TW507408B - Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system - Google Patents

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M37408 A7 一 _ B7__ 五、發明説明（1 ) 璧L明領域 本發明係2001年5月11日申請的序號第09/854,097 號、2001年5月3日申請的序號第〇9/848,043號、1999年12 月10日申請的序號第09/459,165號、2001年4月13曰申請 的序號第〇9/834,840號、2001年2月27日申請的序號第 09/794,782號、2001年1月29曰申請的序號第〇9/771，789 號、2001年1月23曰申請的序號第〇9/786,753號、2000年1〇 月6日申請的序號第〇9/684,629號、2000年6月19日申請的 序號第09/597,812號、和1999年12月27日申請的序號第 〇9/473,852號，之部份連續申請案。本發明關於電氣放電 氣體雷射’且特別關於極窄頻帶高重複率注入種子氣體放 電雷射。 發明背景 電氣放電氣體雷射 電氣放電氣體雷射為熟知、且在1960年代發明雷射 後即已可用。在兩電極間的高壓放電激發一雷射氣體來產 生一氣體形增益媒體。含有增益媒體的一共振腔允許光之 受刺激放大’其然後以雷射光束之形式、自腔室抽出。許 多這些電氣放電氣體雷射以脈波模式來操作。 準分子雷射 準分子雷射係特殊型式之電氣放電氣體雷射，且它 們自1970年代中期即已知。有用於積體電路微影的一準分 子Μ射之描述係在1991年6月11日發佈、名為’’緊凑準分子 雷射’’的美國專利第5,0235884號中。此專利已指定予申請 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背丸之注*事項_穷本頁) …裝- .訂· 4 507408 A7 B7 2 五、發明説明（ -----------------------——裝----- :線， 者之僱主，且該專利在此被合併參考。描述於專利，884中 的準分子雷射係一高重複率脈波雷射。這些準分子雷射在 使用於積體電路微影時，典型上係操作在每小時生產數千 個有價值積體電路的一，，24小時，，積體電路生產線中；因 此’ *機可能極昂貴。因此，多數組件被組織成可在幾分 鐘内來替換的模組。使用於微影的準分子雷射必須使其輸 出光束的頻帶寬縮減至一丕米之分數。此，，線條窄化，，典型 上在形成雷射共振腔之背部的一線條窄化模組（稱為，，線條 窄化組包，’或”LNP”）中來完成。此LNP包含包括稜鏡、鏡 面和一光栅的精密光學元件。專利’㈣4中描述之類型的電 氣放電氣體雷射利用一電氣脈波電源系統、來在兩電極間 產生電氣放電。在此等習知技術系統中，一直流電源供應 器針對各脈波來把稱為，，充電式電容器，，或”c〇”的一電容器 排組、充電到稱為，，充電電壓，，的一預定受控制電壓。此充 電電壓之量度在這些習知技術單元中可在約5〇〇至1〇〇〇伏 特之範圍中。在C0已充電到預定電壓後，一固態切換器關 閉、允§午儲存在C0中的電能透過一系列之磁壓縮電路和一 電壓變壓器來極快速地振鈴、以跨越產生持續約2〇至5〇113 的放電之電極來產生在約16000伏特（或更大）之範圍中的 兩電壓電位。 在微影光源上的主要進展 如描述在，884專利中的準分子雷射在1989至2〇〇1年期 間已變為供積體電路微影用的主要光源。超過1〇〇〇個這些 雷射目前使用在最現代積體電路製造工廠中。幾乎所有這 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 五、發明説明（ 些雷射都具有描述在，副專财的基本設計特性。 即為： (1) 單、脈波電源系統，於每秒約1〇〇至2500脈波 之脈波率來提供跨越電極的電氣脈波； (2) —單一共振腔，包含一部份反射鏡面式輸出耦合 器及由一稜鏡光束擴大器、一調諧鏡面和一光柵組成的 一線條窄化單元。 (3) 一單一放電腔室，含有一雷射氣體（KrF或ArF)， 兩延長電極，和用來在兩電極間夠快地循環雷射氣體、以 在脈波間清潔放電區的一切線風扇；及 .訂- (4) 一光束監視器，以在一脈波對脈波基礎上來控制 脈波忐量、能量劑量和波長的一回授控制系統，來監視輸 出脈波之脈波能量、波長和頻帶寬。 在1989-2001期間，這些雷射之輸出功率已逐漸增加、 且針對脈波能量穩定度、波長穩定度和頻帶寬之光束品質 規格也變得越緊。針對廣泛使用在積體電路製造中的流行 微影雷射模型之操作參數包括於8mj之脈波能量、於每秒 2500脈波之脈波率（提供高達約2〇瓦特之一平均光束功 率）、於約0.5pm的頻帶寬（FWHM)和於+/-0.35%之脈波能 量穩定度。 在這些光束參數中有需要做進一步改善。積體電路 製造商期望用對脈波能量之更精確控制來更佳控制波長、 頻帶寬、較.高光束功率。一些改善可用如在，884專利中描 述的基本設計來提供；然而，用該基本設計無法實施主要 本紙張尺度適用中國國家標準（G^) A4規格（21〇χ297公釐） 507408 五、發明説明（4 ) 改善。例如，用一單一放電腔室，脈波能量之精確控制可 能不利地影響波長及/或頻帶寬，且反之亦然，特別是於 極高脈波重複率。 注入種子化 用來縮減氣體放電雷射系統（包括準分子雷射系統）之 頻帶寬的一熟知技術涉及把一窄頻帶，，種子，，光束注入一增 益媒體。在-此系統中，產生種子光束、稱為，，主振邊器，， 的一雷射被設計在一第一增益媒體中來提供一極窄頻帶寬 光束，且該光束在第二增益媒體中被使用為一種子光束。 若第二增益媒體作用為一功率放大器，則系統參照為一主 振盪器功率放大器（ΜΟΡΑ)系統。若第二增益媒體本身具 有一共振辟，則系統參照為一注入種子化振盪器（IS〇)系 統、或一主振盪器功率振盪器（ΜΟΡΟ)系統，在此情形中、 種子雷射稱為主振盘器且下游系統稱為功率振逢器。包含 兩分立系統的雷射系統傾向於明顯更昂貴、較大且比單一 腔室雷射系統更複雜。 所需要的是針對脈波氣體放電雷射之一更佳雷射設 計，來操作於每秒約4000脈波或更大之範圍中的重複率， 允許包括波長、頻帶寬和脈波能量的所有光束品質參數之 精確控制。 發明之概要 本發明提供一種注入種子化模組氣體放電雷射系 統，能夠產生於約4000Hz或更大之脈波率、和於約5至1〇mJ 或更大之脈波能量的高品質脈波雷射光束。兩分立放電腔 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公爱） 装 .....丨-Γ線 (詩先¾讀计面之;i.i私項办填巧，瓜订) 507408 A7 ----- B7 五、發明説明（5 ) 至被設置，其一係產生在第二放電腔室中被放大的一極窄 頻帶種子光束之主振盪器的一部份。腔室可分開來控制， 允a午在主振盪器中的波長參數之最佳化、和在放大腔室中 的脈波能量參數之最佳化。一較佳實施例係一 ArF準分子 雷射系統組配為一個ΜΟΡΑ、且特別設計來使用為供積體 電路微影的光源。在較佳Μ〇ΡΑ實施例中，各腔室包括一 單一切線風扇，提供充分氣流、以藉由用比脈波間的大約 0.25毫秒少之時間、自放電區清除碎片、來允許於4〇〇〇Ηζ 或更大之脈波率的操作。主振盪器配備有具有一極快速調 谐鏡面的線條弄窄組包，該鏡面能夠於4〇〇〇Ηζ或更大之 重複率、在一脈波對脈波基礎上、來控制中央線波長，且 提供小於0,2pm之頻帶寬（FWHM)。 1式之簡簟描诫 第1圖係本發明之一較佳實施例的透視圖； 第1A和1B圖顯示一U形光學桌； 第2和2A圖顯示腔室特性； 第3 A和3B圖顯示一兩通過ΜΟΡΑ ; 第4、4Α、4Β和4C圖顯示一較佳脈波電源系統之特性； 第5、5Α和5Β圖顯示脈波電源系統之額外特性； 第6A1和6A2圖顯示各種ΜΟΡΑ組態和測試結果； 第6Β、6C、6D和6Ε圖顯示原型ΜΟΡΑ系統之測試結 果； 第 7、7Α、8、9Α、9Β、10、10Α、1卜 12、12Α、12Β 圖顯示脈波電源組件之特性 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（210X297公釐） 3先閲讀背如之;-L.s弘項 -裝- .訂- 507408 A7 B7 五、發明説明（6 第13圖顯示把抖動問題最小化之技術； 第14圖顯示一波表之元件； 第14A、14B和14C至14H圖說明用來測量頻帶寬的— 技術和組件； 第1 5圖顯示用來快速讀取一光二極體陣列之技術； 第16圖顯示用來精密線條窄化一主振盪器之技術； 第16A、16B1和16B2圖顯示一 PZT控制的LNP; 第16C圖顯示使用PZT控制的LNP之結果； 第16D和16E圖顯示用來控制LNP之技術； 第Π、17A、17B和17C圖顯示用來洗淨一光栅表面之 技術； 第18圖顯示一風扇馬達驅動配置； 第18A圖顯示一較佳風扇葉片； 第19、19 A和19B圖顯示一洗滌系統之特性； 第20、20A和20B圖顯示一較佳開關之特性； 第21和21A圖顯示熱交換器特性； 第22A、22B、22C和22D圖顯示用來把放電腔室夫持 在執道上之技術； 第22E、22F、22G和22H圖顯示用來密封一光束介面 之技術； 第221、22J、22K和22L圖顯示用來密封一光束介面 之另一技術； 第22M圖顯示用來密封和合併一部份之光束路丰u的— 洗滌技術；及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） f猗先閱讀背，g之it4饵項/^¾¾衣lex j -裝丨 :ψ A7 一 _____B7_ 五、發明説明（7 ) 第23圖顯示用來空間地過濾一種子光束之技術。 故佳實施例之詳細描冰 第一較佳實施例 一般佈局-三波長平台 第1圖係本發明之第一較佳實施例的透視圖。此實施 例係組配為一 ΜΟΡΑ雷射系統的注入種子化窄頻帶準分子 雷射系統。特別設計來使用為供積體電路微影用的光源。 在如本實施例中例示的本發明優於習知技術之主要改善， 係利用注入種子化、且特別是含有兩分立放電腔室的一主 振盪器功率放大器（ΜΟΡΑ)組態。 此第一較佳貫施例係一氟化氬（Arp)準分子雷射；然 而’系統使用設計來適配氟化氪（KrF)、ArF或氟（F2)雷射 組件的一模組平台組態。此平台設計允許使用相同基本組 櫃和許多雷射系統模組及用於這三型雷射之任一個的組 件。申请者因三雷射設計產生含有針對KrF約248nm、針 對ArF約193nm和針對F2約157.63nm之波長的雷射光束， 而把此平台參照為其”二波長平台”。此平台也設計有介面 組件，來使於各個三波長的雷射系統與此等工具之所有主 要製造商的現代微影工具相容。 第1圖識別此較佳雷射系統2之主要組件。其包括： (1) 雷射系統框架4 ’其被設計來内裝雷射除了 ac/dc 電源供應器模組外的所有模組； (2) AC/DC高電壓電源供應器模組6; (3) —共振充電器模組7，用來以每秒4〇〇〇充電率、把 507408 A7 ______ _ B7_ 五、發明説明（8 ) 兩充電電容器排組充電至約丨〇〇〇伏特； (4) 兩換向器模組8八和8B，各包含上述充電電容器排 組之一個、且各包含從儲存在充電電容器排組上的能量來 形成約16000伏特和約i v 5期間的極短高壓電氣脈波之一 換向器電路； (5) 兩放電腔室模組，以一頂底組態來安裝在框架* 中、由一主振盪器模組1〇和一功率放大器模組丨2所組成， 各模組包括一放電腔室1〇A與12A、及安裝在腔室頂上的 一壓縮頭10B與12B ,壓縮頭壓縮（時間式地）來自該換向器 模組、從約1 # s至約5〇ns、以電流上的對應增加之電氣脈 波； (6) 主振盪器光學單元，包括線條窄化組包i〇c和輪出 耦合器單元10D; (7) —波前工程盒14，包括使種子光束成形和把它指 向到功率放大器内、且監視M 〇輸出功率的光學單元和儀 器， (8) 光束穩定化模組16，包括波長、頻帶寬和能量監 視器； " (9) 開關模組18; (10) —輔助組櫃，其中設置一氣體控制模組2〇、一 a 卻水分配模組22和一空氣流通模組24; (11) 一顧客介面模組26; (12) —雷射控制模組28;及 (13) —狀態燈號30。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（21〇><297公愛〉 11 -----------------------裝------------------、盯------------------線. (訢先閲讀背面之注項#4-icT本) 507408 A7 B7 五、發明説明（9 ) 在此極詳細描述的本較佳實施例係如上述的一 ArF ΜΟΡΑ組態。需要來把此特定組態轉換至其他組態的一些 改變如下。ΜΟΡΑ設計可藉由製造圍繞第二放電腔室的一 共振腔而轉換至ΜΟΡΟ設計。許多技術可用來做此，其一 些在此合併參考的專利申請案中被討論。KrF雷射設計傾 向極類似ArF設計，故描述於此的多數特性可直接適用於 KrF。事實上，使用於ArF的較佳光柵因雷射波長對應於 光栅之線間距的整數倍而也適用於KrF。 當此設計使用於ΜΟΡΑ或M0P0iF2雷射時，較佳地 一線條選擇器被使用來替代描述於此的LNP、因為自然的 F2光譜包含其一被選擇且另一不選擇的兩主要線條。 U形光學桌 較佳地MO和PA兩者之光學單元如第丨八和iB圖顯示 地安裝在一U形光學桌上。U形光學桌以在此被合併參考 的美國專利第5,863,017號中描述之方式來動態地安裝於 雷射的基座。MO和PA之兩腔室不安裝在桌上，而各由三 輪件（兩個在一側且一個在另一側）來支持在由腔室2之下 框架支持的軌道上。（輪件和執道較佳如在此被合併參考 的美國專利第6，109,574號中描述地來配置）。此配置提供 光學單元與引起振動的腔室做隔離。 較佳雷射系統和參考於上的模組之設計和操作更詳 述於下。 主振盪器 主振盪器10在許多方面類似於諸如在此被合併參考

