TW527759B - Powerpack laser diode assemblies - Google Patents

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TW527759B
TW527759B TW090120294A TW90120294A TW527759B TW 527759 B TW527759 B TW 527759B TW 090120294 A TW090120294 A TW 090120294A TW 90120294 A TW90120294 A TW 90120294A TW 527759 B TW527759 B TW 527759B
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527759 A7 B7 五、發明説明(1 ) 發明部份 本發明係有關高功率雷射二極體總成,且更明確言之 ,係有關使用黏接線來協助散熱之雷射二極體總成。 發明背景 半導體雷射二極體爲本藝中所廣知。半導體雷射二極 體普通包含平行之小面,此等在沿晶體自然劈開平面劈開 半導體晶體形成半導體雷射二極體時所形成。小面協助界 疋由半導體雷射—^極體內之 p-n接面所發射之光》 使光 之一部份反射回至半導體本體中,否則,會離開半導體本 體。發射光之此反射改善情況,在此,反射光在半導體本 體內掁盪。此 p-η接面由基體上所生長之 ρ型及 η型 摻雜層構成。Ρ型及η型接觸形成於此等層之表面上。 由於其許多優點,包括成本低,體積小,機械穩定性 高,可能輸出功率大,及效率非常良好(在脈波接面半導 體雷射二極體常接近 50%), 故半導體雷射二極體具有在 許多工業,科學,醫學,及軍事應用中取代無效率且昂貴 之大型雷射系統之可能。半導體雷射技術亦表示產生不同 波長之同調雷射射線之最有效及適應性方法之一。由改變 製造半導體雷射二極體之半導體合金之型式,半導體雷射 二極體能產生在一波長範圍中之射線。 半導體雷射二極體可用作光纖網路及通訊系統之光栗 源。例如,波長分割多工(WDM)光纖網路使用 980nm栗 雷射,以放大由光纖系統同時在不同波長上所發射之信號 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4- 527759 A7 B7 五、發明説明(2 ) 。WDM光纖網路之需求增加及普及增加泵雷射之需求, 及由 980nm雷射輸出之增加之功率對高速通訊系統極爲 重要。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 半導體雷射二極體可具有熱有關之問題,此限制其提 供更大功率之能力。熱問題與雷射二極體之每單位面積之 大發熱有關,此導致升高接面溫度及應力。雷射二極體在 其熱升高時光輸出下降,接面溫度之增加會降低雷射二極 體之效率及使用壽命。接面溫度亦影響雷射二極體之發射 波長。維持恆定之接面溫度對維持特定之輸出波長甚爲重 要。 當雷射二極體工作於高輸出功率時,在小面處由於無 輻射性再合倂所引起之溫度可大爲增加。如在小面上之溫 度超過製造雷射所用之半導體材料之熔點,則小面迅速損 壞’使雷射二極體無法適當工作。在小面附近之接面溫度 之增加可導致光學上之重大損壞(C0D),此爲對小面之永 久性損壞。小面之此破壞導致裝置之故障。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雷射二極體常用散熱器,以協助散熱,但散熱器受其 可消散之功率量限制。而且,現雷射二極體設計常並不有 效發射足夠之熱至散熱器。增加雷射二極體本身之體積可 增加可散熱之表面積,但此方法受晶片體積之限制。 發明槪要 在一方面,本發明之實施例提供系統,方法,及裝置 ,以提供半導體雷射二極體,具有可較上述系統爲優之熱 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -5 - 527759 A7 _B7 _ 五、發明説明(3 ) 性能。在至少一實施例,本發明可達成較之先行技藝設計 改進之熱性能。在至少一實施例,形成雷射二極體之晶片 黏接於其頂面之二邊上,使用至少一黏接元件(諸如線及 /或帶)於雷射二極體之頂面之每一邊上。 在至少一實施例,本發明提供一雷射二極體總成,包 含一載體,一雷射二極體,一第一黏接構件,及一第二黏 接構件。載體具有一頂及底部,頂部具有一頂導電性層形 成於其上,導電性層之大小設計用以連接至少二黏接構件 於其上。雷射二極體在可操作上連接至載體,並具有第一 及第二導電性墊形成於其上,第一及第二導電性墊各大小 設計用以連接至少一黏接構件於其上。