TW505811B - Method to form optical diffusion reflector - Google Patents

Description

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/Ν' 五、發明說明（1) 名稱為π形成反射 本案為專利申請案號第8 8 1 0 6 5 8 1號 式光散射器之結構與方法之追加案。 發明領域： 本發明係關於一種能夠將進入反射式T F Τ - L C D的外界環境 光散射至預期的立體角之裝置，特別是該立體角可偏離通 常為LCD上覆蓋玻璃所產生之高強度反射線（specular reflection line) 〇 發明背 為方便 學用語 的平面 之反射 射光錐 d i f f u s 做水平 角（d e v 線間的 傳統的 像反射 5, 610, 同時達 線、保 景： 稍後討論起見，先定義將會用到如第一圖所示之光 及變數。入射面乃是包含入射光與反射點垂直方向 ，反射線則是反射角與入射角相同、也在入射面上 光線，而散射光所展開的光錐稱做散射光錐。將散 在入射面上的散佈角度稱做垂直散射角（vertical ion angle) ，而垂直於入射面的散佈角度則稱 散射角（horizontal diffusion angle) ΘΊ，偏離 iat ion ang 1 e ) 0 0乃是反射線與散射光錐的中心光 夾角。 反射式光散射元件，諸如散射膜（例如p〇l or〇id全 器及Sumitomo反射器）和突起反射器（參閱美國第 741號專利及中華民國第25 5, 〇19號專利），都無法 到控制散射光錐大小、將反射光散佈區域偏離反射 持解析度與避免色散之目的。然而，在某些應用

第5頁 505811 五、發明說明（2) 中，由覆蓋之玻璃所反射之反射光並不受歡迎，因為它是 光源虛像的強光，並且由於使用者的視角關係，通常圍繞 著反射線的散射光錐之一邊的光線會是無用的。因為通常 反射式TFT-LCD的效率低於1 0%，因此浪費的散射光將會導 致反射式TFT-LCD對於外界環境光的照明條件有較高的要 求。如此便大大降低了反射式TFT-LCD的實用性。因此， 有效地控制及均勻地分佈散射光於特定立體角中，以及產 生較高反射散射光強度及對反射式LCD的反射光做更完全 的運用，將會具有極大的實用價值。 改進上述情況的一種方法是結合散射膜與斜面反射結 構。儘管可用此方法達到將反射光散射偏離反射線之目 的，為了要使反射光偏離反射線的目的必須製作斜面反射 結構，然而以多次位移曝光的方式來製作斜面反射結構非 常耗時，大大降低了生產速率。 而為了要提高生產效率，使用一種具有不同透明度的 灰階光罩，來形成用於液晶顯示器中的斜面反射結構時， 因為上述由不同透明度區域所構成的光罩很貴，因此以此 方法所製造的液晶顯示器成本很高。所以必須要提出一種 方法，在不使用上述具有不同透明度區域的灰階光罩而製 造出用於液晶顯示器中的斜面反射結構。 發明目的及概述： 本發明之目的在於提供一種反射式光散射器，能夠將入射

第6頁 505811 五、發明說明（3) 光反射並散射到預期的立體角中，並具有需求之光 勻度，而不減低顯示品質。 本發明提供一種反射式光散射器的製造方法，使得 出的反射式光散射器可以將入射光散射到偏離反射 期角度區域中，本發明的方法包括下列步驟。 首先形成光阻層於基板上，然後對此光阻層進 步驟，接著使用狹縫寬度調整光罩對於該光阻層做 光（defocus exposure)，上述本發明車交佳實施例的 度調整光罩包含複數個狹縫區域。而複數個狹縫區 第一狹縫區域對應於離焦曝光步驟所用之光源具有 光量pi，並且複數個狹縫區域中的第二狹縫區域對 焦曝光步驟所用之光源具有第二曝光量q 1。複數個 域中的每一個狹縫區域之寬度皆等於p 2，而且每一 區域至少包含透光區段以及不透光區段，第二狹縫 透光區段之寬度q2，第一曝光量pi大於該第二曝光 並且（92)/(口2)二（91)/(01)。 接著對經曝光之光阻層顯影，以獲得光阻圖案 光阻圖案包含第一表面以及第二表面，第一表面具 二表面更長的斜面，介於第一表面與基板之間的第 0 ，其大小不等於介於第二表面與基板之間的第二 0 。然後對顯影所得出的光阻圖案進行烘烤或塗佈 層。 接著形成反射層於光阻圖案上，此第一表面的 向指向一預設方向’其偏離垂直於基板的方向達0 強度均 所製造 線的預 行烘烤 離焦曝 狹縫寬 域中的 第一曝 應於離 狹缝區 個狹縫 區域的 量Ql， ，上述 有較第 一角度 角度 覆蓋 法線方 的角度