五、發明説明（10 ) 的’884專利中和在美國專利第6，128,323號中描述之習知技 術ArF。然而，主要改善被提供來允許操作於仂⑽Hz和更 大，且針對包括頻帶寬控制的光譜性能被最佳化。此結果 係更窄頻帶寬和經改善頻帶寬穩定度。主振盪器包含如第 1、2和2A圖中顯示的放電腔室l〇A，其中設置各約50cm 長、且由約0·5英吋來隔開的一對延長電極1〇八_2和1〇八_4。 陽極10Α-4安裝在流動成形陽極支持桿1〇八_6上。四個分 立韓片水冷卻熱交換器單元1〇Α_8被設置。一切線風扇 10Α-10由兩馬達（未顯示）來驅動，用來把於約8〇m/s流速 之一雷射氣體提供於電極間。腔室包括含有與雷射光束呈 約45度設置的CaF2窗口之窗戶單元（未顯示）。於腔室中央 具有一吸口的一靜電過濾器單元濾掉如在第2圖之u指出 的一小部份之氣流，且經清潔氣體以在美國專利第 5,359,620號（在此被合併參考）中描述之方式，被指向到窗 戶單元中、把放電碎片自窗口隔離。主振盪器之增益區由 透過在此實施例中包含約3%氬、〇.1%1?2和其餘氖的雷射 氣體，於電極間之放電來產生。氣流在次一脈波前把來自 放電區的各放電之碎片清除。共振腔由包含垂直於光束方 向而安裝、且被塗覆來反射於193nm的約3〇%之光且通過 約70%之193nm光的一 CaF:鏡面之一輸出耦合器1〇〇，於輸 出側來產生。共振腔之相對邊界係如第1圖顯示的一線條 窄化單元10C，其類似於在美國專利第6，128,323號描述的 習知技術線條窄化單元。LNP如第16、16A、16B1和16B2 圖地更詳述於下。在此線條窄化組包中的重要改善包括用 本紙張尺度適用中國國家標準（〇β) A4規格（21〇><297公釐） 13 507408 A7 — ____B7 五、發明説明（11 ) 來把水平方向上之光束擴大35倍的四個CaF光束擴大稜鏡 10C1，及由針對相當大樞紐之一步進馬達控制的一調諧 鏡面10C2 ’及用來提供每爪爪具有約8〇表面的鏡面梯列光 柵10C3之極精細調諧的一壓電驅動器，都安裝成光列組 態、反射自大約300pm寬的ArF自然光譜選出之一極窄頻 帶之UV光。另一重要改善係把振盪光束之橫截面在水平 方向上限制於1 ·imm、且在垂直方向上限制於7111111的一窄 後隙縫。振盪器光束之控制討論於下。 功率放大器 功率放大器12包含在此實施例中極類似放電腔室的 雷射腔室12 A。具有兩分立腔室允許在一系列脈波上的脈 波能量和整合能量（稱為劑量），與波長和頻帶寬分開來控 制於一大的限度。此允許較佳閉迴路穩定度。腔室之所有 組件在製造程序期間係相同且可互換。然而在操作上，氣 壓在比較於PA時在MO中明顯較低。功率放大器之壓縮頭 12B在此實施例中也明顯相同於10B壓縮頭，且壓縮頭之 組件在製造期間也可互換。一差異係壓縮頭電容器排組之 電容器針對MO更寬廣地設置，來產生在比較於pA時一明 顯較高電感。脈波電源系統之腔室和電氣組件的此密切相 同性幫助確定脈波形成電路之時序特性相同或明顯相同， 使得抖動問題被最小化。 功率放大器組配有兩光束通道，通過功率放大器放 電腔室之放.電區。第3A和3B圖顯示通過主振盪器和功率 放大器的光束路徑。光束如第3A圖顯示地振盪數次、通 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） (f?先閲讀背知之;i&弘項？木订 装丨 •訂- 14 507408 A7 B7 五、發明説明（12 過MO 10之腔室10A和LNP 10C，且在其穿過LNP 10C之通 道上嚴重地線條窄化。線條窄化種子光束被鏡面14 A向上 反射，且被鏡面14B透過腔室12A於稍微歪斜角度（相對於 電極方向）水平地反射。在功率放大器後端處兩鏡面12C和 12D如第3B圖顯示地，針對與電極方向同線、水平地第二 次通過PA腔室12A，來把光束反射回去。 測試結果 申請者已實施上述基本ΜΟΡΑ組態的延伸測試。第6A 至6Ε圖顯示此證明之主要測試的一些結果。 第6Α圖顯示歪斜雙通過放大器設計在與其他放大器 設計比較時有多好。已測試的其他設計係單通過、筆直雙 通過、有分開的放大器電極之單通過、傾斜雙通過。第6Β 圖顯示系統輸出脈波能量針對於範圍自650V至1100V的充 電電壓之歪斜雙通過組態為PA輸入能量之函數。第6(：圖 顯示輸出脈波之形狀針對四組輸出能量為在振盪器之開始 和放大器脈波間的時間延遲之函數。第6D圖顯示在輸出 光束頻帶寬上的脈波間之時間延遲的效應。此繪圖也顯示 在輸出脈波能量上的延遲之效應。此繪圖顯示出頻帶寬可 在脈波旎量之代價上被縮減。第6E圖顯示出雷射系統脈 波週期也可在脈波能量之代價上被延長一些。 脈波電源電路 在此第一較佳實施例中，基本脈波電源電路類似於 供微影用的習知技術準分子雷射光源之脈波電源電路。重 要差別和改善包括針對各放電腔室來把分立脈波電源電路 本紙張尺度適用中國國表標準（CNS) A4規格（210X297公嫠） 15 (請先閲讀背面之;'t.s事項仵填，T.CC人，·A ) -裝- 訂- .·線丨 A7 ---—____ B7 五、(13「 -- &置於充電電谷器之下游。一單一共振充電器把並聯連接 的兩充電電谷器排組充電，來確定兩充電電容器排組被充 電到精確相同電壓。重要改善也被提供來調節脈波電源電 路之組件溫度。第5、5Α*5Β圖顯示使用於Μ〇的一較佳 基本脈波電源電路之重要元件。相同基本電路也使用於 唯重要差異係針對電路中的一些電容器和電感器 之選定值。 共振充電 申請者已利用兩類型之共振充電系統來把心極快速充 電。這些系統可由參考第5Α和5Β圖來描述。 共振充電器 顯示此較佳共振充電的一電路顯示於第5 a圖。在此 情形中’具有—208VAC/90 amp輸入和一 15OOVDC 50amp 輸出的一標準dc電源供應器200被使用。電源供應器係可 自大約600伏特調整到1500伏特的一 dc電源供應器。電源 供應器直接附於C· 1，而消除電壓回饋到供應器之需要。 當供應器被致能時，它打開且調節在電容器C-i上的一恆 定電壓。系統之性能係獨立於在C-1上的電壓調節，因此 在電源供應器中只需要最基本的控制迴路。第二，供應器 在C-1上的電壓掉落到電壓設定值以下時將把能量加到系 統中。這允許電源供應器在雷射脈波初始化間的整個時間 (且甚至在雷射脈波期間）來補充自C-1傳送到CG之能量。 這進一步縮減在習知脈波電源系統上的電源供應器峰值電 流需要。需要一含有最基本控制迴路之一供應器、與把供 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 16 (請先閲讀背缸之注意事项寫本頁) 裝— -口 507408 A7 B7 五、發明説明（Η 應器之峰值額定電流縮減到系統之平均電源需求的組合， 縮減電源供應器成本達50%。另外，此較佳設計因恆定電 流、固定輸出電壓電源供應器可易於自多數來源獲得而提 供販賣者彈性。可自諸如 Elgar、Universal Voltronics、Kasier 和EMI的供應商來獲得此等電源供應器。 控制板 此電源供應器把一 1033 /z F電容器202連續充電到由 控制板204命令的電壓位準。控制板204也命令IGBT切換 器206來關閉和打開，以把能量自電容器202傳送到電容器 42。電感器208與電容器202和42連結地來設定傳送時間常 數、且限制峰值充電電流。控制板204收納與電容器42上 的電壓成比例之一電壓回授212、及與流過電感器208之電 流成比例的一電流回授214。從這兩回授信號，控制板204 在IGBT切換器206打開之瞬間可即時地計算電容器42上的 最後電壓。因此用饋入控制板204之一命令電壓210，可由 在電容器42和電感器208内的儲存能量來做一精確計算， 以比較於命令的所需充電電壓210。自此計算，控制板204 將決定在充電週期中打開IGBT切換器206之確切時間。 系統正確度 在IGBT切換器206打開後，儲存在電感器208之磁場 中的能量將透過自由飛輪二極體路徑215，來傳送到兩電 容器排組42(針對M0和PA之C。）。即時能量計算之正確度 將判定將存在電容器排組42上的最終電壓上之變動量。由 於此系統的極快充電率，太多抖動可能存在、而不能符合 17 本紙張尺度適用中國國家標準（GNS) A4規格（210X297公釐） 507408 A7 B7 五、發明説明（15 ) ±0.05%之一期望系統調節需求。若如此，則可利用額外 電路、如討論於下的一de-qing電路或下增電路。 第二共振充電器 第二共振充電器系統顯示於第5 B圖。此電路類似於 第5A圖顯示者。主要電路元件係： 11 - 一個三相電源供應器300，有一恆定dc電流輸出。 C-1-一來源電容器302 ,其係一等級之量度或更多地 大於現有C〇電容器42。 Ql、Q2、和Q3-控制用來充電和維持c〇上的一經調節 電壓之電流的開關。 Dl、D2、和D3-提供電流單向流動。 R1、和R2-提供對控制電路之電壓回授。 R3-允許在一小過充電之情形中在(^上的電壓之快速 放電。 L卜共振電感器，在C-1電容器302和C〇電容器排組42 間來限制電流、且設定充電傳送時序。 控制板304-根據電路回授參數來命令Q1、q2、和q3 打開和關閉。 操作之例子如下： 在第5B圖之電路與第5A圖之者的差異係增加已知為 De-Qing開關的開關Q2和二極體D3。此開關藉由允許控制 單元在共振充電程序期間把電感器短路掉，來改善電路之 調節。此’de-qing”防止儲存在充電電感器]^之電流中的 額外能量之傳送到電容器C。。 衣紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格(210X297公|) 18 (請先閲讀背面之汶意莽項 ••'7本頁) 裝- #- 507408 A7 — _B7 五、發明説明（16 ) 在需要雷射脈波前，在C-1上的電壓被充電到600-800 伏特且開關Q1-Q3打開。在來自雷射之命令上，qi將關閉。 此時’電流將透過充電電感器L1、自C-1流到CG。如前面 段落中描述的，在控制板上的一計算器將相對於來自雷射 的一命令電壓設定點，來評估Cg上的電壓和L丨中流動的 電流。Q1在CO電容器排組上的電壓加上儲存在電感器L1 中的等效能量等於期望命令電壓時將打開。該計算係：

Vf^〇s2A(^^us2)/C0f5 其中： V产在Q1打開且L1中的電流變為零後、CG上的電壓。

Vc〇s=當Q1打開時、C〇上的電壓。

Ius=當Q1打開時、流過1^之電流。 在Q1打開後，儲存在L1中的能量開始透過D2來傳送 到CO電容器排組，直到CO電容器排組上的電壓大約等於 命令電壓為止。此時，Q2關閉且電流停止流到CO、且透 過D3來指向。除了”de-qing”電路外，下增電路中的q3和 R3允許CO上的電壓之額外精確調節。 下增電路216之開關Q3在流過電感器L1之電流停止時 將被控制板命令來關閉，且C〇上的電壓將下增至期望控制 電壓；然後開關Q3打開。電容器c0和電阻器R3之時間常 數應充分快速’不為整個充電週期之相當量地把電容器 下增至命令電壓。 結果’可用二層次之調節控制來組配共振充電器。 在充電週期期間由能量計算器和開關Q1之打開來提供有 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 19 ------------------------裝------------------、玎------------------線· (气叫tfKl讀竹而.ν·;ϊ..4杯項辱¾¾乂.订) 507408 A7 ___ Β7 五、發明説明（17 ) 些粗糙調節。當C0電容器排組上的電壓接近標的值時， de-qing開關關閉、在Cq上的電壓處在或稍高於標的值時 來阻停共振充電。在一較佳實施例中，心…叫開關被使 用來提供含有比+/-0.1%更佳正確度之調節。若需要額外 調節，則可利用電壓調節上的第三控制。此係開關QyOR3 之下^曰電路（在第5B圖之216顯示的），來把c〇放電下達精 確標的值。 CO下游之改善 如上指出的，本發明之MO和PA的脈波電源系統各利 用如在習知技術系統中使用的相同基本設計。然而，在該 基本設計中、針對在由大幅增加之重複率所致的熱負載上 大約因數3之增加、需要一些重要改善。這些改善被討論 於下。 詳細之換向器和壓縮頭描述 在此段落中，我們描述換向器和壓縮頭之製造細節。 固態切換器 固態切換器46係由辦公室在賓州揚屋市的P〇werex公 司提供之P/N CM 800 HA-34H IGBT切換器。在一較佳實 施例中，兩此等切換器被並聯使用。 電感器 電感器48、54和64係類似於那些使用在如美國專利 第5,448,580號和5,315,611號中描述之習知系統者的可飽 和電感器。第7圖顯示L〇電感器48之一較佳設計。在此電 感器中兩IGBT切換器46B中的四個傳導體通過十六個氧鐵 衣紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 20 (請先·閲讀背如之：;L.i弘π . ，裝- 507408 A7 B7 五、發明説明（18 堯Λ圈49來开〉成部份48A、有約i英4内徑和1 $英忖外 仏的極同導磁率材料之—8英忖長中空圓柱體。各四個傳 導體然後圍繞-絕緣圈形鐵心捲繞兩次來形成部份彻。 四個傳導體然後連接至又連接於Ci電容器排組52之高壓側 的一平板。 可飽和電感器54之一較佳草圖顯示於第8圖。在此情 形中’電感器係-單圈構造，其中都於高壓的總成頂和底 蓋541和542及中心軸543形成穿過電感器磁性鐵心的單 圈。外部盒體545處於接地電位。磁性鐵心係由賓州BuUer 市之Magnetics公司或加州 Adelant〇市之Nati〇nal Arn〇id公 司提供的0.0005”厚膠帶繞的5〇-5〇% Ni-Fe合金。在電感 器益體上的鰭片546促進内部發散的熱量之傳送至外力空 氣冷卻。另外，一陶瓷碟片（未顯示）安裝在反應器底蓋下 方、來幫助把熱量自總成之中央部段傳送到模組架體基 板。第8圖也顯示高壓連接至Ci電容器排組52之電容器 的一個、且至在1: 25步升脈波變壓器56之電感單元中 一個上之一高壓導線。盒體545連接於單元56之接地導線。 可飽和電感器64之上和截面圖分別顯示於第9A和9B 圖。在此實施例之電感器中，除金屬片塊3〇1、302、303 和304外的磁通量如第9B圖顯示地加入，來縮減電感器中 的洩漏磁通量。除片塊外的這些磁通明顯縮減磁通可穿透 的面積，因此幫助把電感器之飽和電感量最小化。電流透 過電感器總成中的垂直傳導體桿件、圍繞磁性鐵心307做 成五個迴路。電流於305進入，向下傳播在標示”1”的中 中的 央 ----------------------裝—— (#先¾¾背面之注意弘項fr填，:«本頁) .訂， :線丨 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 21 507408 A7 B7 五、發明説明（19 ) 内之一大直徑傳導體、且向上傳播在也標示”1”的周圍上 之六個較小傳導體，如第9 A圖顯示的。電流然後向下流 到在内側標示2的兩傳導體，然後向上流到在外側上標示2 的六傳導體，然後向下流到在内側上的磁通排除金屬、然 後向上流到在外側上標示3的六傳導體、然後向下流到在 内側上標示3的兩傳導體、然後向上流到在外側標示4的六 傳導體、然後向下流到在内側標示4的傳導體。磁通排除 金屬組件被保持於跨越傳導體之全脈波電壓的一半，允許 在磁通排除金屬元件和其他繞圈之金屬桿件間的安全隔開 間距上的縮減。磁性鐵心307係由賓州Butler市之Magnetics 公司或加州Adelanto市之National Arnold公司提供的 0.0005”厚膠帶之80-20% Ni-Fe合金的繞組形成之三線圈 307A、B和C來製成。讀者請注意到諸如可自德國VACUUM SCHITELZE公司獲得的VITROPERM™和自日本之日立金 屬公司獲得的FINEMET™之極微結晶材料，可使用為電 感器54和64。 在習知技術脈波電源系統中，自電氣組件的漏油已 為一潛在問題。在此較佳實施例中，油絕緣組件限於可飽 和電感器。再者，如第9B圖顯示的可飽和電感器64被盒 裝在一原型含油盒體中，其中所有密封連接都設置在油平 面上方、以明顯消除漏油之可能性。例如，電感器64中的 最低密封顯示於第8B圖之308。因為正常油平面低於盒體 306之上蓋，故只要盒體維持在一直立情況則幾乎不可能 讓油漏到總成外面。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 22 吋3 | -kj ; . 讀 ; 背 ； 面·. 之」 注 ； 意 * 事 ： 項 r

