TW499608B - Structure and forming method of reflective optical diffuser - Google Patents

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reflective
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TW88106581A
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Wei-Chr Jang
Dai-Liang Ding
Jung-Yuan Liou
Jr-Wen Shiu
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Ind Tech Res Inst
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499608 A7 __ B7 五、發明説明() 發明領域= 本發明係關於一種能夠將諸如來自反射式丁 F 丁 [ c d 的反射光散射至預期的立體角之裝置,特別是該立體角可 偏離通常為覆蓋玻璃所產生之高強度反射線(specu|a「 ray) 〇 發明背景: 為方便稍後討論起見,先定義將會用到如第一圖所示 之光學用語及變數。入射面乃是包含入射光與反射點垂直 方向的平面,反射線則是反射角與入射角相同、也在入射 面上之反射光線,而散射光所展開的光錐稱做散射光錐。 將散射光錐在入射面上的散佈角度稱做垂直散射角 (vertical diffusion angle) (9S,而垂直於入射面的散佈角 度則稱做水平散射角(horizontal diffusion angle) /9 τ ,偏 離角(deviation angle) θ 〇乃是反射線與散射光錐的中心 光線間的炎角。 經濟部中央標準局員工消費合作社印1i 傳統的反射式光散射元件,諸如散射膜(例如 Poloroid全像反射器及Sumitomo反射器)和突起反射器 (參閱美國第5,610,741號專利及中華民國第255,019號 專利),都無法同時達到控制散射光錐大小、將反射光散 佈區域偏離反射線、保持解析度與避免色散之目的。然 而’在某些應用中,由覆蓋之玻璃所反射之反射線並不受 歡迎’因為它是光源虛像的強光,並且由於使用者的視角 關係,通常圍繞著反射線的散射光錐之一邊的光線會是無 _ 第頂 本紙張尺度適用中家標準(CNS ) A4規格(210X 297公t ) 一 ~ ^ 499608 A7 B7 五、發明説明( 用的。因為通常反射式TFT-LCD的效率低於1〇%,所以 因為浪費的散射光將會導致對於更強的光源之需求,也因 而提南成本。因此,有效地控制及均勻地分佈散射光於特 定立體角中’以及產生較高光強度及對反射式LCD的反 射光更完全的運用,將會具有極大的實用價值。 改進上述情況的一種方法是結合散射膜與斜面反射 結構。儘管可用此方法達到將反射光散射偏離反射線之目 的,但此結合散射膜的方法明顯地會增加結構所需的成 本’並且會引起一般散射膜所具有的減低LCD解析度及 引起色散等之缺點。 發明目的及概述: 本發明之目的在於提供一種反射式光散射器,能夠將 入射光反射並散射到預期的立體角中,並具有需求之光強 度均勻度,而不減低顯示品質。 本發明提供一種反射式光散射器,散射入射光到偏離 反射線的預期角度區域中,其中至少包括. 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 一個基板; 多數個突起元件,以一特定圖案附著於上述之基板, 藉以形成非平面表面;及 一層反射物質,鍍著於上述之多數個突起元件與未覆 蓋的上述之基板的表面,藉以形成非平面反射表面, 反射並散射來自上方之入射光; 第3頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 499608 A 7 B7 五、發明説明() — 其中每一個上述之多數個突起元件具有第一表面 與第二表面,而上述之第一表面具有較第二表面為 長的斜面,旅且上述之第一表面的垂直方向指向預 定的方向。 如上所述,依據本發明,每一個上述之第一較長斜面 在入射面上具有〆個單調地向上凸及/或向下凹的曲線, 藉以將入射光以特定的強度均勻度散射到入射面上預期 的角度區域中。 此外’如上所述’依據本發明之每一個第一較長表面 在入射面上有不規則曲線。雖然曲線不規則’入射光仍將 被散射到入射面上特定角度内,然而由於不規則表面,無 法確保光強度之均勻度。 又依據本發明,每一個第一較長表面在水平面上具有 波浪形曲線,藉以將入射光以特定均勻性的強度散射到預 期的立體角内。 再依據本發明,每一個第一較長表面在水平面上具有 不規則曲線。同樣地,儘管有不規則的表面,入射光仍將 被散射到入射面上特定角度内,但不保證光強度之均勻 度。 本發明之又一目的在提供一種製造本發明反射式光 散射器中曝光過程所需之光罩,其中上述之光罩包括一個 具有多數個平行直狹縫之不透明基板,而每個上述之狹缝 之一側又包括突出之孔洞(pu nctu re)及/或凹入之補塊 (patch)。 —_ 第4頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項-fi填寫本頁) 裝· -線 499608 A7 B7 __ ___ ______ _ 五、發明説明() 本發明之再一目的在提供一種製造本發明反射式光 散射器中曝光過程所需之光罩,其中上述之光罩包括一個 具有多數個等距之規則波浪形狹缝及/或不規則波浪形狹 縫的不透明基板。 圖式簡箪說明: 第1圖為本發明中使用的相關光學用語及變數之圖示。 第 2圖為本發明中曲斜面反射器之單一反射元件在入射 面上之微觀截面圖。 第3圖為本發明中不規則斜面反射器之單一反射元件在 入射面上之微觀截面圖。 第4圖為本發明中曲表面反射器結構之立體圖。 第5圖為本發明中曲表面反射器反射及散射入射光之示 意圖。 第 6(a)圖為本發明中曲表面反射器散射光通量之實驗結 果;而第6(b)圖則是理想視角區域的示意圖。 第7(a)圖為依據本發明的一較佳實施例,將光阻層形成於 基板上之後的剖面圖。