脂之紙層對壓板壓製以使樹脂硬化及使層結合在一起。高 光澤壓板給與層合物高光澤表面。紋路表面板給與層合物 紋路表面。這些板之壓製表面極為均勻，即使是微觀不連 續性亦最小。高光澤拋光壓板之品質可藉由觀看其表面上 之反射影像及檢查反射影像之光學差異而決定。 層合物表面上之玻料造成通常用於製造裝飾性層合物之 不銹鋼壓板之微刮痕。特別地，塗覆三聚氰胺樹脂之裝飾 性層合物在約110-155 °C之溫度及約20-136巴而且較佳為約 51-102巴之壓力壓製。加熱至這些溫度及冷卻至室溫造成 壓板與層合物之大幅膨脹及收縮。層合物與壓板之膨脹及 收縮不同，造成層合物之壓製表面上玻料在壓板之移動。 在製造層合物時，壓板亦可能因壓板處理裝置及因壓製裝 置或材料之碎片而刮傷（Laurence之美國專利5,244,275)。 此刮傷破壞壓板之微拋光及負面地影響所製造之生成層 合物。因此，必須維持壓板之表面光滑性以確定製造最高 品質之層合物。 在國際製造協會（NEMA)標準公告LD3號中揭示光澤拋光 層合物具有70-100+之光澤。高光澤紋路拋光層合物揭示為 具有21-40之光澤。在60度角度測量具有光澤94± 1之黑玻璃 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公*) 554058 A7 ____ B7 五、發明説明（2 ) 揭示為NEMA標準32?，曾_田#士上, 丁千乂2·2·，其用於扠正6〇度角光澤測量之光 澤計。 同光澤壓板之任何刮傷給與層合物之高光澤表面可目視 之，面缺陷且降低光澤程度。即使是僅以顯微鏡才能看見 之高光澤壓板之不連續性亦給與高光澤層合物表面可目視 之表面缺陷。 雖然自層合物表面去除玻料可減少壓板刮傷之問題，層 合物之裝飾性表面上之玻料給與耐磨性，其為層合物之商 業上希望特徵。在製造裝飾性層合物時，常以氧化鋁顆粒 作為玻料。氧化鋁之Vickers硬度在”Trib〇l〇gy: Fdcti〇n and wear of Engineering Materials^, I.M. Hutchings, CRC Press, 1992 揭示為1800至2000。可用之粒度範圍為約1〇至約乃微米。約 25-60微米之玻料較佳。在約4〇至6〇微米之粒度範圍得到最 適耐磨性（Lane等人之美國專利3,798,1 1 1)。 具有9微米之最大粒度之氧化鋁揭示為有效給與光澤裝 飾性.層合物耐磨表面。耐磨性定義為光澤層合物在暴露於 滑動物體之磨擦作用時失去光澤之抗性。 使用藉氮化硬化之410不錢鋼板揭示為用於製造高光澤裝 飾性層合物。如所揭示，在壓製1〇〇片具有6微米與15微米 玻料之高光澤層合物後，壓製層合物之光澤仍為良好至非 常良好。暴露於6微米玻料之氮化壓板在234次循環後再擦 光且製造可用於至少103次循環之可接受層合物品質。暴露 於30微米玻料之氣化壓板提供有限之耐久性。其揭示用於 IL化之410不錄鋼壓板具有38-50之Rockwell，’ "C’’級硬度， -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 554058 A7 B7 五、發明説明（3 ) 及氮化表面具有60-70之Rockwell，nCn級硬度。基於"Metals

Handbook，Mechanical Testing’’，第 8 卷，第 9 版，ASM，1985 出版之轉化表，同等Vickers硬度之410不銹鋼為約370-440氮 化410不銹鋼為約500-1000。（Laurence之美國專利5,244,375) 〇 其表面具有35微米平均粒度之氧化鋁（PGA 822覆片，商 業得自Mead公司）已以塗覆氮化鈦之高光澤壓板壓製。壓製 10次後，塗覆氮化鈦之壓板每平方公分具有約15個刮痕。 對照之410不銹鋼壓板每平方公分具有約500個刮痕。氮化 鈦之 Vickers硬度在"Tribology: Friction and wear of Engineering

Materials，’，I.M. Hutchings，CRC Press, 1992揭示為 1200至 2000。 自相同之不銹鋼壓板切割塗覆氮化鈦之對照壓板及壓板 。在放大40X之光源顯微鏡下可見到刮痕。在磁控喷鍍塗 覆系統中將氮化鈦塗覆於410不銹鋼高光澤壓板上。使用磁 控喷鍍塗覆系統塗佈氮化鈦塗料揭示於"Multi-Cathode

Unbalanced Magnetron Sputtering Systems' Sproul，Surface and

Coating Technology，49 (1991)。使用磁控喷鑛塗覆系統清潔被 塗覆表面揭示於 ’’A New Sputter Cleaning System For Metallic