507408 A7 _B7_ 五、發明説明（20 ) 電容器 如第5圖顯示的電容器排組42、52、62和82(即CQ、q、 Cp_#Cp)都包括並聯連接之架上可得電容器排組。電容器 42和52係可自諸如辦公室在北卡羅萊納州Statesville市、 或德國Wima市之Vishay Roederstein公司的供應商獲得之 薄膜型電容器。申請人偏好把電容器和電感器連接之方法 係以類似於在美國專利第5,448,580號中描述者之方式， 把它們焊接至在具有厚鎳塗覆銅導線的特殊印刷電路板上 之正和負端子。電容器排組62和64典型上由自日本之 Murata或TDK的販賣商之一平行陣列之高壓陶瓷電容器來 組成。在使用於此ArF雷射上的一較佳實施例中，電容器 排組82(即Cp)包含一排組之三十三個〇.3nF電容器來提供 9.9nF之電容量；cp_i包含一排組之二十四個〇.4〇nF電容器 來提供9.6nF之總電容量；C!係一 5.7/z F電容器排組且C〇 係一 5.3/zF電容器排組。 脈波變壓器 脈波變壓器56也類似於在美國專利第5,448,580號和 第5,313,481號中描述的脈波變壓器；然而，本實施例的 脈波變壓器在次級繞組中只具有一單圈、及針對丨：24之 一等效步升比率等於一單主圈之1/24的24個電感單元。脈 波變壓器56之一草圖顯示於第10圖。各24個電感單元包含 具有如沿著第1〇圖之底緣顯示的鉚合至印刷電路板56B上 之正和負端子的兩凸緣（各有含具螺紋鉚釘孔之一平坦邊 緣）之紹貝線轴56A。（負端係二十四主繞組之高壓端子。） -----------------------裝------------------、玎-------------……線 (請先閲讀背面之注.41>項*填舄本頁)

507408 A7 ________Β7_ 五、發明説明（21 ) 絕緣器56C把各線軸之正端自相鄰線軸之負端分開。在線 軸之凸緣間係含有一 0.875外徑、約1/32英对之壁厚，的1 1/16英吋長的一中空圓柱體。線軸捲繞由一英吋寬、〇 7mU 厚1^1§^頂2605 83八及一0.1111丨1厚麥拉薄膜，直到絕緣 MetglasTM捲繞之外徑係2.24英吋為止。形成一主繞組的一 單捲繞線軸之透視圖顯示於第10A圖。 變壓器之次級係安裝在一緊密適入絕緣管之 PTFE(Teflon(D)内的一單外徑不銹鋼桿件。繞組係如第1〇 圖顯不地在四部段中。顯示為第1〇圖之56D的不銹鋼次級. 之低壓端被緊附於在印刷電路板56B於56E之主HV導線， 高壓端顯示於56F。結果，變壓器採用一自行變壓器組態、 且步升比率變為取代1: 24的1: 25。因此，在電感單元之 +和-端間的一大約-1400伏特脈波將在次級侧上的端子56F 處產生一大約-35000伏特脈波。此單圈次級繞組設計提供 允許極快速輸出爬升時間的極低洩漏電感量。 雷射腔室電氣組件之細節

Cp電容器82包含安裝在腔室壓力容器之頂上的一排組 之二十二個〇.3nF電容器。（典型上一 ArF雷射用由3·5%氬、 〇· 1 %氟、和其餘氖構成的一雷射氣體來操作。）電極係約28. 英吋長、由較佳約5/8英吋的約0.5至1.0英吋來分開。較佳 電極描述於下。在此實施例中，上電極參照為陰極且下電 極如第5圖指出地接地、且參照為陽極。 放電時序 在ArF、KrF和F2電氣放電雷射中，電氣放電只持續 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210><297公釐） —— 、-r— 24 507408 A7 B7 五、發明説明（22 ) 約50ns(即5百億分之一秒）。此放電產生雷射動作所需的 一群數反轉，但該反轉只存在放電時間期間。因此，針對 一注入種子化ArF、KrF或F2雷射的一重要需求係確定， 來自主振盪器的種子光束在群數於雷射氣體中反轉時的大 約5百億分之一秒期間來通過功率放大器之放電區，以使 種子光束可放大。對放電之精確時序的一重要障礙係在時 間切換器42(如第5圖顯示的）被觸發來關閉和只持續約4〇_ 50ns的放電開始間有約5微秒之延遲的事實。脈波花費此 大約5微秒時間區間以透過cG和電極間的電路來振鈴。此 時間區間隨著充電電壓之量度和隨著電路中電感器之溫度 而明顯改變。然而在描述於此的本發明之較佳實施例中， 申請人已發展出提供在小於2ns(即20億分之一秒）之相當 正確度内的兩放電腔室之放電的時序控制之電氣脈波電源 電路。兩電路之一方塊圖顯示於第4圖。 申晴人已貫施顯示時序以大約5-1 〇ns/伏特、隨著電 壓而改變之測試。這在把充電電容器充電的高壓電源供應 器之正確度和重複率上設置嚴格需求。例如，若期望有5ns 之時序控制、每伏特有l〇ns之移變敏感度，則解析正確度 將為0·5伏特。對於ιοοον之名義充電電壓，此將需要〇 〇5% 之充電正確度，其極難以達成、特別是在電容器必須每秒 充電到那些特定值4000次時。 申請人對此問題之偏好解決係自如第1和4圖指出、 且上述的單一共振充電器7,來把Μ0*ΡΑ兩者之充電電 容器並聯地充電。針對兩系統來設計兩脈波壓縮/放大電 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（21〇x297公复） 25 'Λι.-'ι-^υ'.' ,裝- 訂：· :線丨 507408 A7 B7

光 in 1ΐ αα- 之 ,δ % 項

507408 A7 ____________B7_ 五、發明説明（24 ) 處在比前部份退為較窄頻帶寬。因此，分立觸發信號被提 供來觸發各腔室之觸發器切換器46。根據如顯示於第6C、 D和E圖者的實際性能曲線，來選擇實際延遲以達成期望 光束品質。讀者請注意到例如，.藉由增加MO觸發和PA觸 發間的延遲，可在脈波能量之代價上來獲得較窄頻帶寬和 較長脈波。 控制放電時序的其他技術 因為放電之相對時序如第6C、D和E圖指出地，可在 光束品質上具有重要效應，額外步驟可被驗證來控制放電 時序。例如，一些模式之雷射操作可導致充電電壓上的寬 幅搖擺或電感器溫度上的寬幅搖擺。這些寬幅搖擺可使放 電時序控制複雜。 -監視器時序 可在脈波對脈波基礎上來監視放電時序，且可在回 授控制系統中使用時間差來調整觸發信號關閉切換器42之 時序。較佳地，將使用一光胞來觀察放電螢光性（稱ASE)、 而非治射脈波以監視PA放電，因為若在pa中未產生雷射 光束則可產生極差時序。對於MO、可使用ASE或種子雷 射撤波。 -偏壓調整 可藉由調整通過電感器LB!、LB2* lB3、提供電感器 48 54和64之偏壓的偏壓電流來增加或減少脈波時序，如 第5圖顯示的。可使用其他技術來增加把這些電感器飽和 所需的時間。例如，鐵心材料可與可根據來自一脈波時序 本紙張尺度賴tag家_伽）A4規格⑵0Χ297公复) 裝#線 (請先閲讀背面之注.5弘項4增，^本^) 27 A7 ^ -—— B7 五、發明説明^ - 瓜視器之一回授信號來回授控制的一極快速響應Ρζτ元 件、機械地分開。 -可調整寄生負载 一可調整寄生負載可加至C0下游的脈波電源電路之 任一個或兩者。 -額外回授控制 除了脈波時序監視器信號外，充電電壓和電感器溫 度信號可使在回授㈣巾，除了如上述的觸料序調整 外 了如上彳9出地調整偏壓電壓或鐵心機械隔距。 組件之水冷卻 為了適配較大熱負載，除了由雷射組櫃内的冷卻風 扇提供之正常外力空氣冷卻外、脈波電源組件之水冷卻被 提供來支持於此較高平均功率模式之操作。 水冷卻之一缺點傳統上已為在電氣組件或高壓佈線 附近之漏水的可能性。此特定實施例藉由利用一單一固態 片塊之冷卻水管、其在一模組内循送以冷卻正常上發散在 模組中沉積之大部份熱量，來明顯避開該潛在問題。因為 在模組殼體内沒有結合點和連接部、且冷卻水管係一連續 片塊之固態金屬（如銅、不銹鋼等等），在模組内發生漏水 之機會大幅縮減。模組至冷卻水之連接部因此被做在總成 薄片金屬殼體外面，其中冷卻水管與一快速分解型連接器 配對。 可飽和電感器

在換向器模組之情形中，一水冷式可飽和電感器54A 28 本紙張尺度適用中國國家標準（0¾) A4規格（210 X 297公釐） )U/408 A7 ________B7 五、發明説明（26 ) 如第11圖顯示地設置，其除了如第u圖顯示地用一水冷式 失頭54A1來取代鰭片54外、類似於第8圖顯示之電感器 54。冷卻管線54A2在模組内循繞，來捲繞夾頭54Αι、且 通過安裝有IGBT切換器和串聯二極體的鋁質基板。這三 組件構成模組内的大部份功率發散。也發散熱量的其他物 件（緩衝二極體和電阻器、電容器等等）被由在模組後面的 兩風扇提供的外力空氣所冷卻。 因為夾頭54A1保持於接地電位，在把冷卻水管直接 附於反應器盒體上沒有電壓隔離問題。這藉由把水管壓入 在如於54A3顯示的盒體外面切出之一鴿尾凹槽、且使用 熱傳導化合物來幫助在冷卻水管和盒體間做良好熱接 觸’而完成。 冷卻高壓組件 雖然IGBT切換器’，浮接，，於高壓，它們被安裝在由一 1/16英吋厚鋁板來與切換器電氣隔離的一鋁質基體上。作 用為散熱器、且操作於接地電位的鋁質基板因在冷卻電路 中幾需向壓隔離，而更容易來冷卻。水冷式I呂質基板之一 草圖顯示於第7A圖。在此情形中，冷卻水管被壓入根據 來安裝有一鋁質基體中的一凹槽。當用電感器54a時，熱 傳導化合物被使用來改善水管和基板間的整個結合部。 串聯二極體在正常操作期間也，，浮接，，於高電位。在此 情形中，典型使用在設計中的二極體外殼不提供高壓隔 離。為了提供此需要絕緣，二極體之，，曲棍球圓盤，，包裝被 失制在一散熱氣總成内，其然後安裝在係然後安裝在水冷 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇><297公釐) ~ 4t-------------------、玎------------------绛 (請先閲讀背而之汶.4莽項4填'^木]?) DU/408 A7 -—---— B7___ 五、發明説明（27 ) 式鋁質基板上的一陶瓷基體上方。陶瓷基體厚得足以提供 所需電氣隔離，但不致厚得加諸超過所需之熱阻抗。對於 此特殊設計，陶瓷係丨/16，，厚礬土、雖然如鈹的其他更多 舶來材料也可使用，來進一步縮減在二極體接合部和冷卻 水間的熱阻抗。 一水冷式換向器之第二實施例利用係附於IGBT和二 極體之架體基板的一單一冷卻平板總成。可藉由把單片鎳 廣管鋼焊於兩鋁質，，頂，，和，，底，，板來製造該冷卻平板。如上 述的，IGBT和二極體被設計、藉使用在總成下方的前述 陶瓷碟片，來把其熱量傳送到冷卻平板。在本發明之較佳 實施例中，冷卻平板冷卻方法也使用來冷卻共振充電器中 的IGBT和二極體。熱傳導桿件或一熱管也可使用、來把 外殼中的熱量傳送到架體平板。 詳細壓縮頭描述 水冷式壓縮頭在電氣設計上類似於習知技術氣冷式 (在反應器設計中相同型式陶瓷電容器被使用且類似材料 被使用）。在此情形中的主要差異係模組必須以較高重複 率來運作，且因此較高平均功率。在壓縮頭模組之情形中， 大部份熱量在經修正可飽和電感器64A内被發散。把次總. 成冷卻因整個盒體用極高電壓之短脈波來操作而非簡單事 情。對此問題之解決、如第12、12A和12B圖顯示地，係 把盒體與接地電位電感性地隔離。由把冷卻水管捲繞於含 有一氧鐵磁性鐵心的兩圓柱形式，來提供此電感量。輸入 和輸出冷卻管線兩者、由兩圓柱形部份和兩氧鐵方塊形成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面•之t卞項) :裝丨 •訂 30 507408 A7 B7 五、發明説明（28 ) 的一氧鐵鐵心之圓柱形部份四周被冷卻，如第12、12 A和 12B圖顯示的。 氧鐵片塊係從由紐澤西州Fairfield市之陶究磁性公司 製造的CN-20來製成。一單片銅管（〇·!87“直徑）被壓入且 繞於一繞組形式上，圍繞電感器64Α之盒體64Α1、且圍繞 第二繞組形式。充分長度被保留於端點處、以延伸通過適 入壓細頭薄片金屬蓋子，使得沒有冷卻水管接合部存在架 體内。 電感器64Α包含如64Α2顯示、類似於使用在水冷式換 向器第一階段反應器盒體中者的一鴿尾凹槽。此盒體除了 鹤尾凹槽外極類似前述氣冷式。銅質冷卻水管被壓適入此 凹槽中，以在盒體和冷卻水管間做一良好熱連接部。也加 入熱傳導化合物來把熱阻抗最小化。 電感器64Α之電氣設計與第9Α和9Β圖顯示的64之者 稍做改變。電感器64Α只設置圍繞包含四線圈膠帶（取代 三個）的磁性鐵心64A3的兩迴路（取代五迴路）。 為自外部電位至接地的此水冷式管線傳導路徑之結 果的，偏壓電流電路現在稍微不同。如前的，偏壓電流由 換向器中之一 dc-dc轉換器、透過一電纜而供應到壓縮頭 中。電流通過”正”偏壓電感器LB2且連接至Cm電壓節點。 電流然後分流，一部份透過HV電纜回到換向器（通過變壓 器次級到接地且回到dc-dc轉換器）。另一部份通過壓縮頭 反應來把磁性切換器偏壓），且然後通過冷卻水管” 負”偏壓電感器LB3、且回到接地和dc-dc轉換器。藉由平 31 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 507408 A7 B7 五、發明説明（29 衡各支線中的電阻，者能夠確定充分偏壓電流可用於 壓縮頭反應器和換向器變壓氣兩者。 正偏壓電感器乙们被做得極類似，，負，，偏壓電感器 Lb;。在此情形中，相同氧鐵桿件和方塊被使用為磁性鐵 〜。然而，兩0.125”厚塑膠區隔器被使用來在磁路中產生 氣隙，使彳于鐵心用dc電流不致飽和。取代於用冷卻水管來 纏繞電感器地，18號AWG鐵弗龍漆包線被圍繞該形式。 快速連接 在此較佳實施例中，三個脈波電源模組利用盲對電 氣連接，使得對雷射系統之部份的所有電氣連接只藉由把 模組滑入雷射組櫃中的其位置而完成。這些係Ac分配模 組、電源供應器模組和共振充電模組。在各情形中，模組 上的一公或母插頭與安裝於組櫃後面的相對性別插頭配 對。在各情形中，模組上的兩大約3英吋端斜切插銷、把 模組導入其精確位置，使得電氣插頭正碟配對。如amp 模型第194242-1號的盲對式連接器可自辦公室在賓州 Harrisburg市的AMP公司獲得。在此實施例中，連接器係 用於諸如208伏特AC、400伏特AC、1000伏特DC(電源供 應出和共振充電入）及數個信號電壓的各穠電源電路。這 些盲對連接允許這些模組被移除、以在幾秒或分鐘内來維 修和替換。在此實施例中，盲對連接不使用於換向器模組、 模組之輸出電壓係在20至30000伏特之範圍中。而是，一 典型高壓連接器被使用。 放電組件 本紙張尺度適用中國國家標準（C^) Α4規格（210X297公釐） 32 (請先^讀背ιία之;ί-.ΐ弘項^ β本u :裝- 、? r線， 507408 五、發明說明（3〇 ) 第2和2A圖顯示利用在本發明之較佳實施例中的一經 改善放電組態之細節。此組態包括申請人稱為葉片介電電 極的-電極組態。在此設計中，陽極1〇A4包含粗純葉片 形電極、以介電空間如顯示地安裝在陽極之兩側上，來改 善放電區中之氣流。陽極係26·4英吋長和〇·439英吋高。 它於底部係0.284英吋寬且於頂部係0141英吋寬。它被附 著、來使陽極支持桿10Α6流動成形，以螺絲通過允許電 極自其中央位置來差分熱膨脹的插座。陽極包含較佳為 C36000、C95400、或cl94〇〇的一鋼基合金。陰極⑺八二具 有如第2A圖顯示的橫戴面形狀，其稍微指向陽極面對位 置。一較佳陰極材料係C36000。此葉片介電組態之額外 細節提供於在此合併參考的美國專利申請案序號地 09/768 J53號中。在此組態中的電流回路1〇八8包含形成以 沿著電極長度等距隔開的27肋條形成之鯨骨的單一長部段 之薄（約1/16”直徑）銅或青銅佈線，其橫截面顯示於第2和 2A圖。此佈線被箝夾於陽極底部之線凹槽中、和於表面 内側之腔頂的半圓形凹槽中。 脈波長度 如第6E圖指出的，在由申請人實施的測試中測量之 輸出脈波長度係在約2〇ns之範圍中，且在一些限度係兩放 電之相對時序的函數。一較長脈波長度（其他條件相等）可 增加微影設備之光學組件的壽命。 申請人已識別用來增加脈波長度的幾個技術。如上 指出的，放電間的相對時間可針對脈波長度來最佳化。M〇 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 33 (請先閲讀背面之汰念弘項4填#本10:) -裝- #-------- .線， 507408 A7