第一黏接構件連接 第一導電性墊至雷射二極體之導電性層,及第二黏接構件 連接第二導電性墊至雷射二極體之導電性層。 本發明之實施例可包含以下。雷射二極體可另包含第 一及第二電極,及雷射二極體之第一及第二導電性墊之至 少之一在可操作上可連接至雷射二極體之第一及第二極之 一。第一及第二導電性墊形成及安排用以消散由雷射二極 體之內部功率產生所引起之熱。黏接構件之任一或更多可 由一段導電性材料,諸如線,帶,編條,絲,纖維,及帶 構成。雷射二極體亦可包含一或更多額外之黏接構件連接 第一及第二導電性墊之至少之一至導電性層。雷射二極體 可包含一雷射隆起部,具有第一及第二邊,第一及第二導 電性墊可分別形成於雷射隆起部之第一及第二邊附近或頂 部。雷射二極體總成可連接,諸如由安裝於散熱器,及然 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 一 ~ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527759 A7 ______B7 五、發明説明(4 ) 後一熱電冷卻(TEC)裝置。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此方面之實施例亦包含以下。在至少一實施例,形成 於載體上之導電性層包含第〜及第二導電性層部份,其中 ’雷射二極體之第一導電性墊使用黏接構件連接至載體之 第一導電性層部份’及雷射二極體之第二導電性墊使用黏 接構件連接至載體之第二導電性層部份。在至少一實施例 ’第一及第二導電性墊形成於雷射二極體之p接觸層上。 在至少一實施例,第一及第二導電性墊形成於雷射二極體 之η接觸層上。在至少一實施例,雷射二極體上之第一 及第二導電性墊之至少之一包含接觸墊。在至少一實施例 ,雷射二極體之第一及第二導電性墊之至少之一包含保護 墊。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在又另一方面,本發明之至少一實施例提供一種用以 製造雷射二極體總成之方法。形成一導電性層於一載體上 ,其大小設計用以連接至少二黏接構件於其上。第一及第 二導電性墊形成於一雷射二極體上,墊之大小設計各用以 連接至少一黏接構件於其上。雷射二極體在可操作上連接 至載體,黏接構件連接雷射二極體之第一導電性墊至載體 之導電性層,及雷射二極體之第二導電性墊連接至載體之 導電性層。 該方法之至少一實施例在可操作上連接,諸如由安裝 載體至一散熱器,及然後至一熱電冷卻(TEC)裝置。該 方法之一實施例包括形成第一及第二導電性墊於雷射二極 體上所製之雷射隆起部之第一及第二邊上。在本發明之一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) 527759 Α7 _ Β7 五、發明説明(5 ) 實施例,雷射隆起部之第一及第二邊在雷射隆起部之相對 邊。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在又另一方面’本發明之至少一實施例提供一種雷射 二極體總成,包含一載體,雷射二極體,第一黏接構件, 及第二黏接構件。載體構造及安排用以安裝一雷射二極體 晶片於其上,並包含一第一電極區及一第二電極區。雷射 二極體具有一第一邊安裝於載體之第二電極區,及一第二 邊包含第一及第二導電性墊。第一黏接構件連接雷射二極 體之第一導電性墊至載體之第一電極區,及第二黏接構件 連接雷射二極體之第二導電性墊至載體之第一電極區。例 如,在至少一實施例,第一黏接構件連接雷射二極體之第 一導電性墊至載體上之一 P型接觸區,及第二黏接構件 連接雷射二極體之第二導電性墊至載體之另一 ρ·型接觸區 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此方面之實施例包含以下。在至少一實施例,載體上 之第一及第二接觸區分別連接,諸如由安裝於雷射二極體 之一 η型電極及一 ρ型電極。在至少一實施例,雷射二 極體之第一邊爲雷射二極體之η邊。在至少一實施例, 雷射二極體之第一邊爲雷射二極體之ρ邊。在至少一實 施例,載體上之第一及第二接觸區之至少之一爲一 Ρ型接 觸區’及此ρ型接觸區本身可包含一或更多接觸區。 在至少一實施例,第二接觸墊包含二或更多導電性墊 。例如,在一實施例,第二導電性墊包含三導電性墊’各 經由至少一黏接構件連接至載體上之一 ρ型接觸區。在 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -8 - 527759 A7 _B7_ 五、發明説明(6 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另一實施例,第二導電性墊包含二導電性墊,及載體上之 P型接觸區包含二導電性P型區。