第7頁 505811 五、發明說明（4) 大小，使得入射光經由反射層所反射的反射光反射到偏離 _ 鏡面強反射光兩倍0的角度。 如上所述，依據本發明，每一個上述之第一表面在入射面 -上具有一個單調地向上凸及/或向下凹的曲線，藉以將入 射光以特定的強度均勻度散射到入射面上預期的角度區域 - 中 〇 此外，如上所述，依據本發明之每一個第一表面在入射面 上有不規則曲線。雖然曲線不規則，入射光仍將被散射到 入射面上特定角度内，然而由於不規則表面，無法確保光 強度之均勻度。 又依據本發明，每一個第一表面在水平面上具有波浪形曲 線，藉以將入射光以特定均勻性的強度散射到預期的立體鲁 角内。 再依據本發明，每一個第一表面在水平面上具有不規則曲 線。同樣地，儘管有不規則的表面，入射光仍將被散射到 入射面上特定角度内，但不保證光強度之均勻度。 本發明之又一目的在提供一種製造本發明反射式光散射器 中曝光過程所需之光罩，其中上述之光罩包括一個具有複 數個平行直狹縫之不透明板。 本發明之再一目的在提供一種製造本發明反射式光散射器 中曝光過程所需之狹缝調整光罩，其中上述之光罩包括一 個具有多數個等距之規則波浪形狹縫及/或不規則波浪形 I 狹縫的不透明板。

第8頁 五、發明說明（5) 發明詳細說明 = = d = 射器時，首先一種特 罩上之狹縫乃經由細：；；先1且：質：曝光程序之中，光 =，經由顯影和可能的適當：J步二’及焦距也是適當 圖案的曲面即在基板上形成。二$二二，二一個具有特殊 層反射物質。由於這些突 在形成的表面鋪上一 射到與反射線不同的方向‘ ^ f，八射光將被反 J㈣，即可輕易隨需求調= 用 汀展開的立體 因為本發明並不使 用在t;:的技術中结構而導致 在本發明二j j成的多灰階光罩，所以可降二由不同透光 減低。尤#，不變，反射光強ΐίίί本。 不構成問題，ifΐ用本發明的結構之液會大幅 罩，以相料* 在本發明的方法中可以選=顯示器中並 明所提出❸：二$ J纟罩採取相對應的步•而$ $的光 在本發明說=Ϊ反射式光散射器。 而1作出本發

射元伴為°月曰的第2(a)圖、第2(b)圖與M *直面上之微觀剖面圖，顯示達成在圖乃兩個反 505811 五、發明說明（6) 射反射光的目的之兩種元件結構，而依據本發明的較佳實 施例之整個反射器的結構則是由相互平行的這些反射元件 所構成。 如第2(a)圖所示，曲斜面反射元件1的反射表面2之斜面乃 是一單調向上凸的曲線，反射表面2上任兩點之斜率都不 相同。最陡與最平緩的斜率分別出現在反射表面2之底部 與頂部。將基板水平面與曲斜面反射元件斜率最小處切線 之夾角（此處為反射表面2之頂部）稱做0 P，而將基板水 平面與曲斜面反射元件斜率最大處切線之夾角（此處為反 射表面2之底部）稱做0 v。假設此二處之入射光分別為I i 與I 2，而此二入射光與基板水平面之夾角相同稱為0 i。則 根據光學反射原理，在反射表面2頂部之反射光與基板水 平面夾角為0i+ 20P，而在反射表面2底部之反射光與基 板水平面夾角為0 i + 2 0 VQ，所以可知當斜面的傾斜角為 0P時，反射光會產生20v的偏折，且由於此曲斜面反射表 面為一單調向上凸的曲線，因此各切線傾斜角的分布是從 0 P到0 v。因此，藉由此種反射器，入射光將被反射並散 射至偏離平面鏡面反射線2 0 p到2 0 v的角度區域内。所以 可以經過調整斜面之頂部與底部此二切線傾斜角度與此二 角度範圍内的反射曲面切線傾斜角度變化率（突出率： convexity)，達到控制散射光方向之目的，以因應實際需 求。 倘若適當塑形，即使是一個具有單調向下凹的曲線之斜面 反射器，只要有正確之0V、（9P及凹陷率（concavity)，也