Substrates' Schiller等人，Thin Solid Films，33 (1976)。 此外，以塗覆氮化鈦之壓板壓製之層合物之顏色異於以 對照壓板壓製之層合物之顏色。比較標準小於（Π0·5)ΔΕ之 ASTM D 2244色差視為符合標準之可接受顏色。標準與具有 塗覆氮化鈦之壓板之層合物間之ASTM D 2244色差大於（0.5) △ Ε。塗覆氮化鈦之壓板與由其壓製之層合物具有青銅外觀 。對照壓板與由其壓製之層合物不具有青銅外觀。在比較 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)

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554058 A7 B7 五、發明説明（4 ) 標準時，以對照壓板壓製之層合物具有小於Χ〇·5)ΔΕ之ASTM D 2244色差。 鐵系切割工具已噴鍍塗覆2-6微米之二硼化鈦。噴鍍在加 速至1300-1800伏特作為寬束離子來源之氬或氪離子束中進 行。二硼化鈦標鈀配置為陰極。姜工具加熱至約200°C。噴 鍍在約4-6毫托耳之真空下完成。二硼化鈦具有極高之 Vickers微硬度值，一般為約3600，其不僅遠比其他观化物 高，實質上亦比其他碳化物或氮化物高。亦特別注意二硼 化鈦之高密度，例如，88%之理論密度，30微歐姆公分之 低電阻率，約2,720巴之高強度，及在20-800°C之溫度範圍 為約8·1χ10·6之熱膨脹係數（Moskowitz等人之美國專利 4,820,392)。 喷鍍塗覆之控制條件揭示於Influence of Apparatus Geometry and Deposition Conditions on the Structure and Topography of Thick Sputtered Coatings, Thornton, Journal of Vacuum Science Technology，第 11 卷，第 4 期（1974年 7 / 8 月）， 及 Sputtering，Thornton 等人，Metals Handbook，第 9 版， American Society of Metals，Metals Park，Ohio，44073，第 5 卷， 第 412-416頁（1982)。 仍有壓板、連續帶、及其他壓製表面上之硬塗層之需求 ，其給與層合物具有比較標準小於（0.5”）ΔΕ之ASTM D 2244 色差之顏色。仍有可塗佈於壓製表面而不改變壓製表面上 之拋光外觀之塗層之需求。仍有在用於壓製以大於10微米 而且較佳為大於25微米之氧化鋁顆粒塗覆之層合物時不刮 -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

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傷之壓製表面之需求。仍有 ^ ，仕層合物表面塗覆25-60微米氧 化鋁顆粒時，壓製在用於 ^ ^ r 衣，、有大於 70之 ASTM 2457 60 度角光澤之高光澤層合物時 ^ ^ ^ 卞个引傷之表面之特別需求。亦 有可將壓製表面拋光以使由其 丹灰乂之層合物之光澤最適之 方法之需求。 發明之概要 因此，本發明之目的為提供一 、 』〇扠伢種製備層合物壓板之方法 。此方法藉由首先以選自包括— 、日匕栝一硼化铪、二硼化鉬、二硼 化钽、二硼化鈦、二硼化鎢、二硼化釩、或二硼化錯之二 侧、或其混合物塗覆平坦壓製表面而實行。然後將經 塗覆之平坦壓製表面拋光。 本發明之另一目的為提供依照上述方法製造之層合 板0 本發明之另一個目的為提併以上述方式製造之層合物壓 板製造之裝飾性層合物。 本發明之其他目的與優點由以下之詳細說明結合敘述本 發明之特定具體實施例之附圖而顯而易知。 圖示之簡要說明 圖1為陳述本方法之流程圖。 圖2為依照本發明使用之緩衝器之正視圖。 圖3為TRIZACT®拋光墊之上平面圖。 較佳具體實施例之說明 在此揭示本發明之詳細具體實施例。然而，應注意，揭 示之具體實施例僅為本發明之例示，其可以各種形式具體 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 554058 A7 B7 五、發明説明（6) 化。因此，在此揭示之細節不視為限制，而僅為申請專利 範圍之基礎，及教示熟悉此技藝者如何製造及/或使用本發 明之基礎。 參考圖1 ,揭示將塗覆二硼化物之不銹鋼壓板拋光以製 造層合物壓板之本方法。簡言之，及依照本發明之較佳具 體實施例，藉由首先以選自包括二硼化铪、二硼化鉬、二 硼化钽、二硼化鈦、二硼化鎢、二硼化釩、二硼化錘之二 棚化物、或其混合物塗覆壓板之平坦壓製表面而製備不錄 鋼壓板。然後將經塗覆之平坦壓製表面拋光以去除任何粗 面及使其表面光滑。 以以下之方式塗覆壓板。已發現壓製表面塗覆選自包括 二棚化铪、二蝴化钥、二硼化鈕、二硼化鈦、二硼化鶴、 二硼化飢、二硼化錘之二硼化物、及其混合物而製造之層 合物之顏色、光澤及表面外觀，與壓製表面塗佈塗料前製 造之層合物之顏色及光澤實質上相同。塗覆層合物壓製表 面之較佳二硼化物為二硼化鈦或二硼化鍅。塗覆層合物壓 製表面之最佳二爛化物為二删化鈦。據信二蝴化鈦更常商 業地用於塗覆本發明二硼化物成員以外之表面，因為其可 在磁控噴鍍系統中以較高之沈積速率噴鍍塗覆。 耐磨裝飾性層合物之壓製表面上之玻料，例如，氧化紹 顆粒，可將壓板刮傷且降低然後以壓板製造之層合物之目 視品質。本發明之壓板在製造耐磨高光澤裝飾性層合物特 別有用。 不銹鋼壓板較佳為410級不銹鋼、304級不銹鋼或B〇Mer -9 - 本纸張尺度適用中®國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公爱) ' --- 554058 A7 —___ B7 五、發明説明（7 ) 630不錄鋼’雖然可使用廣泛種類之板材料而不背離本發明 之精神。起初製備製造壓板之生鋼以用於後續依照本發明 之抛光。起初製備可包括但不限於將購置以依照本發明使 用之不錄鋼片切割、成形、篩選、研磨、及拋光。在塗料 塗佈前實行之起初拋光為習知方向性拋光，而且可以許多 種方法實行而不背離本發明之精神。 依照本發明之較佳具體實施例，購置適用於層合物壓板 製造之大小之板。視板目所在之指定應用而定，通常將板 切割成各種大小。例如，目前使用之板以96 5公分、m公 刀與157.5公分寬度’ 213.4公分、243.8公分、3 0 4.8公分、 與365.56公分長度，及〇·216公分_〇 635公分厚度購入。雖然 依知、本發明之較佳具體實施例揭示指定尺寸，不錢鋼壓板 可為各種形式而不背離本發明之精神。 如以上所討論’耐磨裝飾性層合物之壓製表面上之玻料 ，例如，氧化鋁顆粒，可將壓板刮傷且降低然後以壓板製 造之層合物之目視品質。依照本發明塗覆二硼化物之壓板 在製造耐磨高光澤裝飾性層合物特別有用，因為二硼化物 塗層保護壓板之壓製表面免於在層合物表面上發現之玻料 之磨損。 本發明之二硼化物塗層可塗佈於層合物壓板壓製表面上 而具有至少2000而且較佳為至少22〇〇iVickers硬度，其足以 壓製在層合物之壓製表面具有25_6〇微米或更大氧化鋁顆粒 之壓製層合物而不刮傷。約3微米之塗層具有足以抗層合 物之壓製表面上之氧化鋁顆粒到傷之硬度。塗層之硬度可 -10-