包含第二導電性墊之 二導電性墊經由一或更多黏接構件連接至二導電性P型區 之任一或二者。 在此方面之實施例,雷射二極體包含一雷射隆起部’ 具有相對邊,及第一及第二導電性墊鄰接雷射隆起部之相 對邊,此例如可形成大致接近雷射二極體之第二邊。在此 方面之至少一實施例,雷射二極體之第二面爲雷射二極體 之頂面,一雷射隆起部大致形成接近雷射二極體之頂面, 並具有第一及第二邊,及第一及第二導電性墊分別置於雷 射隆起部之第一及第二邊。在一實施例,第一及第二邊在 雷射隆起部之相對邊。如精於本藝之人士所知,雷射隆起 .部在雷射二極體之表面上可得見或不得見。例如,一些雷 射二極體具有埋置之隆起部結構。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在本發明之一實施例,提供一種雷射二極體總成,包 含一載體,雷射二極體,第一黏接構件,及第二黏接構件 。載體構造及安排用以安裝一雷射二極體晶片於其上,並 包含第一及第二電極區及導電性區。在至少一實施例,第 一電極區爲一 η型接觸區,及第二電極區爲一 ρ型接觸 區。雷射二極體具有第一邊連接至載體之第二電極區,及 第二邊包含第一及第二導電性墊。在至少一實施例,雷射 二極體具有一 η邊連接至載體上之η型電極區,及一 ρ 邊連接至載體上之ρ型電極區。在至少一實施例,第一 黏接構件連接雷射二極體之ρ邊之第一導電性墊至載體上 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) -9 - 527759 A7 B7 五、發明説明(7 ) 之P邊電極區,及第二黏接構件連接雷射二極體之P邊 上之第二導電性墊至載體之導電區。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之實施例如此可提供系統,方法,及裝置’用 以提供半導體雷射二極體,能提供高輸出功率。本發明之 又另外實施例可提供系統,方法,及裝置,用以提供具有 對稱電流注入及熱分佈之半導體雷射二極體。 自以下本發明之詳細說明並參考附圖及申請專利範圍 ,可更明瞭本發明之以上及其他目的,層面,特色,及優 點。 附圖簡述 由參考以下說明及附圖,可容易獲得明瞭本發明之原 理,在附圖中: 圖1爲先行技藝雷射二極體晶片之頂視圖; 圖2爲先行技藝雷射二極體總成之頂視圖; 圖3爲本發明之實施例之雷射二極體晶片之頂視圖; 圖4爲本發明之實施例之雷射二極體晶片之側視圖; 圖5爲本發明之實施例之雷射二極體總成之側視圖; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖6爲圖5之雷射二極體總成之斷面圖; 圖7爲本發明之至少一實施例之雷射二極體總成之頂 視圖;及 圖8爲本發明之實施例之雷射二極體總成之頂視圖; 各圖無需按比例’而是大體強調顯示本發明之原理。 -10- 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐) 527759 A7 B7 五、發明説明(8 ) 元件對照表 1 2,112 :晶片識別部份 16,116 :雷射隆起部 20,120 :黏接位置 24,124 :金屬化區 28,1 28 :載體 34 :黏接構件 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 10,110:雷射二極體晶片 14,114 :接觸墊/保護墊 18,115 :保護墊 22,122 :雷射二極體總成 26,126:表面接觸區 3〇,130 :黏接線 較佳實施例之詳細說明 雷射一極體晶片,諸如980nm栗雷射二極體晶片傳 統上具有非對稱頂(P接觸)接觸墊供線黏接該雷射二極 體晶片於晶片載體上之用,此亦可稱爲副裝或混裝。在本 雷射二極體晶片及總成設計中,線僅黏接於雷射二極體晶 片之頂面之一邊。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖 1顯示先行技藝之雷射二極體晶片1 1 〇,在此, 黏接,諸如黏接線僅連接至其一邊。雷射二極體晶片11 0 包含一晶片識別部份 112,一第一墊114(亦稱爲接觸墊 /保護墊114),一雷射隆起部1 1 6,及一第二墊11 5(亦 稱爲保護墊115)。接觸/保護墊114爲一區,諸如金 屬或金屬化區,此提供一接觸點給雷射二極體 11 0之 p-n接面之 p方。保護墊115爲一金屬或金屬化區,並 協助保護雷射二極體晶片110之表面。 