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本I) 第7 (b)圖為依據本發明的一較佳實施例用來製造反射型 光散射器(反射器)所使用的多重曝光移動方法 中,所使用的光罩之俯視圖。 第7(c)至7(e)圖為一連率之剖面圖,其顯示依據本發明的 一較佳實施例中的多重曝光移動方法中,在基板上 對光阻光時之一系列光阻層與光罩之相對位置的 ___ 第5頁 本紙張尺度適i中國國家標準(CNs J^^ ( 2H) x 297公釐) --- 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 Λ7 B7 五、發明説明() — 剖面圖。 第8 (a)圖為依據本發明的一較佳實施例,以製造反射型光 散射器(反射器)上的突起部分所使用的形式之光 罩中的一種光罩之俯視圖。 第8 (b)圖為依據本發明的一較佳實施例,以製造反射型光 散射器(反射器)上的突起部分所使用的形式之光 罩中的另一種光罩之俯視圖。 第9(a)圖顯示的是依據本發明的一較佳實施例之方法 中’使用第7(b)圖的光罩之多重曝光移動法,並且 接著使用第8(a)圖的光罩之曝光方法所獲得的光 阻突起斜底結構之剖面圖。 第9(b)圖顯示的是在將第9(a)圖顯示的光阻突起斜底結 構經過烘烤步驟之後所獲得的剖面圖。 » 9(c)圖顯示的是第9(b)圖的光阻突起斜底結構之俯視 圖。 第9(d)圖顯示的是第9(c)圖的光阻突起斜底結構之等角 圖。 第9(e)圖暴員示的是在經過烘烤之後的光阻圖帛上,亦即在 第9(b)圖所示的光阻突起斜底結構上形成一層反 射層之後的俯視圖。 第圖顯示的是在本發明的另一較佳實施例中,用以製 造反射型光散射器(反射器)所使用的第一光罩之 俯視圖。 第11(a)圖顯示的是依據本發明的另一較佳實施例中具 本紙張尺度適用中國國家標卒(CNS ) A4規格(210X297公釐)
499608 A 7 B7 五、發明説明( 有4’曲邊緣的光阻突起斜底結構之剖面圖。 第11(b)圖顯示的是全 幻疋依據本發明的另一較佳實施例中,具 有4曲邊緣的光阻突起斜底結構之俯視圖。 第11(c)圖顯不的是依據本發明的另一較佳實施例中,具 有聲曲邊緣的光阻突起斜底結構之等角圖。 第1 2圖顯不的是在本發明的又一較佳實施例中,用以製 把反射型光散射器(反射器.)所使用的光罩之俯視 圖。 第13(a)至13(c)圖為一連串之剖面圖,其顯示依據本發 明的又一較佳實施例中的多重曝光移動方法中,在 基板上對光阻曝光時之一系列光罩位置的俯視 圖0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 第14⑷至14(C)圖為一連串之剖面圖,其顯示依據本 月的又較佳實施例中的多重曝光移動方法中, 基板上對光阻光時之一系列光阻層與光罩之相 位置的剖面圖。 第15圖顯示的是依據本發明的又—較佳實施例中,以 重曝光移動方法所形成的光阻圖案之剖面,及其 所包含的一部份階梯結構放大之後的剖面圖。 第1 6圖顯示的是依據本發明的又一較佳實施例中, 成的光阻圖案所包含的一部份階梯結構,經過 步驟之後的剖面圖。 第17圖顯示的是依據本發明的又一較佳實施例,利 一種光罩,以一個曝光步驟形成的階梯結構之 發 在 多 中 所形 烘烤 用另 光阻 、π 第7頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2】〇χ297公釐) 499608 A7 B7 五、發明説明( 圖案,及及光罩所的剖面圖。 第18圖所顯示的是用多重曝光移動方法以形成另一種形 式如第4圖所示的反射器,其所使用的光罩之俯視 圖。 第19(a)至19(c)圖為一連串之剖面圖,其顯示依據本發 明的用以形成第4圖所示的反射器之較佳實施例 中’以多重曝光移動方法在基板上對光阻曝光時之 一系列光罩位置及相對的光阻層位置之俯視圖。 第2 0 (a)圖所顯示的是依據本發明的用以形成如第4圖所 示的反射器之實施例中’以第19(3)至19(c)圖所 示的多重曝光位移步驟並經顯影之後,所得到的光 阻圖案之剖面圖。 第20(b)圖所顯示的是依據本發明的用以形成如第4圖所 示的反射器之實施例中,第2〇(旬圖所示的經顯影 光阻圖案經過烘烤步驟之後,所得到的如第4圖所 示的光阻圖案之剖面圖。 第2 1圖所顯示的是依據本發明以一個曝光步驟形成如第 4圖所示的反射器之實施例中,其所使用的光罩之 俯視圖。 第22⑻至22(c)圖顯示的是依據本發明,用以形成第4 圖所示的反射器之較佳實施例中,所使用的多重曝 光方法中,所使用的光罩之俯視圖。 第2 3(a)至23(c)圖顯示的是依據本發明用以形成第* 圖所示的反射器之較佳實施例中,所使用的多重曝 第8頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210x^97^*7 (請先閲讀背面之注意事項寫本貢) 装·
、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 -_B7 五、發明説明() — 光方法對光阻層曝光時,其各曝光步驟所使用之光 罩與各階段曝光之光阻層關係的剖面圖。 第24(a)圖所顯示的是依據本發明的一較佳實施例中,以 第23(a)圖至第23(b)圖所示的曝光步驟處理之光 阻層’經過顯影之後所形成的光阻圖案之剖面圖。 第24(b)圖所顯示的是依據本發明的一較佳實施例中,把 經過顯影之後所形成的光阻圖案(光阻顆粒),以烘 烤步驟處理之後的剖面圖。 第2 5圖顯不的是依據本發明的一較佳實施例中,以第 23(a)至23(c)圖所示的步驟所處理,而產生之光阻 顆粒的可能大小之剖面圖。 第26圖顯示的是依據本發明的方法,所可能形成的光阻 圖案之可能分佈圖。 第27圖顯示的是在一個薄膜電晶體(TFT)液晶顯示器 (LCD)中,使用本發明的方法所之造出的散射式光 反射器之剖面圖。 圖號對照說明: 發明詳細說明: 表一是目前產業界所有之散射器與本發明之散射器 優劣比較表。而為完全利用反射光,倘若能調整散射光的 方向至通常的視角’而又能保持解析度及避免色散,則將 會有極大幫助。有鑑於傳統技術的缺點,新的技術必須提 _第9頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )孓4規格(2丨〇><297公釐)' 一 " (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