本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇X 297公D 554058 A7 ___ B7 五、發明説明（~~) " 一~ 在平面磁控噴鍍塗覆系統中由熟悉使用這些系統技藝者控 制。 已發現本發明之二硼化物塗層可以足以用於壓製高壓層 合物之結合強度塗覆於壓製表面上。據信鑽石刮傷結合試 驗測定為1.6而且較佳為ι·8公斤力（kgf)之最小結合強度為足 夠的。大於6微米之二硼化物塗層由於在塗覆時產生之應 力而具有較低之結合強度。 本發明之二硼化物對壓板壓製表面之結合藉由在將壓板 壓製表面引入磁控喷鍍塗覆系統中之前完全清潔壓板壓製 表面而增強。結合藉由在塗佈二硼化鈦塗層前以磁控喷鍍 塗覆糸統姓刻壓板壓製表面而進一步增強。清潔、陽極I虫 刻、陰極姓刻、及以無線電頻率（RF)蝕刻可藉熟悉使用磁 控噴鍍塗覆系統技藝者已知之方法完成。已發現在塗佈本 發明之二蝴化物塗料前直接塗佈於壓板壓製表面上之鈦層 進一步增強二硼化物之結合。藉清潔、蝕刻、及使用塗層 與基材間之中間層改良結合對熟悉使用磁控喷鍍塗覆系統 技藝者為已知。 依照本發明之壓板之塗覆可以固定模式或掃描模式完成 。在固疋模式中，喷鑛頭及壓板均為固定而實行磁控喷鍍 。然而’已發現固定模式之噴鍍提供僅達約1000之Vickers 微硬度值（HV)。 塗覆本發明壓板之較佳方法為藉由移動壓板而喷鍍頭保 持固定或藉由移動噴鍍頭而壓板保持固定，以掃描模式實 行塗覆方法。掃描過程之較佳模式為移動喷鍍頭。在使用 -11 - $紙張尺度適用中s困冢標準(CNS) A4規格(21〇 χ 297公釐)- 554058