五、發明説明（3〗） 和PA兩者之脈波電源電路可使用如那些描述在此被合併 參考的美國專利申請案序號第09/451，995號中者之技術、 針對較長脈波來最佳化。如那些描述在此被合併參考的美 國專利第6,067,3 11號中者之一個的一光學脈波乘法器， 可加於PA下游來縮減個別脈波之強度。此脈波乘法器可 做成到一微影工具之透鏡組件的光束路徑之一部份。腔室 可做得較長’且電極可組配來產生設計來供較長脈波長度 用的傳播波放電。 脈波和劑量能量控制 車父佳用一回授控制系統和如上述者的演繹法則來控 制脈波能量和劑量能量。脈波能量監視器可於雷射、靠近 微影工具中的晶圓。使用此技術，充電電壓被選擇來產生 所期望脈波能量。在上述較佳實施例中，M〇和pa兩者因 CO被並排充電、而都提供有相同充電電壓。 申请人已判定此技術工作良好、且把時序抖動問題 大幅最小化。然而，此技術把雷射操作員能力縮減至一限 度、以獨立於PA地控制MO。然而，有多數MO和PA之操 作參數可分開來控制、來把各單元之性能最佳化。這些其 他參數包括··雷射氣體壓力、F2濃度和雷射氣體溫度。這 些參數較佳在各兩腔室中被獨立地控制，且以一處理器控 制之回授配置來調節。 額外光學品質改善 本發明提供比習知技術單腔室高重複率氣體放電雷 射有更大脈波能量之雷射系統。此額外脈波能量提供機會 衣紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇X297公釐） 34 507408 A7 ____B7_ 五、發明説明（32 ) 來使用用來改善不特別能量有效運用的光束品質。 這些技術包括： -脈波修整、如描述在此被合併參考的美國專利第 5,852,621號中的’脈波能量被監視、脈波被延遲、且使 用如Pockel胞元的一極快速光學切換器來修整一部份之經 延遲脈波； -使用含有極高光束擴大和小隙縫的線條窄化模組、 如此申請書中稍後描述的； -波前工程 除了如美國專利第6,094,448號顯示的光栅之單彎曲 外、腔際波前校正可加至主振盪器。這可包括如在此合併 參考的美國專利申請案序號第09/703，3 17號描述的光柵之 多個彎曲、（如在此合併參考的美國專利第6，192 〇64號描 述的）一可變形調諧鏡面14，波前校正也可為如組配來校 正一已知波前扭曲的非平坦稜鏡表面之一靜態校正。 -光束過濾 如在此合併參考的美國專利申請案序號第 09/309,478號描述的一空間濾光器、和在第23圖中之11顯 示的光束過濾器可包括在M0和P0間。光束過濾器也可加 至PA下游。 -結合性控制 雷射光束之結合性控制可為積體電路製造的問題。 氣體放電雷射典型上產生具有低結合性的雷射光束。然 而，當頻帶寬被做得極窄時，結果係輸出光束之較大結合 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 35 裝------------------、玎------------------線， (先閲讀背面之}t.i贤項4填«本10:) 507408 A7 B7 五、發明説明（33 ) 性。因此，可能期望一些經感應空間同結合性。較佳地， 用來縮減結合性的光學組件可加至“〇共振腔中、或 和PA間。幾個光學組件已知用來縮減結合性，如移動相 位板、或聲光裝置。 -隙縫 種子光束之品質也可藉光束之較緊隙縫來改善。 氣體控制 本發明之較佳實施例具有如第丨圖指出的一氣體控制 模組，且它被組配來把適當量之雷射氣體填入各腔室。較 佳地，適當控制和處理器設備被提供、來維持氣體之連續 流入各腔室’以把雷射氣體濃度恆定或大致恆定地維持於 期望位準。這可使用那些描述於美國專利第6 〇28 88〇號 或美國專利第6，151，349號或美國專利第6,24〇117號（其在 此被合併參考）者的技術來完成。 用來提供雷射氣體之連續流入腔室、申請人稱其為 一進位填充技術的另一技術係提供多數（如5 )填充線，各 連續線被開口來允許含有各管線都具有一關閉閥之先前管 線的兩倍流量。最低流量線被開口、來允許最小平衡氣體 流動。可藉由選擇要打開的閥門之適當組合來達成幾乎任 何期望流量率。較佳地，一緩刑器貯槽被設置在經開口管 線和雷射氣體源間，其被維持於雷射腔室之壓力的約兩倍 之壓力。 可變頻帶寬控制 知 如上述的，本發明之此較佳實施例提供遠窄於習 36 裝- 訂- 本紙張尺度適用中國國家標準（⑽）A4規格（21〇><297公嫠） 五、發明説明（34 ) 技術準刀子雷射頻帶寬之雷射脈波。在一些情形中，頻帶 I較乍於提供含有極短深度焦點的焦點之期望者。在一些 it形中’較佳微影結果係用—較大頻帶寬來獲得。 因此在 一些情形中’用來修整頻帶寬的技術將較佳。此一技術詳 述於美國專利申請案序號第09/918,773號和第09/608,543 號，其在此被合併參考。此技術涉及使用電腦模型化，來 ’裝丨 判疋針對特疋微影結果的一較佳頻帶寬、且然後使用可 自第16B1和16B2圖顯示的PZT調諧鏡面控制獲得之極快 速波長控制、以在一叢脈波期間迅速改變雷射波長來模擬 一期望頻譜形狀。此技術在積體電路中產生相當深洞上特 別有用。 -T — 乂：口 金一有快迷控制演繹法則的_他速計波表 控制脈波能量、波長和頻帶寬 :線- 使用於積體電路微影的習知技術準分子雷射受制於 雷射光束參數上的嚴格規格。這典型上要求針對每個脈波 的脈波能量、頻帶寬和中心波長之量測，和脈波能量與頻 帶寬之回授控制。在習知技術裝置中，脈波能量之回授控 制係在一脈波對脈波基礎上，即各脈波之脈波能量被測 量、快得足以使所產生資料可使用在控制演繹法則中、來 控制緊接脈波後之能量。對於一個1000Hz系統，此意味 針對次一脈波之量測和控制必須花費少於1/1〇〇〇秒。對於 4000Hz系統，速度需要四倍快。用來控制中心波長和測 量波長與頻帶寬的技術描述於美國專利第5,〇25,455號和 美國專利第5,978,394號。這些專利在此被合併參考。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（210X297公釐） 37 A7 —— ____B7_ 五、發明説明（35 ) 針對此較佳實施例的光束參數之控制也與習知技術 準分子光源設計不同，在於輸出光束之波長和頻帶寬係由 主振盪器10中的條件來設定、而脈波能量主要由功率放大 益12中的條件來決定。 在此較佳實施例中，波長、頻帶寬和脈波能量係於 功率放大器之輸出、在一脈波對脈波基礎上來測量，而量 測被使用在一回授控制系統中、來控制波長和脈波能量。 光束參數之快速量測和控制 針對此雷射的光束參數量測和控制被描述於下。 使用在本實施例中的計波表類似於在美國專利第 5,978,394號中描述者，下列一些描述係自該專利抽出。 測量光束參數 第14圖顯示一較佳計波表單元12〇、一絕對波長參考 校準單元190、和一計波表處理器197之佈局。 在這些單元中的光學設備測量脈波能量、波長和頻 帶寬。這些量測與回授電路來使用、以把脈波能量和波長 維持在期望限度内。設備藉參考在來自雷射系統控制處理 器的命令上之一原子參考源來自我校準。 如第14圖顯示的，雷射輸出光束部份地交叉反射鏡 面170，其通過約95.5%之光束能量為輸出光束33、且反 射約4.5%來供脈波能量、波長和頻帶寬量測用。 脈波能量 約4%之反射光束由鏡面Hi反射到能量檢測器172， 其包含能夠測量以每秒4000脈波之速率發生的個別脈波之 私紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（210X297公爱） 38 (請先閲讀背面之注意事項:本·Α ) 11裝- .訂， 507408 A7 ____B7_ 五、發明説明（36 ) 月b篁的一極快速光二極體69。脈波能量約為1 〇mJ，且檢 測器69之輸出被饋至一電腦控制器，其使用一特定演繹法 則來調整雷射充電電壓、以根據所儲存脈波能量資料來控 制未來脈波之脈波能量，以限制個別脈波之能量和多叢脈 波之整合能量的變化。 線性光二極體陣列 線性光二極體陣列1 80之光感測表面詳述於第14A 圖。該陣列係包含1 〇24分立光二極體積體電路及一相關聯 取樣並保持讀取電路（未顯示）的積體電路晶片。光二極體 係針對25.6mm(約一英吋）之總長度、在一25微米節距上。 各光二極體係500微米長。 如此的光二極體陣列可自幾個來源獲得。一較佳供 應商係Hamamatsu。在我們較佳實施例中，我們使用模型 S3903-1024Q，其可在其中可以4000Hz或更大之頻率來讀 取完整1024像素掃描的一 FIFO基層上、以高達4xl06像素/ 秒之速率來讀取。PDA係針對2x106像素/秒操作而設計， 但申請人發現到它可運作的更快、及快至4χ1〇6像素/秒。 對於大於4000Hz之脈波率，申請人可使用相同PDA、但 只有一分數（如60%)之像素可在各掃描上來正常地讀取。 粗略波長量測 通過鏡面171的約4%之光束被鏡面173反射，透過隙 縫177到鏡面174、到鏡面175、回到鏡面174且至梯列光栅 Π6上。光束由具有458.4mm之焦距長度的透鏡178來照 準。自光柵176反射的光回通過透鏡178、再自鏡面174、175 39 -裝— -口 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 507408 A7 __ _B7_ 五、發明説明（37 ) 反射、且在鏡面174,且然後自鏡面179反射、且聚焦於1024 像素線性光二極體陣列180在如於第14B圖上部中顯示的 像素600至像素950(像素0-599保留予精確波長量測和頻帶 寬）之區域中的左側上。光束在光二極體陣列上之空間位 置係輸出光束之相對名義波長的一粗略測量。例如，如第 14B圖顯示的，在約193·350pm之波長範圍中的光將聚焦 在像素750及其鄰處上。 :裝 粗略波長之計算 •訂· 在計波表模組120中的粗略波長光學單元在光二極體 陣列ί 80之左側上產生約〇.25mmx3mm之一矩形影像。十 或十一個照明光二極體將產生與所接收照度成比例的信號 (如第14C圖指出的）、且信號被計波表控制器197中的一處 理器讀取且數位化。使用此資訊和一内插演繹法則，控制 器197計算影像之中心位置。 此位置（在像素中測量的）使用兩校準係數、且假設在 位置和波長間的一線性關係，而被轉換成一粗略波長值。 這些校準係數係藉參考如下述的一原子波長參考源來決 定。例如，影像位置和波長間的關係可為下列演繹法則： λ =(2.3pm/像素）P+191，625pm 其中P=粗略影像中心位置。 替換地，在期望時可藉由加入如”+()P2的一二次項來 加上額外精確度。 精確波長量測 通過如第14圖顯示的鏡面173之約95%光束透過透鏡 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 40 507408 A7 __B7_ 五、發明説明（38 ) 183自鏡面182反射到於至校準器組成184之輸入的一擴散 器（較佳如在名為”經改善校準器”的下列段落中解說之_ 繞射擴散器）。自校準器184射出的光束由校準器總成中的 一 458.4mm焦距長度透鏡聚焦，且在如第14圖顯示地被兩 鏡面反射後、在線性光二極體陣列之中央和右側產生干涉 花紋。 光譜儀必須大致即時地測量波長和頻帶寬。因為雷 射重複率可為4000Hz至6000Hz或更高，需要使用係正確、 但計算上不強烈的演繹法則，以用經濟和緊湊之處理電子 元件來達成期望性能。計算演繹法則因此較佳使用相對於 浮點算術的整數，且數學運算較佳有計算效率（不使用平 方根、正弦函數、對數等）。 現在將描述使用在此較佳實施例中的一較佳演繹法 則之特定細節。第14D圖係含有如顯示5個峰值的曲線， 其在由線性光二極體陣列180來測量時、代表一典型校準 器花紋信號。中央峰值高度上畫得比其他者低^當不同波 長之光進入校準器時，中央峰值將上升且下降、有時變為 零。此層面呈現針對波長量測不穩定的中央峰值。其他峰 值將響應於波長上的改變而移向或移離中央峰值，故可使 用這些峰值之位置來判定波長，同時其寬度測量雷射之頻 市"見。各彳示不為負料窗口的兩區域顯示於第1 圖。資料 窗口被設置使得最靠近中央峰值的花紋正常被使用來分 析。然而’當波長改變來把花紋移得太靠近中央峰值（其 將引起扭曲和產生誤差）時，第一峰值在窗口外、但第二 本紙張尺度適用中國國家標準（OIS) A4規格（2〗〇χ297公爱） ------------------------裝-----------------:ΐτ------------------皞 (論先.¾讀背面之;1.4私項.人‘订1) 41 507408 A7