499608 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明()供一種方法與結構’將先前技術之斜面反射器(s|an|; ref lector)改進,以使得原來的反射元件也具有散射反射 光至預定立體角的能力。 表一 產品名 控制θ T 控制Θ 0 控制 θ τ/ Θ S 解析度 色散 備註 3M散射 膜 可 否 否 降低 無 S u m i t 〇 m 〇 反射 器 可 可 可 降低 輕微 入射角 選擇 Ρ ο 1 o r o i d 全像反 射器 可 可 可 降低 嚴重 入射角 選擇 Sharp 内部突 起專利 可 否 否 不變 無 ERSO 内部斜 面反射 專利 否 可 否 不變 無 ERSO 本發明 可 可 可 不變 無 依據本發明的方法在製作反射式光散射器時,首先一 第10頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、 發明説明( A7 B7 經濟部中央標準局員工消f合作社印製 種特殊設計的光罩被用於基板上光阻物質的多重曝光程 序之中,光罩上之狹縫曲線乃經由細心安排,而曝光時間 也是適當控制,經由顯影和可能的適當硬烤步驟,一個具 有特殊圖案的曲面即在基板上形成。接著便在形成的表面 舖上一層反射物質。由於這些突起表面具有曲率,入射光 將被反射到與反射線不同的方向;而藉由改變表面不同切 線方向之曲率,即可輕易隨需求調整如此散射光所展開的 立體角。 、胃因為本發明並不使用特殊的散射膜,所以因為結構而 ‘致的成本增加,本發明的技術會將其降低。在本發明中 I僅解析度維持不變,反射光強度也不會大幅減低。尤 ^,色散在使用本發明的結構之液晶顯示器中並不構成問 "而且在本發明的方法中可以選擇適當的光罩,以相對 應於各種光罩採取相對應的步驟而製作出本發明所提出 的結構之反射式光散射器。 一在本發明說明書的第2圖與第3圖乃兩個反射元件在 垂直面上之微觀剖面圖,顯示達成在入射面上散射反射光 的目的夕工 的之兩種元件結構,而依據本發明的較佳實施例之整 個反射器的結構則是由相互平行的這些反射元件所構 成。 面:苐2圖所示,曲斜面反射元件彳的反射表面2之斜 T乃疋-單調向上凸的曲線,反射表面2上任兩點之斜率 P =相同。最陡與最平緩的斜率分別出現在反射表面2之 底部與丁貝部。將基底與斜率最小處切線之失角(此處為反 請 閎 讀 背 5 意 事 項 再丨
頁 訂 線 第11頁 經濟部中央標準局員J:消費合作社印製 A7 -___-_ Β7 發明説明() — 射表面2之頂部)稱做θρ’而將基底與斜率最大處切線 之夾角(此處為反射表面2之底部)稱做“。則根據光 學原理’反射光將會偏離反射線2“至因此,藉 由此種反#器,入射光將被反射並㈣至偏離反射線W 户的20V-2 0P角度區域内。可以經過調整斜面之此二角 度與突出率(convexity),亦即曲率,達到控制散射光方向 之目的,以因應實際需求。 倘若適當塑形,即使是一個具有單調向下凹的曲線之 斜面反射器,只要有正確之0 V、 Θ p及凹陷率 (concavity) ’也可以達到相同效果。然而,於此情形中, Θ v出現在斜面之頂部,而0 p則出現在斜面之底部。實 際生產上,此種結構不易獲得,因為斜面之頂部須是尖銳 的邊緣。 第3圖為不規則斜面反射元件3。此種結構的特徵在 於反射表面4的斜面斜率極值不一定出現在斜面之底部 或頂部’而斜面上任兩點之斜率可以相同。基於不規則結 構的特性,入射光將被隨機地反射至不同方向,但是仍然 會落於最大、最小斜率所控制的角度區域2 0 ν-2 Θ p中, 而不一定均勻地散佈在所有方向上。 本發明的一個較佳實施例所提出的結構可以是如曲 表面反射器5所示之結構,見第4圖中之結構立體圖。其 特徵在於反射表面6不只像曲斜面反射器(例如第2圖中 的曲斜面反射元件1) 一樣在斜面(如曲斜面反射元件1的 反射表面2)沿著X軸剖面的曲線是·彎曲的而非直線,而且 第1頂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝_ -訂 499608 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 ___ B7五、發明説明() · 在斜面(如曲斜面反射元件1的反射表面2)沿著y軸剖面 的曲線也是彎曲的而非直線。如第5圖所示,根據上一段 述的光學原理,入射光線將被曲表面反射器5反射並散射 至一立體角中。該垂直散射角03、水平散射角以及偏 離角0〇(第1圖中)’都是由反射表面如何彎曲和不同方 向的斜率極值為何所控制。 第6 (a)圖顯示以光線照射曲表面反射器5實驗中,散 射光通ΐ對垂直散射角與水平散射角之立體圖;而第6(b) 圖則是理想散射光分佈的示意圖;其中下方圓圈乃一典型 之光入射角’上方圓圈乃對應之反射角,而斜線三角區域 為使用者檢視之理想立體角區域,此即是本發明所預期達 到之目標,同時也可由第6(a)圖的楔狀光通量分佈圖得 知。 為了達到如上述之將反射光射入第6圖中的散射光 錐之目標’本發明提供數個形成曲表面反射器之方法的實 施例’其運用多重曝光位移方法來製造需要的反射器。在 本發明的一較佳實施例中,如第7(a)圖所示,乃是在基板 10上產生一層預設厚度的光阻層9,接著準備一個如第 7 (b)圖所示具有預设i度與間隔的一組平行狹縫1 $之光 罩11a。再以如第7(c), (d), (e)圖所示步驟,將光罩] 置於光阻層9之上方,將之依需求而曝光一段第一預設時 間,其曝光方式如下所述。光源對光阻層9曝光之光能量 大約為30mJ,然後位移光罩11a—個間距(pitch)繼續^曝 光一段第二預設時間,其光源對光阻層9曝光之光能量大 第13頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNsl A4規格(210X 297公釐了^ —-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝· 訂