掃描過程時，本發明人已發現生成之經塗覆壓板在類似之 膜厚具有非常高之Hv值（>2000)。此外，在使用掃描過程 時’生成膜厚具有1 ·6 kgf或更高級數之增加黏附性。 掃描過程在121.9公分X243.8公分尺寸之壓板之大型製造 真空塗覆器之缺點為，即使膜性質類似速度為5 〇8公分/分 鐘之小規模塗覆器，壓板由於過程中包括於壓板之高熱梯 度（38C或更高之級數）而進行捲曲。已發現包括於板中之 熱梯度可藉由將在121.9公分Χ243·8公分板上之掃描速度增 至121.9公分/分鐘至406.4公分/分鐘，較佳為127公分/分鐘 至254公分/分鐘，最佳為139.7公分/分鐘至2〇3·2公分/分鐘 之速度，而降低一倍以上。在本發明之内容中，掃描速度 以喷鍵頭到達完全橫越壓板之短方向，在生產線一般為 121.9公分，沿掃描方向之每分鐘線性速度表示。然而，使 用較小喷錄頭之其他掃描方海亦為可能的。此喷鑛頭以類 似之線性速度操作’但是需要多次來回以提供單層。此外 ’可得到熱梯度之降低而令人驚奇地在塗覆中維持相同之 膜性質。 本發明人之模型研究已顯示熱梯度可由2〇 3公分/分鐘之 150°C降至406.4公分/分鐘之-10°C。此熱梯度降低已藉由以 200.7公分/分鐘與88.9公分/分鐘之掃描速度各產生-177°c ( 或可忽略）與約-12.7°C之熱梯度，製造塗覆壓板而實驗地證 明。 此降低熱梯度及因此提供在全部板較分散之熱分布之能 力為重要的，因為壓板本身之内生應力及有限頂度為在任 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公«)

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554058 A7 B7 五、發明説明（1〇) 何製造規模方法中必須考慮之實際限制。本高掃描速度方 法中之熱梯度為10°C或更低，較佳為17°c或更低，更佳為 -3.9°C或更低，最佳為-9.4°C或更低。 %JL· 以表1所示之塗覆二硼化鈦之壓板壓製黑色高光澤高壓 層合物。這些壓板已在塗覆二硼化鈦前拋光以給與層合物 約100之ASTM D 2457 60度角光澤。標準與以表1所示塗覆二 硼化鈦之壓板壓製之層合物間之ASTM D 2244色差小於（〇.5) △ E。表1之光澤及色差為在1 〇個層合物測量之平均。 虹 光澤輿氕# 壓板 ASTM 60度光澤 ASTM色差，△ E 3000-1 101 0.20 3000-2 100 0.25 6000-1 101 0.35 6000-2 103 0.40 6000-3 102 0.30 6000-4 102 0.40 6000-5 103 0.45 6000-6 101 0.45 此外，高光澤壓板3000-2及對照壓板已用於760片高壓黑 色高光澤層合物之壓製，其壓製表面上具有35微米平均粒 度氧化鋁顆粒。層合物在約68巴及138°C以這些壓板壓製。 層合物之壓製表面為具有35微米氧化鋁玻料之商業可得覆 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 554058 A7 B7 五、發明説明（11 ) 片（得自Mead公司之PGA 822)。自已拋光以·給與層合物約 100之ASTM D 2457 60度角光澤之高光澤410不銹鋼壓板切割 壓板3000-2及對照壓板。壓板3000-2及對照壓板測量為一側 約30.48公分及另一側27.94公分。在磁控噴鍍塗覆系統中以 約5微米二硼化鈦塗覆壓板3000-2。以17次掃描塗佈二硼化 鈦塗料，每次掃描塗佈約3000埃二硼化鈦。其他作為對照。

比較標準，以對照壓板壓製，其壓製表面上具有35微米 平均粒度氧化鋁顆粒之黑色高光澤層合物之第一片具有約 (0·25)ΔΕ之ASTMD 2244色差。比較標準，以壓板3000-2壓製 之黑色高光澤層合物之第一片具有約（0.15) ΔΕ之ASTM D 2244色差。 訂