五、發明説明（39 ) 最靠近峰值將在窗口内，且軟體使控制模組197中的處理 器月b使用第一峰值。相反地’當波長移變來把資料窗口外 的目前峰值移離中央峰值時，軟體將跳到資料窗口内的一 内部花紋。資料窗口也描寫在第14B圖上。 對於針對在高達4000Hz至6000Hz或更高之範圍的重 複率之各脈波的頻帶寬之極快速計算，一較佳實施例使用 第1 5圖識別的硬體。硬體包括一微處理器4〇〇、由辦公室 在亞利桑納州鳳凰城的摩托羅拉供應之模型MPc 823 ; — 可程式邏輯裝置402、由辦公室在加州聖澤西的Altera供 應之杈型£卩6016QC240; —執行和資料記憶體排組4〇4; 以表列形式來暫時儲存光二極體陣列資料的一特定極快速 RAM 406;操作為一記憶體緩衝器的一第三4χ1〇24像素 RAM έ己憶體排組408 ;及一類比至數位轉換器41 〇。 如在美國專利第5,025,446號和美國專利第5,978,394 號中解說的，習知技術裝置需要來分析代表由校準器184 和光二極體陣列180產生的干涉花紋之大量pDA資料像素 強化資料，以判定中線波長和頻帶寬。這係即使用電腦處 理器仍相當耗時的程序，因為約4〇〇像素強化值必須被分 析，以針對波長和頻帶寬之各計算來尋找和描述校準器花 紋。本發明之一較佳實施例藉由設置用來找出重要花紋、 與计异波長資訊的處理器平行操作之一處理器，來大幅加 速此程序。 基本技術係使用可程式邏輯裝置4〇2、以在像素資料 被產生時自PDA像素資料來連續產生一花紋資料表。邏輯 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（210X297公复） in 閲· 讀 .ϊ 項 裝 訂

42 507408 A7 圆丨_丨___ —————Β7 五、發明賴（4〇) '~' 一- 裝置402也識別哪組花紋資料代表所關注花紋資料。然後 在需要中央波長和頻帶寬之計算時，微處理器只從關注之 經識別像素來拾取資料、且計算中央波長和頻帶寬之所需 值。此私序縮減微處理器所費計算時間约1〇倍。 在計算中央波長和頻帶寬之較佳程序中的特定步驟 如下： 1) 使PDA 180計時來操作於25MHz，PDa 18〇由處理 器400指導、以4〇〇〇HZ之掃描率來從像素收集資 料、且以100Hz頻率來讀取像素1至1〇28。 2) 由PDA 180產生的類比像素強度資料由類比至數位 轉換器410、來從類比強度值轉換成數位8位元值（〇至 255)，且數位資料暫時儲存在RAM緩衝器4〇8中、為代表 於光二極體陣列180之各像素的強度之8位元值。 3) 可程式邏輯裝置402連續在幾乎即時基礎上來分析 自RAM緩衝器408傳出的資料、以搜尋花紋，把所有資料 儲存在RAM記憶體406中，識別針對各脈波的所有花紋， 產生針對各脈波的花紋表、且把表格儲存在RAM 4〇6中， 且針對各脈波、以進一步分析兩花紋之一最佳組來做識 別。由邏輯裝置402使用的技術如下： A)PLD 402分析透過緩衝器408而來的各像素值，來 判定它在追蹤最小像素強度值時、是否超過一強度臨界 值。若臨界值被超過、則這指出一花紋舉值正送來。pLD 識別超過臨界值的第一像素為”上升邊緣，，像素號碼，且保 存超過”上升邊緣”像素的像素之最小像素值《此像素之強 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 43 ^ 、可------------------緣 (請先閲讀背面之汶意事項洱埒寫本krr ) 507408 A7 ___B7_ 五、發明説明（41 ) 度值被識別為花紋之”最小值”。 B) PLD 402然後監視後續像素強度值，來搜尋花紋之 峰值。它藉由追縱最高強度值直到強度掉落低於臨界強度 為止來做此。 C) 當具有低於臨界值的數值之一像素被發現時，pld 把匕識別為下降邊緣像素號碼、且保存最大值。p L D然後 藉由自下降邊緣像素號碼減掉上升邊緣像素編號，來計算 花紋之”寬度”。 D) 上升邊緣像素編號、最大花紋強度、最小花紋強 度和花紋寬度等四值，被儲存在RAM記憶體排組406之花 紋部段的循環表中。代表多達15花紋的資料可針對各脈波 來儲存，雖然多數脈波在兩窗口中只產生2至5花紋。 E) PLD 402也被程式化、以相對於各脈波來識別針對 各脈波的”最佳”兩花紋。它藉由識別完全在〇至199窗口内 的最後花紋、和完全在400至599窗口内的第一花紋，來做 此。 在一脈波後、對（1)像素資料之收集、和（2)針對該脈 波的花紋之循環表的形成，所需之總時間只約為2〇〇微秒。 此技術的主要時間節省優點係搜尋花紋在花紋資料正讀 出、數位化和儲存時來發生。一旦針對一特定脈波的兩最 佳花紋被識別，微處理器400獲得在來自RAM記憶體排組 406的兩花紋之區域中的原始像素資料、且自該資料來計 算頻帶寬和中央波長。計算係如下：

校準器花紋之典型形狀顯示於第14D圖中。根據pLD 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210X297公楚） (請先閲讀背如之注意寧項頁) 袭- -訂- ,線- 44 507408 A7 一 ___ B7 _ 五、發明説明（42 ) 402之習知工作，具有於約像素18〇的一最大值之花紋、和 具有於約像素450的一最大值之花紋，將識別於微處理器 400。包圍這兩最大值的像素資料由微處理器4〇〇來分析， 以界定花紋之形狀和位置。這被完成如下： A)由從化紋最大值減掉花紋最小值、把差值除以2且 把結果加至花紋最小值，來決定一個半最大值。針對兩花 紋之各上升邊緣和各下降邊緣，具有最接近其上和最接近 其下的該半最大值之數值的兩像素被計算。微處理器然後 在各情形中外插於兩像素值間，來界定如第丨8B圖顯示、. 含有1 /3 2像素之精確度的端點d 1和D2。從這些值來決定 循環花紋之内徑D1和外徑D2。 精確波長計算 使用粗略波長測量值和D1與D2之測量值來實施精確 波長計算。 針對波長的基本方程式係： Λ = (2 *n*d/m)cos(Ii//) (1) 其中： λ係單位丕米的波長； η係校準器之折射率的内指數，約1.0003; d係校準器間距，針對KrF雷射約1542um且針對ArF雷 射約934um，控制於+/-lum; m係羃次，於花紋峰值的波長之整數，針對KrF約12440 且針對ArF約9664; R係花紋半徑，130至280 PDA像素，一像素係25微米； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（210X297公釐） ------------------------裝------------------、玎_……------------線· (詩先閲讀背而之;it4蒋項洱填β本辽) 45 507408 A7 B7 五、發明説明（43 ) f係自透鏡到PDA平面的焦點距離。 擴大cos項且丟掉小得可忽略的高羃次項產生： X = {2^n^dlm%-{\I2){RIf)2\ (2) 以直徑D=2*R項來重述方程式產生： A = (2*f2*^/m)[l-(l/8)(D//)2J (3) 計波表之主要工作係從D來計算λ。這需要已知f、η、 d和m。因為η和d係校準器之内質，我們把它們組合成稱 為ND的單一校準常數。我們考慮f係稱為FD的另一校準常 數，含有像素單位來匹配針對純比率之D的單位。整數羃 次m依賴波長和我們選擇哪一花紋對而改變。使用針對目 的充分正確的粗略花紋波長來決定m。 關於這些方程式的一對優點係所有大數目都係正 數。WCM之微控制器能夠計算它，同時維持近乎32位元 之精確度。我們把角形括弧項參照為FRAC。

FiL4C = [l-(l/8)(D/FD)2j (4) 内部地，FARC被代表為一無符號32位元值，以其基 點在最高有效位元左邊。FRAC總是稍小於一，故我們得 到最大精確度。FRAC針對{560-260}像素之D範圍，係範 圍自[1-120E-6]至[1-25E-6]。 當ND校準被輸入時，計波表計算稱為2ND=2*ND的 一内部無符號64位元值，含有femtometer(fm)=10A_15米 =0.00lpm之内部波長單位。内部地，我們把波長；I表示 為針對精確波長的FWL，也在fm單位上。以這些變數之 項目來重述方程式： 46 -裝----- 訂| 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 507408 A7 B7 五、發明説明（44 ) FWL=FRAC*2ND/m (5) 算術處理在FRAC中的基點移變，產生單位fm之 F WL。我們藉由攪和方程式且插入稱為c WL、單位也為fm 的已知粗略波長，來解m : m =最接近整數（FRAC*2ND/CWL) (6) 採用最接近整數等於在舊設計中加上或減掉FSR、直 到至粗略波長的最接近精確波長達到為止。 藉由解方程式（4)、然後方程式（6)、然後方程式（5)的 計算波長’我們針對内徑和外徑來分開計算WL。平均值 係中央線波長，差值係線寬。 頻帶寬計算 雷射之頻帶寬被計算為（λ 2_又〇/2。一固定校正因數 被施加來說明加至真實雷射頻帶寬的校準器峰值之内質寬 度。數學上，一解迴旋演繹法則係用來從所測量寬度去除 校準器内質寬度之形式化，但這將太過計算強烈，故一固 定校正Δ λ ε被減掉，其提供充分正確度。因此，頻帶寬 係： ΑΛ -裝- 訂- Αλε △又ε依賴校準器規格和真實雷射頻帶寬。它針對 描述於此的申請典型上在Ojqpm之範圍中。 經改良校準器 本實施.例利用一經改良校準器。傳統校準器安裝設 計典型上使用一彈力器來把光學元件安裝於周圍結構，以 本紙張尺度適财關_準（CNS) A4規格⑽ 47 507408 A7 ______B7_ 五、發明説明（45 ) 限定元件之位置、但把施於元件的力最小化。通常使用於 此的一化合物係室溫硫化矽（RTV)。然而，自這些彈力器 釋出的各種有機蒸氣可能沉積到光學表面上，降低其性 能。為了延長校準器性能壽命，期望把校準器安裝在不包 含任何彈力器化合物的一密封殼體中。 一較佳實施例包括在第14和14E圖於184顯示的一經 改良校準器總成。在第14G圖顯示的溶合石夕土校準器本 身包含具有一凸緣81之一頂板80和一下平板82,兩平板都 包含額外等級熔合矽土。校準器被設計，以在由含有1〇〇〇3 之折射指數和等於或大於25之精密度的氣體包圍時、來產 生具有於193.35nm的20.00pm之自由頻譜範圍的花紋。含 有超低熱膨脹的三個熔合矽土區隔器83把平板分開，且係 934微米± 1微米厚。這些藉由光學接觸來把校準器保持在 起’在光學製造技術中熟知的一技術。校準器之内側表 面的反射度各約92百分比，且外側表面被抗反射塗覆。校 準器之透射率約為50百分比。 才父準器79只藉由重力和把凸緣壓靠於未顯示之三塾 塊、但於由導引器85指出的徑向位置而設置在凸緣81之底 緣下方中央120度上的三低力彈簧86，來保持在鋁盒84中 的位置上。沿著於87的凸緣81之頂緣、只有0.004英吋之 餘隙確定校準器將大约保留在其正確位置中。此緊密公差 配合也確定若任何振動或脈衝透過安裝架而傳送到校準器 系統’則光學組件和盒體接觸點間的相對速度將保持於最 小值。校準器總成184之其他光學組件包括擴散器88、窗 48 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇χ297公釐） A7

五、發明説明（46 ) 口 89和具有458.4mm焦距長度的聚焦透鏡9〇。 擴散器88為通常使用於校準器上游的一標準習知技 術擴散器，來提供校準器之適當操作所需的多樣之入射角 度。習知技術擴散器的一問題係通過擴散器約9〇百分比之 光不在一可使用角度，且結果不聚焦在光二極體陣列上。 然而，此所浪費光加入光學系統之熱量、且提供光學表面 之降級。在一更佳實施例中，一繞射透鏡陣列被使用為擴 散器88。用此類型擴散器，在繞射透鏡陣列中產生一圖型、 其把光完全散佈但只在約5度之角度内。結果係落在校準 器上約90百分比之光以有用角度來入射，且在校準器上的 一更大部份之光最後被光二極體陣列檢出。結果係入射在 校準器上的光可大幅縮減，其大幅增加光學組件壽命。申 請人估計入射光可在光二極體陣列上有相等光地縮減至小 於習知技術值之5%或10%。 用繞射擴散器的較佳照準 第14H圖顯示提供通過校準器的光強度之進一步縮減 的一較佳實施例之特性。此實施例類似於上述實施例。來 自鏡面182的樣本光束（大約15mm X 3mm)向上通過凝聚透 鏡400，且然後被透鏡402重新照準。現在照準和在尺度上 縮減至約5mm X 1mm的光束通過校準器盒體窗口 4〇4，且 然後通過一繞射擴散元件406、其在此情形中（針對一 Arp 雷射）係由辦公室在阿拉巴馬州Huntsville市的Mems光學 公司提供之一繞射擴散元件。該元件係零件編號D〇23· 193 ’其把在任何橫截面組態之任何送入經照準光束中大 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注总卞項再填对本兑 •裝- #------ :線丨 49 507408 A7 B7 五、發明説明（47 ) 致所有193nm光’轉換成在2度之第一方向 、和在垂直於