499608 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 華 約為60mJ,再位移光罩彳1a 一個間距(pjtc⑺繼續曝光一 段第二預a又時間,其光源對光阻層9曝光之光能量大約為 70mJ。重複如此程序數次,再利用光源對光阻層g,以如 第8(a)圖所不之光罩11b進行曝光,或是如第8(b)圖所 示之光罩11c進行曝光,此時曝光之光源如第7(c)圖所示 之光源,而曝光時間為一第四預設時間,然後再將光阻層 9顯影。因為在本發明之實施例中所使用的光阻可以是正 光阻’所以對光阻層9曝光時,若是利用光罩彳彳b,則光 阻層9中被光罩1 1 b之斜線部分所遮蔽之部分,在顯影之 後所得的圖案為突起狀。若對光阻層9曝光時是利用光罩 1 1 c ’則光阻層9中未被光罩1 〇之斜線部分所遮蔽之部 分,在顯影之後所得的圖案為凹下狀。本較佳實施例以利 用光罩1 1 b對光阻層9曝光為例,說明製造液晶顯示器中 的反射器之過程,其中對光阻層9顯影之後所獲得光阻層 之剖面圖如第9(a)圖所示,其中的斜底部分i3a是以光 罩11a(第7(c)圖中)對光阻層9曝光而得,而突起顆粒部 刀1 3 b則疋以光罩1 1 b (第8 (a)圖中)對光阻層9曝光而 得。而顯影之後的光阻圖案則是包含所有互相平行的光阻 突起斜底13,其中光阻突起斜底f3包含斜底部分13a以 及突起顆粒部分1 3 b。然後對顯影之後的光阻層9進行硬 烤’便得到如第9(b)圖所示之表面,其中顯示出所形成的 光阻圖案是由數個平行排列之光阻突起斜底1 3所構成, 並且此時對所形成之光阻的俯視圖的一部份是顯示於第 9(c)圖中,其中每一個光阻突起斜底μ可以是一個鄰接 第14頁 1紙张尺度適^^^家標準(<::]^)八4規格(210\ 297公釐)' ~" 一' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝- 訂 499608 A7 B7 五、發明説明( 著一個的,也可以是每個光阻突起斜底彳3之間都具有間 隔而不互相連接的。 在本發明的實施例中,是以每一個光阻突起斜底13 鄰接著另一個光阻突起斜底13為例說明其結構。此時光 阻層9的等角圖顯示於第9(d)圖中,其中光阻突起斜底 13是形成於基板1〇上,而且斜底部分13a位於基板1〇 上,而突起顆粒部分13b則是位於斜底部分Ua上。然 後以第9(b)圖為例’說明接續之步驟,其是在整個基板 10以及光阻突起斜底13上,鍍上反射物質18,便^到 如第9(e)圖所示之反射器。 其中要形成斜面的曲線時,是由曝光時間所控制 此’使用相同的狹縫光罩11a、但是不同之曝光手法\ 可得到向上凸斜面反射器、向下凹斜面反射器或不規則即 面反射器。換言之,曝光時間Η是光阻厚度τ的函數斜 而Τ又是基板1 〇上光阻物質位置χ的函數。因 匕,為獲 得具有曲線為Τ(χ)的斜面,在各點的正確曝光時間艮、 H (Τ (χ)),所以只要依據上述原則曝光即可以 : 後件所需之 光阻圖案。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 值得注意的是雖然第9(d)圖中,光阻突起瓠 种底1 3的 斜底前緣1 3f與斜底後緣1 3r為兩條平行直線,相9 |一疋此僅 為本發明的一較佳實施例之結構,其是藉由如第7 一 (〇)圖所 示的光罩11a所形成的,因為光罩11a具有的9 疋直線形 狀的狹縫1 2,所以光阻突起斜底1 3的斜底前緣 - 飞Ί 3 f與斜 底後緣1 3 r為兩條平行直線。 第15頁 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) 499608 經濟、郅中央標準局員工消f合作衽印f Α7 Β7 五、發明説明() - 在本發明的另一較佳實施例中,可以使用如第彳〇圖 所顯示之光罩20,以例如第7(c)圖至第7(e)圖所示的連 續曝光步驟來對光阻層曝光,並接著以第8(a)圖所示的光 罩11b,或是以第8(b)圖所示的光罩11c,對光阻層曝光, 以形成所需要的光阻突起斜底。在此另一較佳實施例中, 形成於基板10上的光阻突起斜底22包含有斜底部分22a 與突起顆粒部分22b,依據上述方法所形成的光阻突起斜 底22之剖面圖如第ii(a)圖所示,而光阻突起斜底22的 斜底部分2 2 a形成於基板1 〇上,其突起顆粒部分2 2 b則 是位於斜底部分22a上。因為光罩20中的透光部分是彎 曲狹縫24,所所形成的光阻突起斜底22與基板1 〇接觸 的邊緣都是曲線形狀的斜底前緣22f與斜底後緣22r,並 且斜底部分22a之第一斜面22 sf與基板10之交界為斜底 前緣22f,而斜底部分22a之第二斜面22sr與基板1〇之 交界為斜底後緣22r,並且第一斜面22sf與第二斜面22sr 之交界為如第11(b)圖所顯示的突起棱線22m。由第11(a) 圖中可以知道第一斜面22 sf與第二斜面22sr分別與基板 表面所夾之角度分別為(^與石,並且Θ與α大小並不 相同。在上一個實施例中(第9(d)圖所示之結構),所形成 的光阻突起斜底亦具有與本另一較佳實施例相同的特 性。在本發明的此另一較佳實施例中,所形成的光阻突起 斜底22之等角圖顯示於第1 1 (c)圖中。繼形成光阻突起斜 底之後,接著再於光阻突起斜底22上鍍上反光物質,以 形成光反射器。 第16頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210、乂297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 訂 五、發明説明( A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在本發明的再一較佳實施例中,可以使用另一種方法 以形成不同外型的光阻突起斜底,藉以形成不同結構的光 反射。σ八中疋以如第12圖所示之光罩26 (其中包含透 光的狹縫30) ’使用與第7(c)圖至第7⑷圖所示類似的連 續曝光步驟,現於笛4 π 冰λ μ 、第 3(a)圖至第13(c)圖中加以說明。 其曝光過程中,是利用光罩26進行曝光之後,再將光罩 6刀別&著)< 轴的方向移動一預設距離而到達χΐ位置, 亚且/σ著y軸的方向移動一預設距離而到達y 1位置,然 後再以光源藉著光罩26對光阻曝光。