以對照壓板壓製之黑色層合物之第一片使層合物具有約 100之ASTM D 2457 60度角光澤。以對照壓板壓製之黑色層 合物之第760片具有小於70之ASTM D 2457，60度角光澤。 對照壓板給與黑色層合物在壓製約160片後小於90之60度角 光澤。據信具有小於90之60度角光澤之層合物作為高光澤 層合物在商業上無法接受。 以壓板3000-2壓製之此760片黑色層合物具有約100之 ASTM D 2457 60度角光澤。在壓製此760片黑色層合物後在 顯微鏡下觀看壓板3000-2之刮痕，而且均未發現。對照壓 板嚴重地到傷。 觀察以表1所示之壓板及對照壓板壓製之層合物之表面 外觀並無差異。 在許多條件下在磁控噴鍍塗覆系統中將二硼化鈦塗覆於 高光澤壓板上。亦相信為了得到至少2000之Vickers硬度， 需要至少3微米之塗層，及在6微米或更大之塗層厚度，黏 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 554058 A7 B7 五、發明説明（12 ) 附性降低。如熟悉此技藝者所已知，硬度及黏附性可藉由 以本發明之二硼化鈦塗覆壓板之壓力與溫度，及用於將本 發明之二硼化物塗覆於壓板上之電力（安培與伏特）控制。 塗覆二硼化鈦之有紋路壓板，以下稱為”壓板3〇〇〇_3,，， 及對照壓板已用於大於450片高光澤黑色有紋路層合物之壓 製’其壓製表面上具有3 5微米平均粒度氧化紹顆粒。此層 合物在約68巴及約138t壓製。自已拋光以給與層合物約1〇 之ASTM D 2457 60度角光澤之有紋路630不銹鋼壓板切割壓 板3000-3及對照壓板。壓板3000-3及對照壓板測量為各側約 12奂叶。在磁控噴鍵塗覆系統中以約6微米二爛化鈦塗覆 壓板3000-3 ^以20次掃描塗佈二棚化鈦塗料，每次掃描塗佈 約3000埃二硼化鈦。 比較標準’此以對照壓板壓製之黑色有紋路層合物之第 片具有約（0.22) △ E之ASTM D 2244色差。比較標準，以壓 板3000-3壓製之黑色高光澤層合物具有約（〇 〇8)ΔΕ之astM D 2244色差。 觀察以壓板3 0 0 0 - 3及對照壓板壓製之層合物之表面外 觀並無差異。 將表1之壓板及壓板3000-3清潔然後在平面磁控噴鍵塗覆 系統中在無線電頻率條件下蝕刻。然後在以下之一般條件 下在磁控噴鍍塗覆系統中以二硼化鈦塗覆這些屋板。 清潔 化學清潔 以乙醇、三氣乙烧與丙酮擦拭 物理清潔 壓板上之5分鐘氮氣流 無線電頻率蝕刻倏侔 氣體介質 氩 -15- 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 554058 A7 B7 五、發明説明（13 ) 公分/分鐘掃描速度 2.54 毫托耳 10 MA/平方公分 .54 仟伏特 • 75 硼化鈦塗覆條件 氣體介質 氬 公分/分鐘掃描速度 2.54 毫托耳 7 MA/平方公分 .13 仟伏特 .3 塗覆條件及性質 壓板 掃描速率/掃描 掃描次數 厚度微米 黏附性kgf 硬度HV 3000-1 3000 14 4.2 1.7 2280 3000-2 3000 17 5.1 2.1 2830 3000-3 3000 20 5.5 2.0 2700 6000-1 6000 6 3.7 1.8 1940 6000-2 6000 6 3.7 1.8 2160 6000-3 6000 7 4.4 1.8 2250 6000-4 6000 7 4.3 2.0 2190 6000-5 6000 10 6 2.2 2880 6000-6 6000 10 6 2.0 2850 1微米-10,000_單位 已製造測量為約4呎乘8呎之這些本發明高光澤壓板。這 些壓板稱為壓板3-1、3-2與3-3。這些壓板在平面磁控放電 條件下以二硼化鈦噴鍍塗覆。 將壓板3-1、3-2與3-3。陽極地蝕刻然後在以下之一般條 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 554058 五、發明説明(~~) A7 B7 --- 件下在平面磁控喷鍍塗覆系統中塗覆鈦 與二硼化鈦。這歧 壓板在將其置入噴鍍塗覆系統中之前化學地清潔。蝕刻: 塗覆時，這些Μ板之溫度為約149t。這些壓板在此 未捲曲。 潰潔（壓板3-1、U盥3-3) 化學清潔 以乙醇、三 氣乙燒與丙擦拭 陽極1虫刻 (壓板 3 - 1 ，3 -2， 3-3) 氣體介質 氬 氬 氬 公分/分鐘掃描速度 7.6 7.6 7.6 毫托耳 25 24 10 mA/平方公分 • 72 •45 • 45 仟伏特 • 24 • 23 • 24 掃描次數 1 1 5 銀塗覆條件 （壓板 3-1 ，3-2， 3 -3 ) 氣體介質 氬 氬 氬 公分/分鐘掃描速度 7.6 7.6 7.6 毫托耳 1.6 1.2 2.7 mA/平方公分 11 11 11 仟伏特 .52 • 52 •43 T i掃描次數 1 1 1 .士硼化鈦塗覆鯈株(壓板 3-1 ，3-2， 3-3) 氣體介質 氬 氬 氬 公分/分鐘掃描速度 7.6 7.6 7.6 毫托耳 1.6 1.2 2.7 mA/平方公分 11 12 11 仟伏特 • 52 • 60 • 50 •17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇x 297公釐) 554058 A7 B7 8 12 18· 4125 5500 3000 i - 1， 3-2， 3 -3 ) 3.3 6.6 5.4 * 1.2* * * 2000 2500 氺氺 五、發明説明（15)