寬和25.6mm長，且由透鏡41〇形成的點圖型係約i5mm X 30mm。繞射擴散元件完全地混合光束之空間组件、但把 所有光束能量大致維持在2度和4度限度内，使得通過校準 器的光可大致被縮減且有效來利用。讀者請認知到在通過 校準器的光束能量上之進一步縮減，可藉由縮減在光二極 體陣列之短尺度中的點圖型來實現。然而，進一步縮減至 小於1 5mm將使光學對齊更困難。因此，設計者應把點圖 型尺寸考慮為一折衝論點。 在針對操作於約248.327nm的一 KrF雷射設計之另一 系統中’一類似設計被提供有針對波長的調整。在此實施 例中，透鏡400具有約50mm之一焦距長度。（透鏡係Melles Gdot公司零件號碼OILQP001。）照準透鏡402具有-20mm 之一焦距長度（EVI雷射公司零件號碼PLCC-10.0-10.3-UV)。繞射擴散元件406係Mems光學公司零件號碼D023-248。在此實施例中和在ArF實施例中，在兩透鏡間的隔 距可用區隔器416來適當設置。申請人估計通過校準器、 含有操作在此設計範圍中之雷射的光束之能量不夠充分在 校準器中引起明顯熱問題。 在其他較佳實施例中，光束允許來到透鏡400和402 間的一焦點。在此情形中將使用熟知光學技術來選擇適當 50 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 X 297公釐） 507408 A7 ______B7_ 五、發明説明（48 ) 透鏡。 脈波能量和波長之回授控制 根據如上述的各脈波之脈波能量的量測，後續脈波 之脈波能量受控制、來維持期望脈波能量及一特定數目脈 波之期望總整合劑量，都如描述在名為，，針對準分子雷射 的脈波能力控制，，的美國專利第6,〇〇5,879號中，其在此被 合併參考。 可使用波長之測量值和習知技術中已知、如在此被 合併參考的名為’’針對一準分子雷射的波長系統，，之美國專 利第5,978,394號中描述的那些技術，在一回授配置中來 控制雷射之波長。申請人近來已開發針對波長調諧之技 術’其利用一壓電驅動器來提供調諧鏡面的極快速移動。 一些這些技術描述在此被合併參考、2000年6月30日申請 的名為”針對雷射的頻帶寬控制技術，，之美國專利申請案序 號第ό08,543號中。下列段落提供這些技術之簡短描述。 壓電堆疊調整槓桿臂之支點位置。 g—麵合ΡΖΤ步進馬遠驅動之調諧鏡面的新LNP 用壓電驅動的詳細設計 第16圖係顯示用來控制輸出雷射光束之波長和脈波 能量係重要的雷射系統之特性的方塊圖。 由一線條弄窄模組110來完成線條窄化，其含有一個 四稜鏡光束擴大器（112a-112d)、一調諧鏡面114、及一光 柵10C3。為了達成一極窄頻譜，在此線條弄窄模組中使 用極高光束擴大。此光束擴大在相較於典型使用在習知技 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇χ297公楚） ^------------------#------------------緣 (請先閲讀背面之注念卞項吟填寫本兑) 51 507408 A7 一 _ _B7_ 五、發明説明（49 ) 術微影準分子雷射中之20X-25X時為45X。另外，前（U6a) 和後（116b)隙縫之水平尺寸也被做得較小，即在比較於習 知技術中的約3mm和2mm時為1.6和1.1mm。光束之高度限 於7mm。所有這些尺度允許縮減頻帶寬，自約〇 5pm(FWHM) 至約〇.2pm(FWHM)。雷射輸出脈波能量也被縮減，自5mj 至約1 mJ。然而，這不為問題，因為此光將在放大器中被 放大來得到10mJ期望輸出。輸出耦合器之反射率係3〇0/〇， 其接近習知技術雷射之者。 第16B 1圖係顯示本發明之一較佳實施例的詳細特性. 之圖。由步進馬達透過一 26.5至1槓桿臂84來提供鏡面η 位置上的大改變。在此情形中，於壓電驅動單元8〇端點處 的一菱形墊塊81被設置，以在槓桿臂84之支點來接觸球面 工具球體。在槓桿臂84頂部和鏡面安裝架86間的接觸部被 設置有在槓桿臂上的一圓柱形突筍插銷和安裝在如顯示於 85的鏡面安裝架上之四個球面滾珠軸承（只顯示其中兩 個）。壓電驅動單元8〇安裝在含有壓電安裝架8〇八的LNp框 架上，且步進馬達安裝於含有步進馬達安裝架82a的框 架。鏡面14使用三個鋁球面來安裝在含有一個三點安裝架 的鏡面安裝架86中，只有一個顯示於第16扪圖。三個彈· 簧14A施加壓縮力，來把鏡面保持緊靠球面。 第16B2圖係與顯示於第16m圖者稍微不同的第二較 佳實施例。此實施例包括一風箱87(其作用為罐子），來把 壓電驅動單元與LNP内之環境隔離。此隔離防止㈣電元 件之UV損壞，且避免由壓電材料外线所致之可能污染。

衣紙7長尺度適用中國國豕標準（〇IS) Α4規格（210X297公D (請先閲讀背面之注意事項_·κ本頁) 、-T— 52 斯408 五、發明説明（50 預調譜和主動調諧 上述實施例可使用於除叫聲校正外的目❺。在—些 情形中’積體電路微影機器之操作員可能期望在一預定： 礎上來改變波長。換言之，目標中心波長h可不為 定波長’而可尾隨-預定圖型、或因使用早期波長資料或 其他參數來持續或職地踐學習料法則，來如期望地 經常改變。 適應性前饋 本發明之較佳實施例包括前饋演繹法則。這些演繹 法則可由雷射操作員根據已知叢集操作圖型來編碼。替換 地，此演繹法則可為適應性，使得雷射控制檢測如那些顯 示在上述章節中者的叢集圖型、且然後校定控制參數以預 期波長移變來提供鏡面14調整、以防止移變或把它最小 化。適應性前饋技術涉及在軟體中以一給定重複率來建立 叫聲之模型’從來自一或更多前面叢訊之資料、和使用pzt 堆疊來反轉叫聲效應。 為了適當地設計叫聲反轉，需要兩塊資訊：（1)PZ 丁堆 疊之脈波響應，及（2)叫聲形狀◎針對各重複率，叫聲波 形由PZT堆疊之脈波響應的解迴旋將產生一序列脈波，其 在施於PZT堆疊（含有適當符號）時、將抵消叫聲。此計算 可透過行為調查、於一組重複率來離線完成。資料序列可 保存於由脈波號碼和重複率指引的表格。此表格可在操作 期間被參照，來拾取要在適應性前饋反轉中來使用的適當 波形資料。也可能、且事實上可能較佳，每當重複率改變 53 裝---- 、νρ· :線- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（21〇χ297公釐） 507408 A7 B7 五、發明説明（51 -------------,------.-I裝----- (1先k讀背，έ之) 二-ΐί 時、於操作之開始、使用少數叢集資料來幾乎即時地獲得 叫聲形狀模型。叫聲形狀模型、及可能PZT脈波響應模型， 然後可根據模型和資料間的累積測量誤差、每N個叢訊來 更新（如被調適）。一較佳演繹法則描述於第16E圖。於脈 波叢集開始處之叫聲可使用描述於第16E圖的演繹法則來 控制。字母k參照一叢集中的脈波數目。叢集被分開成兩 區，k區和1區。k區係針對小於kth之脈波編號（界定夠長的 一時間期間來包含叫聲）。分立的比例常數卩1(、積分常數ik、 和線中央誤差Σ LCEk2積分和，被使用於各脈波編號。 針對在次一叢集中的k區内之對應脈波編號的ρζτ電壓， 由這些常數和總和來決定。在第k脈波後，一傳統的比例 積分常式控制PZT電壓。針對叢集中次一脈波之電壓將為 目前電壓加P*LCE+I* Σ LCE。解說此演繹法則中之主要 步驟的一流程圖提供於第16E圖。 雷射腔官 熱交換器 此較佳實施例被設計來操作於每秒4〇〇〇脈波之脈波 重複率。清潔脈波間的放電影響氣體之放電區需要在電極 18八和20八間、高達約67111/5之氣體流速。為了達成這些速 度，切線風扇單元之直徑已設定於5英吋（葉片結構之長度 係26英对）’且轉速已增加至約3500rpm〇為了達成此性能， 實施例利用一起傳送高達4kw驅動功率至風扇葉片結構的 兩馬達。於4000Hz之脈波率，放電將把約12kw熱能加至 雷射氣體。為了去除由放電產生的熱量、及由風扇增加的

五、發明説明（52 熱置，四個分立水冷式韓片熱交換器58A被提供。馬達和 熱交換器詳述於下。 本發明之一較佳實施例利用一般顯示於第4圖的四個 鰭片水冷式熱交換器58A。各個這些熱交換器有些類似顯 不於第1圖之58的單一熱交換器，但具有明顯改善。 熱交換器組件 熱交換器之一個的橫截面圖顯示於第21圖。熱交換 器之中央部段被切開，但兩端被顯示。第2丨A圖顯示適配 熱膨脹和收縮的熱交換器之端點的放大圖。 熱父換器之組件包括由固體銅（CIJ 11〇〇〇)切製、且每 英吋含有十二鰭片303的一含鰭片結構3〇2。水流通過具有 0.33英吋開孔直徑的軸向通道。設置在軸向通道中的一塑 膠渦旋器306防止水在通道中層化，且防止熱邊界層在通 道之内側表面上形成。一可撓凸緣單元3〇4係包含内部凸 緣304A、風箱304B和外部凸緣304C的一焊成單元。熱交 換器班底包括三個c密封器3〇8，來把熱交換器中的水流與 雷射氣體後、封開來。風箱304B允許熱交換器相對腔室的 膨脹和收縮。一雙埠螺帽40把熱交換器通道連接於一標準 5/16英吋位置肘管配適器，其又連接至水源。〇形環4〇2提 供螺帽400和含鰭片結構3〇2間之密封。在較佳實施例中， 在兩單元中的冷卻水流方向係相對其他兩最小化軸向溫度 梯度。 渦旋器 在一較佳實施例中，渦旋器包含四個離架、長排線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210父297公|) ^------------------、玎-----------------‘線. (¾先閲讀背面之注:&谇項洱«,:^本^) 55 507408 A7 B7

五、發明説明（53 混合元件，其典型上使用來混合環氧組件、且可自公 司獲得（靜態混合器，零件號碼〇6七1229_〇〇)。排線混合 器顯不於第2 1和2 1A圖之306。排線混合器強迫水沿著使 其在每節距距離（為0.3英吋）來順時方向反轉的一般螺旋 路桉而流動。渦旋器明顯改善熱交換器性能。由申請人的 測試已顯示渦旋器之加入縮減所需的水流約5倍，來維持 可比較氣體溫度情況。 流動路徑 在此較佳實施例中，流入和流出放電區的氣體已大 幅改善優於習知技術雷射腔室。放電上游、且相鄰於橫流 風扇出口之區域被成形，來形成自放電的一大橫截面到小 橫截面的一平順轉移區。區域直接於放電下游的橫戴面在 氣體迫使轉90度進入熱交換器前，由針對放電之小值平順 地增加至一更大值。此配置把壓力降、和由高速流動於尖 銳步級上方引起的相關聯渦流最小化。 鼓風機馬達和大型鼓風機 本發明之此第一較佳實施例提供由雙馬達驅動的大 型切線風扇，來循環雷射氣體。如第24圖顯示的此較佳配 置在電極間提供67m/sec之氣流，其足以在4000Hz脈波間 於放電區内來清潔約le7cm之空間。 風扇的一橫截面葉片結構顯示於第4圖之64 A。一透 視圖顯示於第丨8 A圖。葉片結構具有一 5英吋直徑，且係 由一固體鋁.合金6061-T6錠塊來製出。在各部段中的個別 葉片如第18A圖顯示地稍微偏離相鄰部段。偏距被事先不 56 閲* 讀 背 面- 之 注 意 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇><297公釐） 項

五、發明説明（54 均勻製成，以避免任何壓力波前產生。為一替換例的，個 別葉片可相對於葉片軸而稍具夾角（也來避免壓力波前之 產生）。 如第18圖顯示的此實施例利用各含有包含在一金屬 壓力杯内的一磁性轉子之兩個3相無刷DC馬達，其如描述 於美國專利第4,950,840號地把馬達之靜子部份與雷射氣 體環境分開來。在此實施例中，壓力杯係〇 〇16英吋厚的 薄壁鎳合金，其作用為雷射氣體障壁。兩馬達53〇和532驅 動Π 轴’且被程式化來以相反方向旋轉。兩馬達係無感 測器馬達（即它們沒有位置感測器地操作）。控制右馬達53〇 的右馬達控制器534作用為經由類比和數位信號來控制僕 從馬達控制器536的一主力控制器，來設置開始/停止、電 流命令、電流回授等等。與雷射控制器24A之通信係經由 一 RS-232串列埠到主力控制器534中。