接觸/保護墊114具充分之寬度(例如約150微 米),俾黏接線可黏接於接觸/保護墊114,諸如於黏接 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 527759 Α7 Β7 五、發明説明(9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 位置120,120’處,及至晶片載體上之p接觸區(閱圖 2),並具有充分之厚度,以保護雷射隆起部11 6,及支持 黏接線(例如黏接線,此例如可爲約25微米直徑)。保 護墊115普通約爲接觸墊114之寬度之一半(例如, 約7 5微米)。接觸/保護墊114及保護墊之厚度普 通可自1至10微米厚。而且,接觸/保護墊114 及保護墊11 5爲導電性材料,諸如金(Au),或鍍金之另 一材料,例如 Ti及/或 Pt所製,以協助分散由雷射 二極體晶片110所產生之熱。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖2爲雷射二極體總成122, 顯示圖1之雷射二 極體晶片 Π 0安裝於一晶片載體1 2 8上,此例如可由 金屬化之氮化鋁基體於一預定區,以形成 p及 η區 1 24 ’ 1 20-;連接(例如由焊接,熔接,導電性黏著劑等 )雷射二極體晶片110於其各別區(例如,η或ρ區 ’視雷射二極體爲 e p i上或 e p i下而定);並連接雷射 二極體晶片1 10之接觸墊1 14至載體128之其他區(η 或P區)所製成。在一些情形,載體128可連接(例 如’由焊接,熔接,黏著劑等)至一散熱裝置,諸如導熱 性金屬散熱器(例如,此普通由 Cu,Ni等製造;例如, 閱圖4使用本發明之此例),及然後至熱電冷卻(TEC) 裝置,或甚至一堆TEC冷卻裝置。 例如,在圖 2中,晶片載體 128之 η區 126連 接至雷射二極體110之底部處之η接觸區,及晶片載體 128之 ρ區124經黏接線130,130’連接至接觸/保 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) 527759 Α7 Β7 五、發明説明(1〇 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 護墊114,此在可操作上連接至雷射二極體110之適當 電極。此等黏接線13 〇,1 3 0 ’例如爲導電性材料,諸如 亞所製。晶片載體128例如爲 AIN,Al2〇3,Be〇,SiC, 或精於本藝之人士所知之其他適當材料,諸如陶瓷材料所 製,且亦包含一 η型表面接觸區126。 載體128亦可 包含一偵測區1 23,此用以安裝一光二極體裝置(未顯示 )’亦稱爲背面偵測器。如圖2所示,黏接於雷射二極體 110之ρ型金屬化接觸區上之黏接線130,130’連接於 雷射二極體110之頂面之僅一邊(接觸墊邊)上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖3及 4分別爲依本發明之至少一實施例所形成之 雷射二極體晶片1 〇之頂及側視圖。雖其中並未顯示,但 精於本藝之人士知道雷射二極體晶片10可依普通方式製 造,使用半導體材料層。在本發明之此實施例中,保護墊 18之寬度增加。如此,由保護墊18之寬度之增加,圖 3及 4之保護墊18作用如接觸/保護墊(即與接觸/ 保護墊14同樣)。在至少一實施例中,保護墊18之 寬度增加至充分寬度,用以連接黏接構件,諸如黏接線。 而且,在本發明之一實施例中,保護墊1 8構造及安排用 以消散由雷射二極體晶片1〇之內部功率消耗所產生之熱 〇 在實例上,圖4亦顯示本發明之至少一實施例之雷射 二極體10之 Ρ金屬化層13及η金屬化層15。 在圖3及4所示之實施例中,保護墊18之寬度 (W1)約與接觸/保護墊14之寬度(W2)相同(例如, -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21〇><297公釐) 527759 Α7 Β7 五、發明説明(11 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) W1=W2=約150微米寬度)。接觸/保護墊14及保 邊墊18具充分覓度’以連接黏接線於其上(例如,至 諸如 20,20’,20",及 32,3 2’,32,,之位置)。接觸 / 保護墊14及/或保護墊18之寬度並不限於特定大小 ’且無需相同大小。例如,接觸/保護墊14或保護墊 18任一可具有寬度大於另一,只要二接觸/保護墊14 及保護墊1 8各具有充分寬度,俾可黏接欲適當連接於其 上之構件,諸如黏接線或帶即可。