TiB2掃描次數 沈積速率（一/掃描） Ι]^·2^Ι i塗層之柹暂(壓板 厚度（微米） 黏附性（kgf) 硬度（HV) * TiB^Ti塗層在壓製層合物時自壓板3-1與3_2分離。 * *並未測量壓板3 _ 3之硬度及黏附性。硬度及黏附性試驗 破壞壓板表面。 壓板3-3已用於大於1200片之高壓黑色高光澤層合物之壓 製’其壓製表面上具有35微米平均粒度氧化鋁顆粒。在壓 製此1200片層合物後觀看壓板3-3之刮痕且未發現。在壓製 少於100片層合物後，壓板3-1、3-2上之二硼化鈦塗料自不 鎮鋼基材分離。 . 本發明之塗二棚化錯高光澤壓板及對照壓板已各用於i 〇 片黑色高光澤層合物之壓製。比較標準，此層合物具有約 (0·26)ΔΕ之ASTM D 2244 色差及約 1〇〇之 asTM D 2457，60度 角光澤。觀察塗锆及以對照壓板壓製之層合物之表面外觀 並無差異。 本發明之塗覆二硼化錘高光澤壓板已用於1〇片黑色高光 澤層合物之壓製，其壓製表面上具有35微米平均粒度氧化 鋁顆粒。此層合物在約68巴及13 8。(：壓製《層合物之壓製表 面為具有35微米氧化鋁玻料之商業可得覆片（得自Mead公司 之PGA 822)。在壓製此10片層合物後在此壓板上未觀察到 刮痕。 自已拋光以給與層合物約100之ASTM D 2457 60度角光，筆 -18 - 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 554058

之高光澤410不銹鋼壓板切割二硼化鍅壓板ό自此壓板切割 $片各側測量為約3〇.48公分之壓板。一片在磁控噴鍍塗覆 系：中塗覆約5微米二硼化鍅。此壓板在塗佈二硼化锆塗 料則在然線電輻射條件下蝕刻約丨5分鐘。在以下之一般條 件下，在平面磁控喷鍍塗覆系統中以15次掃描塗佈6微米 一删化錯塗料’母次掃描塗佈約4,〇〇〇埃二蝴化錯。 清潔 化學清潔 以乙醇、三氯乙烷與丙酮擦拭 物理清潔 壓板上之5分鐘氮氣流 羞線電頻率j虫刻條株 氣體介質 氬 公分/分鐘掃描速度 2.54 毫托耳 10 MA/平方公分 • 54 仟伏特 • 75 硼化锆塗霜倐俥 氣體介質 氬 公分/分鐘掃描速度 2.54 毫托耳 7 MA/平方公分 9 仟伏特 .4 已以測量為6英吋乘6英吋（15.24公分XI 5.24公分），在 磁控噴鍍塗覆系統中塗覆氮化鈦之壓板壓製黑色層合物。 表3所示之試驗結果為以各壓板壓製5片層合物t平均結果。 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 554058 A7 B7 五、發明説明（17 ) 表4 以塗覆氮化鈦之壓板壓製之層合物 對照 # 8 TiN#8 對照 # 9 TiN#9 ASTM 光澤@60° 100 95 100 95 ASTM 色差，ΔΕ 0.30 0.75 0.35 0.90 以塗覆氮化鈦之壓板壓製之層合物之光澤比以對照壓板 壓製之層合物之光澤低。以塗覆氮化鈦之壓板壓製之層合 物之顏色與以未塗覆壓板壓製之層合物之顏色顯著地不同 。塗覆氮化鈦之壓板及以塗覆氮化鈦之壓板壓製之層合物 具有青銅外觀。 已以測量為15.24公分X15.24公分，在磁控噴鍍塗覆系統 中塗覆氮化鈮之壓板壓製黑色層合物。表4所示之試驗結 果為以各壓板壓製5片層合物之平均結果。 表5 以塗覆氮化鈮之壓板壓製之層合物 黑色高光澤層合物 對照 B3(3/zm) B5(5um) ASTM 光澤@60。 106 102 101 ASTM 色差，ΔΕ 0.09 0.65 0.85 以塗覆氮化鈮之壓板壓製之層合物之光澤比以塗覆前之 壓板壓製之層合物之光澤低。以塗覆氮化鈮之壓板壓製之 層合物之顏色與以塗覆前之壓板壓製之層合物之顏色顯著 地不同。 已以測量為15.24公分X 15.24公分，在磁彳空貪鍍塗覆系統 中塗覆鑽石狀塗料之壓板壓製黑色層合物。層合物撞擊塗 覆鑽石狀壓板且在分離時被破壞9 一旦以以上討論之方式將二硼化物塗覆於不銹鋼壓板10 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 554058 A7 B7 五、發明説明（18 ) ，板已可用於拋光且轉移至濕緩衝機12(參見圖2 )。依照本 發明之較佳具體實施例，濕緩衝機12為iMeas緩衝。然而 ’熟悉此技藝者易於了解’可使用各種緩衝機而不背離本 發明之精神。 簡言之，緩衝機包括支撐表面14，其上安置處理用之經 塗覆不銹鋼板10。緩衝機12更包括移動多個（例如，6-14個） 在被處理表面上之轉動支撐構件18之車架。轉動支樓構件 18設計為選擇性連接拋光墊20(參見圖3 )，其最後處理經塗 覆不銹鋼壓板10之表面。依照本發明之較佳具體實施例， 各轉動支撐構件18包括直徑約20.32公分，並且設計為支撐 20.32公分直徑拋光墊之連接表面。 雖然依照本發明之較佳具體實施例揭示指定尺寸，可使 用其他大小之墊及樓體而不背離本發明之精神β轉動支樓 構件1 8更具有流體通路2 2，其在依照本發明處理不銹鋼壓 板1 0時使流體通過至拋光表面。 拋光墊20為3ΜΘ公司製造之TRIZACT®拋光塾。3Μ® TRIZACT®拋光墊包括含微米級礦物之精確成形金字塔。依 照本發明，礦物為Al〇2，雖然可使用其他材料而不背離本 發明之精神。隨著磨料使用，金字塔頂部磨耗，連續地暴 露新鮮磨料。如此確定TRIZACT®拋光墊長期壽命之一致切 割速率。 依照本發明之較佳具體實施例，拋光步驟藉由以35微米 TRIZACP拋光塾（即，綠標拋光塾）處理不錄鋼壓板之經重 覆表面而實行。將拋光墊固定於轉動支撐構件且應用於不 錄鋼壓板。雖然依照本發明之較佳具體實施例揭示使用指 疋之玻料拋光墊，意圖使用其他之玻料拋光墊而不背離本 -21 -