第10頁 505811 五、發明說明（7) 可以達到相同效果。然而，於此情形中，0 v出現在斜面 之頂部，而0 P則出現在斜面之底部如第2 ( b )圖所示。實 際生產上，此種結構不易獲得，因為斜面之頂部須是尖銳 的邊緣。 第3圖為不規則斜面反射元件3。此種結構的特徵在於反射 表面4的斜面斜率極值不一定出現在斜面之底部或頂部， 而斜面上任兩點之斜率可以相同。基於不規則結構的特 性，入射光將被隨機地反射至不同方向，但是仍然會落於 最大、最小斜率所控制的角度區域20VS20P中，而不一 定均勻地散佈在所有方向上。 本發明的一個較佳實施例所提出的結構可以是如曲表面反 射器5所示之結構，見第4圖中之結構立體圖。其特徵在於 反射表面6不只像曲斜面反射器（例如第2圖中的曲斜面反 射元件1 ) 一樣在斜面（如曲斜面反射元件1的反射表面2 )沿 著X軸剖面的曲線是彎曲的而非直線，而且在斜面（如曲斜 面反射元件1的反射表面2 )沿著y軸剖面的曲線也是彎曲的 而非直線。如第5圖所示，根據上一段所敘述的光學反射 原理，入射光線將被曲表面反射器5反射並散射至一立體 角中。該垂直散射角0 s、水平散射角0 τ以及偏離角 0 Q (第1圖中），都是由反射表面彎曲變化情形和不同方向 的斜率極值大小所控制。 第6 ( a)圖顯示以光線照射曲表面反射器5實驗中，散射光 通量對垂直散射角與水平散射角之立體圖；而第6 ( b)圖則 是理想散射光分佈的示意圖；其中下方圓圈乃一典型之光

第11頁 505811 五、發明說明（8) 入射角，上方圓圈乃對應之反射角，而斜線三角區域為使 用者檢視之理想立體角區域’此即是本發明所預期達至彳之 目標’同時也可由第6(a)圖的楔狀光通量分佈圖得知。 為了達到如上述之將反射光射入第6(b)圖中的散射光錐之 目標’本發明提供形成曲表面反射器之方法的實施例，其 製造反射器時，是在一次曝光方法中，利用狹縫寬度調整 光罩’而不使用傳統的具有不同透光度區域的灰階光罩。 在本發明中，所使用的狹縫寬度調整光罩之狹縫的寬度是 視需要而設定的，如第7(a)圖所示，其中狹縫寬度調整光 罩1 〇具有複數個狹縫組，於第7 (a )圖只顯示一狹縫組1 i， 並且狹縫組11可以包含第一透光狹縫llwl、第二透光狹縫 llw2、第三透光狹縫11W3、第四透光狹縫iiw4、第五透光 狹縫llw5以及第六透光狹縫11W6。其中包含每一個透光狹 縫的區域之寬度皆相同，稱為a，並且第一透光狹縫llwl 之寬度為b，第二透光狹縫llw2之寬度為c，第三透光狹縫 llw3之寬度為d，第四透光狹縫11W4之寬度為e，第五透光 狹縫llw5之寬度為f，第六透光狹縫11W6之寬度為g。 由第7(a)圖可知，第一透光狹縫llwl之寬度b，大於第二 透光狹縫llw2之寬度c，大於第三透光狹縫liw3之寬度d， 大於第四透光狹縫llw4之寬度e ’大於第五透光狹縫iiw5 之寬度f，大於第六透光狹縫llw6之寬度g。故當把狹縫寬 度調整光罩10使用於光阻層（未圖示）的曝光步驟時，其位 置與曝光量的關係如長條圖第7(b)圖所示，其中狹縫寬度 越大者，其曝光的區域越寬。若所使用的光阻為正光阻，