再下一個步驟則是 再將光罩26分別沿著χ軸的方向移動一預設距離而到達 X2位置,並且、;儿装 σ考y軸的方向移動一預設距離而到達y2 …丨後再以光源藉著光罩26對光阻曝光。以上是針 對本發明的再一較佳實施例中,描述光罩26的移動方 f而此時光罩與光阻之相對位置如第14(a)圖至第14(c) 圖所不,其中光阻層32形成於基板34上,參照第14(a) Θ曝光時首先光罩26位於第一位置(亦即第]3(a)圖中 斤”員不的光罩26之位置),此時光源能量設為3〇毫焦耳 (mJ)。然後參照第14(1))圖,將光罩26沿著χ軸與y軸各 移動—預設距離,使其位於第二位置(亦即第13(b)圖中所 ’具:的光罩26之位置),此時光源能量設為6〇毫焦耳。 接者參照$ 14(c)圖,將光罩26沿著χ軸移動一預設距 +並在y轴方向上以前一次方向相反的方向移動一距離 1達第二位置(亦即第13(c)圖中所顯示的光罩26之位 置)’此時光源能量設為7 〇亳焦耳。 第17頁 本紙張尺度適用準(⑽—ΤΓ()Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 丁 -5-5
奶96〇8 A7 B7 五、發明説明() 經過 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ^ w &热貝 影,使其留下需要之部份以形成光阻突起斜底,則經過上 述步驟所產生之光阻層32上會形成光阻突起斜底38。其 中所形成光阻突起斜底38可以是一個連接著一個,或是 中間有間隔隔開如第1 5圖所示者。參照第1 2圖,因為光 罩26中的狹縫30包含矩形部分3〇a與突出部分3〇b,所 以會造成光阻突起斜底38中的半圓形凹槽4〇。然後對光 阻層32進行硬烤’其導致的光阻圖案之結構即如第 圖所述。上述的多重曝光步驟固然可以使用於形成如第 15圖中的光阻突起斜底38’但是有另一方法可以用一攻 曝光步驟就可以形成如第15圖所顯示的光阻突起斜^ 38。其方法是利用如圖17所示的灰階光罩45對光阻層 32曝光,因為灰階光罩45中包含數個區域,各具有不^ 透光度,所以即使只用-個光源,光阻層32各部分所受 的光強度不同,故顯影之後也會得到如第17圖中,具: 梯狀的光阻突起斜底48,其與第15圖中的光阻突起斜: 38不同處’是在光阻突起斜底38中是半圓形凹槽4〇,- 而光阻突起斜底48中的凹槽則是要視灰階光罩45中之, 一個不同透光度的區域之形狀 而疋,並不限定於半圓形H 域。第17圖中的光罩45所呈右沾τη 所,、有的不同透光度之透光區起 50a、50b、50c 與 50d,盆透朵碎 + , ,、远九度由小而大排列分別為贫 域5Ga、5Qbn 5Qd,然後將顯影之後的光β =硬烤,使得所有稜線變得較為平緩,其所形成光^ 之剖面圖即如第3圖所示’而其等角圖如第16圖所示。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 、-口 第18頁 本紙張尺度適用家標準( 經濟部中央榡準局員工消費合作、社印製 499608 A7 ____ B7 _____ 五、發明説明() 接著的步驟是在光阻層上形成一層反射層,以形成光反射 器。 在本發明的又一較佳實施例所形成的結構中’可以形 成如第4圖所示的結構,其形成的方法如下所述。本發明 的又一實施例是要形成顆粒狀反射器,所使用的光罩可以 是如第18圖所示之光罩55,其中包含複數個透光區域 60,使用與第7(c)圖至第7(e)圖所示類似的連續曝光步 驟,現於第19(a)圖至第19(c)圖中加以說明。如第19(a) 圖所示,先在基板62上產生一層預設厚度的光阻層64, 接著準備一個如第1 8 (a)圖所示具有塊狀透明區域6 0之 光罩55。以如第19(a),(b),(c)圖所示步驟,將光罩55 置於光阻層 64之上方,將之依需求而曝光一段預設時 間’其光源對光阻層64曝光之光能量大約為30mJ,然後 位移光罩55 —個間距(pitch)繼續曝光一段預設時間,其 光源對光阻層64曝光之光能量大約為6()rriJ,再位移光罩 55 個間距(Pitch)繼續曝光一段預設時間,其光源對光 阻層6 4曝光之光能量大約為7 〇 m j,重複如此程序數次再 將光阻層6 4顯影。因為在本發明之實施例中所使用的光 阻可以是正光阻,所以對光阻層64曝光時,則未被光罩 之斜線區域(除透光區域6〇以外之區域)所遮蔽之部 分,在顯影之後所得的圖案為突起狀之顆粒。經過上述曝 光步驟並且經過顯影步驟之後,形成的光阻圖案是具有高 ,不同的圖案’如第20圖的光阻顆粒66所示。然後經過 烤v驟以將所有稜線平滑化,而所得的光阻圖案之剖面 4^-—_ 第 19 頁 尺度適用準(CNS ) A4規格(21〇>< 297公釐)—--~-—— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) :裝· 、11 經濟部中央標準局員工消f合作社印製 圖如第20(b)圖所示,其為沿著光罩移動方向(亦#第i9(y 圖中的直、線X1X2之方向)對光阻顆粒66所做的剖面圖。 其中光阻顆粒66的邊緣與基板62交接處所夾的角度分別 為結構角α與結構角点,依據本發明的實施例之方法,是 要使得光阻顆粒的構造中的結構角0與$不相同,以使光 線更均勻的散射到預期的立體角當中。接著的步驟是在光 阻層上形成一層反射層,以形成光反射器。值得注意的是 雖;、、i本又較佳實施例所形成的光阻顆粒之剖面圖如第 2 0(b)圖所不,然而其實施方法並不限定於上述之重複曝 光步驟,並且所形成的光阻顆粒66之分布及形狀端視光 罩55上之透光區域6〇的分布及形狀而定,若是使光罩 55上的透光區域6〇之大小一致時,即可以獲致如第4圖 所示之曲表面反射益5之分布。而形成本又一較佳實施例 中的光阻顆粒之另一方法,可以利用灰階光罩使用一次曝 光方法’使得光罩之不同透光度部分所遮蔽的光阻接受不 同的曝光量,以致形成高低不同的光阻圖案。欲形成此種 光阻顆粒的一次曝光方法所利用的灰階光罩如第2 1圖所 不,其中光罩69上除了複數個欲曝光區域7〇之外的區域 為不透光區域,並且每一個欲曝光區域7〇包含第一部分 透光區域70a、第二部分透光區域7〇b以及第三部分透光 區域70c。