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發明之精神。 依…、本彳X明之較佳具體實施例，拋光墊20之襯墊可以鉤 圈型Μ㈣動^構件18，其中結合拋光墊使用之水不 會負面地影響拋光墊2〇對轉動支撐構㈣之連接。然而， 熟悉此技藝者應了冑’可使用各種技術將拋光塾2G固定於 轉動支撐構件18而不背離本發明之精神。 X足以在被抛光之板上維持適當漿液之水流，轉動支撐 構件18及最後之拋光墊2〇以約丨叩心1，5〇〇 rpm之速度，而 且較佳為約600 rpm之速度轉動。已發現在水漿液起初由自 來水組成，繼而隨拋光方法持續而轉換成去離子水時，得 到理想之結果。起初使用自來水為經濟的，並且提供起初 拋光時所需之容忍度，而去離子水提供持續拋光方法以製 造最終表面所需之高容忍度。 車架16之線性移動速度可視拋光墊2〇之轉動速度及被處 理之材料而設為5.08公分/分鐘至152·4公分/分鐘。在拋光 墊20以600卬m之速度轉動之處，已發現在車架16之線性移 動速度设為7·62公分/分鐘時得到理想之結果。以上揭示之 速度僅為較佳具體實施例之例示，而且可改變而不背離本 發明之精神。雖然意圖各種操作參數在本發明之精神内， 已發現在拋光墊以600 rpm轉動，車架以60.96公分/分鐘移 動’及以1 0微米TRIZACT^抛光塾實行6次時產生理想之乡士 果。 依知、本發明之較佳具體貫施例’抛光塾2〇完成4次完全 橫越通過不錄鋼板10。拋光車架16之移動藉習知控制機構 控制，其確定拋光墊20之正確應用。以上揭示之速度僅為 較佳具體實施例之例示，而且可改變而不背離本發明之精 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 554058 A7 ----------B7 五、發月(—2〇~— " --*— 神。 塗覆二侧化物之不錄鋼壓板10之經處理表面現在應呈現 理想用於製造高光澤裝飾性層合物之高光澤、無非方向性 拋光。如果需要，現在以相同之方式處理不錄鋼壓板之相 反側，以製造在其上下纟面呈現非常希望之高光澤抛光之 不銹鋼壓板。 在需要更尚光澤之處，可利用較細之TRIZACT®拋光墊實 行額外之拋光。例如，在需要製造較高光澤板之處，可以 類似以上討論關於35微米丁1112八(：丁^拋光墊拋光之方式使用 10微米與5微米TRIZACT^拋光墊。 藉由以以上討論之方式將塗覆二硼化物之壓板拋光，生 成壓製表面無磨損且已顯示增加裝飾性層合物之生成光澤 高達7 0點。 在申請案中除了提供以上所詳細討論之無方向拋光表面 ’以下討論之拋光表現關於二硼化物塗料之重要功能。特 別地，板經多次以二硼化物塗覆。各次塗覆不製造二硼化 物之均勻塗層且多次製造1 0 0 %塗覆板。然而，由於各次 塗覆不製造均勻塗佈，最終塗覆生成稍微不均勻表面。如 此，以下討論之拋光步驟刷除均勻二硼化物而製造理想之 表面。 雖然已顯示及敘述較佳具體實施例，應了解並無意圖以 此揭示限制本發明，而是意圖涵蓋如申請專利範圍所定義 之本發明之精神及範圍内之所有修改及替代構造。 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4规格(210X297公釐)

Claims (1)