第12頁 505811 五、發明說明（9) 則上述被曝光之光阻層，其在經過顯影後之光阻圖案的剖 面圖即如第7(b)圖所示，其中上述的曝光步驟是以完全對 焦（perfect focus)的方式，將狹縫寬度調整光罩10置於 光阻層上，在一曝光系統中曝光而得到的。 然而當上述的曝光系統之焦距被調整成離焦（d e f 〇 c u s ) 時，例如依據本發明對上述曝光系統的對焦位置，調整成 比原來未調整的曝光系統之對焦位置遠或近百分之五至百 分之十，此種離焦曝光將因光學繞射現象及離焦擴散等因 素，而使得不同透光狹縫區域所透過的光束產生疊加混合 的現象。而因此所產生的光阻圖案20之剖面圖如第7(c)圖 中所示。在上述的離焦曝光步驟之後，經顯影所產生的光 阻圖案2 0，再以不同的烘烤條件，以熱回流（r e f 1 〇 w )的方 式來控制得出所需要的光阻圖案。並且在上述的熱回流步 驟中，其溫度大約為9 0 - 2 0 0 °C之間，光阻圖案2 0將因上述 不同的烘烤溫度及時間條件而得出不同的平滑效果，產生 不同的圖案。在其中一種烘烤溫度及條件下，被烘烤之後 的光阻圖案20之剖面圖如第7(d)圖中的光阻曲斜面圖案25 所示。依據本發明的較佳實施例之方法所形成的光阻曲斜 面圖案25之構造中的結構角0與p是不相同的，如此曲斜 面圖案才能形成非對稱圖形，以使得光線更均勻的散射到 上述預期的立體角當中。下一個步驟，參考第7(d)圖，是 要形成反射層3 0於經烘烤的光阻圖案（經烘烤的光阻曲斜 面圖案2 5 )上，以形成本發明所提出的反射器。此外，本 發明所形成的光阻曲斜面圖案2 5之分布及形狀端視狹縫寬

第13頁 505811 五、發明說明（ίο)

度調整光罩1 〇上複數個狹縫組丨丨之分难與長度而定。當複 數個狹縫組11是均勻分布在狹縫寬度調繁光罩1 0上，例如 參考第8圖中所顯示的狹縫寬度調整光單1〇之俯視圖，依 其所產生的反射器將會與第4圖中的反射器5相同。然而複 數個狹縫組1 1的長度與分布可以被設計成與第8圖不同的 圖樣，每一個狹縫可以是一條長且平行，並且橫越過整個 狹縫寬度調整光罩1 〇的直線或是曲線（如本追加申請案的 原案，編號為第8 8 1 0 6 5 8 1號之申請案中第1 〇圖上的狹縫 24)，因為在本發明中是使用狹縫寬度調整光罩10，而不 使用灰階光罩（如本追加申請案的原案，編號為第 8 8 1 0 6 5 8 1號之申請案中第17圖上標？虎45者），故可以在不 增加成本的情況下使用一次曝光步驟而形成光阻曲斜面圖 案。一般而言，依據本發明的一較佳實施例所形成的光阻 曲斜面圖案25之底邊的長度大約為1〇_5〇微米（micr〇n)之 間’=光阻顆粒25之高度約為〇· 2 — 5微米之間。

在獲得本發明的光阻曲斜面圖案之後，即可將之應用為反 射式LCD的反射基底。第9圖之結構剖面圖為運用本說明書 所揭路技術的反射式T F T - L C D之一實施例。主動陣列1 4 0分 佈在基板1 3 0上’而依據本發明實施例所製造出的反射器 基板150附著在上述之主動陣列14〇上，而且反射器基板 1 5 0是由複數個反射器所組成，其間隙則用與反射器基板 〇相同材料填補。含有彩色濾光片丨7 〇的玻璃基板丨8 〇覆 蓋於反射器基板1 5 0的上方，其間充填液晶材料丨6 〇，以形 成一組液晶盒（LCD cell)。一組含有偏光片2〇〇、又/4相

第14頁 505811 —— 五、發明說明（11) --------~-- 位差板1 9 0的組合膜層則粘 基板18〇之内表面。光線由=片%有^色慮;VV70的玻璃 後，光極化方向由偏光片入//日顯示器之 行於偏光片2 0 0的穿透轴方:1預设的極化方向（即平 光的極化方向會被液晶材方^ 進入液晶材料時，則 队曰曰何枓1 6 0的分子方向所改變。麸銘 經由曲表面反射器1 5 0將光線反射出 ^ 能否穿透偏光片2 0 0則是佑摅应私％ , α 傻的先線 』尺依據反射後光線之極化方向而 定。 i’mm?術之不同處在於不使用光散射材料來 達成光散m，因心KG?元件士的考曲表面來 ί ’ 為使以散射材料所造成的反射率及ϊ 2 了：m t說明書中所指稱的反射器即為用於液 ^ ^ ^ r f線的反射式光散射器，因為經過本發明 要求的預設立體角中的=具；n =到實際應用 i 於傳統方法所製成的光散射器， ί Γί π2降低製造成本並増強產品的性能。另 r :ίΓ中利用—次曝光步驟而且不使用灰階光 罩，故可以將成本降低，並提高生產 。 本$明所揭露之光罩僅為例證之用，並 狄縫的覓度間隔與曲率也會改變。 為了避免使用傳統之灰階光罩來製造本發明所要形成 射器，在本發明的一較佳實施例中，若欲形成的光阻曲斜