以其對光阻層64(第19(a)圖中)曝光並顯影之 後所形成的光阻圖案即如第2〇(a)圖所示,因為第一部分 透光區域70a的透光度小於第二部分透光區域7〇b之透 光度’而第一部分透光區域70b之透光度小於第三部分透 _________ 第20頁 本紙張尺度適用中酬家標準(CNS ) A4規格(2丨0x 297公趁1 一 499608 Λ 7 Β7 五、發明説明( 經濟部中央標準局員工消費合作社印$- 光區域70c之透光度,所以農 又听以具曝光之後所形成的光阻 經過硬烤之後,亦可$ /4» # , ^ 衆 」j以產生類似於第20(b)圖所得之先 顆粒66。第21圖中的直線ριρ2乃與第19⑻圖所顯喊 的光罩中之直線相同,乃用以說明曝光所得光阻圖案< % 關位置。欲形成本發明的又一較佳實施例所提出的光卩且= 粒的方法尚有一種,乃利用複數個光罩,各以不同能量之 光源對光阻層曝光,參照第22(a)圖,首先利用光罩72a之 其上具有複數個第一透光區域74a,對光阻層以能量大約 為30毫焦耳的光線對基板82上的光阻層84曝光。接著 利用如第22(b)圖所示的光罩72b,其上具有複數個第二 透光區域74b以能量大約為7〇焦耳的光線對基板82上 的光阻層84曝光。接著利用光罩72c,其上具有複數個 第二透光區域74c ’對光阻層以能量大約為7〇毫焦耳的 光線對基板82上的光阻層84曝光。因為第一透光區域 74a之面積大於第二透光區域74b之面積,而且第二透光 區域74b之面積大於第三透光區域74c之面積。其中三 次曝光步驟之光罩相對於光阻層之位置皆相同,而經過不 同能量曝光的光阻層以顯影步驟處理後所形成的光阻圖 案如第24(a)圖中的光阻顆粒86所示,其中包含經由第 二透光區域74c曝光所得之第一曝光區域86a,只由第二 透光區域74b曝光所得之第二曝光區域86b,以及只由第 一透光區域74a曝光所得之第三曝光區域86c。然後對光 阻圖案進行硬烤,以使所有稜線平滑化,得到如第24(b) 圖所示的光阻顆粒86,接著是覆蓋上反射物質,以完成 第21頁 靖 閱 裝 頁 訂
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格( 210X 297 公釐) 499608 A7 B7 五、發明説明( 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 反射器的製造。以上所述雖比去 $马光阻顆粒向上突起的例 子’但是,向下凹的表面也可 u達到相同功效,只要角度 與凹陷率被適當地調整。 第7圖顯示一個不規則砉;c 4衣面反射器7。其結構特徵在 於反射表面8不再平滑或規目,丨^ 、〗’而且也不必單純地向上凸 或向下凹。此種反射器的淨钕處^、 應仍是散射入射光至特定立 體角中’但是強度分佈依然不—定平均。 本發明所列舉的反射式氺6 w 丄 飞九反射态之所有實施例僅做 為典型之範例,因為反射元伴沾i t 几件的大小與彎曲圖樣可因應實 際需求而改變,如第25圖中,止c_ _甲’先反射器95、96以及97 之反射面95a、96…97a可以互不相同。本發明之重 點在於在一片反射材料上產生一種預設f曲的表面,藉以 讓入射光被反射’並且由於反射面上的曲率而被散射到預 期的立體角中。另外本發明可以在光阻層不同區域中,定 義出不同形狀的光反射器(光阻顆粒),例如光阻1〇〇的區 域1〇1中的光反射器外型相同,但是區域1〇1與區域 102、區域i 03及區域1〇4等其他區域之光反射器之外形 則不一定相同。 因此,所有其他類似的結構,只要 冉 f W形成的光阻顆粒 兩端與基板的交界之角度(第2〇(b)圖中〜與φ )互 不相同’或是所形成的光阻斜底上具有突起顆粒(第9⑷ 圖之1 3與1 8),以將反射光散射到預期 _ , 叼立體角中,只 要運用到此類原理的反射器,無論與本說 a I所揭露之實 施例相似與否、或圖案是否規則,都應被 鮮釋為落入本發 第22頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 、1Τ ’ —1 I — 499608 B8 C8 D8 i普萌() ~~ ^ 明之範疇。 本發明所揭露之光罩僅為例證 』°且之用,並非全部列舉。 因為就實際應用之不同’狹縫的寬度、間隔與曲率也 變。依據本發明在多重曝光位移方法中使用光罩之基切 神有二:一方面,可藉由選取且古、益A 厂月 迸取具有適當狹縫曲率的狹縫圖 案,來達到反射器能在水平方向散射光線的目的;另一方 面,也可藉由調整位移之間的曝光時間,達到反射器能在 入射面上散射光線的目的。 因此,所有其他具類似圖案的光罩,或不甚相似卻可 被用於製造需求的反射器之光罩,都應被理解為本發明之 一部份。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 獲得本發明的反射器之後,即可將之應用為反射式 LCD的反射基底。第27圖之結構剖面圖為運用本說明書 所揭露技術的反射式TFT-LCD之一實施例。主動陣列14〇 分佈在基板1 30上,而依據本發明實施例所製造出的曲表 面反射器1 50附著在上述之主動陣列1 4〇上,其間隙則 用與曲表面反射器1 50基板相同材料填補。濾色片]7〇 覆蓋於曲表面反射器1 50,其間充填液晶材料彳6〇。一組 含有偏極片200、又/4薄膜190及玻璃層180的合成層 則钻接在濾色片1 7 0的上表面。光線由偏極片2 〇 〇進入 之後’光線極化方向由偏極片2 0 0轉成一預設極化方向, 然後依據電晶體所傳達的電場方向將液晶材料1 6 〇之分 子轉向。則光線極化方向會被液晶材料1 6 〇的分子方向所 改變。然後經由曲表面反射器1 50將光線反射出去,而反 第23頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNs ) A4規格(210X 297公釐) 499608 A7 B7 五、發明説明() 射後的光線能否穿透偏極片2 0 0則是依據反射後光線之 極化方向而定。 本發明相較於習知技術不同處在於不使用散射材料 來散射入射光’其是藉由反射元件上的彎曲表面來達成散 射效果,因此也就沒有色散、反射率及解析力等之問題值 得擔心。本說明書中所指稱的反射器即為用於液晶顯示器 中反射光線的反射式光散射器,因為經過本發明所處理的 反射器表面’也就具有將入射光散射到實際應用要求的預 設立體角中的能力。於是,當這些優點被運用到反射式 TFT-LCD時,較之於傳統方法所製成的光散射器,本發 明便可以大大降低製造成本並增強產品的性能。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 第24頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