1. 554058 修正 2 專利寄命案 益 之(92 年2 月）m 申輪專利範圍 ’ 一種製備層合物壓板之方法，其包含以下之步驟·· 以選自包括二硼化铪、二硼化鉬、二硼化鈕、二硼化 敛、二蝴化鎢、二硼化釩、或二硼化锆之二硼化物、或 其混合物塗覆平坦壓製表面；及 將經塗覆之平坦壓製表面拋光。 2·根據申請專利範圍第丨項之方法，其中二硼化物在平面 磁控噴鍍塗覆系統中塗覆。 3.根據申請專利範圍第2項之方法，其中二硼化物塗料塗 佈至少2000之Vickers硬度。 4·根據申請專利範圍第2項之方法，其中塗覆步驟藉由造 成平坦壓製表面及平面磁控噴鍍塗覆系統之噴鍍頭以足 以在平坦壓製表面10它或更低之熱梯度之掃描速度彼此 相對移動而實行。 5•根射請專㈣圍第！項之方法，丨中拋光步驟使用至 少一個包含含微米級礦物之精確成形金字塔之拋光墊實 行0 6. 根據申請專利範圍第5項之方法，其中抛光塾為35微米抛 光塾。 7. 根據中請專㈣圍第5項之方法，其中礦物為AW 8. 根據申請專利範圍第5項之方法1中至少一個拋光墊 以600 rpm之速度轉動。 9. 根據申請專利範圍第5項之方法，$中板以Μ公分/分鐘 之線性速度拋光。 步驟之方法製造 10· —種層合物壓板，其依照包含以下 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 554058 A8 B8 C8 __________D8_ 六、申請專利範圍 以選自包括二硼化铪、二硼化鉬、二硼化鈕、二硼化 鈇、二爛化嫣、二獨化鈒、或二獨化錯之二獨化物、或 其混合物塗覆平坦壓製表面；及 將經塗覆之平坦壓製表面拋光。 11·根據申請專利範圍第10項之層合物壓板，其中二硼化物 在平面磁控噴鍍塗覆系統中塗覆。 12·根據申請專利範圍第i丨項之層合物壓板，其中二硼化物 塗料塗佈至少2000之Vickers硬度。 13. 根據申請專利範圍第丨丨項之層合物壓板，其中塗覆步驟 藉由造成平坦壓製表面及平面磁控喷鍍塗覆系統之噴鍍 頭以足以在平坦壓製表面l〇°C或更低之熱梯度之掃描速 度彼此相對移動而實行。 14. 根據申請專利範圍第1〇項之層合物壓板，其中拋光步驟 使用至少一個包含含微米級礦物之精確成形金字塔之拋 光墊實行。 15. 根據申請專利範圍第14項之層合物壓板，其中拋光墊為 35微米拋光墊。 16·根據申請專利範圍第14項之層合物壓板，其中礦物為 A102 〇 17.根據申清專利範圍第μ項之層合物壓板，其中至少一個 拋光塾以600 rpm之速度轉動。 18·根據申清專利範圍第14項之層合物壓板，其中板以7 a公 分/分鐘之線性速度搬光。 19· 一種裝飾性層合物，其依照包含以下步驟之方法製造： •2· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 554058 A8 B8 C8 _____ _D8 六、申請專利範圍 堆疊多個浸潰合成樹脂之紙片； 將浸潰樹脂之紙片置於層合物壓板之間以製造層合物 堆疊’其中依照包含以下步驟之方法製造層合物壓板； 以選自包括二硼化铪、二硼化鉬、二硼化鈕、二硼化 鈦、二爛化鶴、二蝴化鈒、或二哪化錯之二爛化物、或 其混合物塗覆平坦壓製表面，及將經塗覆之平坦壓製表 面拋光，及 將層合物堆疊加熱至足以合併層合物且固化樹脂之溫 度及時間。 20·根據申請專利範圍第19項之裝飾性層合物，其中二硼化 物在平面磁控噴鍍塗覆系統中塗覆。 21·根據申請專利範圍第20項之裝飾性層合物，其中二硼化 物塗料塗佈至少2000之Vickers硬度。 22·根據申請專利範圍第20項之裝飾性層合物，其中塗覆步 驟藉由造成平坦壓製表面及平面磁控噴鍍塗覆系統之噴 鍍頭以足以在平坦壓製表面提供1〇。(：或更低之熱梯度之 掃描速度彼此相對移動而實行。 23·根據申請專利範圍第19項之裝飾性層合物，其中拋光步 驟使用至少一個包含含微米級礦物之精確成形金字塔之 拋光墊實行。 24.根據申請專利範圍第23項之裝飾性層合物，其中拋光墊 為35微米拋光墊。 25·根據申請專利範圍第23項之裝飾性層合物，其中礦物為 A102 〇 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 554058 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 26. 根據申請專利範圍.第23項之裝飾性層合物，其中至少一 個拋光塾以600 rpm之速度轉動。 27. 根據申請專利範圍第23項之裝飾性層合物，其中板以7.62 公分/分鐘之線性速度拋光。 -4-本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)