8ΗΠ 第15頁 505811 五、發明說明（12) =圖案2〇1之剖面圖如第10(a)圖所示， 對曝光量關係圖如第10(b)圖中的直線21〇所J^中 代表光阻水平位置’而y軸則代表曝光量。 施例LI要將光罩1〇(第7(a)圖）上的複X數個狹縫 ，1丨中母一個狹縫組設計成具有四條透光狹縫，則可以將 直線2 1 0在X軸上的投影平均分為四段，第一 p i 第二p X2、第三段x3以及第四段x4長度相同，但所^應於一的又 曝光量不同，如第10(b)圖所示。 然後分別依據第一段xl、第二段乂2、第三段乂3以及第四段 X4母一點所對應的曝光量之總和，分別除以第一段χ i、第 二段x2、第三段x3以及第四段χ4各段的長度，以分別得到 各段所對應的平均曝光量pi、ql、及31。所以曝光量對 於X軸座標的分格近似圖可以如第1 〇 ( c )圖所示。接著參考 第10(d)圖，假設光罩2 2 0中包含每一條透光狹縫的均等大 小區域之寬度均為p2 ’並且造成平均曝光量pl的透光狹縫 區域的寬度即假設為p 2 (即整個均等大小區域全為透光 區），造成平均曝光量ql的透光狹縫區域的寬度假設為 q2 (即整個均等大小區域為部分透光，部分不透光），造成 平均曝光量rl的透光狹縫寬度假設為r2，而造成平均曝光 量s 1的透光狹縫寬度假設為s 2。則要達到第丨〇 ( a )圖中之 固定傾斜角的斜面圖案，其透光狹縫寬度與應有的曝光量 存在有如下關係，（q2)/(p2)=(ql)/(pl)， (r2)/(p2)=(rl)/(pl)，以及（s2)/(p2)=(sl)/(pl)，藉由 上述的比例關係，可以得到光罩2 2 0中複數個狹縫組中，

第16頁 二)δ丄丄 發明說明（13) 每個狹縫組内每條透光狹縫的寬度。因此只要使用此光 f，對一光阻層以一離焦曝光步驟加以曝光，得到第7 ( c ) 二T =的ί阻,案之後，並接著以第7 ( c )圖之後的烘烤、 Γ以ΐ ί ί K驟力“乂處理，…乂得到一反射式液晶 i，二f I ΐ η使用的反射器基板（第9圖中標號為1 5 〇者），计 接著依據第9圖中的次序 =回 可」’並 在本發明的另一較佳實施彳/由成反射式液日日頦不15。 案20 1之剖面圖亦如第1(K J二，若欲形成的光阻曲斜面圖 曝光量關係圖如二第( (:)Λ所示，μ其光阻層之位置對 表光阻水平位置而?軸直線210所示’其中代 較佳實施例中，若；y將軸二^表曝光量。在本發明的另— = 在設計成具有四個透光狹縫區塊， 二2』投影平均分為四段，第-段XI、、; 一& 2第一&Χ3以及第四段χ4，此四段長度相第 對應於y軸的曝光量不同，如第1〇(b)圖所示。 但所 然，分別依據第-段xl、第二段χ2、第三段χ3以 X 一4 = 一點所，應的曝光量之總和，分別除以第一段X1、， :段χ2、第三段χ3以及第四段χ4各段的 ，以 各段所對應的平均曝光量pl、ql、"及“。所以曝 於X軸座標的分格近似圖可以如第1〇(〇：)圖所示。 第ΠΚΟ圖，在光罩設計時，亦將光罩中狹縫組^者—參考 縫組等分成四個均等大小區域，tl、t2、t3及14， ^ 應於第1〇(c)圖中之Χ1、χ2、χ^χ4等四個曝光量區刀別對 假設光罩2 4 0中造成平均曝光量ρ丨之第一個均等大小^域