高工作週期LNP 已知來清洗線條弄窄組包；然而，習知技術教導使 清洗流量不直接流到光柵表面上、使得典型上透過設置於 如在光柵之表面後方的位置之埠來提供清洗流量。然而， 申請人已發現到在極高重複率，一層熱氣體（氮）在光栅之 表面上發展，把波長扭曲。此扭曲可由上述波長控制來至 少部份地校正。另一方法係如第17圖顯示地清洗光柵之表 面。在第17圖中，在10英吋長、3/8英吋直徑清洗管61頂 上的小孔（在1/4英吋間距上之1mm)提供清洗流量。清洗氣 體可為來自如描述於下列段落的一純氮供應器之氮氣。然 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 57 ------------------------裝—— (a先閲讀背面之：;-1-.4杯項^場.^本兑) .訂- .線- 507408 A7 B7 五、發明説明（55 ) 而，對於LNP、氦氣因在自LNP組件去除熱量可更有效率 而為較佳清洗氣體。其他技術顯示於第丨7A、1 7B和1 7c圖。 超純度氮氣清洗系統 本發明之此第一實施例包括一超純乂清洗系統，其 提供大幅經改善性能、和明顯增加組件壽命。 裝- • 丁— 、--口 第19圖係顯示本發明第一較佳實施例之重要特性的 方塊圖。在本發明之此實施例中由氮氣清洗的五個準分子 雷射組件，係LNP 2P、安裝在雷射腔室6P上的高壓組件 4P、把高壓組件4P與上游脈波電源組件1〇P連接的高壓電 纜8P、輸出耦合器12P及計波表14p。各個組件2P、4p、8p、 12P、和14P，包含在各具有兩埠、一 &輸入埠和一 ^輸 出埠的一密封容器或腔室中。典型上係一大型％儲槽（典 型上維持於液態氮溫度）的一 ％源16p於一積體電路製造工 廠’但可為相當小瓶之A。&源氣體自％源輸出、通過n2 清洗模組17P、且通過&過濾器18P，到包含用來控制乂 流至經清洗組件的流量控制閥之分配面板2〇p。相對於各 組件地，清洗流量直接回到模組17P、到一流量控制單元 22P ’其中自各清洗單元返回的流量被監視、且在受監視 流血小於一預定值時一警告（未顯示）被致動。 第19A圖係顯示包括不特別關於本發明之清洗特性的 一些額外N2特性之此較佳實施例的特定組件之線路圖。 N2過濾器 本發明之一重要特徵係包括&過濾器18。過去，供 積體電路微影用的準分子雷射之製造商相信，因針對可市 本紙張&度適用中國國家標準（OJS) A4規格（21〇X297公楚） 58 507408 A7 一 _B7 五、發明説明（56 ) 場獲得的&的A氣體規格總是足夠好、使得符合規格之 氣體足夠乾淨，故不需要針對&清洗氣體之過遽器。然 而，申請人已發現到有時來源氣體不符規格、或導至清洗 系統的&管線含有污染物。同時管線在維修或操作程序 期間可能受污染。申請人判定過濾器之成本係對付引起損 壞的低機率污染之極佳保險。 一較佳N2過濾器係可自辦公室在加州聖地牙哥市的 Aer〇nex公司獲得之模型500〖惰性氣體純淨器。此過濾器 去除H2〇、〇2、CO、C〇2、H2和非甲烷碳氫，至每十億次 份量程度。它去除0.003微米或更大的所有微粒之 99.9999999百分比。 流量監視器 在單元22中的一流量監視器被設置予各五個經清洗 組件。這些係針對低流量有警告特性的可市場獲得之單 元。 管線 較佳地，所有管線包含使内部電氣拋光的不銹鋼 (316SST)。也可使用包含PFA 4〇〇或超高純度鐵弗龍的某 些型式之塑膠管。 重新循環 一部份或所有之清洗氣體可如第19B圖顯示地重新循 環。在此情形中，一鼓風機和一水冷式熱交換器被加至清 洗模組。例如，來自光學組件的清洗氣流可重新循環、且 來自電氣組件的清洗氣流可排出或一部份之組合氣流可排 507408

放。 系統之優點 描述於此的系統代表在長期準分子雷射性能、特別 是針對ArF和F2雷射的主要改善。污染問題基本上被消除， 其導致在組件壽命和光束品質上的明顯增加。另外，除通 過輸出埠外的洩漏已被消除、故流量可被控制於具有把… 需求縮減約50百分比之效果的期望值。 表的密封開關輩元 此第一較佳實施例如第20、20A和20B圖顯示地包括 含有一内建功率表之一密封開關單元5〇〇。用此重要改善， 開關具有兩功能，第一、做為阻擋雷射光束之開關，第二、 作為不管何時需要量測時則監視光束功率的完整光束功率 表。 第20圖係顯示開關單元之主要組件的上視圖。這些 係開關502、光束集中器504和功率表506。在閉合位置中 有開關的雷射輸出光束之路徑顯示於第2〇圖之51〇。有光 束張開的路徑顯示於512。光束停止元件516之開關主動表 面、係與自腔室輸出的光束方向呈45度，且在開關閉合時、 光束在開關表面被吸收且反射至光束集中器5〇4。光束集 中為主動表面和開關主動表面兩者設置用於雷射光束之高 吸收率的鉻平板。在此實施例中，光束阻停元件5丨6安裝 在可撓彈簧鋼臂518上。如第20B圖顯示地藉由把電流施 於線圈514來打開開關，其把可撓臂518和光束阻停元件516 拉至線圈，自輸出雷射光束之路徑去除光束阻停元件516〇 1紙張尺度適用中國國家標準（CNS) M規格（21〇Χ297公爱1 ------ 507408 A7 B7 五、發明説明（58 藉由阻停流過線圈514的電流來關閉開關，其允許永久磁 鐵520把光束阻停元件516和可撓臂518拉回到閉合位置 ------------------------裝—— (請先閲讀背面之：;x.s杯項*.填tcc本兑) 中。在一較佳實施例中，電流被小心修整、來產生元件和 臂件在打開和閉合位置間的容易傳輸。 功率表506以類似方式來操作，如第2〇和2〇八圖顯示 地把焦熱電光檢測器放置在輸出雷射光束之路徑中。在此 情形中，線圈520和磁鐵522針對輸出功率量測、把檢測器 單7G 524和其可撓支臂526拉入和拉出光束路徑。此功率表 可用開關張開和用開關閉合來操作。至線圈之電流係使開 關受控制、來把單元524之容易轉移提供入和出光束路徑。 光束密封系統 *-τ丨—， 第一腔室出α密封單元 在ArF雷射之光譜範圍内的紫外光會在供應氧氣或多 樣其他化學組件中、損壞敏感光學組件。同時，氧氣係ArF 雷射光束之大致吸收者。因此提供特殊裝置把雷射模組間 的雷射光束線與大氣隔離，同時允許模組之快速和容易替 換。因為明顯量之振動力在雷射腔室中產生，故在腔室和 LNP間、及腔室和輸出耦合器間的光束密封組件較佳被設 計，來把傳送到LNP和耦合器單元中的光學組件輸出的振 動力最小化。兩特定光束密封風箱單元描述於下，其可使 用在腔室之LNP側和腔室之輸出耦合器側兩者上。這些密 封單元係： 1) 不含彈性物 2) 提供針對LNP和OC與腔室振動之振動隔離 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 61 507408 A7 _B7_ 五、發明説明（59 ) 3) 提供光束串列與大氣之隔離

4) 允許腔室不干擾LNP和輸出耦合器的無限制更換。 各雷射腔室超過200磅重，且如第22A、22B、22C和22D 圖顯示地典型上以小輪子來滾入雷射組櫃中的位置。在如 第22E圖顯示的一實施例中，密封單元（在腔室窗口方塊 156A和LNP前平板178間）包含一金屬風箱158、風箱凸緣 159和保護器托架160。第22E、22F和22G圖顯示在腔室以 由箭頭22F指出的方向來滾入位置時，被壓縮的風箱單 元。顯示此風箱密封單元的分解圖顯示於第22H圖，風箱 158之一後側凸源鉚合於LNP前平板157A。請注意到保護 托架160於有螺紋位置15A來附於含有在被壓縮時允許托 架160之側向滑動的鉚釘之平板178。清洗氣體於16A之埠 口來進入LNP ’且如參考第17圖而上述地向上流過光栅表 面。 因此，清洗氣體透過LNP隙縫18A和擴散隙縫19A而 流入風柏區’然後進入窗口方塊15 6 A、且如第19圖顯示 地自該處至流量可被監視的清洗模組17、且然後排出。此 風箱提供把LNP中的氧含量縮減至每百萬小於1〇〇份之一 極佳密封，同時允許容易腔室更換、且把自腔室傳送到LNp 的振動最小化。該密封並非100%有效，因為它依賴風箱 凸緣159和窗口方塊156A之面對表面間、只有由風箱彈簧 力施加之約2磅的普通接觸力之一面對面接觸。 第二腔室出口密封單元 一替換密封單元描述於第221、22J、22K和22L。如 62 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇><297公釐） A7 B7 五 、發明説明（6〇 第221圖顯示的此風箱單元用金屬封材、於兩介面來與腔 室窗口方塊和LNP前平板密封。此單元包括由金屬圓柱體 24A分開的兩風箱26A和26B。凸緣20被鉚合於腔室窗口 方塊56A，且在把腔室單元插入雷射組櫃前、如第221圖 顯示地用設置於28A的金屬” C”封材來密封。腔室然後如 第22 A-D圖指出地滾入雷射組概。當腔室在位置中時，凸 緣22A用V夾單元31A來箝夾於LNP前平板157A，且如第221 圖顯示地用設置於30A的金屬，，C”封材來密封。 係LNP模組之一部份的V夾單元顯示於第221和22K。 V失如下來工作。顯示於第221圖的V夾用在50A的鉚釘來 安裝在LNP框架178上。扭力彈簧52A把類轆槓桿46A之前 緣47A保持偏離LNP框架178之表面約icm(在此未顯示）。 當腔室156滾入位置時，可箝夾凸緣22A通過極接近LNP 框架178之表面、直到可箝夾凸緣22A之外緣定位在類軛 槓桿46A和LNP框架178之表面為止。 當腔室156係在其於LNP 120和輸出耦合器間的適當 位置時，可箝夾凸緣22A藉由把致動握把44A旋轉90度至 180度而箝入位置（進入在第221圖上的頁面）。自轉軸40A 偏離的凸輪38A把自頁面（在第22J圖中）穿出的力、施於類 軛槓桿46A之延伸部45A下側，其迫使槓桿46之45B部份、 把可箝夾凸緣22A向下箝入位置。在隙縫30A中的金屬’’C” 封材被箝制力壓縮，在風箱結構19A和LNP框架178間提 供一氣緊式密封。第22K圖顯示V夾單元之操作。 第22L圖顯示在把腔室-LNP介面密封之位置的風箱單 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） -----------------------裝……-------------、玎------------------線. (請先閲A计面之;.i.a弘項4填«本兑) 63 507408 A7 _____B7_ 五、發明説明（61 )

元。此係一橫截面上視圖。顯示於圖上的是於54A和56A 之金屬’C”封材、腔室窗口方塊156A、清洗通孔58A、含 有密封60A的腔室窗口61A。箭頭62顯示可箝夾凸緣22之 外緣22A由類輛槓桿46A(在此未顯示）來夾靠於lnP框架 178 〇 第22I-L圖之此風箱單元在腔室和lnp間、及在腔室 和輸出耦合器間提供比顯示於第22E-H圖者更緊的密封； 然而’它有些較貴、且振動組件透過它的傳送可能較大。 對於兩個單元，雖然詳細描述參考於Lnp-腔室介面，. 較佳使用相同單元和技術來密封腔室-輸出耦合器介面、 和光束路徑上的其他光學介面。 經改善計波表清洗 在此較佳實施例中，一特定A清洗技術被使用、來 提供計波表以及輸出耦合器和腔室輸出窗口方塊之高紫外 線通量部份的額外清洗。此技術顯示於第22M圖。如上述 的’雷射輸出光束部份地交叉把光束中的95〇/〇能量通過為 輸出光束之反射鏡面17〇(也看第14圖）。約4%反射光束自 鏡面171反射到來測量脈波能量的能量檢測器172。（其他 部份之反射光束如61A顯示地通過鏡面171、且去到計波. 表中的其他監視器。）於4〇〇〇Hz，此5%輸出能量代表許多 UV光’其如此特殊故已注意來確定在此光束部份之路徑 上的氣體極乾淨和純淨。為了做此，計波表被修正來密封 鏡面170之上游側、鏡面m之上游側、和其餘計波表中的 檢測器172之窗口前侧間的區域。且來往於此區域的一特 64 本紙張尺度適用中國國家標準（CNs〉A4規格（21〇><297公1) 507408 A7 ___B7 五、發明説明（62 ) 定清洗流量如62A顯示地被提供。其餘計波表由顯示於64八 的第一清洗流量來清洗。