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖5爲依本發明之一實施例所形成之一雷射二極體總 成22之頂視圖。在圖5中,圖3之雷射二極體1〇 在可操作上連接至載體28之p金屬化區24,使用接觸 /保護墊14及保護墊18二者(即雷射二極體1 〇之 P方之二邊)。黏接線 30,30’,及 30"連接接觸/保 護墊14至p金屬化區24,及黏接線34,34,,及34" 連接保護墊18至載體28之p金屬化區24, 此現作 用如接觸/保護墊。黏接線 30,30,,30n,34,34,,及 34"由導電性材料,諸如金製造,並具有直徑大小可黏接 至接觸/保護墊14及接觸/保護墊18上。例如, 在至少一實施例,黏接線具有直徑自2微米至 200微 米範圍(普通25微米)。黏接線之直徑或厚度亦可取決 於預期黏接線可攜帶之電流量,或黏接線所接受之熱量( 例如,黏接線可傳送及/或消散之熱量)。 雖圖5之實施例顯示黏接構件30,30’,30",及34 ,34’,34π爲固體線所製,但其他型式之導電性材料,諸 -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 527759 A7 B7 五、發明説明(12 ) 如編織線,帶,多股線等亦可用作黏接構件,以連接雷射 二極體 10至載體 28。 雖圖5顯示一實施例,在此,有三黏接構件連接每一 接觸/保護墊14及保護墊18至載體2 8,但所示之黏 接構件之數並無限制。每墊少至一構件(一用於接觸/ 保護墊1 4及一用於保護墊1 8)亦在本發明之精神及範 圍內。本發明之另一實施例使用多至5 0黏接構件於每一 接觸/保護墊14及保護墊18上。可使用無限制數之 黏接構件,例如,取決於雷射二極體晶片 1〇,黏接構牛 30, 34,及/或載體 28之大小。在至少一實施例中, 黏接構件並非均攜帶電信號,且至少一黏接構件單用以散 熱。 頂黏接線(黏接線,黏接帶等)可對雷射二極體 10擔任以下任一或二角色:(1)電連接至晶片載體 28, 及(2)在頂部上散熱,以移去在雷射二極體1〇之接面 中所產生之熱,此熱使用接觸/保護墊14及保護墊18 消散。在電連接角色方面,當有如本發明所設置之電連接 時,在雷射二極體10之二邊上設置黏接線有助於製造對 稱之電流注入。當黏接線擔任散熱角色時,本發明提供甚 至更多優點,尤其是在高功率雷射二極體之情形爲然。 使用至少一且宜多條黏接線於雷射二極體1 〇之每一 邊上有助於提供多徑路散熱,及有助於提供對稱之熱分佈 ,導致雷射二極體10更佳散熱,並降低熱透鏡效果(熱 透鏡作用爲由熱所引起之光徑路變形,此會影響通過雷射 ---------m-裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -15 - 527759 A7 ___B7____ 五、發明説明(13 ) 二極體之光束之發散及模式品質)。此亦可降低熱引起之 雷射二極體之失效。較佳之導熱率降低雷射晶片之熱集聚 。而且,使用多條黏接線,如顯示於圖5,有助於提供額 外之連接,此可補償任一連接之失敗。 圖 6爲本發明之雷射二極體總成 22之部份斷面圖 , 並有助於圖解本發明之實施例之作用。黏接線30及 34連接至載體 28之 p金屬化區 24(圖 6中未得見 )及雷射二極體10之二邊。額外之黏接線30’,30”,34’ ,及 34"在此部份斷面圖中未得見。當雷射二極體1〇 產生欲消散之熱時,此熱傳送至接觸/保護墊14及保護 墊18(閱圖5),及黏接線30及 34協助連接此消散之 熱至載體 28。 載體28構造連接此熱通過至其底表面, 在此,載體 28傳導該熱通過一金屬板 31(例如散熱器 ), 此發送該熱至一熱泵裝置33, 諸如一 TEC裝置33 或 TEC裝置堆。 簡要參考圖5,在本發明之一實施例中,載體 28之 P金屬化區構形在"包裹π雷射二極體10所連接之區 ,俾黏接線 34,3^, 及 34π連接至 ρ敷金屬區 24, 而無需經過接觸墊 14上方。此有助於減小黏接線 34, 34’,及34”所需之長度,且亦可有助於減小 ρ金屬化區 24沿雷射二極體 10之長度上所需之長度。然而,圖 5實施例僅代表黏接線可自雷射二極體10之保護墊18 連接至載體 28之許多可能方法之僅一種。雷射二極體 10及/或載體 28可經構造及安排,以許多不同方法連 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) -16 -
Jm (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝·