第17頁 505811 五、發明說明（14) 11包^有v個區塊，且設此v個區塊皆為透光，則光罩2 4 〇 中，成平均曝光iql之第二個均等大小區域^包含有v個 區ί _且此v個區塊中不透光區塊u之個數為k2，tl及t2區 域产^於平均曝光量口丨及^丨，則其曝光量與與透光區域大 小f在，如下關係（v — k2)/v=(ql)/(pl)。同理，光罩24〇 中造成平均曝光量rl之第三透光狹縫區域t3包含有v個區 塊_’ ^此V個區塊中不透光區塊u之個數為…，且 (V~m )/v = (rl)/(Pl)。光罩240中造成平均曝光量si之第 = ' 狹縫區域t4包含有v個區塊，且此v個區塊中不透光 品A U之/個數為n2 ’且（v - n2)/v = (sl)/(pl) 〇藉由上述的 比例關可以得到光罩2 4 〇中複數個狹縫組中，每個狹 缝、、且内母個均等大小區域内之透光與不透光區塊之數目的 比例1因此只要使用此光罩，對一光阻層以一離焦曝光步 7 $以曝光，得到第7 ( c )圖所示的光阻圖案之後，並接著 以第7、（ Ο圖之後的烘烤及鍍反射膜等接續步驟加以處理， ^ 1 ~到一反射式液晶顯示器中所使用的反射器基板 (、9圖中標號為150者），並接著依據第9圖中的次序而形 成反射式液晶顯示器。 — 以上所述僅為本發明之較佳實施例而已，並非用以限 定本發明之申請專利範圍；凡其它未脫離本發明所揭示之 精神下所完成之等效改變或修飾，只要用一次曝光步驟以 开> 成f阻曲斜面反射圖案作為液晶顯示器之反射器基板 時 疋利用光罩狹縫區域中透光區域與不透光區域之比例 來控制各個光阻位置所需之不同曝光量，而達成一次曝光 I麵

第18頁 505811 五、發明說明（15) 製程而得出不同高度之光阻圖案時，以此製造反射式液晶 顯示器時，均應包含在下述之申請專利範圍内。 505811 圖式簡單說明 第1圖為本發明中使用的相關光學用語及變數之圖示。 第2(a)圖為本發明中曲斜面反射器之單一反射元件在入射 面上之微觀截面圖。 第2(b)圖為本發明中曲斜面反射器之單一反射元件在入射 面上之微觀截面圖。 第3圖為本發明中不規則斜面反射器之單一反射元件在入 射面上之微觀截面圖。 第4圖為本發明中曲表面反射器結構之立體圖。 第5圖為本發明中曲表面反射器反射及散射入射光之示意 圖。 第6(a)圖為本發明中曲表面反射器散射光通量之實驗結 果；而第6 ( b)圖則是理想反射光散射分布區域的示意圖。 第7 ( a)圖為依據本發明的一較佳實施例之狹縫調整光罩。 第7 ( b)圖為依據本發明的一較佳實施例之狹缝調整光罩， 其在完全對焦（perfect focus)的狀況下，每一個位置相 對於其曝光量的對應圖。 第7 ( c)圖為依據本發明的一較佳實施例之狹縫調整光罩， 其在離焦（defocus)曝光的狀況下，每一個位置相對於其 曝光量的對應圖，此圖亦是將本發明的一較佳實施例之狹 縫調整光罩對一正光阻層曝光並經顯影之後的光阻圖案。 第7 ( d)圖為利用本發明的一較佳實施例之狹縫調整光罩， 其在離焦（defocus) 曝光的狀況下，對一正光阻層曝光並 經顯影，然後做烘烤（b a k e )之後的光阻圖案，此即形成本 發明的一較佳實施例中的光阻曲斜面圖案之剖面圖。