  1. 499608 广^〜一一〜—一一一心 ιΜ
    本. Μ C8 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1. 一種製造反射式光線散射器的方法,該反射式光線散 射器係被用於將入射光散射到一預定立體角中,該立體 角偏向运離鬲強度反射線的方向上,該方法至少包含: 形成光阻層於基板上; 使用第一光罩於多重曝光位移方法中,對該光阻層 曝光’該多重曝光位移方法至少包含: 以具有第一光強度的第一光源,對該光阻層曝 光,此時戎第一光罩相對於該光阻層而言係位於第一位 置; 將該第一光罩移動一距離以到達第二位置;以 及 以具有第二光強度的第二光源,藉由該第一光 罩對該光阻層曝光,該第一光強度與該第二光強度不相 等; 藉由第二光罩對該光阻層曝光; 對該光阻層顯影,以獲得光阻圖案,該光阻圖案至 少包含複數個互相平行的突起斜底結構,該複數個突起斜 底結構至少包含斜頂部分以及突起部分,該斜頂部分係由 使用該第一光罩的該多重曝光位移方法所產生,形成於斜 頂部分的該突起部分係由使用該第二光罩的該曝光步驟 所產生’该斜頂部分至少包含第一表面以及第二表面,該 卓表面’、有較第二表面更長的斜面,介於該第一表面 與這基板之間的第一角度,其大小不等於介於該第二表面 第25頁 本紙張尺度適用中國國家操~iT^TT^T210x29^^--- (請先閱讀背面之注意事項 寫本頁) -裝· 、11 丨-線 499608 Λ 8 Β8 C8 D8 Κ、申請專利範圍 與該基板之間的第二角度;以及 形成反射層於該光阻圖案上,該第一表面的法線方 向指向一預設方向,使得該入射光由該反射層反射的反射 光反射到該立體角中。 2.如申請專利範圍第1項所述之方法彡昇包含··烘烤步驟於 該顯影步驟之後,以將該光阻圖案邊緣平滑化。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之方法,其中上述之第一表 面與包含該入射光的入射面之交線為突起的。 4 ·如申請專利範圍第1項所述之方法,其中上述之第一表 面與包含該入射光的入射面之交線為凹下的。 5. 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中上述之複數個 突起斜底結構具有因為該第一光罩上的直線狹縫所導致 的直線邊緣。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 6. 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中上述之複數 個突起斜底結構具有因為該第一光罩上的,彎曲狹縫所導 致的彎曲邊緣。 7. —種製造反射式光線散射器的方法,該反射式光線散 射器係被用於將入射光散射到一預定立體角中’該立體角 第26頁 .- ——- -- — '…—~ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) Λ ο 88 C8 ----— _ __D8 _ 六、申請專利範圍 偏向遠離南強度反射線的方向上,該方法至少包含: 形成光阻層於基板上; 以一曝光步驟對該光阻層曝光; 對裸露的該光阻層顯影以獲得光阻圖案,該光阻圖 案至^包含複數個互相平行的階梯結構,該複數個階梯結 構至少包含第一位階以及第二位階,該第一位階之高度高 於該第—位階之高度,該第一位階之鄰接於該第二位階; 以及 形成反射層於該光阻圖案上,該第一表面的法線方 向指向一預設方向,使得該入射光由該反射層反射的反射 光反射到該立體角中。 8 ·如申請專利範圍第7項所述之方法更包含:烘烤步驟於 該顯影步驟之後,以將該光阻圖案邊緣平滑化。 9·如申請專利範圍第7項所述之方法,其中上述之曝光步 驟為多重曝光移動法,該多重曝光移動法至少包含: 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 以具有第一光強度的第一光源,透過光罩對該光阻 層曝光,該光罩包含複數個透明狹縫,該複數個透明狹縫 的每一個具有直線部分以及彎曲弧形部分; 將該光罩沿著第一方向以及第二方向移動一距離, 該第一方向係平行於該直線部分,該第二方向垂直於該第 第27頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) Λ 8 38 六、申請專利範圍 ^~ ^~— 一方向;以及 以具有第二光強度的第二光源,透過該光罩對該光 阻層曝光,該第一光強度不等於肖第二光強度;以及乂 將該光罩沿著該第-方向以及該第二方向移動一距 離。 1〇.如申請專利範圍第7項所述之方法,其中上述之曝光 ㈣使用-光源對H有光罩的該光阻層曝光,該光阻 層至少包含第-部份透光區域以及第二部㈣光區域,該 第-部份彡光區域之透光度與該第=部份透光區域之透 光度不同’該階梯結構之該第—位階係、在該曝光步驟時被 該第一部份透光區域遮蔽所產生。 11·一種製造反射式光線散射器的方法,該反射式光線散 射器係被用於將入射光散射到—預定立體角中,該立體角 偏向遠離高強度反射線的方向上,該方法至少包含: 形成光阻層於基板上; 經濟部中央榡準局員工消費合作社印製 使用曝光步驟以對該光阻層曝光. 對該光阻層顯影以獲得光阻圖案,該光阻圖案至少 包含複數個突起顆粒,該複數個突起顆粒隨機分布於該基 板表面上,每一突起顆粒至少包含第一平坦部分以及第二 平坦部分,該第一平坦部分之高度高於該第二平坦部分之 高度,該第一平坦部分鄰接於該第二平坦部分; ______ 第 28 頁 :紙張尺度賴巾關家標準(CNS ) M規格(21QX297公楚) 499608 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 對該顯影後之光阻圖案進行烘烤步驟,使得該光阻 圖案的複數個突起顆粒之邊緣被平滑化,每一經過烘烤後 之該複數個突起顆粒包含有第一表面以及第二表面,該第 一表面比該第二表面長,介於該第一表面與該基板之間的 第一角度’其大小不等於介於該第二表面與該基板之間的 第二角度;以及 形成反射層於該光阻圖案上,該第一表面的法線方 向指向一預设方向’使得該入射光由該反射層反射的反射 光反射到該立體角中。 