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527759 Α7 Β7 五、發明説明(14 ) 接保護墊18至載體28。 例如’在一實施例(諸如圖8所示之實施例),圖 5之 P金屬化區可包含二或更多導電性區 36, 此等形 成於載體28上,及在雷射隆起部16之任一或二邊上之 黏接構件(例如,黏接構件 30,30,,及 30〃,及/或 34,34’ ’34"之任一或更多)可連接至導電性區 36之任 一或二者。此等導電性區36在電氣上爲同一點,但分 開’此等提供額外之散熱區。在至少一實施例中,二或更 多導電性區 36之任一可連接至一冷卻裝置,此等與任 一或更多其他導電性區 36所連接之冷卻裝置分開。分開 之冷卻裝置可更增加雷射二極體10之熱性能。 例如,圖7爲本發明之另一實施例之雷射二極體總成 22之頂視圖。在圖 7中,p金屬化區 24之形狀與圖 2之雷射二極體總成 22所示相似,及連接保護墊18至 P金屬化區 24之黏接線 34, 34’,34"經過雷射隆起 部16及接觸墊14上方。如此,在本發明之至少一實施 例中,黏接構件之至少之一(例如,任一黏接構件 3 0 或 34)經過雷射隆起部 16上方回至一導電性區,諸如 P金屬化區 24。 圖8爲本發明之又另一實施例之雷射二極體總成22 之另一例。在圖 8中,載體 28構造及安排含有一額外 散熱墊36,亦稱爲一導電性區,來自保護墊18之黏接線 34,34’,34π連接於此區。如上述,該額外之散熱墊36 可爲ρ敷金屬區24之部份。在至少一實施例,材熱墊 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) —--------mr壯衣— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527759 A7 B7 五、發明説明(15 ) 3 6並非p金屬化區2 4之部份,及黏接線3 4,3 4,, 3 4"僅用於散熱。 使用本發明之雷射二極體總成可增加雷射二極體散熱 之能力’並可大爲增加此裝置之可靠性。雖本發明之實施 例以參考使用980nm泵雷射工作之雷射二極體晶片來作 說明’但本發明之實施例可應用於許多不同之波長及型式 之雷射二極體設計’且可特別有用於"較長•,之雷射二 極體晶片(例如,300微米或更大)。本發明之實施例可 用於使用許多不同之光波長,包括UV,可見,及/或紅 外線工作之裝置。而且,本發明亦可用於需要散熱裝置之 任何型式之裝置(包括,但不限於雷射二極體,半導體光 放大器’及半導體調變器)。本發明之實施例亦可用於使 用低或不良熱品質材料製造之裝置。 — 而且’雖本發明之實施例顯示使用裝於 "epi上,·( 例如P側在上)晶片安裝設計之雷射二極體,但本發明 亦可用於nepi下”(例如p側在下)晶片安裝設計( 例如,黏接線在雷射二極體晶片之πη"面,而非晶片 之”ΡΠ側上)。精於本藝之人士明瞭本發明之實施例可同 等應用於epi下(ρ側在下)式之雷射二極體。 在圖中,在一些情形,可顯示一個以上之元件,代表 一特定之元件,且可顯示一單個元件,代表一個以上之元 件。除非另有說明,顯示一個以上元件並非意爲依據本發 明實施之系統需包含一個以上之該元件,亦非顯示一單個 元件意爲本發明限於僅具有一單個該元件之實施例。而且 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) --------t衣— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 527759 A7 B7 五、發明説明Ο6 ) ’除非另有說明,代表一特定元件之元件總數並非限制性 ,精於本藝之人士明瞭特定系統元件之數量可選擇,以配 合特定使用者之需求。 已如此說明本發明之至少一實施例,精於本藝之人士 容易想出各種更改,修改,及改進。此等更改,修改,及 改進在本發明之範圍及精神內,且以上說明僅爲範例,並 非意在限制。故此,本發明並非僅由以上圖解說明及附圖 ,且亦由申請專利範圍界定。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 19 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 527759 ABCD 六、申請專利範圍 1 1. 