第20頁 505811 圖式簡單說明 第7 ( e )圖為依據本發明的一較佳實施例，在光阻曲斜面圖 案上形成反射層，以製造反射型光散射器（反射器）之剖面 圖。 第8圖為依據本發明的一較佳實施例，用以對光阻層曝光 的光罩之一實施例，其中複數個狹縫組中的每一個狹縫組 用於對光阻層曝光並顯影之後，即得到第7 ( d)圖的光阻曲 斜面圖案。 第9圖為依據本發明的一較佳實施例，以在反射型光散射 器（反射器）上，形成液晶顯示器的剖面圖。 第1 0 ( a)圖顯示的是形成本發明的一較佳實施例之中的光 阻圖案之剖面圖，其為正光阻所形成。 第10(b)圖顯示的是要形成第10(a)圖中的光阻圖案所需要 的曝光量對於位置之分佈圖。 第1 0 ( c )圖顯示的是依據本發明的一較佳實施例，對於分 段後的各個位置區段求出每一個位置區段的平均曝光量之 後的曝光量之分格近似圖。 第1 0 ( d)圖顯示的依據本發明的一較佳實施例，所求出的 光罩之剖面圖，其中顯示了相對於各個位置區段之光罩的 透光區域與不透光區域之比例。 第1 0 ( e)圖顯示的依據本發明的另一較佳實施例，所求出 的光罩之剖面圖，其中顯示了相對於各個位置區段之光罩 中的透光區塊格數與不透光區塊之格數。

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Claims (1)

1. 505811 六、申請專 1. 一著射反射器的方法，該光線散射反射器 係被用於將入射光散射到一預定立體角中，該立體角偏向 遠離高強度鏡面反射線的方向上，該方法至少包含： 阻層於基板 縫寬度調整 xposure)， 區域，該複 離焦曝光步 光狹縫區域 所用之光源 的每一個透 每一個均等 區域的透光 同，而該第 曝光量p 1大 (ql )/(pl ) 同關係； 曝光後之該 影之該光阻 所需之傾斜 及第二表面 於該第一表 介於該第二 形成光 使用狹 (defocus e 個透光狹縫 域對應於該 該複數個透 焦曝光步驟 狹缝區域中 域之中，而 一透光狹缝 域之寬度相 q2，該第一 (q2)/(p2)= 量亦存在相 對於經 對經顯 化，以獲得 第一表面以 的斜面，介 大小不等於 上； 光罩對於該光阻層做離焦曝光 該狹縫寬度調整光罩至少包含複數 數個狹縫區域中的第一透光狹縫區 驟所用之光源具有第一曝光量p 1， 中的第二透光狹縫區域對應於該離 具有第二曝光量ql，該複數個透光 光狹縫區域均位於一個均等大小區 大小區域之寬度皆等於p2，而該第 區段之寬度為P 2，與該均等大小區 二透光狹縫區域的透光區段之寬度 於該第二曝光量ql，並且 ，其他透光狹縫區域之寬度與曝光 光阻層做顯影步驟； 層作烘烤以將該光阻圖案邊緣平滑 面光阻圖案，該光阻圖案至少包含 ，該第一表面具有較第二表面更長 面與該基板之間的第一角度0 ，其 表面與該基板之間的第二角度0 ;

   第22頁 505811 六、申請專利範圍 以及 形成反射層於該光阻圖案上，該第一表面的法線方向 指向一預設方向，使得該入射光經由該反射層所反射的反 射光反射到預設的該立體角範圍中。 2 .如申請專利範圍第1項所述之方法，其中上述之第一表 面與包含該入射光的入射面之交線為高低不平整的突起曲 線0 3.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中上述之第一表 面與包含該入射光的入射面之交線為下列其中之一：直線 及平滑曲線。 4. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中上述之複數個 突起斜底結構具有因為該狹縫寬度調整光罩上的直線狹縫 所導致的直線邊緣。 5. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中上述之複數個 突起斜底結構具有因為該狹縫寬度調整光罩上的彎曲狹縫 所導致的彎曲邊緣。 6. 一種製造光線散射反射器的方法，該光線散射反射器 係被用於將入射光散射到一預定立體角中，該立體角偏向 遠離高強度鏡面反射線的方向上，該方法至少包含：

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   形成光 使用狹 (defocus e 個透光狹縫 域對應於該 該複數個透 焦曝光步驟 狹縫區域中 域之中，而 一透光狹縫 域之寬度相 q2，該第一 (q2)/(p2)= 量亦存在相 阻層於基板 縫寬度調整 xposure )， 區域，該複 離焦曝光步 光狹縫區域 所用之光源 的每一個透 每一個均等 區域的透光 同，而該第 曝光量p 1大 (ql )/(pl ) 同關係； 光罩對於該光阻層做離焦曝光 ^狹縫寬度調整光罩至少包

   縫區域中的第-透光狹縫ί 中的第之ί源具有第一曝光量Pl， 且右Ϊ 一透光狹縫區域對應於該離 光量qi，該複數個透光 ，縫區域均位於一個均等大小區 區域之寬度皆等於P2，而該第 0又之寬度為ρ 2，與該均等大小區 一透光狹縫區域的透光區段宫 於該第二曝光量“，並且 見度 ’其他透光狹縫區域之寬度與曝光 對於經曝光後之該光阻層做顯影步驟；