在計波表中由在鏡面170、171和172檢測器窗口之密 封來限定清洗流量62A。清洗流量沿著雷射輸出光束路 徑、自此區域輸出，透過一風箱區6A回到輸出耦合器模 組68A來清洗它。流量然後流過風箱單元7〇A且進入窗口 方塊72A ’流出窗口方塊中的一出口埠和風箱單元7〇a中 的一出口埠、然後如在第19圖之74A顯示地通過一管回到 Μ:清洗模組17。窗口 17〇之下游側係用來自開關模組5民的 清洗流量來清洗。清洗流量可如第丨9圖顯示地來自模組 17，或在一些情形中、窗口76A被去除且開關模组之輸出 打開來連接於一經清洗顧客光束線，在該情形中、於78A 的出口清洗管線可指向一顧客清洗回流系統或排放到大 氣。 可對本發明做各種修正，不致改變其範疇。那些熟 知該技術者將認知許多其他可能改變。例如，脈波電源電 路如第5圖顯示地可為高達脈波變壓器56之輸出的一共同 電路。此方法如在此被合併參考的美國專利申請案序號第 09/848,043號解說地，提供抖動上的進一步縮減。顯示至 脈波變壓器的輸入和輸出之該專利申請暗的第3B圖，為 了讀者方便而包括於此如第13圖。可藉由使用馬達驅動器 來調整顯示於第22A圖之弯曲機構、而調整線條弄窄光柵 之曲率，來提供頻帶寬之主動回授控制。或可藉使用壓電 裝置來控制光柵之曲率，來提出頻帶寬之更快速控制。對 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（210X297公釐） -----------------------裝------------------，玎------------------線. (靖先閲讀竹liu之;i.4弘項洱填β本U ) 65 507408 五 發明説明（63 ) 於顯示於此的-組態，其他熱交換器設計應為明顯終正 例如’所有四單元可組合成單一單元。對於在熱交換器： 使用更大鰭片、來調適在氣體溫度上因雷射之叢集模 料快速改變之效應，可㈣讀者請瞭解到= 兩脈波率，脈波能量上的回授控制不一定必須快得足以< 用緊接在前脈波、來__特定脈波之脈波能量。例=使 可提供控制技術，#中針對一特定脈波的所測量脈波能量 被使用來控制第二或第三後續脈波。在用來把計波表校準 器和光柵資料轉換至波長值的演繹法則中之許多改變和修 正為可能。例如，申請人已發現到一極小誤差由校準器光 π統中的一聚焦誤差產生，其使所測量線寬比其實際者 大。誤差隨所測量校準器花紋之直徑變大而稍微增加。這 可藉由掃描雷射和一範圍波長、且在所測量花紋離開窗 時搜尋步級改變，來校正。然後可根據窗口内的所測量 紋之位置來決定一校正因數。可使用與第丨圖顯示者不… 的許多其他佈局組態。例如，腔室可側靠側或在底部上有 ΡΑ地來安裝。同時，第二雷射單元可藉由包括如一部份 反射鏡面的一輸出耦合器，來組配為一僕從振盪器。其他 變化為可能。可使用除切線風扇外的風扇。於遠大4kHz 之重複率，這可能需要。風扇和熱交換器可設置在放電 室外面。描述於美國專利申請暗序號第〇9/837,〇35號（在― 合併參考）的脈波時序技術也可被利用。因為較佳實施例 之頻帶寬可小於〇.2pm，可能期望用額外精確度來測量 帶寬。這可用具有比上述的校準器小之自由頻譜範圍的 σ 化 同 腔 此 頻 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) Α4規格（21〇χ297公董） 66 507408 A7 B7 五、發明説明（64 校準器來完成。熟知的其他技術可適於使用來精確測量頻 帶寬。據此，上述揭露不意圖為限制、且發明範疇應由所 附申請專利範圍及其法定等效者來決定。 67 (請先閲讀背面之注意寧项耳填趑本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 507408 A7 B7 五、發明説明 65 ) 元件標號對照 2···較佳雷射系統 4P…高電壓組件 6P…雷射腔室 8 A，8 B…換向器模組 10…主振盈器模組 10A-2，10A-4…電極 10A-8,58A…熱交換器單元 10B，12B…壓縮頭 10C 1…擴光稜鏡 10C3···光栅 10P···脈波電源組件 12…功率放大器模組 14A-14D…鏡面 16Β1，16Β2···ΡΖΤ調諧鏡面控制 17Ρ···氮氣清洗模組 18Α…LNP隙縫 19Α…擴散隙縫 20Ρ…分配面板 22Α…可箝夾凸緣 24…空氣流通模組 28…雷射控制模組 30Α…金屬’’C”封材 33…輸出光束 4···雷射系統框架 6-"AC/DC高壓電源供應器模組 7···共振充電器模組 8P…高電壓電纜 10A，12A…放電腔室 10A-6…陽極支持桿 10A-10…切線風扇 10C，2P…線條弄窄組包 10C2，114···調諧鏡面 10D、12P···輸出耦合器單元 11···氣流、光束過濾器 14…波前工程盒 14P···計波表 16P···氮氣源 18…開關模組 18P···氮氣過濾器 20…氣體控制模組 22…冷卻水分配模組 22P···流量監視器單元 26…顧客介面模組 30…狀態燈 31A…V夾單元 38A…凸輪 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 68 507408 A7 B7 五、發明説明（66 ) 40 A…轉轴 46···固態切換器 4 7 A…前緣 48Α，48Β·"部份 52Α…扭力彈簧 54Α1…夾頭 54A3…盒外 5 6 Α…線轴 5 6 C…絕緣器 60A…密封 62…箭頭 64A2…凹槽 69···光二極體 80…上平板、壓電驅動器 81…凸緣、菱形墊塊 82A…步進馬達安裝架 84…鋁盒體、槓桿臂 86…彈簧 88…擴散器 90、400…聚焦透鏡 112a-112cl···稜鏡光束擴大器 156A…腔室窗口方塊 160…保護托架 172…能量檢測器 42,52,62,82,202,302 …電容器排組 46A…類輛槓桿 48,54,64,208···電感器 49···氧鐵圈塊 54,64A…可飽和電感器 54A2…冷卻線 56…脈波變壓器 56B…印刷電路板 58A…清洗通孔 61A…腔室窗口 64A1…盒體 64A3,307···磁性鐵心 79…熔合矽土校準器 80A…壓電安裝架 82…下平板 83…熔合矽土區隔器 85…導引器、鏡面安裝架 87…上緣、風箱 89…窗口 110···線條弄窄模組 120···計波表單元 157A…LNP前平板 170，171，173，174，179，182."鏡面 176…梯列光栅 -----------------------裝------------------、玎------------------绛 (請先閲讀背面之注.4事項4填尨本订) 69 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 507408 A7 B7 五、發明説明（67 ) 177…隙縫 180…線性光二極體陣列 190···絕對波長參考校準單元 200…dc電源供應器 206"_IGBT切換器 214…電流回授 216…下增電路 301-304…金屬片塊 303、546···鰭片 304C···夕卜凸緣 306…渦旋器、排線混合器 308···密封部 402…可程式邏輯裝置、Ο形環 406…RAM、繞射擴散元件 410…類比至數位轉換器 504…光束集中器 510…閉合位置 514…線圈 518…可撓臂 524…檢測器單元 534、536···馬達控制器 5 4 3…中心轴 D1-D3···二極體 Q1-Q3…電晶體開關 178，183,402,410."透鏡 184···光束出口校準器 197···計波表處理器 204,304···控制板 212···電壓回授 215···自由輪轉二極體路徑 300，11…三相電源供應器 302…含鰭片結構 304A…内凸緣 305…電流 307A-307C…線圈 400···微處理器、雙埠螺帽 404…記憶體排組、校準器盒體窗口 408."RAM記憶體排組 502…開關 506···功率表 512···張開位置 516···光束阻停元件 520···永久磁鐵 530,532···馬達 541，542···蓋子 545···外盒體 L1…共振電感器 R1-R3…電阻器 木紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） 70

Claims (1)

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   六、申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1· 一種極窄頻帶雙腔室高重複率枭 里设半乳體放電雷射系統，包 含有： A) —第一雷射單元，包含： 1) 一第一放電腔室，含有： a) —第一雷射氣體， b) -第-對經延長隔開電極，界定一第一放電 區， 2) -第-風扇’用來在該第—放電區中提供充分 氣體速度的該第一雷射氣體、以在每秒4〇〇〇脈波或更 大之範圍中的-重複率來操作時、於各脈波後次一脈 波前、自該第一放電區來清除大致所有放電產生之離 子， 3) —第一熱交換器系統，能夠自該第一雷射氣體 去除至少1 6kw之熱能， 4) 一線條弄窄單元，用來把在該第一放電腔室中 產生的光脈波之頻譜頻帶寬窄化， B) —第二雷射放電腔室，包含： 1) 一第二放電腔室，含有·· a) —第二雷射氣體， b) —第二對經延長隔開電極，界定一第二放電 區， 2) —第二風扇，用來在該第二放電區中提供充分 氣體速度的該第二雷射氣體、以在每秒4000脈波或更 大之範圍中的一重複率來操作時、於各脈波後次一脈 各紙張尺度適用申國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 71 —-—.-----裝--------訂·-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印制衣 72 507408 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 波前、自該第二放電區來清除大致所有放電產生之離 ， 3) 一第一熱父換裔系統’能夠自該第二雷射氣體 去除至少1 6kw之熱能， C) 一脈波電源系統，被組配來把電氣脈波提供至該 第一對電極和至該第二對電極、足以用在約5mj範圍 ^ 内的受精確控制脈波能量來產生於每秒約4000脈波之 速率的雷射脈波，及 D) —雷射光束量測和控制系統，用來測量由該兩腔 室雷射系統產生的雷射輸出脈波之脈波能量、波長和 頻帶寬，且以一回授控制配置來控制該等雷射輸出脈 波。 2·依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該第一雷射 單元被組配為一主力振盪器、且該第二雷射單元被組 配為一功率放大器。 . 3.依據申請專利範圍第2項之雷射系統，其中該雷射氣體 包含氬、敦和氖。 4·依據申請專利範圍第2項之雷射系統，其中該雷射氣體 包含氪、氟和氖。 5·依據申請專利範圍第2項之雷射系統，其中該雷射氣體 包含氟和從由氖、氦或氖和氦之一混合組成的一群組 選出之一緩衝氣體。 '' 6·依據+請專利範圍第2項之雷射系統，其中該功率放大 器係針對通過該第二放電區的兩光束而組配。 用中國國家標x 297公愛） -------------^--------^---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填冩本頁) 507408 經濟部智慧財產局員工消費合作钍印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 7·依據中請專利範圍第1項之雷射系統，其更包含用來支 持獨立於該第一放電腔室的該第一雷射單元之共振腔 光學單元的一光學桌。 · 8.依據申請專利範圍第7項之雷射系統，#中該光學桌一 般係U形、且界定一個υ形腔，其中該第一放電腔室係 女裝在該U形腔内。 9·依據申請專利範圍第丨項之雷射系統，其中各個該等第 一和第二雷射腔室於該等電極下游來界定含有一逐漸 增大橫戴面的-氣體流動路徑、以允許在該等放電區 中發生的靜電壓降之一大百分比的恢復。 10. 依據申請專利範圍第2項之雷射系統，其中該腔室也包 含於該放電區上游的一風標結構、來把該放電區上游 的氣體速度標稱化。 11. 依據申請專利範圍第丨項之雷射系統，其中該第一風扇 和該第二風扇各係切線風扇、且各包含由兩無刷DC馬 達驅動的一轉軸。 12·依據申請專利範圍第丨丨項之雷射系統，其中該等馬達 係水冷式馬達。 13 ·依據申请專利範圍第11項之雷射系統，其中各個該等 馬達包含一靜子、且各個該等馬達包含包括在把一該 靜子與該雷射氣體分開的一壓力杯中之一磁性轉子。 14. 依據申請專利範圍第丨丨項之雷射系統，其中該切線風 扇包含自該鋁堆疊切製的一葉片結構。 15. 依據申請專利範圍第丨丨項之雷射系統，其中該葉片結 297公釐） -73 . , ^------— ^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507408 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 構具有約五英忖的一外徑。 16·依據申請專利範圍第丨丨項 y 、 由耵糸統，其中該等馬達 係無感測為馬達、曰更包合田，电〖办u 文匕S用來控制該等馬達之一個 的一主力馬達控制器及用來控制 木衩制另一馬達的一僕從馬 達控制器。 Π·依據申請專利範圍第丨丨項之雷射系 甘+ ^ κ <由射糸統，其中各個該等 切線風扇包含相對於該轉軸有夾角的葉片。 18.依據申請專利範圍第丨項之雷射系統，其中該含鰭片熱 父換器糸統係水冷式。 19·依據申請專利範圍第18項之雷射系統，其中該熱交換 器系統包含至少四個分立水冷式熱交換器。 20.依據申請專利範圍第18項之雷射系統，其中該熱交換 氣系統包含具有一渦旋水流通道的至少一熱交換器， 其中至少一渦旋器設置在該路徑上。 2 1 ·依據申請專利範圍第2〇項之雷射系統，其中各該等四 個熱交換器包含包括一渦旋器的一渦旋水流通道。 22·依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該脈波電源 系統包含水冷式電氣組件。 23 ·依據申請專利範圍第22項之雷射系統，其中該等水冷 式組件中之至少一個係操作於超過12000伏特之高電壓 的一組件。 24·依據申請專利範圍第23項之雷射系統，其中使用冷卻 水流過的一電感器來把該高電壓與接地點隔離。 25.依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該脈波電源 表紙Jr尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱〉 74 I I II— i I I I ----I ---« — III — — —— (請先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁) 507408 六 __ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 系統包含把一充電電容器充電至一受精確控制電壓的 一共振充電系統。 26·依據申請專利範圍第25項之雷射系統，其中該共振充 電系統包含一個De-Qing電路。 27. 依據申請專利範圍第25項之雷射系統，其中該共振充 電系統包含一流出電路。 28. 依據申請專利範圍第25項之雷射系統，其中該共振充 電系統包含一個De-Qing電路和一流出電路。 29. 依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該脈波電源. 系統包含包括至少三個並聯配置的電源供應器之一充 電系統。 30. 依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該雷射光束 量測和控制系統包含一校準器單元、一光二極體陣列、 一可程式邏輯裝置、及用來把自該校準器單元來的雷 射光聚焦到該光二極體陣列上的光學單元，其中 該可程式邏輯裝置被程式化以分析來自該光二極 體陣列之資料、來判定校準器花紋在該光二極體陣列 上的位置。 31·依據申請專利範圍第30項之雷射系統，其中該量測和 控制系統也包含程式化來計算來自用該可程式邏輯裝 置設置之花紋資料的波長和頻帶寬的一微處理器。 32·依據申請專利範圍第30項之雷射系統，其中該可程式 邏輯裝置用根據該等花紋之量測來計算波長和頻帶寬 的一演繹法則來程式化。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） Kn m n n an US Hi m n In n n ·ϋ l >n an I 訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 75 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 507408 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 33·依據申請專利範圍第32項之雷射系統，其中該可程式 邏輯裝置被組配來比一秒之1/4000還快地計算波長和 頻帶寬。 34·依據申請專利範圍第3〇項之雷射系統，其中該校準器 單元包含一繞射擴散元件。 35·依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其更包含包括由 一個PZT驅動來至少部份驅動的一調諧鏡面之一線條 弄窄單元。 36. 依據申請專利範圍第35項之雷射系統，其中該調諧鏡 面也由一步進馬達來部份地驅動。 37. 依據申請專利範圍第35項之雷射系統，其更包含一預 調諧裝置。 3 8.依據申請專利範圍第35項之雷射系統，其更包含包括 一學習演繹法則的一主動調諳裝置。 39·依據申請專利範圍第35項之雷射系統，其更包含一適 應性前饋演繹法則。 4〇·依據申請專利範圍第35項之雷射系統，其中該線條弄 窄單元包含界定一光栅表面的一光栅、及用來迫使清 洗氣體鄰近於該光栅表面的一清洗裝置。 41·依據申請專利範圍第4〇項之雷射系統，其中該清洗氣 體係氮器。 42·依據申請專利範圍第4〇項之雷射系統，其中該清洗氣 體係氦氣。 43·依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其更包含包括一 ---II---I 1 » --------·11111 I I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

   507408 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 亂氣過渡器的一氮氣清洗系統。 44. 依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其更包含包括流 量監視器的一清洗模組，該雷射也包含用來把來自該 雷射的清洗氣體排放的清洗排出管。 45. 依據申請專利範圍第丨項之雷射系統，其更包含一開關 單元’該開關單元包含一電氣操作的開關、及可用一 命令信號來定位在一雷射輸出光束路徑上的一功率 表。 46·依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其更包含把一第 一光束密封設置在該第一腔室之一第一窗口和線條弄 窄單元間、且把一第二光束密封設置在該第一腔室之 一第二窗口和一輸出耦合器單元間的一光束密封系 統’各個該等光束密封包含一金屬風箱。 47·依據申請專利範圍第46項之雷射系統，其中各個該等 第一和第二光束密封被組配來允許該雷射腔室之容易 更換。 48·依據申請專利範圍第46項之雷射系統，其中各個該等 光束密封不含有彈性物、提供與該腔室之振動隔離、 &供光束串列與大氣的隔離、及不干擾該LNP或該輸 出耦合器單元地允許該雷射腔室之無限制更換。 49.依據申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該量測和控 制系統包含用來把自該雷射來之一小百分比的輸出脈 波分離的一主要分光器，用來把一部份該小百分比指 向到該脈波能量檢測器的一第二分光器，以及把由該 戈紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 77 ^ ^ ^--------^-------— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507408 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 主要分光器、該次級分光器及該量測和控制系統之其 他部份中的該脈波能量檢測器之一窗口侷限的一體積 隔離來界定一隔離區之裝置。 50. 依據申請專利範圍第49項之雷射系統，其更包含用一 清洗氣體來清洗該隔離區的一清洗裝置。 51. 依據申請專利範圍第5〇項之雷射系統，其中該雷射更 包含一輸出耦合器單元及一輸出窗口單元，該清洗裝 置被組配、使得自該隔離區排放的氣體也清洗該輸出 耦合器單元和該輸出窗口單元。 -------------· .— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·_ --線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 78 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）