一種雷射二極體總成,包含: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一載體,具有一頂部及底部,頂部具有一導電性層形 成於其上,該導電性層之尺寸被設計來連結至少二黏接構 件於該導電性層; 一雷射二極體,可操作地連接至載體,雷射二極體具 有第一及第二導電性墊形成於其上,第一及第二導電性墊 各尺寸被設計來連結至少一黏接構件於該第一及第二導.電 性墊; 一第一黏接構件,連接第一導電性墊至導電性層;·及 一第二黏接構件,連接第二導電性墊至導電性層。 2·如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ,載體包含絕緣材料。 3·如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 載體包含一選自 Si、金剛石、SiC、AlN、及 Be〇所 組成之群中的材料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ,雷射二極體具有一頂側,且其中,第一及第二導電性墊 .被形成於該頂側上。 5·如申請專利範圍第4項之雷射二極體總成,其中 ’第一及第二導電性墊被形成於頂側的相反側上。 6·如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ’雷射二極體另包含一雷射隆起部形成於其中。 7.如申請專利範圍第6項之雷射二極體總成,其中 ’雷射隆起部被形成在至少一部份的第一及第二導電性墊 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -20 - 527759 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 2 之間。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 8. 如申請專利範圍第6項之雷射二極體總成,其中 ,第一及第二黏接構件之至少其一連接其個別之導電性墊 至導電性層,但沒有越過雷射隆起部的上方。 9. 如申請專利範圍第6項之雷射二極體總成,其中 ,雷射隆起部實際被形成在雷射二極體的頂側附近。 1 〇.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 雷射二極體另包含第一及第二電極,且第一及第二導電 性墊之至少其一被連接至第一及第二電極的至少其一。 11.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ,第一及第二導電性墊之至少其一被建構及排列以消散由 雷射二極體之內部功率產生所引起之熱。 1 2.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 第一及第二黏接構件之至少其一包含一段選自金屬線、 絲帶、編織帶、絲線、纖維、及線帶所組成之群中的導電 性材料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 3.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,另 包含一第三黏接構件,其可操作地連接第一及第二導電性 墊之至少其一至載體的導電性層。 14.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 載體之導電性層包含分開之第一及第二部份,其中,第 一及第二黏接構件之至少其一被可操作地連接至第一部份 ,及第一及第二黏接構件之至少其一被可操作地連接至第 二部份。 本^張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -21 - 527759 Α8 Β8 C8 D8 夂、申請專利範圍 3 1 5.如申請專利範圍第14項之雷射二極體總成,其 中’第一部份與第二部份電隔離。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 6.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ’ 載體被建構及排列,以傳送熱自其導電性層至載體之底 部。 17. 如申請專利範圍第16項之雷射二極體總成,另 包含一散熱器,其可操作地連接至載體之底部。 18. 如申請專利範圍第π項之雷射二極體總成,另包 含~熱電冷卻(TEC)裝置,其可操作地連接至散熱器、。 19·如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ’ 雷射二極體另包含一 η側及一 ρ側,且第一及第二 導電性墊之至少其一實際被配置於雷射二極體之ρ側上。 20.