12·如申請專利範圍第11項所述之方法,其中上述之曝光 步驟係為多重曝光位移方法,該多重曝光位移方法至少包 含: 以具有第一光強度的第一光源,在光罩的遮蔽下對 該光阻層曝光,該光罩至少包含複數個透光區域; 將該光罩移動一距離;以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以具有第一光強度的第二光源’藉由該光罩對該光 阻層曝光,該第一光強度與該第二光強度不相等,每/突 起顆粒的該第一平坦部分係在該光阻圖案在該光罩遮蔽 下對該第一光源曝光所得,該第二平坦部分係在該光阻圖 案在該光罩遮蔽下對該第二光源曝光所得,該光罩至少包 s複數個隧機分布之透光區域,該複數個突起顆粒之隨機 分布係由該光罩上的複數個隨機分布之透光區域所造
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499608 Λ8 B8 C8 D8 一 _________———^ ^ """"" 六、申請專利範圍 成。 13·如申請專利範圍第11項所述之方法,其中上述之曝光 步驟為多重曝光移動法,該多重曝光移動法至少包含: 以具有第一光強度的第一光源,透過相對於該光阻 層位於一位置之第一光罩而對該光阻層曝光,該第一光罩 包含第一組透明區域;以及 以具有第二光強度的第二光源’透過相對於該光 阻層位於該位置之第二光罩而對該光阻層曝光’該第二 光罩包含第二組透明區域,該第一組透明區域之面積大 於該第二組透明區域之面積,該第一組透明區域中的每 一個之位置與該第二組透明區域中的每一個之位置重 疊,該第一光強度與該第二光強度不相同,該複數個突 起顆粒中的該第一平坦部分係由將該光阻層透過該第 一光罩以該第一光源曝光所得到,該第二平坦部分係由 將該光阻層透過該第二光罩以該第二光源曝光所得 到。 1 4 · 一種反射式光線散射器的結構,該反射式光線散射器 係被用於將入射光散射到一預定立體角中,該立體角偏向 遠離高強度反射線的方向上,該反射式光線散射器結構至 少包含: 第30頁 ----- . ______________ - —......—— 本紙乐尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) ----^-----裝----- 訂 . 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499608 B8 C8 D8___ 六、申請專利範圍 光阻圖案,係形成於基板上,該光阻圖案至少包含 複數個互相平行的突起斜底結構,該複數個突起斜底择構 至少包含斜頂部分以及突起部分,該斜頂部分至少包含第 一表面以及第二表面,該第一表面具有一較第二表面更長 的斜面,介於該第一表面與該基板之間的第一角度,其大 小不等於介於該第二表面與該基板之間的第二角度; 反射層,係形成於該光阻圖案上,使得該第—表面 的法線方向指向一預設方向,使得該入射光由該反射# & 射的反射光反射到該立體角中。 15·如申請專利範圍第14項所述之方法,其中上述之第— 表面與包含該入射光的入射面之交線為突起的。 16.如申請專利範圍第14項所述之方法,其中上述之第一 表面與包含該入射光的入射面之交線為凹下的。 17·如申請專利範圍第14項所述之方法,其中上述之複數 個突起斜底結構具有直線之邊緣。 18·如申請專利範圍第14項所述之方法,其中上述之複數 個突起斜底結構具有彎曲之邊緣。 19.一種反射式光線散射器的結構,該反射式光線散射器 係被用於將入射光散射到一預定立體角中,該立體角偏向 第31頁 L _ _ 、 本紙張尺度適用中國國家標準(€奶)八4規格(210乂297公釐) 一 ~ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499608 A 8 B8 C8 D8 _______ 六、申請專利範圍 遠離高強度反射線的方向上,該反射式光線散射器結構至 少包含: 光阻圖案,係形成於基板上,該光阻圖案至少包含 複數個互相平行的階梯結構,該複數個階梯結構至少包含 第一位階以及第二位階,該第一位階之高度高於該第二位 階之高度,該第一位階鄰接於該第二位階;以及 反射層,係形成於該光阻圖案上,使得該第一表面 的法線方向指向一預設方向,使得該入射光由該反射層反 射的反射光反射到該立體角中。 2 0. —種反射式光線散射器的結構,該反射式光線散射器 係被用於將入射光散射到一預定立體角中,該立體角偏向 遠離高強度反射線的方向上,該反射式光線散射器結構至 少包含: 光阻圖案,係形成於基板上,該光阻圖案至少包含 複數個突起顆粒’該複數個光阻顆粒中的每一個至少包含 一第一平坦部分以及一第二平坦部分,該第一平坦部分之 南度高於該第二平坦部分之高度,該第一平坦部分鄰接於 該第二平坦部分,該複數個光阻顆粒中的每一個至少包含 第一表面以及第二表面,該第一表面比該第二表面長,介 於該第一表面與該基板之間的第一角度,其大小不等於介 於該第二表面與該基板之間的第二角度;以及 第3頂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公慶) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 、11 499608 8 8 8 8 A BCD 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 反射層,係形成於該光阻圖案上,使得該第一表面 的法線方向指向一預設方向,使得該入射光由該反射層反 射的反射光反射到該立體角中。 第33頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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