   對經顯影之該光阻層作烘烤以將該光阻圖案邊緣平滑 化，以獲得所需之傾斜面光阻圖案，該光阻圖案至少包含 複數個突起顆粒，該複數個突起顆粒隨機分布於該基板表 面上，每一突起顆粒至少包含第一平滑傾斜部分以及第二 平滑傾斜部分，該第一平滑傾斜部分之斜率大於該第二平 滑傾斜部分之斜率，該第一平滑傾斜部分鄰接於該第二平 滑傾斜部分，每一經過烘烤後之該複數個突起顆粒包含有 第一表面以及第二表面，該第一表面比該第二表面長，介

   第24頁 505811 六、申請專利範圍 於該第一表面與該基板之間的第一角度，其大小不等於介 於該第二表面與該基板之間的第二角度；以及 形成反射層於該光阻圖案上，該第一表面的法線方向 指向一預設方向，使得該入射光由該反射層所反射的反射 光反射到預設的該立體角範圍中。 7. 如申請專利範圍第6項所述之方法，其中上述之第一表 面與包含該入射光的入射面之交線為高低不平整的突起曲 線。 8. 如申請專利範圍第6項所述之方法，其中上述之第一表 面與包含該入射光的入射面之交線為下列其中之一：直線 及平滑曲線。 9. 如申請專利範圍第6項所述之方法，其中上述之複數個 突起斜底結構具有因為該狹縫寬度調整光罩上的直線狹縫 所導致的直線邊緣。 1 0.如申請專利範圍第6項所述之方法，其中上述之複數個 突起斜底結構具有因為該狹縫寬度調整光罩上的彎曲狹縫 所導致的·彎曲邊緣。 11. 一種製造光線散射反射器的方法，該光線散射反射器 係被用於將入射光散射到一預定立體角中，該立體角偏向

   第25頁 505811 六、申請專利範圍 遠離高強度鏡面反射線的方向上，該方法至少包含： 形成光阻層於基板上； 使用狹縫寬度調整光罩對於該光阻層做離焦曝光 (defocus exposure)，該狹縫寬度調整光罩至少包含複數 個透光狹縫區域，該複數個狹縫區域中的第一透光狹縫區 域對應於該離焦曝光步驟所用之光源具有第一曝光量p 1， 該複數個透光狹縫區域中的第二透光狹縫區域對應於該離 焦曝光步驟所用之光源具有第二曝光量q 1，該複數個透光 狹縫區域中的每一個透光狹縫區域均位於一個均等大小區 域之中，而每一個均等大小區域皆包含有v個區塊，該第 一透光狹縫區域包含有v個透光區塊，該第二透光狹縫區 域包含有k個不透光區塊及v-k個透光區塊，該第一曝光量 pi大於該第二曝光量ql，並且（v-k)/(v) = (ql)/(pl)，其 他透光狹縫區域之寬度與曝光量亦存在相同關係； 對於經曝光後之該光阻層做顯影步驟； 對經顯影之該光阻層作烘烤以將該光阻圖案邊緣平滑 化，以獲得所需之光阻圖案，該光阻圖案至少包含第一表 面以及第二表面，該第一表面具有較第二表面更長的斜 面，介於該第一表面與該基板之間的第一角度0 ，其大小 不等於介於該第二表面與該基板之間的第二角度0;以及 形成反射層於該光阻圖案上，該第一表面的法線方向 指向一預設方向，使得該入射光經由該反射層所反射的反 射光反射到預設的該立體角範圍中。

   第26頁 505811 六、申請專利範圍 1 2.如申請專利範圍第1 1項所述之方法，其中上述之第一 表面與包含該入射光的入射面之交線為高低不平整的突起 曲線。 1 3.如申請專利範圍第1 1項所述之方法，其中上述之第一 表面與包含該入射光的入射面之交線為下列其中之一：直 線及平滑曲線。

   1 4.如申請專利範圍第1 1項所述之方法，其中上述之複數 個突起斜底結構具有因為該狹縫寬度調整光罩上的直線狹 縫所導致的直線邊緣。 1 5.如申請專利範圍第1 1項所述之方法，其中上述之複數 個突起斜底結構具有因為該狹縫寬度調整光罩上的彎曲狹 縫所導致的彎曲邊緣。

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