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ’ 雷射二極體另包含一 η側及一 ρ側,且第一及第二 導電性墊之至少其一實際被配置於雷射二極體之η側上。 21 ·如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ’ 第一及第二黏接構件之至少其一攜帶電信號。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 22·如申請·專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 ’第一及第二黏接構件之至少其一不需要攜帶電信號。 23. 如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 第一及第二黏接構件之至少其一包含一組至少二黏接構 件。 24. 如申請專利範圍第23項之雷射二極體總成,其 中,第一黏接構件之數目等於第二黏接構件之數目。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -22 - 527759 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 4 25. 如申請專利範圍第23項之雷射二極體總成,其 中,第一黏接構件之數目不等於第二黏接構件之數目。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 26. 如申請專利範圍第 1項之雷射二極體總成,其中 , 雷射二極體爲980nm之泵雷射二極體。 27. 如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 雷射二極體爲半導體光放大器的一部份。 28. 如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 雷射二極體爲半導體調變器的一部份。 29. 如申請專利範圍第‘1項之雷射二極體總成、其中 ,雷射二極體操作於紫外線到遠紅波長範圍的至少一部分 上。 30. 如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 載體被建構及排列,以安裝一雷射二極體於其上。 3 1.如申請專利範圍第1項之雷射二極體總成,其中 , 雷射二極體具有一頂側,且其中,第一及第二導電性墊 被配置於雷射二極體之頂側的相反側。 32. —種雷射二極體總成,包含: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一載體,被建構及排列以安裝一雷射二極體晶片於其 上,該載體包含一第一電極區、一第二電極區、及一導電 性區; 一雷射二極體,具有一第一側,連結於載體之第二電 極區,並具有一第二側,包含第一及第二導電性墊; 一第一黏接構件,連接雷射二極體的第一導電性墊至 載體的第一電極區;及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -23 - 527759 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 5 一第二黏接構件,連接雷射二極體第二導電性墊至載 體的導電性區。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 3. —種雷射二極體總成,包含: 一載體,具有一導電性層形成於其上; —雷射二極體,可操作地連接至載體;及 一用以傳送熱之機構,用以傳送二極體所產生之熱至 載體的導電性層,該用以傳送熱之機構可操作地自雷射二 極體連接至載體。 34. 如申請專利範圍第 33項之雷射二極體總成,其 中,載體被建構及排列,以輸送所傳送至導電性層之熱到 冷卻機構。 35. 如申請專利範圍第 33項之雷射二極體總成,其 中,該用以傳送熱之機構包含第一及第二導電性墊,被配 置於雷射二極體的一側上,以及第一及第二黏接構件,連 接雷射二極體之第一及第二導電性墊至載體上的導電性層 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 36. 如申請專利範圍第 33項之雷射二極體總成,其 中,雷射二極體另包含一雷射隆起部,被形成在第一及第 二導電性墊之間。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -24 -
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